CN116893464A - 偏振板 - Google Patents

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CN116893464A CN202310281124.0A CN202310281124A CN116893464A CN 116893464 A CN116893464 A CN 116893464A CN 202310281124 A CN202310281124 A CN 202310281124A CN 116893464 A CN116893464 A CN 116893464A
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Abstract

本发明提供一种在具备能够良好地抑制粘连的保护膜的同时、抑制了表面缺陷及雾度的偏振板。偏振板依次具备偏振片、粘接剂层及保护膜。保护膜具有基材层和层叠于基材层的粘接剂层侧的易粘接层。易粘接层的雾度为3％以上，偏振板的雾度为0.5％以下。温度25℃、相对湿度55％时的偏振板的吸收轴方向的卷曲量为‑5.0％以上且5.0％以下。

Description

偏振板
技术领域
本发明涉及偏振板，此外还涉及具备偏振板的光学层叠体及显示装置以及偏振板的制造方法。
背景技术
已知在液晶显示装置、有机EL显示装置等显示装置中在其观察侧配置有偏振板。偏振板一般在偏振片的一面或两面具备用于保护偏振片的保护膜。为了提高保护膜与偏振片的粘接性，有时在保护膜的表面设置易粘接层(例如专利文献1等)。专利文献1中公开了为了抑制将保护膜卷绕成卷筒状时产生的粘连，使用包含微粒的易粘接剂组合物形成易粘接层，并在易粘接层表面形成微小的凹凸。
现有技术文献
专利文献
专利文献1：日本特许第5354733号公报
发明内容
发明要解决的课题
若为了良好地抑制保护膜的粘连而增加易粘接层中的微粒的量，则易粘接层的雾度升高，在将保护膜卷绕成卷筒状时，因微粒的凹凸而有在保护膜的表面产生变形等情况。此种保护膜的变形成为将保护膜层叠于偏振片而得的偏振板的表面缺陷，可能成为使应用了偏振板的显示装置的显示特性降低的原因。
本发明的目的在于，提供在具备能够良好地抑制粘连的保护膜的同时、抑制了表面缺陷及雾度的偏振板的制造方法及偏振板。
用于解决课题的手段
本发明提供以下的偏振板、光学层叠体、显示装置及偏振板的制造方法。
〔1〕一种偏振板，其依次具备偏振片、粘接剂层及保护膜，
上述保护膜具有基材层和层叠于上述基材层的上述粘接剂层侧的易粘接层，
上述易粘接层的雾度为3％以上，
上述偏振板的雾度为0.5％以下，
温度25℃、相对湿度55％时的上述偏振板的吸收轴方向的卷曲量为-5.0％以上且5.0％以下。
〔2〕根据〔1〕中记载的偏振板，其中，上述基材层的厚度为30μm以下。
〔3〕根据〔1〕或〔2〕中记载的偏振板，其中，上述易粘接层的厚度为70nm以上且800nm以下。
〔4〕根据〔1〕～〔3〕中任一项记载的偏振板，其中，上述偏振片的厚度为12μm以下。
〔5〕根据〔1〕～〔4〕中任一项记载的偏振板，其中，上述偏振片含有聚乙烯醇系树脂，
温度80℃时的上述偏振片的吸收轴方向的收缩率为1.3N/2mm以上且2.4N/2mm以下。
〔6〕根据〔1〕～〔5〕中任一项记载的偏振板，其中，上述偏振片含有聚乙烯醇系树脂及硼，
上述偏振片的硼含量为2.8质量％以上且4.7质量％以下。
〔7〕根据〔1〕～〔6〕中任一项记载的偏振板，其中，上述基材层为(甲基)丙烯酸系树脂膜。
〔8〕根据〔1〕～〔7〕中任一项记载的偏振板，其中，上述易粘接层包含树脂及填料。
〔9〕根据〔1〕～〔8〕中任一项记载的偏振板，其中，上述粘接剂层为水系粘接剂的固化物层。
〔10〕根据〔1〕～〔9〕中任一项记载的偏振板，其中，上述粘接剂层的厚度为10nm以上且200nm以下。
〔11〕一种光学层叠体，其依次具备〔1〕～〔10〕中任一项记载的偏振板、相位差体和粘合剂层。
〔12〕一种显示装置，其具备〔11〕中记载的光学层叠体。
〔13〕一种偏振板的制造方法，上述偏振板依次具备偏振片、粘接剂层及保护膜，上述制造方法包括：
准备具有基材层和形成于上述基材层上的易粘接层的层叠膜的工序(a)、
对上述层叠膜进行退火处理而得到上述保护膜的工序(b)、以及
在上述保护膜的上述易粘接层侧经由用于形成上述粘接剂层的粘接剂组合物贴合偏振片的工序(c)，
上述层叠膜的上述易粘接层的雾度为3％以上，
上述偏振板的雾度为0.5％以下。
〔14〕根据〔13〕中记载的偏振板的制造方法，其中，上述层叠膜的上述基材层为沿第1方向及第2方向被拉伸了的双轴拉伸膜，
上述第1方向的拉伸倍率与上述第2方向的拉伸倍率相同或比之更小，
上述第1方向的拉伸倍率与上述第2方向的拉伸倍率的比(第1方向/第2方向)为0.70以上且1.00以下，
上述工序(b)中，以使上述层叠膜的上述第2方向上的收缩率为0.30％以下的方式进行退火处理，
上述工序(c)中，以使上述偏振片的吸收轴方向与上述层叠膜的上述第1方向所成的角度为-20°以上且20°以下的方式，将上述偏振片与上述保护膜贴合。
〔15〕根据〔13〕或〔14〕中记载的偏振板的制造方法，其中，上述工序(b)中，在温度75℃以上且105℃以下的条件下对上述层叠膜进行退火处理。
〔16〕根据〔13〕～〔15〕中任一项记载的偏振板的制造方法，其中，上述层叠膜的上述基材层的厚度为30μm以下。
〔17〕根据〔13〕～〔16〕中任一项记载的偏振板的制造方法，其中，上述粘接剂组合物为水系粘接剂。
〔18〕根据〔13〕～〔17〕中任一项记载的偏振板的制造方法，其中，上述偏振片含有聚乙烯醇系树脂及硼，
上述偏振片的硼含量为2.8质量％以上且4.7质量％以下。
发明效果
根据本发明，能够提供在具备能够良好地抑制粘连的保护膜的同时、抑制了表面缺陷及雾度的偏振板的制造方法及偏振板。
附图说明
图1是示意性地表示本发明的一个实施方式的偏振板的截面图。
图2是示意性地表示本发明的一个实施方式的偏振板的制造工序的截面图。
图3是示意性地表示本发明的一个实施方式的光学层叠体的截面图。
具体实施方式
以下，在参照附图的同时对本发明的实施方式进行说明，然而本发明并不限定于以下的实施方式。各图中，对于与先前说明的构件相同的构件使用相同的符号而省略其说明。以下的所有附图是为了辅助本发明的理解而示出的图，图中所示的各构成要素的尺寸、形状不一定与实际的构成要素的尺寸、形状一致。
(偏振板)
图1是示意性地表示本发明的一个实施方式的偏振板的截面图。本实施方式的偏振板1具备偏振片10、粘接剂层41和保护膜20。偏振板1可以为直线偏振板。保护膜20具有基材层21和层叠于基材层21的偏振片10侧的易粘接层22。粘接剂层41优选与偏振片10及保护膜20的易粘接层22直接接触。对于构成偏振板1的各层的详情将在后面叙述。
偏振板1可以如图1所示仅在偏振片10的一面具有粘接剂层41及保护膜20，然而也可以在偏振片10的两面具有粘接剂层41及保护膜20。在仅在偏振片10的一面具有粘接剂层41及保护膜20的情况下，粘接剂层41及保护膜20优选配置于偏振片10的观察侧。
偏振板1的雾度为0.5％以下，也可以为0.4％以下，也可以为0.3％以下，也可以为0.2％以下，例如可以为0.01％以上，也可以为0.1％以上。偏振板1的雾度可以利用保护膜20与粘接剂层41的粘接状态、易粘接层22的种类及厚度、基材层21及易粘接层22的表面的状态、保护膜20(基材层21、易粘接层22)及粘接剂层41的种类等来进行调整。偏振板1的雾度可以使用雾度计测定，可以利用后述的实施例中记载的方法测定。
温度25℃、相对湿度55％时的偏振板1的吸收轴方向的卷曲量可以为-5.0％以上且5.0％以下，也可以为-4.0％以上且4.0％以下，也可以为-3.5％以上且3.5％以下，也可以为-2.0％以上且2.0％以下。偏振板1的上述卷曲量可以利用基材层21的种类及厚度、基材层21的拉伸倍率、后述的偏振板1的制造方法中进行的退火处理的条件、偏振片10的种类及厚度、偏振片10的硼含量等来进行调整。偏振板1的吸收轴方向的上述卷曲量可以作为偏振板1的吸收轴方向的端部的翘起量相对于偏振板1的吸收轴方向的长度的比例来进行确定，可以利用后述的实施例中记载的方法来进行确定。
偏振板1的吸收轴方向的卷曲量处于上述的范围。一般而言，偏振板1被以长条物的形式制造，因此用于偏振板1的保护膜20也被以长条物的形式准备。长条物的保护膜被以卷绕成卷筒状的卷绕体的形式进行保管及运输等。在卷绕体中为了抑制保护膜之间粘接的粘连，有时具备雾度大的易粘接层。具备此种易粘接层的保护膜中，由于易粘接层侧的表面的微细的凹凸变得显著，因此在制成卷绕体时重叠的保护膜的基材层容易因易粘接层所致的凹凸而变形。若将基材层发生变形的保护膜层叠于偏振片10，则有在偏振板1产生表面缺陷(打痕)的情况。本实施方式中，如后所述地对具有基材层及易粘接层的层叠膜进行退火处理，减少因将层叠膜制成卷绕体等而产生的基材层的变形，使用如此所述地平滑化的保护膜20得到偏振板1。因此，在偏振板1产生的表面缺陷得到抑制。另一方面，若将通过对层叠膜进行退火处理而得的保护膜20层叠于偏振片10，则有得到卷曲量的绝对值大的偏振板的情况。本实施方式的偏振板1由于具有如后所述地调整退火处理的条件等而得的保护膜20，因此如上所述地降低了吸收轴方向的卷曲量的绝对值。
此外，偏振板1的雾度处于上述的范围，并且如后所述易粘接层22的雾度为3％以上。由于如上所述地在对层叠膜进行退火处理的前后，易粘接层的雾度的变化实质上可以视为零(小到能够忽略的程度)，因此易粘接层22的雾度可以视为层叠膜的易粘接层的雾度。易粘接层的雾度大的层叠膜如上所述能够抑制粘连。从该方面考虑，可以说易粘接层22的雾度处于上述的范围的偏振板1具备使用良好地抑制了粘连的层叠膜得到的保护膜20。另外可以认为，偏振板1中，由于粘接剂层41充分地进入因易粘接层22而形成于保护膜20的表面的微细的凹凸，因此偏振板1的雾度变小，得到抑制了雾度的偏振板1。
偏振板1在俯视下例如可以为方形形状，优选为具有长边和短边的方形形状，更优选为长方形。对于整个偏振板1、或构成偏振板1的层中的1层以上，可以对角部进行R加工、或对端部进行切口加工、或开孔加工。
偏振板1的厚度没有特别限制，然而优选为40μm以下，更优选为30μm以下。偏振板1的厚度通常为10μm以上。通过使偏振板1的厚度为上述的范围内，可以实现偏振板1的进一步的薄型化。
以下，对构成偏振板1的各层的详情进行说明。
(保护膜)
保护膜20设于偏振片10的一面或两面，具有保护偏振片10的表面的功能。保护膜20具有基材层21和易粘接层22。基材层21与易粘接层22通常直接接触。易粘接层22通常设于基材层21的一面，然而也可以设于两面。
保护膜20的厚度为8μm以上且30μm以下，优选为10μm以上且28μm以下，也可以为15μm以上且25μm以下。
(基材层)
构成保护膜20的基材层21对保护膜20赋予机械强度等，具有保护偏振片10的功能。
基材层21的厚度优选为30μm以下。基材层21的厚度也可以为8μm以上，也可以为10μm以上，也可以为15μm以上，通常为25μm以下，也可以为20μm以下。通过使基材层21的厚度为上述的范围，易于获得降低了吸收轴方向的卷曲量的绝对值的偏振板1。另外，若基材层21的厚度变小，则如上所述，在将为了获得保护膜20而使用的层叠膜制成卷绕体的情况下，易于在层叠膜的基材层产生变形。如上所述在对层叠膜进行退火处理的前后基材层的厚度的变化实质上可以视为零(小到能够忽略的程度)。因此，基材层21的厚度为上述的范围意味着是由易于在基材层产生变形的层叠膜得到的保护膜20。本实施方式的偏振板1中，即使在使用了由此种层叠膜得到的保护膜20的情况下，也能够良好地抑制表面缺陷。
基材层21例如可以使用透明性、机械强度、热稳定性、阻水性、各向同性、拉伸性等优异的树脂膜。树脂膜可以为热塑性树脂膜。作为此种树脂的具体例，可以举出三乙酰纤维素等纤维素系树脂；聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚萘二甲酸乙二醇酯等聚酯系树脂；聚醚砜系树脂；聚砜系树脂；聚碳酸酯系树脂；尼龙、芳香族聚酰胺等聚酰胺系树脂；聚酰亚胺系树脂；聚乙烯、聚丙烯、乙烯-丙烯共聚物等聚烯烃系树脂；具有环系及降冰片烯结构的环状聚烯烃系树脂(也称作降冰片烯系树脂)；(甲基)丙烯酸系树脂；聚芳酯系树脂；聚苯乙烯系树脂；聚乙烯醇系树脂以及它们的混合物。
作为基材层21，可以合适地使用包含(甲基)丙烯酸系树脂的树脂膜。(甲基)丙烯酸系树脂优选为聚甲基丙烯酸甲酯树脂。
构成基材层21的树脂膜可以为单轴拉伸膜或双轴拉伸膜，优选为双轴拉伸膜。
(易粘接层)
构成保护膜20的易粘接层22能够提高对于用于将保护膜20与偏振片10贴合的粘接剂层41的粘接性，从而提高偏振板1的保护膜20与偏振片10的粘接性。因此，易粘接层22通常以构成保护膜20的偏振片10侧的表面的方式设于基材层21的表面。
易粘接层22的雾度为3％以上。易粘接层22的雾度也可以为4％以上，也可以为5％以上，也可以为8％以上，也可以为10％以上，通常为30％以下，也可以为25％以下，优选为20％以下。易粘接层22的雾度可以利用易粘接层20的种类及厚度、易粘接层20中含有的填料的含量等来进行调整。易粘接层22的雾度可以通过从保护膜20的雾度减去基材层21的雾度来进行确定，可以利用后述的实施例中记载的方法来进行测定。保护膜20及基材层21的雾度可以使用雾度计来进行测定。
易粘接层22的雾度由于在为了获得保护膜20而使用的层叠膜(后述)的退火处理的前后可以视为实质上没有变化，因此可以视为层叠膜的易粘接层的雾度。从该方面考虑，如上所述，偏振板1所具有的保护膜20可以视为由能够良好地抑制粘连的层叠膜得到的保护膜。
易粘接层22的厚度优选为70nm以上且800nm以下，也可以为80nm以上且750nm以下，也可以为100nm以上且700nm以下，也可以为200nm以上且600nm以下，也可以为280nm以上且550nm以下，也可以为290nm以上且500nm以下。通过使易粘接层22的厚度为上述的范围内，易于将易粘接层22的雾度调整为上述的范围，易于在制成偏振板1时将偏振板1的雾度调整为上述的范围。另外，在湿热耐久试验中易于抑制偏振板1的变色。在易粘接层22中含有的树脂具有亲水性的情况下，若易粘接层22的厚度大于800nm，则偏振板(特别是含有聚乙烯醇系树脂的偏振片)易于因湿热耐久试验而变色。易粘接层22的厚度是指树脂部分的厚度，在如后所述地包含树脂及填料的情况下，是指易粘接层22的树脂层的厚度。
易粘接层22优选包含树脂及填料。易粘接层22中含有的树脂可以被交联。作为该树脂，可以举出氨基甲酸酯系树脂、(甲基)丙烯酸系树脂、或聚酯系树脂等。易粘接层22中含有的树脂可以举出聚酯氨基甲酸酯系树脂、聚醚氨基甲酸酯系树脂、或这些树脂的混合物等，优选包含聚酯氨基甲酸酯系树脂。聚酯氨基甲酸酯系树脂是在分子的主链具有酯键的氨基甲酸酯系树脂。聚醚氨基甲酸酯系树脂是在分子的主链具有醚键的氨基甲酸酯系树脂。
易粘接层22中含有的填料可以为无机填料或有机填料。作为无机填料，可以举出二氧化硅、二氧化钛、氧化铝、二氧化锆等无机氧化物；碳酸钙、滑石、粘土、烧成高岭土、烧成硅酸钙、水合硅酸钙、硅酸铝、硅酸镁、磷酸钙等。作为有机填料，例如可以举出硅酮树脂、氟树脂、丙烯酸类树脂等。它们当中，优选二氧化硅，更优选胶态二氧化硅。
填料的平均一次粒径例如为1nm以上且200nm以下，可以为5nm以上且150nm以下，也可以为10nm以上且100nm以下，也可以为15nm以上且80nm以下，也可以为20nm以上且50nm以下。填料的平均一次粒径例如可以利用BET法测定。
在易粘接层22包含树脂及填料的情况下，填料的含量相对于树脂100质量份可以为0.3质量份以上且10质量份以下，也可以为0.5质量份以上且8质量份以下，也可以为1.0质量份以上且6质量份以下，也可以为1.5质量份以上且5质量份以下。
易粘接层22可以使用易粘接组合物形成。易粘接组合物可以包含树脂、填料、交联剂、碱成分、溶剂等，优选为将树脂溶解或分散于溶剂中的组合物。易粘接组合物可以替代树脂而包含用于形成树脂的单体和聚合引发剂。
作为交联剂，只要是能够与树脂成分的交联性官能团反应的交联剂即可。在树脂成分为具有羧基等交联性官能团的氨基甲酸酯树脂的情况下，可以使用包含氨基、噁唑啉基、环氧基、或碳二亚胺基等的交联剂。
作为碱成分，可以举出氨、胺化合物(伯胺、仲胺、叔胺等)、酰肼化合物、咪唑化合物、或咪唑啉化合物等。
作为溶剂，可以举出水或水溶性的溶剂。作为水溶性的溶剂，例如可以举出甲醇、乙醇、异丙醇、丙酮、四氢呋喃、N-甲基吡咯烷酮、二甲亚砜、乙二醇单甲醚、乙二醇单丁醚等。溶剂优选为水。
在基材层的与偏振片对置的面涂布易粘接组合物而形成涂布层，对该涂布层进行干燥等，由此可以形成易粘接层。作为涂布易粘接组合物的方法，可以举出使用模涂机、逗点型刮刀涂布机、逆转辊涂布机、凹版涂布机、棒式涂布机、绕线棒涂布机、刮板涂布机、气刮刀涂布机等的涂布方法。所涂布的易粘接组合物例如可以使用热风干燥机、红外线干燥机进行干燥。在易粘接组合物包含用于形成树脂成分的单体和聚合引发剂的情况下，在将易粘接组合物的涂布层干燥、固化后，根据需要设置养护工序，由此形成易粘接层即可。
(偏振片)
偏振片具有从自然光等非偏振的光线中选择性地透射直线偏振光的功能。偏振片可以是含有聚乙烯醇系树脂及硼的膜(以下有时称作“PVA系偏振膜”。)，也可以是将包含具有吸收各向异性及液晶性的化合物的组合物涂布于基材膜而形成的液晶性的偏振片(以下有时称作“液晶偏振膜”。)。具有吸收各向异性及液晶性的化合物可以是具有吸收各向异性的色素与具有液晶性的化合物的混合物，也可以是具有吸收各向异性及液晶性的色素。
偏振片优选为PVA系偏振膜。PVA系偏振膜优选为吸附有二色性色素的拉伸膜。若二色性色素分散于因拉伸而产生各向异性的高分子链(聚乙烯醇系树脂链)中，则有从某个方向看起来着色、从与之垂直的方向看起来基本上无色的情况。
PVA系偏振膜除了可以是在单体的聚乙烯醇系树脂膜(以下有时称作“PVA树脂膜”。)吸附二色性色素并进行拉伸而得的拉伸膜以外，例如也可以是像日本特开2012-73563号公报中记载的那样的拉伸层，即，在酯系热塑性树脂膜等基材膜(热塑性树脂膜)上设置聚乙烯醇系树脂层(以下有时称作“PVA树脂层”。)，将该PVA树脂层与基材一起拉伸后，吸附二色性色素并进行取向而得。需要说明的是，对用于制造该拉伸层的一般的方法将在后面叙述。在PVA系偏振膜为拉伸层的情况下，由于如上所示地使用适当的基材膜(热塑性树脂膜)制造，因此成为以基材膜(热塑性树脂膜)支承作为拉伸层的偏振片的构成。偏振板中可以纳入作为剥离除去基材膜而得的拉伸层的偏振片，也可以将基材膜用作作为拉伸层的偏振片的保护层而将拉伸层和基材膜纳入。
偏振板所具备的PVA系偏振膜的硼含量为2.8质量％以上且4.7质量％以下。偏振片的硼含量也可以为3.0质量％以上且4.5质量％以下，也可以为3.2质量％以上且4.3质量％以下。通过使偏振片的硼含量为上述的范围，易于降低偏振板的卷曲量的绝对值。另外，在湿热耐久试验中易于抑制偏振板的变色，能够抑制湿热环境中的偏振片的收缩。
PVA系偏振膜的硼含量是PVA系偏振膜所含有的硼的质量相对于PVA系偏振膜的总质量的比例，可以利用后述的实施例中记载的方法来进行确定。PVA系偏振膜中的硼被认为以硼酸(H3BO3)的形式以游离的状态存在，或者以硼与聚乙烯醇系树脂的单元形成交联结构的状态存在。本说明书中，硼含量是包括如上所述地以化合物的状态存在的硼在内的硼原子(B)自身的量。PVA系偏振膜的硼含量可以如后所述地利用PVA系偏振膜的制造中使用的硼酸量或基于硼酸的处理条件等来进行调整。
PVA系偏振膜的吸收轴方向的收缩力优选为1.3N/2mm以上且2.4N/2mm以下，也可以为1.5N/2mm以上且2.1N/2mm以下，也可以为1.6N/2mm以上且2.0N/2mm以下。若PVA系偏振膜的吸收轴方向的收缩力为上述的范围内，则在湿热耐久试验中易于抑制偏振板的变色。如后述的实施例中记载所示地对在温度80℃保持4小时的偏振片测定PVA系偏振膜的吸收轴方向的收缩力。PVA系偏振膜的吸收轴方向的收缩力可以利用硼含量、偏振片中使用的二色性色素的种类、其量、拉伸倍率等来进行调整。
PVA系偏振膜的厚度通常为30μm以下，优选为18μm以下，更优选为12μm以下，也可以为10μm以下，也可以为9μm以下，也可以为8μm以下，通常为1μm以上，也可以为5μm以上。PVA系偏振膜的厚度可以利用拉伸前的PVA树脂膜(原材膜)或拉伸前的PVA树脂层的厚度及拉伸倍率来进行调整。在PVA系偏振膜为吸附有二色性色素的拉伸层的情况下，可以利用形成于基材膜上的PVA树脂层的厚度及拉伸倍率来进行调整。
PVA系偏振膜可以经过对PVA树脂膜进行单轴拉伸的工序、通过将PVA树脂膜用碘等二色性色素染色而吸附该二色性色素的工序、将吸附有二色性色素的PVA树脂膜用硼酸水溶液进行处理的工序以及在基于硼酸水溶液的处理后进行水洗的工序来制造。单轴拉伸前的PVA系树脂膜可以从市场上容易地获取，也可以如后所述地利用公知的方法来制造聚乙酸乙烯酯系树脂，对其进行皂化而制造聚乙烯醇系树脂，对该聚乙烯醇系树脂进行膜化。也可以在聚乙酸乙烯酯系树脂的阶段中进行膜化，对该膜中含有的聚乙酸乙烯酯系树脂进行皂化。
在PVA系偏振膜为吸附有二色性色素的拉伸层的情况下，该PVA系偏振膜通常可以经过如下的工序来制造，即，将包含聚乙烯醇系树脂的涂布液涂布于基材膜上、制成在基材膜上形成有PVA树脂层的层叠膜(以下有时称作“PVA层叠膜”。)的工序；对所得的PVA层叠膜进行单轴拉伸的工序；通过将经过单轴拉伸的PVA层叠膜的PVA树脂层用二色性色素染色而在PVA树脂层吸附二色性色素并制成PVA系偏振膜的工序；将吸附有二色性色素的PVA树脂层用硼酸水溶液进行处理的工序；以及在基于硼酸水溶液的处理后进行水洗的工序。为了形成PVA系偏振膜而使用的基材膜可以作为PVA系偏振膜上的保护层使用。根据需要，可以将基材膜从PVA系偏振膜剥离除去。作为基材膜的材料及厚度，可以举出构成上述的保护膜的基材层的材料及厚度。
聚乙烯醇系树脂可以通过对聚乙酸乙烯酯系树脂进行皂化而得到。作为聚乙酸乙烯酯系树脂，除了可以使用作为乙酸乙烯酯的均聚物的聚乙酸乙烯酯以外，还可以使用乙酸乙烯酯与能够与之共聚的其他单体的共聚物。作为能够与乙酸乙烯酯共聚的其他单体，例如可以举出不饱和羧酸系化合物、烯烃系化合物、乙烯基醚系化合物、不饱和砜系化合物、具有铵基的(甲基)丙烯酰胺系化合物等。本说明书中，所谓(甲基)丙烯酸类，是指丙烯酸类及甲基丙烯酸类中的至少一者。对于(甲基)丙烯酰基等的记载也同样。
聚乙烯醇系树脂的皂化度通常为85摩尔％以上且100摩尔％以下，优选为98摩尔％以上。聚乙烯醇系树脂可以被改性，也可以使用由醛类改性了的聚乙烯醇缩甲醛、聚乙烯醇缩乙醛等。聚乙烯醇系树脂的聚合度通常为1000以上且10000以下，优选为1500以上且5000以下。
作为二色性色素，可以使用碘、有机染料，然而优选使用碘。在使用碘作为二色性色素的情况下，通常在含有碘及碘化物的染色浴中浸渍聚乙烯醇系树脂膜或包含基材膜及PVA树脂层的PVA层叠膜，将聚乙烯醇系树脂用碘染色。作为碘化物，可以举出碘化钾、碘化锌等，然而优选为碘化钾。该染色浴中的碘的含量可以是在每100质量份水中为0.003～1质量份。碘化物的含量可以是在每100质量份水中为0.15～20质量份。另外，染色浴的温度可以为10～45℃左右。
在将作为二色性色素特别地吸附有碘的PVA树脂膜或包含PVA树脂层及基材膜的PVA层叠膜用硼酸水溶液处理的工序中，通常将吸附有二色性色素的PVA树脂膜或PVA层叠膜浸渍于硼酸水溶液(交联浴)中。使用硼酸、硼砂之类的硼化合物作为硼酸水溶液中含有的硼酸源。也可以在使用硼化合物的同时，还使用乙二醛、戊二醛等交联剂。可以使用水作为硼酸水溶液的溶剂，也可以还包含与水具有相容性的有机溶剂。
PVA系偏振膜的硼含量可以通过调整将吸附有二色性色素的PVA树脂膜或PVA树脂层用硼酸水溶液处理的工序的条件来控制。例如，可以通过改变该硼酸水溶液中的硼酸的浓度、使用量、或改变硼酸水溶液的温度、或改变在硼酸水溶液中的浸渍时间来调整PVA系偏振膜的硼含量。也可以进行适当的预备实验，导出PVA系偏振膜达到所期望的硼含量的条件。为了调整PVA系偏振膜的硼含量，优选将硼酸水溶液中的硼酸的浓度设为每100质量份水中为2.0～6.5质量份，并适当地调整在交联浴中的浸渍时间，更优选将每100质量份水中硼酸的浓度设为3.0～6.0质量份、并适当地调整在交联浴中的浸渍时间。
硼酸水溶液可以还包含碘化物。利用碘化物的添加，能够使所得的PVA系偏振膜的面内的偏振性能更加均匀化。作为碘化物，可以举出上文中说明的化合物，优选为碘化钾。硼酸水溶液中的碘化物的浓度优选为在每100质量份水中为0.1～20质量份。
硼酸水溶液(交联浴)的温度通常可以设为40～80℃，可以优选设为50～70℃。若交联浴的温度过低，则利用PVA树脂膜或PVA树脂层中的聚乙烯醇系树脂的单元与硼的交联反应的进行容易变得不充分。另一方面，若交联浴的温度过高，则交联浴中容易发生PVA树脂膜或PVA层叠膜的切断，加工稳定性容易显著地降低。在交联浴中的浸渍时间通常为10～600秒，优选为60～420秒，更优选为90～300秒。
PVA树脂膜或PVA层叠膜的单轴拉伸可以在染色前进行，也可以在染色中进行，也可以在染色后的用硼酸水溶液处理的工序中进行，也可以在这些的多个阶段中分别进行单轴拉伸。PVA树脂膜或PVA层叠膜可以沿MD方向(膜搬送方向)进行单轴拉伸，该情况下，可以在圆周速度不同的辊间以单轴方式进行拉伸，也可以使用热辊以单轴方式进行拉伸。另外，PVA树脂膜或PVA层叠膜也可以沿TD方向(与膜搬送方向垂直的方向)进行单轴拉伸，该情况下，可以使用所谓的拉幅机法。另外，上述拉伸可以是在大气中进行拉伸的干式拉伸，也可以是在利用溶剂使PVA树脂膜或PVA层叠膜溶胀的状态下进行拉伸的湿式拉伸。为了体现出偏振片的性能，拉伸倍率为3.0倍以上，优选为3.5倍以上，特别优选为4.0倍以上。拉伸倍率的上限没有特别限定，然而从抑制断裂等观点出发，优选为8.0倍以下。
液晶偏振膜可以通过将包含具有液晶性及吸收各向异性的色素的组合物、或包含具有吸收各向异性的色素和色素以外的聚合性液晶化合物等液晶性化合物的组合物涂布于基材膜而得。作为基材膜，可以举出构成上述的保护膜的基材层的材料及厚度的基材膜。作为包含液晶性的偏振层的膜，例如可以举出日本特开2013-33249号公报等中记载的偏振层。
作为液晶性化合物只要具有显示液晶状态的性质即可，特别是若具有近晶相等高阶的取向状态，则能够发挥高偏振性能，因此优选。液晶性化合物优选为聚合性液晶化合物。聚合性液晶化合物是具有聚合性官能团的液晶性化合物。
具有吸收各向异性的色素例如为二色性色素。二色性色素可以具有液晶性，也可以具有聚合性官能团。二色性色素可以利用二色性色素自身的液晶性进行取向，或者可以与液晶性化合物一起进行取向，显示出二色性。优选用于形成液晶性的偏振层的组合物中含有的任一化合物具有聚合性官能团。上述组合物可以还包含引发剂、溶剂、分散剂、流平剂、稳定剂、表面活性剂、交联剂、硅烷偶联剂等。
在取向膜上涂布上述组合物而形成液晶偏振膜，由此可以制造液晶偏振膜。液晶偏振膜与PVA系偏振膜相比，可以形成更薄的厚度。液晶偏振膜的厚度例如为0.5μm以上且10μm以下，也可以为1μm以上且5μm以下。
例如在基材膜上涂布取向膜形成组合物，利用摩擦、偏振光照射等赋予取向性，由此可以制造取向膜。取向膜形成组合物可以在包含取向剂以外还包含溶剂、交联剂、引发剂、分散剂、流平剂、硅烷偶联剂等。例如可以使用聚乙烯醇类、聚丙烯酸酯类、聚酰胺酸类、聚酰亚胺类作为取向剂。在使用光取向剂的情况下，优选使用包含肉桂酸酯基的取向剂。
作为取向剂使用的高分子的重均分子量可以为10000～1000000。取向膜的厚度优选为5nm以上且10000nm以下，特别是若为10nm以上且500nm以下，则充分地体现出取向限制力，因此优选。
在偏振板中，可以纳入剥离除去基材膜而得的液晶偏振膜，也可以将基材膜作为液晶偏振膜的保护层而纳入液晶偏振膜和基材层。
(粘接剂层)
粘接剂层41可以由粘接剂组合物形成。作为用于形成粘接剂层41的粘接剂组合物，是压敏型粘接剂(粘合剂)以外的粘接剂，例如可以举出水系粘接剂、活性能量射线固化型粘接剂。粘接剂层41优选为水系粘接剂的固化物层。
作为水系粘接剂，例如可以举出使水溶性树脂溶解、或分散于水中而得的粘接剂。作为水溶性树脂，可以举出聚丙烯酰胺系树脂；聚乙烯醇(PVA)系树脂以及乙烯-乙烯醇共聚物、(甲基)丙烯酸或其酸酐-乙烯醇共聚物等乙烯醇系树脂；羧基乙烯基系树脂；聚乙烯基吡咯烷酮；淀粉类；海藻酸钠；聚环氧乙烷系树脂等。
水系粘接剂优选包含PVA系树脂。对于水系粘接剂中含有的PVA系树脂的平均聚合度，从粘接性的方面出发，优选为100～5500左右，更优选为1000～4500。对于平均皂化度，从粘接性的方面出发，优选为85摩尔％～100摩尔％，更优选为90摩尔％～100摩尔％。
水系粘接剂中含有的PVA系树脂优选含有乙酰乙酰基的PVA系树脂。包含乙酰乙酰基的PVA系树脂例如可以通过利用任意的方法使PVA系树脂与双烯酮反应而得到。包含乙酰乙酰基的PVA系树脂的乙酰乙酰基改性度代表性地为0.1摩尔％以上，优选为0.1摩尔％以上且20摩尔％以下。
水系粘接剂根据需要可以含有交联剂。可以使用公知的交联剂作为交联剂。例如可以举出水溶性环氧化合物、二醛化合物、异氰酸酯化合物等。
水系粘接剂可以含有有机溶剂。从具有与水的混和性的方面出发，有机溶剂优选醇类，在醇类中更优选为甲醇或乙醇。
水系粘接剂可以包含抗氧化剂；选自脲、脲衍生物、硫脲及硫脲衍生物中的至少1种脲系化合物等。
水系粘接剂的树脂浓度优选为0.1重量％以上且15重量％以下，更优选为0.5重量％以上且10重量％以下。水系粘接剂的固体成分浓度优选为10质量％以上且50质量％以下，也可以为20质量％以上且40质量％以下。
对于使用水系粘接剂时的干燥方法没有特别限定，例如可以采用使用热风干燥机、红外线干燥机进行干燥的方法。
作为活性能量射线固化型粘接剂，例如可以举出包含通过紫外线、可见光、电子束、X射线之类的活性能量射线的照射而固化的固化性化合物的无溶剂型的活性能量射线固化型粘接剂。通过使用无溶剂型的活性能量射线固化型粘接剂，可以提高层间的密合性。
作为活性能量射线固化型粘接剂，从显示出良好的粘接性的方面出发，优选包含阳离子聚合性的固化性化合物、自由基聚合性的固化性化合物的任意一者或两者。活性能量射线固化型粘接剂可以还包含用于引发上述固化性化合物的固化反应的光阳离子聚合引发剂等阳离子聚合引发剂、或自由基聚合引发剂。
粘接剂层41的厚度优选为10nm以上且200nm以下，更优选为20nm以上且150nm以下，也可以为20nm以上且100nm以下。
(偏振板的制造方法)
图2是示意性地表示本发明的一个实施方式的偏振板的制造工序的截面图。
本实施方式的偏振板的制造方法可以是制造上述的偏振板1的制造方法，也可以是制造上述的偏振板1以外的偏振板的制造方法。偏振板1可以依次具备偏振片10、粘接剂层41及保护膜20。对于偏振板1、偏振片10、粘接剂层41及保护膜20如上所述。
偏振板1的制造方法包括：
准备具有基材层121和形成于基材层121上的易粘接层122的层叠膜120的工序(a)(图2的(a))、
对层叠膜120进行退火处理而得到保护膜20的工序(b)(图2的(b))、以及
在保护膜20的易粘接层122侧经由用于形成粘接剂层41的粘接剂组合物贴合偏振片10的工序(c)(图2的(c))，
层叠膜120的易粘接层122的雾度为3％以上，
偏振板1的雾度为0.5％以下。
(工序(a))
上述工序(a)是准备具有基材层121和易粘接层122的层叠膜120的工序。层叠膜120通过工序(b)中进行的退火处理而成为偏振板1的保护膜20。
工序(a)可以包括在基材层121上形成易粘接层122的工序。形成易粘接层122的工序可以包括在基材层121上涂布用于形成易粘接层122的易粘接组合物而形成涂布层的工序、对涂布层进行干燥的工序、对干燥后的涂布层进行养护的工序等。作为易粘接组合物、易粘接组合物的涂布方法、涂布层的干燥方法，可以举出对保护膜的易粘接层22说明的组合物及方法。
上述工序(a)中准备的层叠膜120所具有的易粘接层122的雾度为3％以上。可以认为，易粘接层122的雾度处于上述的范围的层叠膜120在层叠膜120的形成有易粘接层122的侧的表面形成有对于抑制粘连而言充分的微细的凹凸。因此，在将层叠膜120卷绕成卷筒状等情况下，能够良好地抑制产生粘连的情况。对于层叠膜120的详情将在后面叙述。
(工序(b))
上述工序(b)是对层叠膜120进行退火处理(加热处理)而得到保护膜20的工序。利用工序(b)中进行的退火处理，可以得到对因将层叠膜120制成卷绕体等而在基材层121产生的变形进行了平滑化的保护膜20。由此，能够抑制在经过工序(c)得到的偏振板1产生表面缺陷(打痕)的情况。
工序(b)中进行退火处理的层叠膜120的基材层121如后所述，是被沿第1方向及第2方向进行了拉伸的双轴拉伸膜，第1方向的拉伸倍率与第2方向的拉伸倍率的比(第1方向/第2方向)(以下有时称作“拉伸倍率比”。)优选为0.70以上且1.00以下。层叠膜120的基材层121的拉伸倍率比也可以为0.75以上且1.00以下，也可以为0.80以上且0.95以下，也可以为0.82以上且0.90以下。
工序(b)中，优选对具有上述拉伸倍率比的层叠膜120以使第2方向上的收缩率为0.30％以下的方式进行退火处理。在工序(b)的退火处理中，层叠膜120的第2方向上的收缩率也可以为0.25％以下，也可以为0.20％以下，也可以为0.16％以下，也可以为0.10％以下，通常为0.03％以上，也可以为0.05％以上。层叠膜120的第2方向上的上述收缩率可以利用层叠膜120的种类、层叠膜120的基材层121的种类及厚度、退火处理的温度等来进行调整。在将退火处理前的层叠膜120的第2方向的长度设为L1[mm]、将退火处理后的层叠膜120(保护膜20)的第2方向的长度设为L2[mm]时，可以利用下式算出上述收缩率。
收缩率[％]＝(L1-L2/L1)×100
对具有上述拉伸倍率比的层叠膜120，以使第2方向上的收缩率为上述的范围的方式进行退火处理，在后述的工序(c)中以使偏振片10的吸收轴与层叠膜的第1方向所成的角度为-20°以上且20°以下的方式将偏振片10与保护膜20贴合，由此能够降低经过工序(c)得到的偏振板1的吸收轴方向的卷曲量的绝对值。
工序(b)中进行的退火处理的温度优选为75℃以上且105℃以下，也可以为80℃以上且100℃以下，也可以为85℃以上且95℃以下。通过在上述的温度进行退火处理，易于降低经过工序(c)得到的偏振板1的吸收轴方向的卷曲量的绝对值。
退火处理可以使用能够在规定的温度加热层叠膜120的装置来进行。作为该装置，可以举出加热烘箱、热风循环式烘箱、红外线加热炉、真空烘箱、热板等，优选为加热烘箱、热风循环式烘箱、红外线加热炉，更优选为热风循环式烘箱及红外线加热炉。
(工序(c))
工序(c)是将保护膜20与偏振片10经由用于形成粘接剂层41的粘接剂组合物贴合的工序。工序(c)例如可以通过如下操作来进行，即，在保护膜20的易粘接层22侧和/或偏振片10涂布粘接剂组合物，经由粘接剂组合物将保护膜20与偏振片10层叠，或者在向保护膜20的易粘接层22与偏振片10之间流入粘接剂组合物后，使粘接剂组合物固化。优选以使粘接剂进入保护膜20的易粘接层22侧的表面凹凸的方式，调整粘接剂组合物的固体成分量和/或粘度等，使制成偏振板1时的雾度为0.5％以下。也可以在使粘接剂组合物固化后设置进行养护的工序。
粘接剂组合物可以为水系粘接剂。该情况下，工序(c)中，优选包括经由水系粘接剂将保护膜20与偏振片10层叠的工序、和使水系粘接剂固化而形成粘接剂层41的工序。作为使水系粘接剂固化的方法，可以举出进行水系粘接剂的干燥处理的方法。干燥处理例如可以通过在温度50～100℃的条件下使水系粘接剂干燥0.5～10分钟来进行。干燥处理后，例如可以在比室温略高的30～50℃左右的温度养护1～10天。
在如上所述地对具有上述的拉伸倍率比的层叠膜120以使第2方向上的收缩率为上述的范围的方式进行退火处理的情况下，优选将偏振片10与保护膜20以使偏振片10的吸收轴与层叠膜的第1方向所成的角度为-20°以上且20°以下的方式贴合。该角度优选为-10°以上且10°以下，更优选为-5°以上且5°以下，也可以为0°。由此，能够降低经过工序(c)得到的偏振板1的吸收轴方向的卷曲量的绝对值。
(层叠膜)
层叠膜120具有基材层121和易粘接层122。易粘接层122通常设于基材层121的一面，然而也可以设于两面。层叠膜120通过上述的退火处理而成为保护膜20。层叠膜120的基材层121及易粘接层122各自成为保护膜20的基材层21及易粘接层22。
层叠膜120的基材层121可以使用保护膜20的基材层21中说明的材料形成。基材层121的厚度可以设为与基材层21的厚度相同的范围。
基材层121可以是沿第1方向及第2方向被拉伸了的双轴拉伸膜。在基材层121中，第1方向的拉伸倍率与第2方向的拉伸倍率相同或比之更小，拉伸倍率比(第1方向的拉伸倍率/第2方向的拉伸倍率)优选为上述的范围内。
在基材层121为双轴拉伸膜的情况下，第1方向的拉伸倍率可以为1.2倍以上且4.0倍以下，也可以为1.5倍以上且3.0倍以下，也可以为1.8倍以上且2.5倍以下。在基材层121为双轴拉伸膜的情况下，第2方向的拉伸倍率可以为1.3倍以上且4.0倍以下，也可以为1.5倍以上且3.5倍以下，也可以为2.0倍以上且3.0倍以下。
层叠膜120的易粘接层122可以使用保护膜20的易粘接层22中说明的材料形成。易粘接层122的厚度可以设为与易粘接层22的厚度相同的范围。易粘接层122的雾度可以设为与易粘接层22的雾度相同的范围。
层叠膜120的静摩擦系数优选为0.10以上且0.90以下，也可以为0.20以上且0.80以下，也可以为0.30以上且0.75以下，也可以为0.60以上。通过使层叠膜120的静摩擦系数为上述的范围内，可以提高将层叠膜120卷绕成卷筒状时的滑动性，从而可以抑制在卷绕时或卷绕后在层叠膜120产生折断或褶皱的情况。若静摩擦系数为0.60以上，则难以卷绕层叠膜120，然而通过使本实施方式的偏振板1的易粘接层122的雾度为3％以上，则不易产生卷绕时的不佳状况。层叠膜120的静摩擦系数可以通过使用在基材层121的一面具有易粘接层122的层叠膜120、在温度25℃、相对湿度55％的条件下在一个层叠膜120的基材层121摩擦另一个层叠膜120的易粘接层122来测定，可以利用后述的实施例中记载的方法来进行测定。
(光学层叠体)
图3是示意性地表示本发明的一个实施方式的光学层叠体的截面图。本实施方式的光学层叠体2依次具备上述的偏振板1、相位差体30和粘合剂层42。光学层叠体2例如可以具有作为圆偏振板的功能。光学层叠体2可以用于显示装置，粘合剂层42可以用于将光学层叠体2贴合于显示装置的显示元件。光学层叠体2可以在粘合剂层42的与相位差体30侧的相反侧具有剥离膜。
光学层叠体2中含有的相位差体30可以包含液晶固化层。相位差体30优选层叠于偏振片10的一侧，在仅在偏振片10的一面具有保护膜20的情况下，例如可以如图3所示，在偏振片10的与保护膜20侧的相反侧具备相位差体30。该情况下，偏振片10与相位差体30优选经由第1贴合层43层叠。第1贴合层43可以与偏振片10及相位差体30中含有的后述的相位差层直接接触。第1贴合层43为粘接剂层或粘合剂层。
相位差体30包含1层以上的相位差层，该相位差层可以包含液晶固化层。在相位差体30包含2层以上的相位差层的情况下，优选2层以上的相位差层经由贴合层层叠。相位差体30例如可以如图3所示为依次层叠有第1相位差层31、第2贴合层33、第2相位差层32的层叠体。该情况下，优选第1相位差层31及第2相位差层32中的至少一者包含液晶固化层，也可以它们双方包含液晶固化层。第2贴合层33为粘接剂层或粘合剂层。
第1相位差层31可以具有取向层和液晶固化层。第1相位差层31可以具有保护液晶固化层或取向层的表面的外涂层、支承取向层及液晶取向层的基材膜等。第2相位差层32可以具有取向层和液晶固化层。第2相位差层32可以具有保护液晶固化层或取向层的表面的外涂层、支承取向层及液晶取向层的基材膜等。
在相位差体30具有第1相位差层31及第2相位差层32的情况下，作为第1相位差层31与第2相位差层32的组合，例如可以举出[i]赋予λ/4的相位差的相位差层(λ/4层)与赋予λ/2的相位差的相位差层(λ/2层)的组合、或[ii]赋予λ/4的相位差的相位差层(λ/4层)与正C层的组合等。第1相位差层31及第2相位差层32可以具有正波长分散性，也可以具有逆波长分散性。λ/4层可以为逆波长分散性的λ/4层。在偏振板2中相位差体30包含λ/4层的情况下，偏振片10的吸收轴与λ/4层的慢轴所成的角度可以为45°±10°。由此，偏振板2具有防反射功能，能够作为圆偏振板发挥作用。
光学层叠体2可以通过在偏振板1形成粘合剂层42而得到。以下，对构成光学层叠体2的各层的详情进行说明。
(相位差体)
相位差体包含液晶固化层，是对偏振板赋予相位差的层。相位差体优选具有1层以上的包含液晶固化层的相位差层。在相位差体包含2层以上的相位差层的情况下，若至少1层的相位差层包含液晶固化层，则剩下的相位差层可以由拉伸膜形成。在相位差体包含2层以上的相位差层的情况下，相位差体优选具有用于将这些层贴合的贴合层。
相位差体的厚度例如为0.1μm以上且50μm以下，优选为0.5μm以上且30μm以下，更优选为1μm以上且10μm以下。
(相位差层(第1相位差层、第2相位差层))
相位差体中含有的相位差层(第1相位差层、第2相位差层)可以由作为构成上述的保护膜的基材层的材料例示的树脂膜形成，也可以由液晶固化层形成。液晶固化层优选为聚合性液晶化合物发生聚合固化而成的层。第1相位差层31及第2相位差层32如上所述，可以在包含液晶固化层的基础上还包含取向层、基材膜、外涂层等。
在液晶固化层为聚合性液晶化合物发生聚合固化而成的层的情况下，可以通过将包含聚合性液晶化合物的组合物涂布于基材膜并使之固化而形成。可以在基材膜与涂布层之间形成取向层。作为基材膜的材料及厚度，可以举出构成上述的保护膜的基材层的材料及厚度。
聚合性液晶化合物是具有至少1个聚合性基团、并且具有液晶性的化合物。可以使用公知的聚合性液晶化合物作为聚合性液晶化合物。为了形成液晶固化层而使用的聚合性液晶化合物的种类没有特别限定，可以使用棒状液晶化合物、圆盘状液晶化合物及它们的混合物。通过将聚合性液晶化合物聚合而形成的固化物层在使聚合性液晶化合物在沿合适的方向取向的状态下固化，由此体现出相位差。在棒状的聚合性液晶化合物相对于光学层叠体的平面方向进行水平取向或垂直取向的情况下，该聚合性液晶化合物的光轴与该聚合性液晶化合物的长轴方向一致。在圆盘状的聚合性液晶化合物发生取向的情况下，该聚合性液晶化合物的光轴存在于与该聚合性液晶化合物的圆盘面正交的方向。作为棒状的聚合性液晶化合物，例如可以合适地使用日本特表平11-513019号公报(权利要求1等)中记载的聚合性液晶化合物。作为圆盘状的聚合性液晶化合物，可以合适地使用日本特开2007-108732号公报([0020]～[0067]段等)、日本特开2010-244038号公报([0013]～[0108]段等)中记载的聚合性液晶化合物。
聚合性液晶化合物所具有的所谓聚合性基团，是指参与聚合反应的基团，优选为光聚合性基团。所谓光聚合性基团，是指能够利用从光聚合引发剂中产生的活性自由基、酸等来参与聚合反应的基团。作为聚合性基团，可以举出乙烯基、乙烯氧基、1-氯乙烯基、异丙烯基、4-乙烯基苯基、(甲基)丙烯酰氧基、环氧乙基、氧杂环丁烷基、苯乙烯基、烯丙基等。其中，优选(甲基)丙烯酰氧基、乙烯氧基、环氧乙基及氧杂环丁烷基，更优选丙烯酰氧基。聚合性液晶化合物所具有的液晶性可以是热致性液晶，也可以是溶致液晶，若对热致性液晶以有序度进行分类，则可以是向列型液晶，也可以是近晶型液晶。在为了形成聚合性液晶化合物的固化物层而并用2种以上的聚合性液晶化合物的情况下，优选至少1种在分子内具有2个以上的聚合性基团。
液晶固化层可以如下形成，即，将包含聚合性液晶化合物、溶剂和根据需要使用的各种添加剂的液晶固化层形成用的组合物涂布于后述的取向层上而形成涂膜，使该涂膜固化(硬化)，由此形成使聚合性液晶化合物聚合固化的层。或者，也可以在基材膜上涂布上述组合物而形成涂膜，将该涂膜与基材膜一起拉伸，使之固化，由此形成。上述组合物可以在包含上述的聚合性液晶化合物及溶剂以外，还包含聚合引发剂、反应性添加剂、流平剂、阻聚剂等。聚合性液晶化合物、溶剂、聚合引发剂、反应性添加剂、流平剂、阻聚剂等可以适当地使用公知的物质。
液晶固化层的厚度可以为0.1μm以上，也可以为0.5μm以上，也可以为1μm以上，另外，可以为10μm以下，也可以为8μm以下，也可以为5μm以下，也可以为3μm以下。
取向层具有使聚合性液晶化合物沿所期望的方向取向的取向限制力。取向层可以是使聚合性液晶化合物的分子轴相对于光学层叠体的平面方向进行垂直取向的垂直取向膜，也可以是使聚合性液晶化合物的分子轴相对于层叠体的平面方向进行水平取向的水平取向膜，也可以是使聚合性液晶化合物的分子轴相对于光学层叠体的平面方向进行倾斜取向的倾斜取向膜。
作为取向层，优选如下的取向层，即，具有不会因包含聚合性液晶化合物的液晶固化层形成用的组合物的涂布等而溶解的耐溶剂性，并具有对于用于溶剂的除去、聚合性液晶化合物的取向的加热处理的耐热性。作为取向层，可以举出由取向性聚合物形成的取向性聚合物层、由光取向聚合物形成的光取向性聚合物层、在层表面具有通过进行摩擦处理等而形成的凹凸图案、多个沟槽(groove)的沟槽取向层等。
(粘合剂层)
粘合剂层42是使用粘合剂形成的层。粘合剂是通过将其自身粘贴于被粘物来体现出粘接性的物质，是被称作所谓的压敏型粘接剂的物质。粘合剂可以使用公知的光学透明性优异的粘合剂。公知的粘合剂例如可以使用含有丙烯酸类聚合物、氨基甲酸酯聚合物、硅酮聚合物、聚乙烯基醚等基础聚合物的粘合剂。另外，粘合剂也可以是活性能量射线固化型粘合剂、或热固化型粘合剂等。它们当中，适合为透明性、粘合力、再剥离性(再加工性)、耐候性、耐热性等优异的以丙烯酸类树脂作为基础聚合物的粘合剂。粘合剂层优选由包含(甲基)丙烯酸类树脂、交联剂、硅烷偶联剂的粘合剂构成，也可以包含其他成分。
粘合剂层42的厚度没有特别限定，然而优选为5μm以上且300μm以下，也可以为10μm以上且250μm以下，也可以为15μm以上且100μm以下，也可以为20μm以上且70μm以下，也可以为25μm以上且50μm以下。
(第1贴合层、第2贴合层)
第1贴合层43及第2贴合层33(以下有时将两者一并称作“贴合层”。)各自独立地为粘接剂层或粘合剂层。作为粘接剂层及粘合剂层，可以举出上文中说明的例子。
(剥离膜)
剥离膜可以具有基材膜及脱模处理层。基材膜可以为树脂膜。树脂膜例如可以由形成构成上述的保护膜的基材层的材料来形成。脱模处理层只要是公知的脱模处理层即可，例如可以举出将氟化合物、硅酮化合物等脱模剂涂覆于基材膜而形成的层。
(显示装置)
光学层叠体2可以用于显示装置。显示装置可以是具备显示元件和层叠于显示元件的观察侧的光学层叠体2的构成。光学层叠体2可以利用粘合剂层42贴合于显示元件。在光学层叠体2具备仅在偏振片10的一面具有保护膜20的偏振板1的情况下、将光学层叠体2配置于显示元件的观察侧的情况下，优选保护膜20相比于偏振片10位于观察侧。显示装置没有特别限定，例如可以举出有机EL显示装置、无机EL显示装置、液晶显示装置、电场发光显示装置等图像显示装置。显示装置可以具有触控面板功能。光学层叠体2可以用于能够弯曲或折曲等的具有挠曲性的柔性显示装置。
显示装置可以作为智能手机、平板电脑等移动设备、电视机、数码相框、电子广告牌、测定器、计量仪器类、办公用设备、医疗设备、电子计算机设备等使用，特别是作为今后要求进一步的小型化的移动设备中搭载的显示装置而言特别合适。
实施例
以下，示出实施例及比较例而对本发明进一步具体说明，然而本发明并不受这些例子限定。
<偏振片的制作>
(偏振片a的制作)
准备出厚度20μm、聚合度2400、皂化度99％以上的聚乙烯醇系树脂膜。将该聚乙烯醇系树脂膜在热辊上以拉伸倍率4.1倍进行单轴拉伸，保持张紧状态不变地在每100质量份水中含有0.05质量份的碘及5质量份的碘化钾的、28℃的染色浴中浸渍60秒。
然后，在每100质量份水中含有5.5质量份的硼酸及15质量份的碘化钾的、温度64℃的硼酸水溶液(1)中浸渍110秒。其后，在每100质量份水中含有3.9质量份的硼酸及15质量份的碘化钾的、温度67℃的硼酸水溶液(2)中浸渍30秒。其后，使用温度10℃的纯水进行水洗，并进行干燥，得到偏振片a。依照后述的步骤测定出偏振片a的厚度、硼含量及收缩力。将结果表示于表1～3中。
(偏振片b的制作)
除了将硼酸水溶液(2)的硼酸含量变更为每100质量份水中含有2.3质量份这一点以外，利用与偏振片a相同的方法制作出偏振片b。依照后述的步骤测定出偏振片b的厚度、硼含量及收缩力。将结果表示于表1～3中。
(偏振片c的制作)
除了将硼酸水溶液(2)的硼酸含量变更为每100质量份水中含有5.5质量份这一点以外，利用与偏振片a相同的方法制作出偏振片c。依照后述的步骤测定出偏振片c的厚度、硼含量及收缩力。将结果表示于表1～3中。
(偏振片d的制作)
除了将硼酸水溶液(2)的硼酸含量变更为每100质量份水中含有1.5质量份这一点以外，利用与偏振片a相同的方法制作出偏振片d。依照后述的步骤测定出偏振片d的厚度、硼含量及收缩力。将结果表示于表1～3中。
[厚度的测定]
利用接触式膜厚计〔株式会社Nikon制的商品名“DIGIMICRO(注册商标)MH-15M”〕测定出偏振片、后述的层叠膜及保护膜的各层的厚度。层叠膜及保护膜的易粘接层的厚度作为树脂层的厚度来进行确定。
[偏振片的硼含量]
将0.2g的偏振片溶解于200g的1.9质量％甘露醇水溶液中。对所得的水溶液用1mol/L的NaOH水溶液滴定，根据中和所需的NaOH液的量与标准曲线的比较算出硼量(质量)。作为相对于偏振片的质量算出的硼量，算出偏振片的硼含量。
[偏振片的收缩力的测定]
以使偏振片的吸收轴与长边一致的方式，利用超级切割机(株式会社荻野精机制作所制)将偏振片切割出短边2mm、长边50mm的矩形，作为试验片。使用热机械分析装置(SIINanotechnology株式会社制、型号TMA/6100)测定出试验片的收缩力。在尺寸恒定模式下，将卡盘间距离设为10mm，将静载荷设为0mN，夹具使用SUS制的探针，依照下面的步骤实施该测定。首先，将试验片在温度20℃的室内放置足够的时间。其后，将放置有试验片的室内的温度设定用10分钟从20℃升温到80℃。升温后以将室内的温度维持在80℃的方式设定，再放置4小时后，在温度80℃的环境下测定出试验片的长边方向(吸收轴方向)的收缩力。
<层叠膜的制作>
(易粘接组合物的制备)
将16.8g的聚酯氨基甲酸酯(第一工业制药株式会社制、商品名：Superflex 210、固体成分：33％)、4.2g的交联剂(含噁唑啉的聚合物、株式会社日本触媒制、商品名：Epocros WS-700、固体成分：25％)、2.0g的1质量％的氨水、0.42g的胶态二氧化硅(扶桑化学工业株式会社制、Quartron PL-3、固体成分：20质量％)及76.6g的纯水混合，得到易粘接组合物。
(层叠膜A的制作)
使用单轴挤出机(φ＝20.0mm、L/D＝25)及衣架型T形模头(宽度150mm)在温度280℃熔融挤出作为丙烯酸系树脂的聚甲基丙烯酸甲酯树脂[玻璃化转变温度：135℃、熔融粘度：700Pa·s(温度270℃、剪切速度100(1/sec))]的颗粒。将所挤出的树脂用保持为温度110℃的冷却辊冷却，由此成形得到厚度80μm的未拉伸的丙烯酸系树脂膜。将如此所述地得到的未拉伸的丙烯酸系树脂膜使用台式拉伸机沿长度方向以拉伸倍率2.0倍进行拉伸，得到拉伸膜。
在拉伸膜的一个表面使用棒涂机涂布上文中制备的易粘接组合物后，投入热风干燥机并在温度100℃干燥90秒，得到带有涂布膜的拉伸膜。将该带有涂布膜的拉伸膜使用台式拉伸机沿宽度方向拉伸(拉伸倍率：2.35倍)，得到在厚度20μm的基材层的表面具有厚度300nm的易粘接层的层叠膜A。将所得的层叠膜A以恒定的张力卷绕成卷筒状。
层叠膜A中，长度方向为第1方向，宽度方向为第2方向。依照后述的步骤测定层叠膜A的雾度及静摩擦系数，进行保管的评价。将结果表示于表1～3中。
(层叠膜B及C的制作)
除了将得到拉伸膜时的拉伸倍率与将带有涂布膜的拉伸膜沿宽度方向拉伸时的拉伸倍率的比变更为表1～3中记载的拉伸倍率比以外，利用与层叠膜A相同的方法得到层叠膜B及C，卷绕成卷筒状。层叠膜B及C中，长度方向为第1方向，宽度方向为第2方向。依照后述的步骤测定层叠膜B及C的雾度及静摩擦系数，进行保管的评价。将结果表示于表1～3中。
(层叠膜D～F的制作)
除了将使用易粘接组合物形成的涂布膜的厚度变更为表1～3中记载的厚度以外，利用与层叠膜A相同的方法得到层叠膜D～F，卷绕成卷筒状。依照后述的步骤测定层叠膜D及E的雾度及静摩擦系数，进行保管的评价。另外，依照后述的步骤测定层叠膜F的雾度，进行保管的评价。将结果表示于表1～3中。
(层叠膜G的制作)
除了将得到拉伸膜时的拉伸倍率与将带有涂布膜的拉伸膜沿宽度方向拉伸时的拉伸倍率的比变更为表1～3中记载的拉伸倍率比以外，利用与层叠膜A相同的方法得到层叠膜G，卷绕成卷筒状。层叠膜G中，长度方向为第1方向，宽度方向为第2方向。依照后述的步骤测定层叠膜G的雾度及静摩擦系数，进行保管的评价。将结果表示于表1～3中。
(层叠膜H的制作)
除了使长度方向为第2方向、宽度方向为第1方向、并将得到拉伸膜时的拉伸倍率与将带有涂布膜的拉伸膜沿宽度方向拉伸时的拉伸倍率的比变更为表1～3中记载的拉伸倍率比以外，利用与层叠膜A相同的方法得到层叠膜H，卷绕成卷筒状。依照后述的步骤测定层叠膜H的雾度及静摩擦系数，进行保管的评价。将结果表示于表1～3中。
(层叠膜I的制作)
除了将使用易粘接组合物形成的涂布膜的厚度变更为表1～3中记载的厚度以外，利用与层叠膜A相同的方法得到层叠膜I，卷绕成卷筒状。依照后述的步骤测定层叠膜I的雾度及静摩擦系数，进行保管的评价。将结果表示于表1～3中。
(层叠膜J的制作)
除了将基材层的厚度变更为表1～3中记载的厚度以外，利用与层叠膜A相同的方法得到层叠膜J，卷绕成卷筒状。依照后述的步骤测定层叠膜J的雾度及静摩擦系数，进行保管的评价。将结果表示于表1～3中。
[易粘接层的雾度的测定]
将层叠膜切割出40mm×40mm的大小，使用株式会社村上色彩技术研究所制雾度计HR-150测定雾度，将其设为层叠膜的雾度。然后，将构成层叠膜的基材层切割出40mm×40mm的大小，使用上述雾度计测定雾度，将其设为基材层的雾度。将从层叠膜的雾度减去基材层的雾度而得的值设为易粘接层的雾度。
[静摩擦系数的测定]
准备2片测定静摩擦系数的层叠膜。在玻璃板上固定一个层叠膜的易粘接层侧。以使接触面积为40cm2的方式将另一个层叠膜的基材层侧固定于不锈钢制夹具。在温度25℃、相对湿度55％的条件下，使固定于夹具的层叠膜的易粘接层密合于固定于玻璃板上的层叠膜的基材层，在从夹具上赋予200g的载荷的状态下，根据以100mm/分钟的速度沿水平方向(与载荷方向垂直的方向)移动时的开始运动的最大负荷求出静摩擦系数。
[保管的评价]
保管卷绕成卷筒状的层叠膜，在经过规定时间后拉出。通过目视观察拉出的层叠膜的状态，依照以下的基准进行评价。将评价结果表示于表1～3中。
A：卷绕后超过1个月也没有在层叠膜中产生褶皱、折断及粘连的任意一种。
B：卷绕后在超过1周且1个R以内的期间在层叠膜产生褶皱、折断及粘连中的任意一种。
C：卷绕后在1周以内的期间在层叠膜中产生褶皱、折断及粘连的任意一种。
<水系粘接剂的制备>
相对于100质量份的水，溶解3质量份的羧基改性聚乙烯醇(株式会社Kuraray、商品名“KL-318”)，向该水溶液中添加1.5质量份的作为水溶性环氧树脂的聚酰胺环氧系添加剂(田冈化学工业株式会社、商品名“Sumirez Resin(注册商标)650(30)”、固体成分浓度30质量％的水溶液)，制备出水系粘接剂。
〔实施例1～17、比较例1〕
将卷绕成卷筒状的表1～3所示的层叠膜拉出，以达到表1～3所示的温度及收缩率的方式进行退火处理而得到保护膜。退火处理后，在表1～3所示的偏振片的一面经由上文中制备的水系粘接剂贴合上述的保护膜，进行干燥而得到偏振板。实施例1～14、16、17及比较例1的偏振板中，偏振片的吸收轴方向与保护膜的长度方向(第1方向)平行，实施例15的偏振板中，偏振片的吸收轴方向与保护膜的宽度方向(第1方向)正交。
依照后述的步骤，测定伴随着退火处理的层叠膜的收缩率以及偏振板的雾度及卷曲量，进行打痕的评价及湿热耐久试验。将结果表示于表1～3中。需要说明的是，保护膜的基材层的厚度以及易粘接层的雾度及厚度与上文中测定的层叠膜的基材层的厚度以及易粘接层的雾度及厚度相同。
〔比较例2〕
除了将没有进行退火处理的层叠膜A直接作为保护膜使用而得到偏振板以外，与实施例1同样地得到偏振板。依照后述的步骤，测定偏振板的雾度及卷曲量，进行打痕的评价及湿热耐久试验。将结果表示于表1～3中。
[收缩率的测定]
一边搬送进行退火处理前的层叠膜，一边使用激光位移计(株式会社KEYENCE制)测定宽度方向的长度，将其设为层叠膜的宽度方向的长度Lw1[mm]。然后，一边搬送层叠膜一边进行退火处理后，使用上述激光位移计测定退火处理后的层叠膜(保护膜)的宽度方向的长度Lw2[mm]，将其设为保护膜的宽度方向的长度。根据所测定的长度的值，基于下式算出收缩率。需要说明的是，层叠膜的宽度方向在实施例1～14、16、17及比较例1中为第2方向，在实施例15中为第1方向。
收缩率[％]＝(Lw1-Lw2/Lw1)×100
[偏振板的雾度的测定]
将偏振板切割出40mm×40mm的大小，使用株式会社村上色彩技术研究所制雾度计HR-150测定雾度，将其设为偏振板的雾度。
[偏振板的卷曲量的测定]
将偏振板在温度25℃、相对湿度55％的环境下放置24小时。将偏振板切割出长方形，使得吸收轴方向的长度为164mm、透射轴方向的长度为70mm，作为测定试样。以使测定试样的凹面在上的方式放置于基准面(水平的台)，作为相对于基准面的高度测定出测定试样的吸收轴方向的两端的边(平行于透射轴方向的2边)的翘起量。在测定试样的平行于透射轴方向的2边上，分别对该边的两端、中心、两端与中心之间的中间地点的5点进行测定，对各边中各5点的共计10点进行，对其进行平均后作为卷曲高度[mm]。将偏振板的保护膜侧为凹面时的卷曲高度设为正的值，将偏振板的偏振片侧为凹面时的卷曲高度设为负的值。根据所测定的卷曲高度和测定试样的吸收轴方向的长度，基于下式算出卷曲量。
卷曲量[％]＝(卷曲高度[mm]/测定试样的吸收轴方向的长度[mm])×100
[打痕(表面缺陷)的评价]
通过目视观察偏振板的保护膜侧的表面，依照以下的基准进行评价。将结果表示于表1～3中。
A：在保护膜中没有观察到打痕。
B：在保护膜中轻微地观察到打痕。
C：在保护膜中醒目地观察到打痕。
D：在保护膜中非常醒目地观察到打痕。
[湿热耐久试验]
(丙烯酸系粘合剂层的准备)
向具备搅拌机、温度计、回流冷凝器、滴液装置及氮气导入管的反应容器中，加入97.0质量份的丙烯酸正丁酯、1.0质量份的丙烯酸、0.5质量份的丙烯酸2-羟基乙酯、200质量份的乙酸乙酯及0.08质量份的2，2′-偶氮二异丁腈，用氮气置换上述反应容器内的空气。在氮气气氛下一边搅拌一边将反应溶液升温到60℃，反应6小时后，冷却到室温，得到重均分子量180万的(甲基)丙烯酸酯聚合物。将100质量份(固体成分换算值；以下相同)的该(甲基)丙烯酸酯聚合物、0.30质量份的作为异氰酸酯系交联剂的三羟甲基丙烷改性甲苯二异氰酸酯(TOSOH株式会社制、CORONATE L)和0.30质量份的作为硅烷偶联剂的3-环氧丙氧基丙基三甲氧基硅烷(信越化学工业株式会社制、KBM403)混合，充分地搅拌，用乙酸乙酯稀释，由此得到粘合剂组合物的涂布溶液。在剥离膜(LINTEC株式会社制、SP-PLR382190)的脱模处理面利用涂覆机涂布上述涂布溶液，使得干燥后的厚度为25μm后，在温度100℃进行1分钟干燥，由此得到丙烯酸系粘合剂层。
(湿热耐久试验)
将偏振板切割出50mm×50mm的大小，经由上文中得到的丙烯酸系粘合剂层贴合于无碱玻璃而制成试验片。将该试验片放入温度60℃、相对湿度95％的恒温恒湿器，静置500小时。观察试验片的偏振板的外观，依照以下的基准进行评价。将结果表示于表1～3中。
A：没有观察到变色。
B：轻微地变色。
C：整体地变色。
[表1]
[表2]
[表3]
附图标记说明
1偏振板，10偏振片，20保护膜，21基材层，22易粘接层，30相位差体，31第1相位差层，32第2相位差层，33第2贴合层，41粘接剂层，42粘合剂层，43第1贴合层，120层叠膜，121基材层，122易粘接层。

Claims (18)

1.一种偏振板，
其依次具备偏振片、粘接剂层及保护膜，
所述保护膜具有基材层和层叠于所述基材层的所述粘接剂层侧的易粘接层，
所述易粘接层的雾度为3％以上，
所述偏振板的雾度为0.5％以下，
温度25℃、相对湿度55％时的所述偏振板的吸收轴方向的卷曲量为-5.0％以上且5.0％以下。
2.根据权利要求1所述的偏振板，其中，
所述基材层的厚度为30μm以下。
3.根据权利要求1或2所述的偏振板，其中，
所述易粘接层的厚度为70nm以上且800nm以下。
4.根据权利要求1～3中任一项所述的偏振板，其中，
所述偏振片的厚度为12μm以下。
5.根据权利要求1～4中任一项所述的偏振板，其中，
所述偏振片含有聚乙烯醇系树脂，
温度80℃时的所述偏振片的吸收轴方向的收缩率为1.3N/2mm以上且2.4N/2mm以下。
6.根据权利要求1～5中任一项所述的偏振板，其中，
所述偏振片含有聚乙烯醇系树脂及硼，
所述偏振片的硼含量为2.8质量％以上且4.7质量％以下。
7.根据权利要求1～6中任一项所述的偏振板，其中，
所述基材层为(甲基)丙烯酸系树脂膜。
8.根据权利要求1～7中任一项所述的偏振板，其中，
所述易粘接层包含树脂及填料。
9.根据权利要求1～8中任一项所述的偏振板，其中，
所述粘接剂层为水系粘接剂的固化物层。
10.根据权利要求1～9中任一项所述的偏振板，其中，
所述粘接剂层的厚度为10nm以上且200nm以下。
11.一种光学层叠体，其依次具备权利要求1～10中任一项所述的偏振板、相位差体和粘合剂层。
12.一种显示装置，其具备权利要求11所述的光学层叠体。
13.一种偏振板的制造方法，
所述偏振板依次具备偏振片、粘接剂层及保护膜，
所述制造方法包括：
准备具有基材层和形成于所述基材层上的易粘接层的层叠膜的工序(a)、
对所述层叠膜进行退火处理而得到所述保护膜的工序(b)、以及
在所述保护膜的所述易粘接层侧经由用于形成所述粘接剂层的粘接剂组合物贴合偏振片的工序(c)，
所述层叠膜的所述易粘接层的雾度为3％以上，
所述偏振板的雾度为0.5％以下。
14.根据权利要求13所述的偏振板的制造方法，其中，
所述层叠膜的所述基材层为沿第1方向及第2方向被拉伸了的双轴拉伸膜，
所述第1方向的拉伸倍率与所述第2方向的拉伸倍率相同或比之更小，
所述第1方向的拉伸倍率与所述第2方向的拉伸倍率的比、即第1方向/第2方向为0.70以上且1.00以下，
所述工序(b)中，以使所述层叠膜的所述第2方向上的收缩率成为0.30％以下的方式进行退火处理，
所述工序(c)中，以使所述偏振片的吸收轴方向与所述层叠膜的所述第1方向所成的角度成为-20°以上且20°以下的方式，将所述偏振片与所述保护膜贴合。
15.根据权利要求13或14所述的偏振板的制造方法，其中，
所述工序(b)中，在温度75℃以上且105℃以下的条件下对所述层叠膜进行退火处理。
16.根据权利要求13～15中任一项所述的偏振板的制造方法，其中，
所述层叠膜中的所述基材层的厚度为30μm以下。
17.根据权利要求13～16中任一项所述的偏振板的制造方法，其中，
所述粘接剂组合物为水系粘接剂。
18.根据权利要求13～17中任一项所述的偏振板的制造方法，其中，
所述偏振片含有聚乙烯醇系树脂及硼，
所述偏振片的硼含量为2.8质量％以上且4.7质量％以下。
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