CN116695062B - 一种切削不锈钢用高熵复合刀具涂层及其制备方法 - Google Patents
一种切削不锈钢用高熵复合刀具涂层及其制备方法 Download PDFInfo
- Publication number
- CN116695062B CN116695062B CN202310526012.7A CN202310526012A CN116695062B CN 116695062 B CN116695062 B CN 116695062B CN 202310526012 A CN202310526012 A CN 202310526012A CN 116695062 B CN116695062 B CN 116695062B
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- coating
- cutter
- target
- arc target
- crsin
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 238000000576 coating method Methods 0.000 title claims abstract description 260
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 title claims abstract description 258
- 239000002131 composite material Substances 0.000 title claims abstract description 86
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 title claims abstract description 40
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 title claims abstract description 40
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 title claims abstract description 39
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 title abstract description 18
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 claims abstract description 71
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 claims abstract description 63
- 239000000956 alloy Substances 0.000 claims abstract description 63
- 229910010038 TiAl Inorganic materials 0.000 claims abstract description 61
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 60
- 238000000151 deposition Methods 0.000 claims abstract description 43
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 claims abstract description 39
- 229910010037 TiAlN Inorganic materials 0.000 claims abstract description 31
- 229910019974 CrSi Inorganic materials 0.000 claims abstract description 30
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 29
- 238000007733 ion plating Methods 0.000 claims abstract description 9
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 72
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 claims description 36
- 230000008021 deposition Effects 0.000 claims description 27
- 238000001816 cooling Methods 0.000 claims description 24
- 239000007789 gas Substances 0.000 claims description 24
- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 claims description 24
- 229910000997 High-speed steel Inorganic materials 0.000 claims description 12
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 claims description 12
- 238000001035 drying Methods 0.000 claims description 12
- 238000007514 turning Methods 0.000 claims description 12
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 8
- 238000012805 post-processing Methods 0.000 claims description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 abstract description 5
- 239000011253 protective coating Substances 0.000 abstract description 4
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 70
- 239000011247 coating layer Substances 0.000 description 31
- 230000001276 controlling effect Effects 0.000 description 23
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 17
- 230000008859 change Effects 0.000 description 16
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 15
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 4
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 4
- 238000005299 abrasion Methods 0.000 description 3
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 239000000463 material Substances 0.000 description 3
- 230000004580 weight loss Effects 0.000 description 3
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 2
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 2
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 2
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 2
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 2
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 2
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000009286 beneficial effect Effects 0.000 description 1
- 238000009776 industrial production Methods 0.000 description 1
- 238000003754 machining Methods 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 1
- 150000004767 nitrides Chemical class 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000035515 penetration Effects 0.000 description 1
- 238000005240 physical vapour deposition Methods 0.000 description 1
- 239000012495 reaction gas Substances 0.000 description 1
- 238000005482 strain hardening Methods 0.000 description 1
- 238000010301 surface-oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- 239000013077 target material Substances 0.000 description 1
- 230000007704 transition Effects 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/06—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
- C23C14/14—Metallic material, boron or silicon
- C23C14/16—Metallic material, boron or silicon on metallic substrates or on substrates of boron or silicon
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/0021—Reactive sputtering or evaporation
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/06—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
- C23C14/0641—Nitrides
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/24—Vacuum evaporation
- C23C14/32—Vacuum evaporation by explosion; by evaporation and subsequent ionisation of the vapours, e.g. ion-plating
- C23C14/325—Electric arc evaporation
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P70/00—Climate change mitigation technologies in the production process for final industrial or consumer products
- Y02P70/10—Greenhouse gas [GHG] capture, material saving, heat recovery or other energy efficient measures, e.g. motor control, characterised by manufacturing processes, e.g. for rolling metal or metal working
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
本发明涉及一种切削不锈钢用高熵复合刀具涂层及其制备方法，属于刀具保护涂层技术领域。采用电弧离子镀方式在刀具基体上用Al靶和Ti靶制备TiAl第一涂层，通入氮气并用TiAl合金靶和CrSi合金靶交替沉积制备由TiAlN/CrSiN多层复合层构成的第二涂层，用Cr靶和Si靶制备CrSiN第三涂层；本发明第一涂层由内至外Al含量逐渐降低，Ti含量逐渐增高，保证涂层与刀具基体的结合力；第二涂层由TiAlN/CrSiN交替的多层复合层构成，保证与第一涂层的结合力以及减弱涂层应力和提高涂层硬度；第三涂层由内至外Cr含量逐渐降低，Si含量逐渐增高，保证与第二涂层的结合力以及涂层表面的化学稳定性和耐磨性。
Description
技术领域
本发明属于刀具保护涂层技术领域，涉及一种切削不锈钢用高熵复合刀具涂层及其制备方法。
背景技术
由于在大气与腐蚀介质中均能表现出优异的耐腐蚀性能和机械性能，不锈钢材料被广泛应用于航空航天、交通能源以及食品化工等行业。但是不锈钢优异的机械性能反而限制了自身的被加工性，较高的塑性与韧性与低热导率等特点导致不锈钢在切削过程中容易出现切削力大、加工硬化严重、切削温度高以及对刀具黏着模塑严重等现象，严重影响刀具寿命与加工质量，因此不锈钢是一种典型的难加工材料。硬质涂层作为一种重要的防护涂层，以其优异的摩擦学性能和抗腐蚀性能被广泛应用于切削刀具和齿轮等机件的表面的防护。而电弧离子镀技术在工业上是一种典型的物理气相沉积技术，凭借其高离化率、高沉积速率及操作简单等优点，被广泛应用于硬质涂层的制备工艺。
氮化物涂层硬度高、韧性强，摩擦系数低且抗磨损性能优异，而刀具基体本身韧性好、强度高，涂层刀具能够将二者的优点进行有机的统一，显著提升了刀具的加工寿命以及效率。
例如中国发明专利CN202010557957公开一种AlCrTiSiN/AlCrTiSiON多层复合涂层的制备工艺，该工艺采用电弧离子镀膜技术在基体上沉积AlCrTiSiN/AlCrTiSiON多层复合涂层。靶材选取金属Cr靶、AlCrSi靶、AlTiSi靶。先沉积CrN过渡层，再通入氮气作为反应气体，制备AlCrTiSiN工作层。最后通入一定时间氧气，制备AlCrTiSiON表面氧化防护层。本发明涉及的多层复合涂层制备工艺简单，并且容易工业化生产。制备出的涂层具有良好的耐热性能，适用于高速切削，提高加工效率。该涂层的主要作用是改善涂层的耐热性能，由于没有较好的处理涂层间的结合关系以及处理应力问题，其涂层的整体硬度和结合力有待提升。
发明内容
本发明的目的在于提供一种切削不锈钢用高熵复合刀具涂层及其制备方法，属于刀具保护涂层技术领域。本发明采用电弧离子镀的方式在刀具基体上先用Al靶和Ti靶制备出含量梯度变化的TiAl第一涂层，然后通入氮气并用TiAl合金靶和CrSi合金靶交替沉积制备由TiAlN/CrSiN多层复合层构成的第二涂层，最后用Cr靶和Si靶制备出含量梯度变化的CrSiN第三涂层；本发明第一涂层由内至外Al含量逐渐降低，Ti含量逐渐增高，保证了涂层与刀具基体间的结合力；第二涂层由TiAlN/CrSiN交替的多层复合层构成，保证了与第一涂层的结合力以及减弱涂层应力和提高涂层硬度；第三涂层由内至外Cr含量逐渐降低，Si含量逐渐增高，保证了与第二涂层的结合力以及涂层表面的化学稳定性和耐磨性。
本发明的目的可以通过以下技术方案实现：
一种切削不锈钢用高熵复合刀具涂层，所述涂层由内至外依次包括第一涂层、第二涂层和第三涂层，所述第一涂层为Al含量由内至外逐渐降低Ti含量由内之外逐渐增高的TiAl层，所述第二涂层由TiAlN/CrSiN交替的多层复合层构成，所述第三涂层为Cr含量由内至外逐渐降低Si含量由内至外逐渐增高的CrSiN层。
作为本发明的一种优选技术方案，所述第一涂层的厚度为20-35um，所述第二涂层的厚度为12-21um，所述第三涂层的厚度为18-25um，所述第二涂层中TiAlN/CrSiN交替的次数为5-10次。
作为本发明的一种优选技术方案，所述高熵复合刀具涂层中各元素的原子百分数为：Ti为24-38at.％、Al为19-34at.％、N为8-15at.％、Cr为13-20at.％、Si为18-22at.％。
上述的切削不锈钢用高熵复合刀具涂层的制备方法，所述制备方法包括以下步骤：
(1)将刀具基体清洗后烘干；
(2)对烘干后的刀具基体进行预处理；
(3)采用Al靶和Ti靶利用电弧离子镀方式制备出含量梯度变化的TiAl第一涂层；
(4)通入氮气，采用TiAl合金靶和CrSi合金靶利用电弧离子度方式交替沉积制备出由TiAlN/CrSiN多层复合层构成的第二涂层；
(5)采用Cr靶和Si靶利用电弧离子度方式制备出含量梯度变化的CrSiN第三涂层；
(6)后处理得到高熵复合刀具涂层。
作为本发明的一种优选技术方案，步骤(1)所述刀具基体为高速钢刀具基体或者硬质合金刀具基体
作为本发明的一种优选技术方案，步骤(2)所述预处理是指：将烘干后的刀具基体放入真空室，通入高纯氩气，在偏压-800--1000v、氩气压强为0.2-0.5Pa的条件下轰击刀具基体使其表面原子活化。
作为本发明的一种优选技术方案，步骤(3)具体为：关闭氩气气源，同时打开Al电弧靶和Ti电弧靶电源，保持Al电弧靶电流45-60A固定不变，Ti电弧靶初始电流30-40A并以1-3A/min的速率增大，沉积偏压为-50--120V，对刀具基体处理30-40min。
作为本发明的一种优选技术方案，步骤(4)具体为：向真空室中通入高纯氮气，调节气压至1.5-3.8Pa，先后交替打开TiAl合金电弧靶和CrSi合金电弧靶电源，控制TiAl合金电弧靶电流为80-130A，控制CrSi合金电弧靶电流为60-100A，沉积偏压为-40--100V，对沉积了第一涂层后的刀具基体处理12-18min。
作为本发明的一种优选技术方案，步骤(5)具体为：调节氮气压力3.5-6Pa，同时打开Cr电弧靶和Si电弧靶电源，保持Cr电弧靶电流80-100A固定不变，Si电弧靶初始电流45-60A并以1-2A/min的速率增大，沉积偏压为-50--120V，对刀具基体处理20-30min。
作为本发明的一种优选技术方案，步骤(6)具体为：关闭所有靶材，关闭偏压电源及气体源，保温40-60min，然后随炉降温至100℃以下，取出刀具，常温冷却。
本发明的有益效果：
(1)本发明采用电弧离子镀的方式在刀具基体上先用Al靶和Ti靶通过控制Al靶电流固定不变而Ti靶电流逐渐增大的方式制备出含量梯度变化的TiAl第一涂层，由内至外Al含量逐渐降低，Ti含量逐渐增高，保证了涂层与刀具基体间的结合力；
(2)通入氮气并用TiAl合金靶和CrSi合金靶通过交替打开TiAl合金靶和CrSi合金靶电源的方式交替沉积制备由TiAlN/CrSiN多层复合层构成的第二涂层，第二涂层由TiAlN/CrSiN交替的多层复合层构成，使得高应力CrSiN层与低应力TiAlN层相互交替，保证了与第一涂层的结合力，同时高低应力层交替的方式减弱整体涂层应力，并且提高涂层硬度；
(3)用Cr靶和Si靶通过控制Cr靶电流固定不变而Si靶电流逐渐增大的方式制备出含量梯度变化的CrSiN第三涂层，由内至外Cr含量逐渐降低，Si含量逐渐增高，保证了与第二涂层的结合力以及涂层表面的化学稳定性和耐磨性；
(4)本发明通过控制每层的厚度以及高熵复合刀具涂层中各元素的原子百分数，以及第一涂层Al和Ti含量梯度变化、第二涂层高低应力层交替、第三涂层Cr和Si含量梯度变化的结构特征，最终使得涂层同时具备较好的耐磨性、较好的硬度、较高的附着力和较好的化学稳定性。
附图说明
为了便于本领域技术人员理解，下面结合附图对本发明作进一步的说明。
图1为实施例1中高熵复合刀具涂层的断面图；
其中A为高速钢刀具基体，B为第一涂层，C为第二涂层，D为第三涂层。
具体实施方式
为更进一步阐述本发明为实现预定发明目的所采取的技术手段及功效，以下结合附图及较佳实施例，对依据本发明的具体实施方式、结构、特征及其功效，详细说明如下。
实施例1
一种切削不锈钢用高熵复合刀具涂层，其涂层的断面图如附图1所示，所述涂层由内至外依次包括第一涂层、第二涂层和第三涂层，所述第一涂层为Al含量由内至外逐渐降低Ti含量由内之外逐渐增高的TiAl层，所述第二涂层由TiAlN/CrSiN交替的多层复合层构成，所述第三涂层为Cr含量由内至外逐渐降低Si含量由内至外逐渐增高的CrSiN层。
所述第一涂层的厚度为33um，所述第二涂层的厚度为20um，所述第三涂层的厚度为23um。
所述第二涂层中TiAlN/CrSiN交替的次数为8次。
所述高熵复合刀具涂层中各元素的原子百分数为：Ti为29at.％、Al为21at.％、N为12at.％、Cr为18at.％、Si为20at.％。
上述的切削不锈钢用高熵复合刀具涂层的制备方法，所述制备方法包括以下步骤：
(1)将高速钢刀具基体清洗后烘干；
(2)将烘干后的刀具基体放入真空室，通入高纯氩气，在偏压-850v、氩气压强为0.3Pa的条件下轰击刀具基体使其表面原子活化；
(3)关闭氩气气源，同时打开Al电弧靶和Ti电弧靶电源，保持Al电弧靶电流55A固定不变，Ti电弧靶初始电流34A并以2A/min的速率增大，沉积偏压为-85V，对刀具基体处理32min，制备出含量梯度变化的TiAl第一涂层；
(4)向真空室中通入高纯氮气，调节气压至1.9Pa，先后交替打开TiAl合金电弧靶和CrSi合金电弧靶电源，控制TiAl合金电弧靶电流为100A，控制CrSi合金电弧靶电流为85A，沉积偏压为-60V，对沉积了第一涂层后的刀具基体处理15min，制备出由TiAlN/CrSiN多层复合层构成的第二涂层；
(5)调节氮气压力4Pa，同时打开Cr电弧靶和Si电弧靶电源，保持Cr电弧靶电流90A固定不变，Si电弧靶初始电流50A并以1A/min的速率增大，沉积偏压为-80V，对刀具基体处理28min，制备出含量梯度变化的CrSiN第三涂层；
(6)关闭所有靶材，关闭偏压电源及气体源，保温48min，然后随炉降温至100℃以下，取出刀具，常温冷却，得到高熵复合刀具涂层。
实施例2
一种切削不锈钢用高熵复合刀具涂层，所述涂层由内至外依次包括第一涂层、第二涂层和第三涂层，所述第一涂层为Al含量由内至外逐渐降低Ti含量由内之外逐渐增高的TiAl层，所述第二涂层由TiAlN/CrSiN交替的多层复合层构成，所述第三涂层为Cr含量由内至外逐渐降低Si含量由内至外逐渐增高的CrSiN层。
所述第一涂层的厚度为25um，所述第二涂层的厚度为21um，所述第三涂层的厚度为25um。
所述第二涂层中TiAlN/CrSiN交替的次数为6次。
所述高熵复合刀具涂层中各元素的原子百分数为：Ti为32at.％、Al为19at.％、N为11at.％、Cr为16at.％、Si为22at.％。
上述的切削不锈钢用高熵复合刀具涂层的制备方法，所述制备方法包括以下步骤：
(1)将硬质合金刀具基体清洗后烘干；
(2)将烘干后的刀具基体放入真空室，通入高纯氩气，在偏压-900v、氩气压强为0.4Pa的条件下轰击刀具基体使其表面原子活化；
(3)关闭氩气气源，同时打开Al电弧靶和Ti电弧靶电源，保持Al电弧靶电流48A固定不变，Ti电弧靶初始电流32A并以2A/min的速率增大，沉积偏压为-100V，对刀具基体处理35min，制备出含量梯度变化的TiAl第一涂层；
(4)向真空室中通入高纯氮气，调节气压至2Pa，先后交替打开TiAl合金电弧靶和CrSi合金电弧靶电源，控制TiAl合金电弧靶电流为85A，控制CrSi合金电弧靶电流为90A，沉积偏压为-75V，对沉积了第一涂层后的刀具基体处理16min，制备出由TiAlN/CrSiN多层复合层构成的第二涂层；
(5)调节氮气压力3.5Pa，同时打开Cr电弧靶和Si电弧靶电源，保持Cr电弧靶电流80A固定不变，Si电弧靶初始电流45A并以2A/min的速率增大，沉积偏压为-100V，对刀具基体处理25min，制备出含量梯度变化的CrSiN第三涂层；
(6)关闭所有靶材，关闭偏压电源及气体源，保温50min，然后随炉降温至100℃以下，取出刀具，常温冷却，得到高熵复合刀具涂层。
实施例3
一种切削不锈钢用高熵复合刀具涂层，所述涂层由内至外依次包括第一涂层、第二涂层和第三涂层，所述第一涂层为Al含量由内至外逐渐降低Ti含量由内之外逐渐增高的TiAl层，所述第二涂层由TiAlN/CrSiN交替的多层复合层构成，所述第三涂层为Cr含量由内至外逐渐降低Si含量由内至外逐渐增高的CrSiN层。
所述第一涂层的厚度为28um，所述第二涂层的厚度为20um，所述第三涂层的厚度为20um。
所述第二涂层中TiAlN/CrSiN交替的次数为10次。
所述高熵复合刀具涂层中各元素的原子百分数为：Ti为25at.％、Al为28at.％、N为10at.％、Cr为18at.％、Si为19at.％。
上述的切削不锈钢用高熵复合刀具涂层的制备方法，所述制备方法包括以下步骤：
(1)将高速钢刀具基体清洗后烘干；
(2)将烘干后的刀具基体放入真空室，通入高纯氩气，在偏压-1000v、氩气压强为0.5Pa的条件下轰击刀具基体使其表面原子活化；
(3)关闭氩气气源，同时打开Al电弧靶和Ti电弧靶电源，保持Al电弧靶电流60A固定不变，Ti电弧靶初始电流38A并以3A/min的速率增大，沉积偏压为-50V，对刀具基体处理40min，制备出含量梯度变化的TiAl第一涂层；
(4)向真空室中通入高纯氮气，调节气压至3.5Pa，先后交替打开TiAl合金电弧靶和CrSi合金电弧靶电源，控制TiAl合金电弧靶电流为125A，控制CrSi合金电弧靶电流为100A，沉积偏压为-100V，对沉积了第一涂层后的刀具基体处理12min，制备出由TiAlN/CrSiN多层复合层构成的第二涂层；
(5)调节氮气压力5Pa，同时打开Cr电弧靶和Si电弧靶电源，保持Cr电弧靶电流100A固定不变，Si电弧靶初始电流60A并以1A/min的速率增大，沉积偏压为-120V，对刀具基体处理30min，制备出含量梯度变化的CrSiN第三涂层；
(6)关闭所有靶材，关闭偏压电源及气体源，保温40min，然后随炉降温至100℃以下，取出刀具，常温冷却，得到高熵复合刀具涂层。
对比例1
一种切削不锈钢用高熵复合刀具涂层，所述涂层由内至外依次包括第一涂层、第二涂层和第三涂层，所述第一涂层为TiAl层，所述第二涂层由TiAlN/CrSiN交替的多层复合层构成，所述第三涂层为Cr含量由内至外逐渐降低Si含量由内至外逐渐增高的CrSiN层。
所述第一涂层的厚度为33um，所述第二涂层的厚度为20um，所述第三涂层的厚度为23um。
所述第二涂层中TiAlN/CrSiN交替的次数为8次。
所述高熵复合刀具涂层中各元素的原子百分数为：Ti为29at.％、Al为21at.％、N为12at.％、Cr为18at.％、Si为20at.％。
上述的切削不锈钢用高熵复合刀具涂层的制备方法，所述制备方法包括以下步骤：
(1)将高速钢刀具基体清洗后烘干；
(2)将烘干后的刀具基体放入真空室，通入高纯氩气，在偏压-850v、氩气压强为0.3Pa的条件下轰击刀具基体使其表面原子活化；
(3)关闭氩气气源，同时打开Al电弧靶和Ti电弧靶电源，保持Al电弧靶电流55A固定不变，保持Ti电弧靶电流66A固定不变，沉积偏压为-85V，对刀具基体处理32min，制备出TiAl第一涂层；
(4)向真空室中通入高纯氮气，调节气压至1.9Pa，先后交替打开TiAl合金电弧靶和CrSi合金电弧靶电源，控制TiAl合金电弧靶电流为100A，控制CrSi合金电弧靶电流为85A，沉积偏压为-60V，对沉积了第一涂层后的刀具基体处理15min，制备出由TiAlN/CrSiN多层复合层构成的第二涂层；
(5)调节氮气压力4Pa，同时打开Cr电弧靶和Si电弧靶电源，保持Cr电弧靶电流90A固定不变，Si电弧靶初始电流50A并以1A/min的速率增大，沉积偏压为-80V，对刀具基体处理28min，制备出含量梯度变化的CrSiN第三涂层；
(6)关闭所有靶材，关闭偏压电源及气体源，保温48min，然后随炉降温至100℃以下，取出刀具，常温冷却，得到高熵复合刀具涂层。
对比例2
一种切削不锈钢用高熵复合刀具涂层，所述涂层由内至外依次包括第一涂层、第二涂层和第三涂层，所述第一涂层为Al含量由内至外逐渐降低Ti含量由内之外逐渐增高的TiAl层，所述第二涂层由TiAlCrSiN层构成，所述第三涂层为Cr含量由内至外逐渐降低Si含量由内至外逐渐增高的CrSiN层。
所述第一涂层的厚度为33um，所述第二涂层的厚度为20um，所述第三涂层的厚度为23um。
所述高熵复合刀具涂层中各元素的原子百分数为：Ti为29at.％、Al为21at.％、N为12at.％、Cr为18at.％、Si为20at.％。
上述的切削不锈钢用高熵复合刀具涂层的制备方法，所述制备方法包括以下步骤：
(1)将高速钢刀具基体清洗后烘干；
(2)将烘干后的刀具基体放入真空室，通入高纯氩气，在偏压-850v、氩气压强为0.3Pa的条件下轰击刀具基体使其表面原子活化；
(3)关闭氩气气源，同时打开Al电弧靶和Ti电弧靶电源，保持Al电弧靶电流55A固定不变，Ti电弧靶初始电流34A并以2A/min的速率增大，沉积偏压为-85V，对刀具基体处理32min，制备出含量梯度变化的TiAl第一涂层；
(4)向真空室中通入高纯氮气，调节气压至1.9Pa，同时打开TiAl合金电弧靶和CrSi合金电弧靶电源，控制TiAl合金电弧靶电流为100A，控制CrSi合金电弧靶电流为85A，沉积偏压为-60V，对沉积了第一涂层后的刀具基体处理15min，制备出由TiAlCrSiN的第二涂层；
(5)调节氮气压力4Pa，同时打开Cr电弧靶和Si电弧靶电源，保持Cr电弧靶电流90A固定不变，Si电弧靶初始电流50A并以1A/min的速率增大，沉积偏压为-80V，对刀具基体处理28min，制备出含量梯度变化的CrSiN第三涂层；
(6)关闭所有靶材，关闭偏压电源及气体源，保温48min，然后随炉降温至100℃以下，取出刀具，常温冷却，得到高熵复合刀具涂层。
对比例3
一种切削不锈钢用高熵复合刀具涂层，所述涂层由内至外依次包括第一涂层、第二涂层和第三涂层，所述第一涂层为Al含量由内至外逐渐降低Ti含量由内之外逐渐增高的TiAl层，所述第二涂层由TiAlN/CrSiN交替的多层复合层构成，所述第三涂层为CrSiN层。
所述第一涂层的厚度为33um，所述第二涂层的厚度为20um，所述第三涂层的厚度为23um。
所述第二涂层中TiAlN/CrSiN交替的次数为8次。
所述高熵复合刀具涂层中各元素的原子百分数为：Ti为29at.％、Al为21at.％、N为12at.％、Cr为18at.％、Si为20at.％。
上述的切削不锈钢用高熵复合刀具涂层的制备方法，所述制备方法包括以下步骤：
(1)将高速钢刀具基体清洗后烘干；
(2)将烘干后的刀具基体放入真空室，通入高纯氩气，在偏压-850v、氩气压强为0.3Pa的条件下轰击刀具基体使其表面原子活化；
(3)关闭氩气气源，同时打开Al电弧靶和Ti电弧靶电源，保持Al电弧靶电流55A固定不变，Ti电弧靶初始电流34A并以2A/min的速率增大，沉积偏压为-85V，对刀具基体处理32min，制备出含量梯度变化的TiAl第一涂层；
(4)向真空室中通入高纯氮气，调节气压至1.9Pa，先后交替打开TiAl合金电弧靶和CrSi合金电弧靶电源，控制TiAl合金电弧靶电流为100A，控制CrSi合金电弧靶电流为85A，沉积偏压为-60V，对沉积了第一涂层后的刀具基体处理15min，制备出由TiAlN/CrSiN多层复合层构成的第二涂层；
(5)调节氮气压力4Pa，同时打开Cr电弧靶和Si电弧靶电源，保持Cr电弧靶电流90A固定不变，保持Si电弧靶电流64A固定不变，沉积偏压为-80V，对刀具基体处理28min，制备出CrSiN第三涂层；
(6)关闭所有靶材，关闭偏压电源及气体源，保温48min，然后随炉降温至100℃以下，取出刀具，常温冷却，得到高熵复合刀具涂层。
对比例4
一种切削不锈钢用高熵复合刀具涂层，所述涂层由内至外依次包括第一涂层、第二涂层和第三涂层，所述第一涂层为TiAl层，所述第二涂层由TiAlCrSiN层构成，所述第三涂层为Cr含量由内至外逐渐降低Si含量由内至外逐渐增高的CrSiN层。
所述第一涂层的厚度为33um，所述第二涂层的厚度为20um，所述第三涂层的厚度为23um。
所述高熵复合刀具涂层中各元素的原子百分数为：Ti为29at.％、Al为21at.％、N为12at.％、Cr为18at.％、Si为20at.％。
上述的切削不锈钢用高熵复合刀具涂层的制备方法，所述制备方法包括以下步骤：
(1)将高速钢刀具基体清洗后烘干；
(2)将烘干后的刀具基体放入真空室，通入高纯氩气，在偏压-850v、氩气压强为0.3Pa的条件下轰击刀具基体使其表面原子活化；
(3)关闭氩气气源，同时打开Al电弧靶和Ti电弧靶电源，保持Al电弧靶电流55A固定不变，保持Ti电弧靶电流66A保持不变，沉积偏压为-85V，对刀具基体处理32min，制备出TiAl第一涂层；
(4)向真空室中通入高纯氮气，调节气压至1.9Pa，同时打开TiAl合金电弧靶和CrSi合金电弧靶电源，控制TiAl合金电弧靶电流为100A，控制CrSi合金电弧靶电流为85A，沉积偏压为-60V，对沉积了第一涂层后的刀具基体处理15min，制备出由TiAlCrSiN层构成的第二涂层；
(5)调节氮气压力4Pa，同时打开Cr电弧靶和Si电弧靶电源，保持Cr电弧靶电流90A固定不变，Si电弧靶初始电流50A并以1A/min的速率增大，沉积偏压为-80V，对刀具基体处理28min，制备出含量梯度变化的CrSiN第三涂层；
(6)关闭所有靶材，关闭偏压电源及气体源，保温48min，然后随炉降温至100℃以下，取出刀具，常温冷却，得到高熵复合刀具涂层。
对比例5
一种切削不锈钢用高熵复合刀具涂层，所述涂层由内至外依次包括第一涂层、第二涂层和第三涂层，所述第一涂层为TiAl层，所述第二涂层由TiAlN/CrSiN交替的多层复合层构成，所述第三涂层为CrSiN层。
所述第一涂层的厚度为33um，所述第二涂层的厚度为20um，所述第三涂层的厚度为23um。
所述第二涂层中TiAlN/CrSiN交替的次数为8次。
所述高熵复合刀具涂层中各元素的原子百分数为：Ti为29at.％、Al为21at.％、N为12at.％、Cr为18at.％、Si为20at.％。
上述的切削不锈钢用高熵复合刀具涂层的制备方法，所述制备方法包括以下步骤：
(1)将高速钢刀具基体清洗后烘干；
(2)将烘干后的刀具基体放入真空室，通入高纯氩气，在偏压-850v、氩气压强为0.3Pa的条件下轰击刀具基体使其表面原子活化；
(3)关闭氩气气源，同时打开Al电弧靶和Ti电弧靶电源，保持Al电弧靶电流55A固定不变，保持Ti电弧靶电流66A固定不变，沉积偏压为-85V，对刀具基体处理32min，制备出TiAl第一涂层；
(4)向真空室中通入高纯氮气，调节气压至1.9Pa，先后交替打开TiAl合金电弧靶和CrSi合金电弧靶电源，控制TiAl合金电弧靶电流为100A，控制CrSi合金电弧靶电流为85A，沉积偏压为-60V，对沉积了第一涂层后的刀具基体处理15min，制备出由TiAlN/CrSiN多层复合层构成的第二涂层；
(5)调节氮气压力4Pa，同时打开Cr电弧靶和Si电弧靶电源，保持Cr电弧靶电流90A固定不变，保持Si电弧靶电流64A固定不变，沉积偏压为-80V，对刀具基体处理28min，制备出CrSiN第三涂层；
(6)关闭所有靶材，关闭偏压电源及气体源，保温48min，然后随炉降温至100℃以下，取出刀具，常温冷却，得到高熵复合刀具涂层。
对比例6
一种切削不锈钢用高熵复合刀具涂层，所述涂层由内至外依次包括第一涂层、第二涂层和第三涂层，所述第一涂层为Al含量由内至外逐渐降低Ti含量由内之外逐渐增高的TiAl层，所述第二涂层由TiAlCrSiN层构成，所述第三涂层为CrSiN层。
所述第一涂层的厚度为33um，所述第二涂层的厚度为20um，所述第三涂层的厚度为23um。
所述高熵复合刀具涂层中各元素的原子百分数为：Ti为29at.％、Al为21at.％、N为12at.％、Cr为18at.％、Si为20at.％。
上述的切削不锈钢用高熵复合刀具涂层的制备方法，所述制备方法包括以下步骤：
(1)将高速钢刀具基体清洗后烘干；
(2)将烘干后的刀具基体放入真空室，通入高纯氩气，在偏压-850v、氩气压强为0.3Pa的条件下轰击刀具基体使其表面原子活化；
(3)关闭氩气气源，同时打开Al电弧靶和Ti电弧靶电源，保持Al电弧靶电流55A固定不变，Ti电弧靶初始电流34A并以2A/min的速率增大，沉积偏压为-85V，对刀具基体处理32min，制备出含量梯度变化的TiAl第一涂层；
(4)向真空室中通入高纯氮气，调节气压至1.9Pa，同时打开TiAl合金电弧靶和CrSi合金电弧靶电源，控制TiAl合金电弧靶电流为100A，控制CrSi合金电弧靶电流为85A，沉积偏压为-60V，对沉积了第一涂层后的刀具基体处理15min，制备出由TiAlCrSiN层构成的第二涂层；
(5)调节氮气压力4Pa，同时打开Cr电弧靶和Si电弧靶电源，保持Cr电弧靶电流90A固定不变，保持Si电弧靶电流64A固定不变，沉积偏压为-80V，对刀具基体处理28min，制备出CrSiN第三涂层；
(6)关闭所有靶材，关闭偏压电源及气体源，保温48min，然后随炉降温至100℃以下，取出刀具，常温冷却，得到高熵复合刀具涂层。
对比例7
一种切削不锈钢用高熵复合刀具涂层，所述涂层由内至外依次包括第一涂层、第二涂层和第三涂层，所述第一涂层为TiAl层，所述第二涂层由TiAlCrSiN层构成，所述第三涂层为CrSiN层。
所述第一涂层的厚度为33um，所述第二涂层的厚度为20um，所述第三涂层的厚度为23um。
所述高熵复合刀具涂层中各元素的原子百分数为：Ti为29at.％、Al为21at.％、N为12at.％、Cr为18at.％、Si为20at.％。
上述的切削不锈钢用高熵复合刀具涂层的制备方法，所述制备方法包括以下步骤：
(1)将高速钢刀具基体清洗后烘干；
(2)将烘干后的刀具基体放入真空室，通入高纯氩气，在偏压-850v、氩气压强为0.3Pa的条件下轰击刀具基体使其表面原子活化；
(3)关闭氩气气源，同时打开Al电弧靶和Ti电弧靶电源，保持Al电弧靶电流55A固定不变，保持Ti电弧靶电流66A固定不变，沉积偏压为-85V，对刀具基体处理32min，制备出TiAl第一涂层；
(4)向真空室中通入高纯氮气，调节气压至1.9Pa，同时打开TiAl合金电弧靶和CrSi合金电弧靶电源，控制TiAl合金电弧靶电流为100A，控制CrSi合金电弧靶电流为85A，沉积偏压为-60V，对沉积了第一涂层后的刀具基体处理15min，制备出由TiAlCrSiN层构成的第二涂层；
(5)调节氮气压力4Pa，同时打开Cr电弧靶和Si电弧靶电源，保持Cr电弧靶电流90A固定不变，保持Si电弧靶电流64A固定不变，沉积偏压为-80V，对刀具基体处理28min，制备出CrSiN第三涂层；
(6)关闭所有靶材，关闭偏压电源及气体源，保温48min，然后随炉降温至100℃以下，取出刀具，常温冷却，得到高熵复合刀具涂层。
性能测试
将实施例1-3和对比例1-7制备得到的高熵复合刀具涂层参照ASTM G99-05测试磨损失重，参照GB/T40299-2021测试自腐蚀电流密度，采用纳米压痕仪测试图层的硬度，为消除基体效应对测试结果的影响，保证针尖压入深度不会超过涂层厚度的1/10，测量15个点取平均值，具体测试结果如下表1所示。
表1
由以上测试结果可知，对比例1在实施例1基础上将第一涂层改为普通TiAl层，其磨损失重增加，硬度有所降低；对比例2在实施例1基础上将第二涂层改为普通TiAlCrSiN层，其磨损失重明显增加，硬度明显降低；对比例3在实施例1基础上将第三层改为普通CrSiN层，其磨损失重有所增加，硬度有所降低，自腐蚀电流密度明显升高；对比例4在实施例1基础上将第一涂层改为普通TiAl层，将第二涂层改为普通TiAlCrSiN层，其磨损失重明显增加，硬度明显降低；对比例5在实施例1基础上将第一涂层改为普通TiAl层，将第三涂层改为普通CrSiN层，其磨损失重明显增加，硬度明显降低，自腐蚀电流密度明显升高；对比例6在实施例1基础上将第二涂层改为普通TiAlCrSiN层，将第三涂层改为普通CrSiN层，其磨损失重明显增加，硬度明显降低，自腐蚀电流密度明显升高；对比例7在实施例1基础上将第一涂层改为普通TiAl层，将第二涂层改为普通TiAlCrSiN层，将第三涂层改为普通CrSiN层，其磨损失重明显增加，硬度明显降低，自腐蚀电流密度明显升高。
以上所述，仅是本发明的较佳实施例而已，并非对本发明作任何形式上的限制，虽然本发明已以较佳实施例揭示如上，然而并非用以限定本发明，任何本领域技术人员，在不脱离本发明技术方案范围内，当可利用上述揭示的技术内容做出些许更动或修饰为等同变化的等效实施例，但凡是未脱离本发明技术方案内容，依据本发明的技术实质对以上实施例所作的任何简介修改、等同变化与修饰，均仍属于本发明技术方案的范围内。
Claims (8)
1.一种切削不锈钢用高熵复合刀具涂层，其特征在于，所述涂层由内至外依次包括第一涂层、第二涂层和第三涂层，所述第一涂层为Al含量由内至外逐渐降低Ti含量由内之外逐渐增高的TiAl层，所述第二涂层由TiAlN/CrSiN交替的多层复合层构成，所述第三涂层为Cr含量由内至外逐渐降低Si含量由内至外逐渐增高的CrSiN层；
所述第一涂层的厚度为20-35um，所述第二涂层的厚度为12-21um，所述第三涂层的厚度为18-25um，所述第二涂层中TiAlN/CrSiN交替的次数为5-10次；
所述高熵复合刀具涂层中各元素的原子百分数为：Ti为24-38at.％、Al为19-34at.％、N为8-15at.％、Cr为13-20at.％、Si为18-22at.％。
2.一种如权利要求1所述的切削不锈钢用高熵复合刀具涂层的制备方法，其特征在于，所述制备方法包括以下步骤：
（1）将刀具基体清洗后烘干；
（2）对烘干后的刀具基体进行预处理；
（3）采用Al靶和Ti靶利用电弧离子镀方式制备出含量梯度变化的TiAl第一涂层；
（4）通入氮气，采用TiAl合金靶和CrSi合金靶利用电弧离子镀方式交替沉积制备出由TiAlN/CrSiN多层复合层构成的第二涂层；
（5）采用Cr靶和Si靶利用电弧离子镀方式制备出含量梯度变化的CrSiN第三涂层；
（6）后处理得到高熵复合刀具涂层。
3.根据权利要求2所述的一种切削不锈钢用高熵复合刀具涂层的制备方法，其特征在于，步骤（1）所述刀具基体为高速钢刀具基体或者硬质合金刀具基体。
4.根据权利要求2所述的一种切削不锈钢用高熵复合刀具涂层的制备方法，其特征在于，步骤（2）所述预处理是指：将烘干后的刀具基体放入真空室，通入高纯氩气，在偏压-800--1000v、氩气压强为0.2-0.5Pa的条件下轰击刀具基体使其表面原子活化。
5.根据权利要求2所述的一种切削不锈钢用高熵复合刀具涂层的制备方法，其特征在于，步骤（3）具体为：关闭氩气气源，同时打开Al电弧靶和Ti电弧靶电源，保持Al电弧靶电流45-60A固定不变，Ti电弧靶初始电流30-40A并以1-3A/min的速率增大，沉积偏压为-50--120V，对刀具基体处理30-40min。
6.根据权利要求2所述的一种切削不锈钢用高熵复合刀具涂层的制备方法，其特征在于，步骤（4）具体为：向真空室中通入高纯氮气，调节气压至1.5-3.8Pa，先后交替打开TiAl合金电弧靶和CrSi合金电弧靶电源，控制TiAl合金电弧靶电流为80-130A，控制CrSi合金电弧靶电流为60-100A，沉积偏压为-40--100V，对沉积了第一涂层后的刀具基体处理12-18min。
7.根据权利要求2所述的一种切削不锈钢用高熵复合刀具涂层的制备方法，其特征在于，步骤（5）具体为：调节氮气压力3.5-6Pa，同时打开Cr电弧靶和Si电弧靶电源，保持Cr电弧靶电流80-100A固定不变，Si电弧靶初始电流45-60A并以1-2A/min的速率增大，沉积偏压为-50--120V，对刀具基体处理20-30min。
8.根据权利要求2所述的一种切削不锈钢用高熵复合刀具涂层的制备方法，其特征在于，步骤（6）具体为：关闭所有靶材，关闭偏压电源及气体源，保温40-60min，然后随炉降温至100℃以下，取出刀具，常温冷却。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN202310513603 | 2023-05-09 | ||
| CN2023105136030 | 2023-05-09 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CN116695062A CN116695062A (zh) | 2023-09-05 |
| CN116695062B true CN116695062B (zh) | 2024-01-23 |
Family
ID=87842349
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CN202310526012.7A Active CN116695062B (zh) | 2023-05-09 | 2023-05-11 | 一种切削不锈钢用高熵复合刀具涂层及其制备方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| CN (1) | CN116695062B (zh) |
Citations (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN1962947A (zh) * | 2005-11-08 | 2007-05-16 | 中国科学院金属研究所 | 一种金属材料防护方法之一 |
| CN103252939A (zh) * | 2013-05-17 | 2013-08-21 | 宜昌后皇真空科技有限公司 | 氮化铬/氮化硼钛纳米复合多层涂层刀具及其制备方法 |
| CN104131256A (zh) * | 2014-07-25 | 2014-11-05 | 广东工业大学 | 一种多层纳米复合刀具涂层及其制备方法 |
| CN104662195A (zh) * | 2012-09-28 | 2015-05-27 | 瓦尔特公开股份有限公司 | 具有TiAlCrSiN PVD涂层的工具 |
| CN104846332A (zh) * | 2015-04-17 | 2015-08-19 | 岭南师范学院 | 一种超润滑多层纳米复合涂层及其制备方法 |
| CN105296949A (zh) * | 2015-11-23 | 2016-02-03 | 上海理工大学 | 一种具有超高硬度的纳米结构涂层及其制备方法 |
| CN105543780A (zh) * | 2015-12-28 | 2016-05-04 | 富耐克超硬材料股份有限公司 | 超硬刀具表面复合硬质涂层及其制备方法 |
| CN110408903A (zh) * | 2019-09-16 | 2019-11-05 | 济南大学 | 刀具表面多元多层涂层制备方法 |
| CN112095079A (zh) * | 2020-09-02 | 2020-12-18 | 东莞市华升真空镀膜科技有限公司 | 阴极磁场调制的硬质涂层刀具及其制备方法和应用 |
| CN114150269A (zh) * | 2021-12-07 | 2022-03-08 | 四川真锐晶甲科技有限公司 | 切削刀具涂层及其制备方法 |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2010050542A1 (ja) * | 2008-10-29 | 2010-05-06 | Ntn株式会社 | 硬質多層膜成形体およびその製造方法 |
-
2023
- 2023-05-11 CN CN202310526012.7A patent/CN116695062B/zh active Active
Patent Citations (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN1962947A (zh) * | 2005-11-08 | 2007-05-16 | 中国科学院金属研究所 | 一种金属材料防护方法之一 |
| CN104662195A (zh) * | 2012-09-28 | 2015-05-27 | 瓦尔特公开股份有限公司 | 具有TiAlCrSiN PVD涂层的工具 |
| CN103252939A (zh) * | 2013-05-17 | 2013-08-21 | 宜昌后皇真空科技有限公司 | 氮化铬/氮化硼钛纳米复合多层涂层刀具及其制备方法 |
| CN104131256A (zh) * | 2014-07-25 | 2014-11-05 | 广东工业大学 | 一种多层纳米复合刀具涂层及其制备方法 |
| CN104846332A (zh) * | 2015-04-17 | 2015-08-19 | 岭南师范学院 | 一种超润滑多层纳米复合涂层及其制备方法 |
| CN105296949A (zh) * | 2015-11-23 | 2016-02-03 | 上海理工大学 | 一种具有超高硬度的纳米结构涂层及其制备方法 |
| CN105543780A (zh) * | 2015-12-28 | 2016-05-04 | 富耐克超硬材料股份有限公司 | 超硬刀具表面复合硬质涂层及其制备方法 |
| CN110408903A (zh) * | 2019-09-16 | 2019-11-05 | 济南大学 | 刀具表面多元多层涂层制备方法 |
| CN112095079A (zh) * | 2020-09-02 | 2020-12-18 | 东莞市华升真空镀膜科技有限公司 | 阴极磁场调制的硬质涂层刀具及其制备方法和应用 |
| CN114150269A (zh) * | 2021-12-07 | 2022-03-08 | 四川真锐晶甲科技有限公司 | 切削刀具涂层及其制备方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| CN116695062A (zh) | 2023-09-05 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| CN105239039B (zh) | 一种多层纳米复合涂层冲压模具及其制备方法 | |
| CN110129741B (zh) | 一种多元纳米叠层涂层刀具及其制备方法 | |
| CN107747092A (zh) | 一种耐高温硬质复合涂层及其制备方法和涂层刀具 | |
| CN108728793A (zh) | 一种强韧耐蚀CrAlN/Cr2AlC多层膜涂层及其制备方法 | |
| CN108118301B (zh) | 一种具有Si含量梯度变化的中间层的AlCrSiN涂层、制备方法 | |
| CN106702331A (zh) | 一种高温耐磨CrAlSiON基纳米复合涂层及其制备方法和应用 | |
| CN111910159B (zh) | 一种纳米晶非晶复合涂层及其制备方法与刀具 | |
| CN107190243A (zh) | 一种TiB2/AlTiN复合涂层及其制备方法与应用 | |
| CN108977766B (zh) | 一种多层复合类金刚石薄膜材料及其制备方法 | |
| CN102453858A (zh) | 轻质软金属表面碳基薄膜材料的制备方法 | |
| CN115125495B (zh) | 一种TiAlSiCeN复合涂层、刀具及其制备方法 | |
| CN102766846B (zh) | AN/Cr1-xAlxN/Cr30(Al,Y)70N硬质梯度涂层及其制备方法 | |
| KR20230117595A (ko) | 피복 공구 | |
| CN112410728A (zh) | 高Cr含量CrB2-Cr涂层的制备工艺 | |
| CN116695062B (zh) | 一种切削不锈钢用高熵复合刀具涂层及其制备方法 | |
| WO2022073631A9 (en) | Hard carbon coatings with improved adhesion strength by means of hipims and method thereof | |
| CN107177827B (zh) | SiNbC/SiNbCN叠层复合涂层刀具及其制备工艺 | |
| CN112410727A (zh) | 一种新型WCrSiN梯度涂层及其制备方法 | |
| CN114150269B (zh) | 切削刀具涂层及其制备方法 | |
| CN109518184B (zh) | 一种Hf-BHfN-BHfNC复合涂层刀具及其制备方法 | |
| CN111778485A (zh) | 一种涂层及其制备方法 | |
| CN106835036A (zh) | 一种调制高功率脉冲磁控溅射制备AlCrN涂层的方法 | |
| CN114059029B (zh) | 用于高温合金加工的Cr/CrN/NbN/NbXN稀土超晶格涂层及其制备方法 | |
| CN110158046A (zh) | 复合涂层、自润滑复合涂层刀具及其制备方法 | |
| CN110983251B (zh) | 铝合金切削刀具用多元多层硬质涂层的制备方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| PB01 | Publication | ||
| PB01 | Publication | ||
| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
| GR01 | Patent grant | ||
| GR01 | Patent grant |