CN116564641A - 一种一体成型电感的制备方法,以及一体成型电感 - Google Patents
一种一体成型电感的制备方法,以及一体成型电感 Download PDFInfo
- Publication number
- CN116564641A CN116564641A CN202310612395.XA CN202310612395A CN116564641A CN 116564641 A CN116564641 A CN 116564641A CN 202310612395 A CN202310612395 A CN 202310612395A CN 116564641 A CN116564641 A CN 116564641A
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- magnetic powder
- regenerated
- cleaning
- waste
- acid
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 title description 5
- 239000006247 magnetic powder Substances 0.000 claims abstract description 83
- 239000002699 waste material Substances 0.000 claims abstract description 57
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 claims abstract description 38
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 38
- 238000001035 drying Methods 0.000 claims abstract description 12
- 238000000748 compression moulding Methods 0.000 claims abstract description 9
- 238000000926 separation method Methods 0.000 claims abstract description 7
- 238000011084 recovery Methods 0.000 claims abstract description 4
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 90
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 75
- 239000000243 solution Substances 0.000 claims description 37
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 27
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 21
- 239000002253 acid Substances 0.000 claims description 17
- MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N Oxalic acid Chemical compound OC(=O)C(O)=O MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 15
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims description 15
- KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N citric acid Chemical compound OC(=O)CC(O)(C(O)=O)CC(O)=O KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 12
- NKDDWNXOKDWJAK-UHFFFAOYSA-N dimethoxymethane Chemical compound COCOC NKDDWNXOKDWJAK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 11
- 238000004506 ultrasonic cleaning Methods 0.000 claims description 11
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 claims description 10
- 238000002791 soaking Methods 0.000 claims description 10
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims description 9
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 8
- BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-N methanoic acid Natural products OC=O BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- 238000006392 deoxygenation reaction Methods 0.000 claims description 7
- 238000002156 mixing Methods 0.000 claims description 7
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 claims description 6
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 claims description 6
- XOOUIPVCVHRTMJ-UHFFFAOYSA-L zinc stearate Chemical compound [Zn+2].CCCCCCCCCCCCCCCCCC([O-])=O.CCCCCCCCCCCCCCCCCC([O-])=O XOOUIPVCVHRTMJ-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims description 6
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 235000006408 oxalic acid Nutrition 0.000 claims description 5
- 239000008096 xylene Substances 0.000 claims description 5
- OSWFIVFLDKOXQC-UHFFFAOYSA-N 4-(3-methoxyphenyl)aniline Chemical compound COC1=CC=CC(C=2C=CC(N)=CC=2)=C1 OSWFIVFLDKOXQC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 235000015165 citric acid Nutrition 0.000 claims description 4
- 235000019253 formic acid Nutrition 0.000 claims description 4
- 235000019441 ethanol Nutrition 0.000 claims description 3
- 239000011259 mixed solution Substances 0.000 claims description 3
- 230000008929 regeneration Effects 0.000 claims description 3
- 238000011069 regeneration method Methods 0.000 claims description 3
- 239000012487 rinsing solution Substances 0.000 claims description 3
- 238000011282 treatment Methods 0.000 claims description 3
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 19
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 17
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 17
- 238000000498 ball milling Methods 0.000 description 15
- WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N Acetonitrile Chemical compound CC#N WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N Dimethylsulphoxide Chemical compound CS(C)=O IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- RDOXTESZEPMUJZ-UHFFFAOYSA-N anisole Chemical compound COC1=CC=CC=C1 RDOXTESZEPMUJZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 8
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 8
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 7
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N Hydrogen peroxide Chemical compound OO MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical compound C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000012046 mixed solvent Substances 0.000 description 6
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 6
- 235000011054 acetic acid Nutrition 0.000 description 5
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 5
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 5
- 238000007873 sieving Methods 0.000 description 5
- OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N Pentane Chemical compound CCCCC OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N Phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1 ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- GOOHAUXETOMSMM-UHFFFAOYSA-N Propylene oxide Chemical compound CC1CO1 GOOHAUXETOMSMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N chlorobenzene Chemical compound ClC1=CC=CC=C1 MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N cyclohexanone Chemical compound O=C1CCCCC1 JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- UZKWTJUDCOPSNM-UHFFFAOYSA-N methoxybenzene Substances CCCCOC=C UZKWTJUDCOPSNM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 4
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 4
- 238000004064 recycling Methods 0.000 description 4
- VZGDMQKNWNREIO-UHFFFAOYSA-N tetrachloromethane Chemical compound ClC(Cl)(Cl)Cl VZGDMQKNWNREIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- BMYNFMYTOJXKLE-UHFFFAOYSA-N 3-azaniumyl-2-hydroxypropanoate Chemical compound NCC(O)C(O)=O BMYNFMYTOJXKLE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N Cyclohexane Chemical compound C1CCCCC1 XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-M Propionate Chemical compound CCC([O-])=O XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N Triethylamine Chemical compound CCN(CC)CC ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- KXKVLQRXCPHEJC-UHFFFAOYSA-N acetic acid trimethyl ester Natural products COC(C)=O KXKVLQRXCPHEJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000003064 anti-oxidating effect Effects 0.000 description 3
- 239000000463 material Substances 0.000 description 3
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 3
- YKYONYBAUNKHLG-UHFFFAOYSA-N n-Propyl acetate Natural products CCCOC(C)=O YKYONYBAUNKHLG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000002161 passivation Methods 0.000 description 3
- 229940090181 propyl acetate Drugs 0.000 description 3
- 238000010298 pulverizing process Methods 0.000 description 3
- UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N pyridine Natural products COC1=CC=CN=C1 UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 3
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 3
- 230000002000 scavenging effect Effects 0.000 description 3
- NQPDZGIKBAWPEJ-UHFFFAOYSA-N valeric acid Chemical compound CCCCC(O)=O NQPDZGIKBAWPEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000004804 winding Methods 0.000 description 3
- UOCLXMDMGBRAIB-UHFFFAOYSA-N 1,1,1-trichloroethane Chemical compound CC(Cl)(Cl)Cl UOCLXMDMGBRAIB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SCYULBFZEHDVBN-UHFFFAOYSA-N 1,1-Dichloroethane Chemical compound CC(Cl)Cl SCYULBFZEHDVBN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OCJBOOLMMGQPQU-UHFFFAOYSA-N 1,4-dichlorobenzene Chemical compound ClC1=CC=C(Cl)C=C1 OCJBOOLMMGQPQU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 2-METHOXYETHANOL Chemical compound COCCO XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- POAOYUHQDCAZBD-UHFFFAOYSA-N 2-butoxyethanol Chemical compound CCCCOCCO POAOYUHQDCAZBD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxyethanol Chemical compound CCOCCO ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CIWBSHSKHKDKBQ-JLAZNSOCSA-N Ascorbic acid Chemical compound OC[C@H](O)[C@H]1OC(=O)C(O)=C1O CIWBSHSKHKDKBQ-JLAZNSOCSA-N 0.000 description 2
- HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N Chloroform Chemical compound ClC(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZHNUHDYFZUAESO-UHFFFAOYSA-N Formamide Chemical compound NC=O ZHNUHDYFZUAESO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- AFVFQIVMOAPDHO-UHFFFAOYSA-N Methanesulfonic acid Chemical compound CS(O)(=O)=O AFVFQIVMOAPDHO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Chemical compound CC(C)CC(C)=O NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Natural products CCC(C)C(C)=O UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N N-Butanol Chemical compound CCCCO LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DTQVDTLACAAQTR-UHFFFAOYSA-N Trifluoroacetic acid Chemical compound OC(=O)C(F)(F)F DTQVDTLACAAQTR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IKHGUXGNUITLKF-XPULMUKRSA-N acetaldehyde Chemical compound [14CH]([14CH3])=O IKHGUXGNUITLKF-XPULMUKRSA-N 0.000 description 2
- WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-N benzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1 WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000306 component Substances 0.000 description 2
- XLJMAIOERFSOGZ-UHFFFAOYSA-N cyanic acid Chemical compound OC#N XLJMAIOERFSOGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WZWSOGGTVQXXSN-UHFFFAOYSA-N cyclohexanone;toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1.O=C1CCCCC1 WZWSOGGTVQXXSN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229940117389 dichlorobenzene Drugs 0.000 description 2
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 2
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 2
- YDSWCNNOKPMOTP-UHFFFAOYSA-N mellitic acid Chemical compound OC(=O)C1=C(C(O)=O)C(C(O)=O)=C(C(O)=O)C(C(O)=O)=C1C(O)=O YDSWCNNOKPMOTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- TZIHFWKZFHZASV-UHFFFAOYSA-N methyl formate Chemical compound COC=O TZIHFWKZFHZASV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 2
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 2
- TVMXDCGIABBOFY-UHFFFAOYSA-N octane Chemical compound CCCCCCCC TVMXDCGIABBOFY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VLTRZXGMWDSKGL-UHFFFAOYSA-N perchloric acid Chemical compound OCl(=O)(=O)=O VLTRZXGMWDSKGL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 2
- 239000000047 product Substances 0.000 description 2
- YGSDEFSMJLZEOE-UHFFFAOYSA-N salicylic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1O YGSDEFSMJLZEOE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- ZMZDMBWJUHKJPS-UHFFFAOYSA-N thiocyanic acid Chemical compound SC#N ZMZDMBWJUHKJPS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YNJBWRMUSHSURL-UHFFFAOYSA-N trichloroacetic acid Chemical compound OC(=O)C(Cl)(Cl)Cl YNJBWRMUSHSURL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- AAWZDTNXLSGCEK-LNVDRNJUSA-N (3r,5r)-1,3,4,5-tetrahydroxycyclohexane-1-carboxylic acid Chemical compound O[C@@H]1CC(O)(C(O)=O)C[C@@H](O)C1O AAWZDTNXLSGCEK-LNVDRNJUSA-N 0.000 description 1
- BJEPYKJPYRNKOW-REOHCLBHSA-N (S)-malic acid Chemical compound OC(=O)[C@@H](O)CC(O)=O BJEPYKJPYRNKOW-REOHCLBHSA-N 0.000 description 1
- RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 1,4-Dioxane Chemical compound C1COCCO1 RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KAQBNBSMMVTKRN-UHFFFAOYSA-N 2,4,6-trinitrobenzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=C([N+]([O-])=O)C=C([N+]([O-])=O)C=C1[N+]([O-])=O KAQBNBSMMVTKRN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ITHKUADHDKZENI-UHFFFAOYSA-N 2-chloroethanethiol Chemical compound SCCCl ITHKUADHDKZENI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SYBYTAAJFKOIEJ-UHFFFAOYSA-N 3-Methylbutan-2-one Chemical compound CC(C)C(C)=O SYBYTAAJFKOIEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005711 Benzoic acid Substances 0.000 description 1
- LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M Bisulfite Chemical compound OS([O-])=O LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AAWZDTNXLSGCEK-UHFFFAOYSA-N Cordycepinsaeure Natural products OC1CC(O)(C(O)=O)CC(O)C1O AAWZDTNXLSGCEK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FEWJPZIEWOKRBE-JCYAYHJZSA-N Dextrotartaric acid Chemical compound OC(=O)[C@H](O)[C@@H](O)C(O)=O FEWJPZIEWOKRBE-JCYAYHJZSA-N 0.000 description 1
- ZAFNJMIOTHYJRJ-UHFFFAOYSA-N Diisopropyl ether Chemical compound CC(C)OC(C)C ZAFNJMIOTHYJRJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PIICEJLVQHRZGT-UHFFFAOYSA-N Ethylenediamine Chemical compound NCCN PIICEJLVQHRZGT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N Formaldehyde Chemical group O=C WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UEZVMMHDMIWARA-UHFFFAOYSA-N Metaphosphoric acid Chemical compound OP(=O)=O UEZVMMHDMIWARA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910019142 PO4 Inorganic materials 0.000 description 1
- YZCKVEUIGOORGS-IGMARMGPSA-N Protium Chemical compound [1H] YZCKVEUIGOORGS-IGMARMGPSA-N 0.000 description 1
- AAWZDTNXLSGCEK-ZHQZDSKASA-N Quinic acid Natural products O[C@H]1CC(O)(C(O)=O)C[C@H](O)C1O AAWZDTNXLSGCEK-ZHQZDSKASA-N 0.000 description 1
- FEWJPZIEWOKRBE-UHFFFAOYSA-N Tartaric acid Natural products [H+].[H+].[O-]C(=O)C(O)C(O)C([O-])=O FEWJPZIEWOKRBE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000001133 acceleration Effects 0.000 description 1
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 1
- BJEPYKJPYRNKOW-UHFFFAOYSA-N alpha-hydroxysuccinic acid Natural products OC(=O)C(O)CC(O)=O BJEPYKJPYRNKOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000013473 artificial intelligence Methods 0.000 description 1
- 239000011668 ascorbic acid Substances 0.000 description 1
- 235000010323 ascorbic acid Nutrition 0.000 description 1
- 229960005070 ascorbic acid Drugs 0.000 description 1
- SRSXLGNVWSONIS-UHFFFAOYSA-N benzenesulfonic acid Chemical compound OS(=O)(=O)C1=CC=CC=C1 SRSXLGNVWSONIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940092714 benzenesulfonic acid Drugs 0.000 description 1
- 235000010233 benzoic acid Nutrition 0.000 description 1
- 229960004365 benzoic acid Drugs 0.000 description 1
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- XTEGARKTQYYJKE-UHFFFAOYSA-N chloric acid Chemical compound OCl(=O)=O XTEGARKTQYYJKE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940005991 chloric acid Drugs 0.000 description 1
- 238000007906 compression Methods 0.000 description 1
- 230000006835 compression Effects 0.000 description 1
- 239000008358 core component Substances 0.000 description 1
- VSARMWHOISBCGR-UHFFFAOYSA-N cyclohexane-1,1-dithiol Chemical compound SC1(S)CCCCC1 VSARMWHOISBCGR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000002950 deficient Effects 0.000 description 1
- 238000011161 development Methods 0.000 description 1
- 230000018109 developmental process Effects 0.000 description 1
- 239000002270 dispersing agent Substances 0.000 description 1
- 238000007580 dry-mixing Methods 0.000 description 1
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000003912 environmental pollution Methods 0.000 description 1
- UQSQSQZYBQSBJZ-UHFFFAOYSA-N fluorosulfonic acid Chemical compound OS(F)(=O)=O UQSQSQZYBQSBJZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005469 granulation Methods 0.000 description 1
- 230000003179 granulation Effects 0.000 description 1
- GNOIPBMMFNIUFM-UHFFFAOYSA-N hexamethylphosphoric triamide Chemical compound CN(C)P(=O)(N(C)C)N(C)C GNOIPBMMFNIUFM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XMBWDFGMSWQBCA-UHFFFAOYSA-N hydrogen iodide Chemical compound I XMBWDFGMSWQBCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940071870 hydroiodic acid Drugs 0.000 description 1
- 238000009434 installation Methods 0.000 description 1
- 239000011810 insulating material Substances 0.000 description 1
- 238000009413 insulation Methods 0.000 description 1
- 229910000462 iron(III) oxide hydroxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000314 lubricant Substances 0.000 description 1
- 239000000696 magnetic material Substances 0.000 description 1
- 239000006249 magnetic particle Substances 0.000 description 1
- 239000001630 malic acid Substances 0.000 description 1
- 235000011090 malic acid Nutrition 0.000 description 1
- 239000008204 material by function Substances 0.000 description 1
- 229940098779 methanesulfonic acid Drugs 0.000 description 1
- 238000011328 necessary treatment Methods 0.000 description 1
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052762 osmium Inorganic materials 0.000 description 1
- SYQBFIAQOQZEGI-UHFFFAOYSA-N osmium atom Chemical compound [Os] SYQBFIAQOQZEGI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- 238000006213 oxygenation reaction Methods 0.000 description 1
- FJKROLUGYXJWQN-UHFFFAOYSA-N papa-hydroxy-benzoic acid Natural products OC(=O)C1=CC=C(O)C=C1 FJKROLUGYXJWQN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- KHIWWQKSHDUIBK-UHFFFAOYSA-M periodate Chemical compound [O-]I(=O)(=O)=O KHIWWQKSHDUIBK-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000003208 petroleum Substances 0.000 description 1
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K phosphate Chemical compound [O-]P([O-])([O-])=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 239000010452 phosphate Substances 0.000 description 1
- OXNIZHLAWKMVMX-UHFFFAOYSA-N picric acid Chemical compound OC1=C([N+]([O-])=O)C=C([N+]([O-])=O)C=C1[N+]([O-])=O OXNIZHLAWKMVMX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 1
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 229960004889 salicylic acid Drugs 0.000 description 1
- 238000007711 solidification Methods 0.000 description 1
- 230000008023 solidification Effects 0.000 description 1
- PWEBUXCTKOWPCW-UHFFFAOYSA-N squaric acid Chemical compound OC1=C(O)C(=O)C1=O PWEBUXCTKOWPCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000013589 supplement Substances 0.000 description 1
- 239000011975 tartaric acid Substances 0.000 description 1
- 235000002906 tartaric acid Nutrition 0.000 description 1
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000009210 therapy by ultrasound Methods 0.000 description 1
- 229960004319 trichloroacetic acid Drugs 0.000 description 1
- 238000002604 ultrasonography Methods 0.000 description 1
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940057977 zinc stearate Drugs 0.000 description 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01F—MAGNETS; INDUCTANCES; TRANSFORMERS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR MAGNETIC PROPERTIES
- H01F1/00—Magnets or magnetic bodies characterised by the magnetic materials therefor; Selection of materials for their magnetic properties
- H01F1/01—Magnets or magnetic bodies characterised by the magnetic materials therefor; Selection of materials for their magnetic properties of inorganic materials
- H01F1/03—Magnets or magnetic bodies characterised by the magnetic materials therefor; Selection of materials for their magnetic properties of inorganic materials characterised by their coercivity
- H01F1/12—Magnets or magnetic bodies characterised by the magnetic materials therefor; Selection of materials for their magnetic properties of inorganic materials characterised by their coercivity of soft-magnetic materials
- H01F1/14—Magnets or magnetic bodies characterised by the magnetic materials therefor; Selection of materials for their magnetic properties of inorganic materials characterised by their coercivity of soft-magnetic materials metals or alloys
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01F—MAGNETS; INDUCTANCES; TRANSFORMERS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR MAGNETIC PROPERTIES
- H01F1/00—Magnets or magnetic bodies characterised by the magnetic materials therefor; Selection of materials for their magnetic properties
- H01F1/01—Magnets or magnetic bodies characterised by the magnetic materials therefor; Selection of materials for their magnetic properties of inorganic materials
- H01F1/03—Magnets or magnetic bodies characterised by the magnetic materials therefor; Selection of materials for their magnetic properties of inorganic materials characterised by their coercivity
- H01F1/12—Magnets or magnetic bodies characterised by the magnetic materials therefor; Selection of materials for their magnetic properties of inorganic materials characterised by their coercivity of soft-magnetic materials
- H01F1/14—Magnets or magnetic bodies characterised by the magnetic materials therefor; Selection of materials for their magnetic properties of inorganic materials characterised by their coercivity of soft-magnetic materials metals or alloys
- H01F1/20—Magnets or magnetic bodies characterised by the magnetic materials therefor; Selection of materials for their magnetic properties of inorganic materials characterised by their coercivity of soft-magnetic materials metals or alloys in the form of particles, e.g. powder
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01F—MAGNETS; INDUCTANCES; TRANSFORMERS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR MAGNETIC PROPERTIES
- H01F27/00—Details of transformers or inductances, in general
- H01F27/24—Magnetic cores
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01F—MAGNETS; INDUCTANCES; TRANSFORMERS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR MAGNETIC PROPERTIES
- H01F27/00—Details of transformers or inductances, in general
- H01F27/28—Coils; Windings; Conductive connections
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01F—MAGNETS; INDUCTANCES; TRANSFORMERS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR MAGNETIC PROPERTIES
- H01F27/00—Details of transformers or inductances, in general
- H01F27/34—Special means for preventing or reducing unwanted electric or magnetic effects, e.g. no-load losses, reactive currents, harmonics, oscillations, leakage fields
- H01F27/36—Electric or magnetic shields or screens
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01F—MAGNETS; INDUCTANCES; TRANSFORMERS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR MAGNETIC PROPERTIES
- H01F41/00—Apparatus or processes specially adapted for manufacturing or assembling magnets, inductances or transformers; Apparatus or processes specially adapted for manufacturing materials characterised by their magnetic properties
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Dispersion Chemistry (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Processing Of Solid Wastes (AREA)
Abstract
本申请公开了一种使用再生磁粉制备一体成型电感的方法,所述方法包括:获取再生磁粉和再生线圈,所述再生磁粉和所述再生线圈基于废旧一体成型电感至少经过磁粉分离和线圈回收后得到;对所述再生磁粉进行第一预处理后获取软磁粉末,所述第一预处理至少包括清洁、表面除氧、最终清洗以及烘干;对所述软磁粉末进行第二预处理后结合所述再生线圈进行模压成型操作,获取一体成型电感。
Description
技术领域
本申请涉及功能材料中的金属软磁材料领域,尤其涉及一体成型电感制备领域,具体涉及使用废旧一体成型电感再生利用制备一体成型电感。
背景技术
一体成型电感又称模压电感,是在传统金属磁粉芯基础上发展起来的,创造性的将铜线绕组置于磁性粉体内部。相较于传统电感,一体成型电感的磁路封闭,电磁屏蔽效果好,可有效降低电磁干扰,利于实现元器件的高密度安装。同时,一体成型结构可避免发生噪音,具有高饱和、大电流、电感量衰减平顺、体积小、成本低、损耗低、可靠性高等特点,工作频率达5MHz以上。
一体成型电感是芯片供电模块中的核心元器件之一,用于各种电路设计中,只有安装了电感,电子产品在使用时才不会出现因电流问题而导致设备轻易被损坏,只要用到芯片的地方就会有一体成型电感的身影。一体成型电感技术源于美国,经过多年的发展和渗透,目前一体成型电感已被广泛应用于消费电子、5G、大数据、汽车、光伏、轨道交通、人工智能、智能制造等领域。
一体成型电感多采用模压成型,由于成型工艺和生产技术的原因,会产生大量的残次品。此外,未来随着电子器件升级换代加快,将会有产生大量的废旧一体成型电感。这些废旧的一体成型电感不仅给环境带来极大的负担,也是一种资源的极大浪费。
发明内容
本申请实施例所要解决的技术问题在于,废旧一体成型电感带来的环境污染以及资源浪费。
为了解决上述问题,本申请公开了一种一体成型电感的制备方法,通过重复利用废旧一体成型电感,不仅可实现一体成型电感的低成本制造,同时避免了资源的浪费。
本申请的第一个方面,提供一种一体成型电感的制备方法,该方法包括:获取再生磁粉和再生线圈,所述再生磁粉和所述再生线圈基于废旧一体成型电感至少经过磁粉分离和线圈回收后得到;对所述再生磁粉进行第一预处理后获取软磁粉末,所述第一预处理至少包括清洁、表面除氧、最终清洗以及烘干;对所述软磁粉末进行第二预处理后结合所述再生线圈进行模压成型操作,获取一体成型电感。
根据本申请一些实施例,所述完全浸泡并超声清洗,包括:利用清洗溶液清洗所述废旧一体成型电感,包括完全浸泡并超声清洗;粉碎清洗后的废旧一体成型电感,以获取破碎废料;利用分解溶液处理所述破碎废料,以分离磁粉废料和再生线圈;粉碎所述破碎废料以获取所述再生磁粉。
根据本申请一些实施例,所述清洗溶液包括丙酮、乙醇、甲酸,草酸、柠檬酸、硬脂酸锌中的一种或以上。
根据本申请一些实施例,所述分解溶液包括丙酮、乙醇、甲缩醛、醋酸乙酯中的一种或以上。
根据本申请一些实施例,所述清洁包括使用清洁溶剂进行超声清洁,所述清洁溶剂包括丙酮、乙醇、甲缩醛、醋酸中的一种或以上。
根据本申请一些实施例,所述表面除氧包括使用除氧溶剂进行超声表面除氧,所述除氧溶剂包括强酸与乙醇或丙酮的混合溶液,其中,所述强酸的体积比为1%-5%。
根据本申请一些实施例,所述最终清洗包括使用漂洗溶剂进行超声漂洗,所述漂洗溶剂包括丙酮、乙醇、二甲苯、醋酸、甲缩醛、醋酸乙酯中的一种或以上。
根据本申请一些实施例,所述烘干包括烘箱中60-85℃混干处理1-10小时。
根据本申请一些实施例,所述第二预处理至少包括磷化、包覆以及造粒;其中,磷化液的质量浓度0.1-0.3%,包覆剂的质量比例为1-3%的环氧树脂。
本申请的第二个方面,提供一种如上任一项方法制备的一体成型电
本申请提供了一种使用再生磁粉制备一体成型电感的方法,可实现废旧一体成型电感的直接回收利用,制造设备成本极低,加工流程环保,对环境友好且实现资源的重复利用。
具体实施方式
为使本申请的上述目的、特征和优点能够更加明显易懂,下面结合附图对本申请的具体实施方式做详细的说明。在下面的描述中阐述了很多具体细节以便于充分理解本申请。但是本申请能够以很多不同于在此描述的其它方式来实施,本领域技术人员可以在不违背本申请内涵的情况下做类似改进,因此本申请不受下面公开的具体实施例的限制。
除非另有定义,本文所使用的所有的技术和科学术语与属于本申请的技术领域的技术人员通常理解的含义相同。本文中在本申请的说明书中所使用的术语只是为了描述具体的实施例的目的,不是旨在于限制本申请。本文所使用的术语“及/或”包括一个或多个相关的所列项目的任意的和所有的组合。
本申请一些实施例公开了一种一体成型电感制备方法。所述方法的描述可以参考图1。图1是根据本申请一些实施例所示的电感制备方法的示例性流程图。如图1所示,流程100可以包括以下操作。
步骤110,获取再生磁粉和再生线圈。
在一些实施例中,所述再生磁粉和所述再生线圈是基于废旧一体成型电感至少经过磁粉分离和线圈回收后得到。示例性的,可以首先利用清洗溶液清洗废旧一体成型电感。例如,将废旧一体成型电感放入清洗溶液中完全浸没后并进行超声清洗。清洗时间可以是1-12小时。所使用的清洗溶液可以包括水、甲酰胺、三氯乙酸、二甲基亚砜、乙腈、N,N-二甲基甲酰胺、六甲基磷酰胺、双氧水、甲醇、乙醇、甲酸、乙酸、乙二酸、异丙醇、吡啶、乙二胺、丙酮、三乙胺、二氧六环、四氢呋喃、甲酸甲酯、乙醚、异丙醚、氯仿、苯、环己烷、石油醚、酒石酸、苹果酸、柠檬酸、奎宁酸、抗坏血酸、苯甲酸、水杨酸、硬脂酸锌等或其任意组合。可选地或优选地,所述清洗溶液可以由丙酮、乙醇、双氧水、甲酸,草酸、柠檬酸、硬脂酸锌等中的一种或几种混合而成。
清洗完成后的废旧一体成型电感可以被转移至破碎机中进行初步破碎,以获取破碎废料。随后,该破碎废料将被分解溶液处理,以分离磁粉废料和再生线圈。示例性的,破碎废料将被放入装有分解溶液的容器中完全浸泡并施加超声。如此操作是利用有机溶剂相溶原理,将包裹在磁粉颗粒表面的固化剂例如树脂完全溶解。所使用的分解溶液可以包括苯、甲苯、二甲苯、戊烷、己烷、辛烷、环己烷、环己酮、甲苯环己酮、氯苯、二氯苯、二氯甲烷、二氯乙烷、三氯乙烷、甲醇、乙醇、异丙醇、乙醚、苯甲醚、环氧丙烷、醋酸甲酯、醋酸乙酯、醋酸丙酯、丙酮、丁酮、甲基丁酮、甲基异丁酮、乙二醇单甲醚、乙二醇单乙醚、乙二醇单丁醚、乙醛、甲缩醛、乙腈、吡啶、苯酚、四氯化碳、二甲亚砜等或其任意组合。可选地或优选地,分解溶剂可以包括丙酮、乙醇、甲缩醛、醋酸乙酯等中的一种或以上。
当固化剂完全被溶解后,可以从分解溶液中分离线圈以获取所述再生线圈。一体成型电感所使用的金属线圈(例如、铜、铝等)不会被分解溶剂所溶解。超声完成后的废弃磁粉和线圈通过物理手段进行分离后,可以获取磁粉废料和再生线圈。例如,使用过滤分离方法。过滤后的分解溶液还可以重复利用。
当获取到磁粉废料后,可以进一步地进行粉碎例如干法粉碎或湿法粉碎等以获取再生磁粉。示例性的,可以使用湿法球磨对磁粉废料进行粉碎。所采用的球磨工艺可以是球料比3:1,球磨时间5-10小时。所用的溶剂可以是甲醇、乙醇、异丙醇、乙醚、苯甲醚、环氧丙烷、醋酸甲酯、醋酸乙酯、醋酸丙酯、丙酮、丁酮、甲基丁酮等或其任意组合。可选地或优选地,所有的溶剂可以是丙酮、乙醇、醋酸乙酯中的一种或几种混合而成。粉碎完成后可以得到所述再生磁粉。使用湿法球磨对磁粉废料进行粉碎,不仅可以避免在球磨过程中磁粉废料表面增氧,而且可以大大提高球磨效率。还可以通过球磨去除一些毛刺和/或尖角,进一步提高再生磁粉的品质。
步骤120,对所述再生磁粉进行第一预处理后获取软磁粉末。
在一些实施例中,所述第一预处理可以至少包括清洁、表面除氧、最终清洗以及烘干。清洁可以是用于除去粉碎过程中所带来的一些杂质,比如灰尘或其他有机物。示例性的,所述再生磁粉可以放置于盛有清洁溶液的容器中进行超声清洁。所使用的清洁溶液可以是苯、甲苯、二甲苯、戊烷、己烷、辛烷、环己烷、环己酮、甲苯环己酮、氯苯、二氯苯、二氯甲烷、二氯乙烷、三氯乙烷、甲醇、乙醇、异丙醇、乙醚、苯甲醚、环氧丙烷、醋酸、醋酸甲酯、醋酸乙酯、醋酸丙酯、丙酮、丁酮、甲基丁酮、甲基异丁酮、乙二醇单甲醚、乙二醇单乙醚、乙二醇单丁醚、乙醛、甲缩醛、乙腈、吡啶、苯酚、四氯化碳、二甲亚砜等或其任意组合。可以地或优选的,清洁溶剂可以是丙酮、乙醇、甲缩醛、醋酸中的一种或以上混合而成。随后通过分离手段例如过滤等获取到清洁后的再生磁粉。
表面除氧可以是对磁粉进行表面的氧化物去除。示例性的,经过清洁后的再生磁粉可以放置于盛有除氧溶液的容器中进行超声表面除氧。所使用的除氧溶液可以是强酸与有机溶剂比如苯、甲苯、二甲苯、甲醇、乙醇、异丙醇、环氧丙烷、丙酮、丁酮、乙醚、苯甲醚、乙腈、二甲亚砜等中的一种或以上的混合溶液。所使用的强酸可以是无机强酸比如硫酸、硝酸、高氯酸、盐酸、氢溴酸、氢碘酸、高溴酸、氯酸、溴酸、氟硅酸、氯铅酸、偏磷酸、锇酸、高锰酸、硒酸、高铁酸、氟硼酸、氟磺酸、氰酸、硫氰酸、偏高碘酸等,或有机强酸比如2,4,6-三硝基苯酚、2,4,6-三硝基苯甲酸、三氟乙酸、三氯乙酸、甲磺酸、苯磺酸、环己硫醇磺酸、2-氯乙硫醇、方酸、氮硫方酸、1,2-二硫方酸等、苯六甲酸等。在除氧溶液中,强酸的体积占比为1%-5%,其余为有机溶剂。可选地或优选地,溶剂可以是乙醇和/或丙酮。除氧的时间可以是5-120秒。
最终清洗可以是用于去除除氧过程中附带的杂质例如强酸等。示例性的,经过除氧后的再生磁粉使用漂洗溶液进行超声漂洗。所使用的漂洗溶液可以是甲醇、乙醇、正丁醇、异丙醇、丙酮、丁酮等。可选地或优选地,漂洗溶液可以是乙醇和/或丙酮。最终清洗的次数可以是多次。例如,每次使用一份新的漂洗溶液对除氧后的再生磁粉进行漂洗。当漂洗溶剂经过漂洗后还保持澄清,则可以停止最终清洗的过程。每一次漂洗的时间可以是5-20分钟。
以上清洁、除氧以及最终清洗可以在同一个容器中进行。例如,只进行各类溶液的更换,以执行不同的操作阶段。
经过最终清洗后的再生磁粉可以以物理手段分离后比如过滤分离,可以放入烘箱中进行烘干。烘干温度可以是60-85℃,混干处理1-10小时。之后,经过必要的处理例如筛分或分级、合批后可以得到能够在此使用的软磁粉末。
步骤130,对所述软磁粉末进行第二预处理后结合所述再生线圈进行模压成型操作,获取一体成型电感。
在一些实施例中,所述第二预处理可以至少包括钝化、包覆以及造粒。钝化可以是对软磁粉末进行磷化、抗氧化等操作以延长寿命。例如,使用磷酸盐作为钝化剂,与软磁粉末混合干拌并进行热处理后完成软磁粉末的磷化。所使用的磷化液的浓度可以是质量占比0.1-0.3%(磷化剂的质量占磷化液总质量的0.1-0.3%)。抗氧化可以是对磁粉进行预氧化处理,使其在表面获得致密防氧化膜,以提升抗氧化性。包覆可以使用绝缘材料对软磁粉末进行包覆,包括有机包覆例如使用树脂类或无机包覆例如使用碳包覆。例如,将粘结剂、分散剂、润滑剂、固化剂、绝缘树脂、软磁粉末等加入到溶剂例如丙酮中搅拌混合均匀后,再经过烘烤得到包覆后的软磁粉末。所使用的包覆剂可以是质量占比1-3%的环氧树脂。过筛可以是根据预定的目数对软磁粉末进行分级。过筛完成后得到最终用于模压的磁性粉末。
模压成型可以是将再生线圈和磁性粉末放置于模具内进行模压,脱模固化后可以得到再生一体成型电感。所述模压成型工艺可以包括冷压或热压成型。
下面通过具体实施案例,来对本申请进行具体的描述。本申请的实施方式多样,涉及不同成分的原材料粉材,不同形式或比例的有机溶剂,不同形式的破碎方式,不同的钝化工艺、不同的绝缘工艺、不同的成型及热处理工艺,可以采用不同的形式来实现,并不限于本文所述的实施案例。
实施例一
(1)废旧一体成型电感的预处理。将回收的废旧FeSiCr电感放入盛有混合溶剂的容器中完全浸泡并超声清洗5小时,溶剂主要由质量占比86%以上的丙酮,1-10%的草酸,及1-4%硬脂酸锌组成。
(2)初次破碎。将浸泡后的废旧电感捞入破碎机中进行初步破碎,得到废料。
(3)浸泡分解。将初次破碎后得到的废料置于盛有机溶剂的容器中完全浸泡并超声搅拌,直至废料几乎全部分解。有机溶剂为纯度90%以上甲酸醛溶液。
(4)线圈分离。从浸泡分解后的废料中分离出铜线圈,铜线圈回收。磁粉废料与有机溶剂过滤分离,有机溶剂可重复使用,最后有机溶剂中残留的细粉沉淀亦可做废料使用。
(5)二次破碎:对分离出的磁粉废料进行二次破碎,优选择湿法球磨。球磨工艺:球料比3:1,球磨时间4小时,溶剂丙酮。
(6)表面清理。将球磨后的初步再生磁粉置于盛有丙酮有机溶剂的容器中超声清洗1小时。之后将磁粉与有机溶剂过滤分离,置于盛有稀盐酸和丙酮的混合溶剂中。混合溶剂中稀盐酸的体积分数2%,漂洗时间15秒。漂洗后的再生磁粉置使用丙酮多次超声清洗,每次清洗20分钟,直至有机溶液澄清为止。
将清洗后的再生磁粉与有机溶剂过滤分离,放入烘箱中60-85℃混干处理3小时,之后经过筛分或分级、合批处理后得到可再次利用的再生FeSiCr磁粉。
再生FeSiCr磁粉与常规商用FeSiCr磁粉的理化指标对比:
(7)重塑成型:将再生的FeSiCr磁粉经磷化、包覆、造粒后注入放有绕组线圈的模具中模压成型,脱模固化后即可得到再生一体成型电感。磷化液的质量浓度0.1-0.3%,包覆剂的质量比例为1-3%的环氧树脂,压强500-600MPa,常温压制,电感外型尺寸规格为6mm*6mm*3mm。
本案例重塑一体成型电感与商用一体成型电感性能对比
实施例二
(1)废旧一体成型电感的预处理。将回收的废旧羰基铁粉电感放入盛有混合溶剂的容器中完全浸泡并超声清洗3小时,溶剂主要由90%以上的丙酮,2-7%的双氧水,及1-3%硬脂酸锌组成。
(2)初次破碎。将浸泡后的废旧电感捞入破碎机中进行初步破碎,得到废料。
(3)浸泡分解。将初次破碎后得到的废料置于盛有机溶剂的容器中完全浸泡并超声搅拌,直至废料几乎全部分解。有机溶剂为纯度90%以上甲缩醛溶液。
(4)线圈分离。从浸泡分解后的废料中分离出铜线圈,铜线圈回收。磁粉废料与有机溶剂过滤分离,有机溶剂可重复使用,最后有机溶剂中残留的细粉沉淀亦可做废料使用。
(5)二次破碎:对分离出的磁粉废料进行二次破碎,优选择湿法球磨。球磨工艺:球料比3:1,球磨时间5小时,溶剂乙醇。
(6)表面清理。将球磨后的初步再生磁粉置于盛有丙酮有机溶剂的容器中超声清洗3小时。之后将磁粉与有机溶剂过滤分离,置于盛有稀盐酸和乙醇的混合溶剂中。混合溶剂中稀盐酸的体积分数1%,漂洗时间20秒。漂洗后的再生磁粉置使用乙醇多次超声清洗,每次清洗20分钟,直至有机溶液澄清为止。
将清洗后的再生磁粉与有机溶剂过滤分离,放入烘箱中60-85℃混干处理4小时,之后经过筛分或分级、合批处理后得到可再次利用的再生羰基铁粉。
再生FeSiCr磁粉与常规商用FeSiCr磁粉的理化指标对比:
(7)重塑成型:将再生的羰基铁粉经磷化、包覆、造粒后注入放有绕组线圈的模具中模压成型,脱模固化后即可得到再生一体成型电感。磷化液浓度0.2%,包覆剂比例为3%的环氧树脂,压强600MPa,常温压制,电感外型尺寸规格为6mm*6mm*3mm。
本案例重塑一体成型电感与商用一体成型电感性能对比
所述实施例一和实施例二仅是为了对本申请的制备方法进行了阐述说明,并不用于限制本申请,凡在本申请的工艺路线范围内所做的任何修改、补充或等同替换等,均应包含在本申请的保护范围之内。
Claims (10)
1.一种一体成型电感的制备方法,其特征在于,所述方法包括:
获取再生磁粉和再生线圈,所述再生磁粉和所述再生线圈基于废旧一体成型电感至少经过磁粉分离和线圈回收后得到;
对所述再生磁粉进行第一预处理后获取软磁粉末,所述第一预处理至少包括清洁、表面除氧、最终清洗以及烘干;
对所述软磁粉末进行第二预处理后结合所述再生线圈进行模压成型操作,获取一体成型电感。
2.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,所述完全浸泡并超声清洗,包括:
利用清洗溶液清洗所述废旧一体成型电感,包括完全浸泡并超声清洗;
粉碎清洗后的废旧一体成型电感,以获取破碎废料;
利用分解溶液处理所述破碎废料,以分离磁粉废料和再生线圈;
粉碎所述磁粉废料以获取所述再生磁粉。
3.根据权利要求2所述的制备方法,其特征在于,所述清洗溶液包括丙酮、乙醇、甲酸,草酸、柠檬酸、硬脂酸锌中的一种或以上。
4.根据权利要求2所述的制备方法,其特征在于,所述分解溶液包括丙酮、乙醇、甲缩醛、醋酸乙酯中的一种或以上。
5.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,所述清洁包括使用清洁溶液进行超声清洁,所述清洁溶液包括丙酮、乙醇、甲缩醛、醋酸中的一种或以上。
6.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,所述表面除氧包括使用除氧溶液进行超声表面除氧,所述除氧溶液包括强酸与乙醇或丙酮的混合溶液,其中,所述强酸的体积比为1%-5%。
7.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,所述最终清洗包括使用漂洗溶液进行超声漂洗,所述漂洗溶液包括丙酮、乙醇、二甲苯、醋酸、甲缩醛、醋酸乙酯中的一种或以上。
8.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,所述烘干包括烘箱中60-85℃混干处理1-10小时。
9.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,所述第二预处理至少包括磷化、包覆以及造粒;其中,磷化液的质量浓度0.1-0.3%,包覆剂的质量比例为1-3%的环氧树脂。
10.一种利用如权利要求1-9中任一项所述的方法制备的一体成型电感。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN2023101052572 | 2023-02-13 | ||
CN202310105257 | 2023-02-13 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN116564641A true CN116564641A (zh) | 2023-08-08 |
Family
ID=87489760
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN202310612395.XA Pending CN116564641A (zh) | 2023-02-13 | 2023-05-29 | 一种一体成型电感的制备方法,以及一体成型电感 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
CN (1) | CN116564641A (zh) |
-
2023
- 2023-05-29 CN CN202310612395.XA patent/CN116564641A/zh active Pending
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
CN107876782B (zh) | 一种从废旧磁粉心中回收软磁金属粉末及再利用的方法 | |
CN112768166A (zh) | 一种磁芯材料及其制备方法与应用 | |
CN109003798B (zh) | 一种烧结钕铁硼混废料的回收再利用方法 | |
CN107275033A (zh) | 一种软磁合金材料及其制备方法 | |
CN116564641A (zh) | 一种一体成型电感的制备方法,以及一体成型电感 | |
CN113192714A (zh) | 软磁粉芯及其制备方法 | |
CN109103010A (zh) | 一种提高磁粉芯绝缘层致密度的材料及其方法 | |
JP2001110615A (ja) | 希土類ボンド磁石からの磁性粉回収・再利用方法 | |
CN112359211B (zh) | 一种废旧非晶纳米晶铁芯的回收及再利用方法、一种非晶纳米晶粉心 | |
CN113724957A (zh) | 一种软磁复合粉末、软磁粉芯及其制备方法 | |
KR101562007B1 (ko) | 절삭유를 포함하는 NdFeB계 영구자석의 성형 스크랩으로부터 네오디뮴을 선택적으로 침출하는 방법 | |
EP1096517A2 (en) | Method of producing recycled raw material powder for use in bonded magnet and method of recycling bonded magnet | |
CN108188152A (zh) | 一种去除废旧快淬粘结钕铁硼磁粉中碳氧的方法 | |
JP2001143916A (ja) | 希土類ボンド磁石からの磁性粉回収・再利用方法 | |
CN107424710B (zh) | 一种磁导率μ=60的护盒类铁基非晶磁粉芯及其制备方法 | |
CN102544680A (zh) | 一种改善微波器件无源互调的方法 | |
CN110091462A (zh) | 一种高气密性金属树脂复合体及其金属表面纳米处理方法 | |
JP3292469B2 (ja) | ボンド磁石の分解処理方法 | |
JP4425450B2 (ja) | ボンド磁石のリサイクル方法 | |
CN113926982A (zh) | 一种低成本环保型覆膜砂及其制备方法 | |
CN113936901A (zh) | 一体成型电感的制造方法 | |
CN102214510B (zh) | 一种铁镍合金软磁材料及其制造方法 | |
CN111210985A (zh) | 一种金属磁粉心新材料生产方法 | |
CN116705493B (zh) | 软磁复合材料有机包覆树脂的制备方法 | |
KR20210081763A (ko) | 초음파를 이용한 복잡형상의 금속가공 스크랩 세척 기술 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
PB01 | Publication | ||
PB01 | Publication | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
CB03 | Change of inventor or designer information | ||
CB03 | Change of inventor or designer information |
Inventor after: Yu Haichen Inventor after: Li Ting Inventor before: Li Ting |