CN116449878A - 流量控制装置和自动补液系统 - Google Patents
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- 239000012530 fluid Substances 0.000 title claims abstract description 51
- 238000001802 infusion Methods 0.000 title claims abstract description 19
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims abstract description 255
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 74
- 230000001502 supplementing effect Effects 0.000 claims abstract description 22
- 238000002637 fluid replacement therapy Methods 0.000 claims description 25
- 239000012528 membrane Substances 0.000 claims description 6
- 238000005259 measurement Methods 0.000 claims description 4
- 238000004891 communication Methods 0.000 claims description 2
- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 abstract description 5
- 239000000498 cooling water Substances 0.000 description 14
- 230000003139 buffering effect Effects 0.000 description 9
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 8
- 230000001276 controlling effect Effects 0.000 description 4
- 238000000034 method Methods 0.000 description 4
- 230000008569 process Effects 0.000 description 4
- 239000008213 purified water Substances 0.000 description 4
- 230000003749 cleanliness Effects 0.000 description 2
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 2
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 2
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 2
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 2
- 229920000742 Cotton Polymers 0.000 description 1
- 230000001133 acceleration Effects 0.000 description 1
- 238000009825 accumulation Methods 0.000 description 1
- 230000009471 action Effects 0.000 description 1
- 239000002826 coolant Substances 0.000 description 1
- 239000000110 cooling liquid Substances 0.000 description 1
- 230000002708 enhancing effect Effects 0.000 description 1
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 1
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 1
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 239000000047 product Substances 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
- 239000013589 supplement Substances 0.000 description 1
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-
- G—PHYSICS
- G05—CONTROLLING; REGULATING
- G05D—SYSTEMS FOR CONTROLLING OR REGULATING NON-ELECTRIC VARIABLES
- G05D7/00—Control of flow
- G05D7/06—Control of flow characterised by the use of electric means
- G05D7/0617—Control of flow characterised by the use of electric means specially adapted for fluid materials
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- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
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- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/20—Exposure; Apparatus therefor
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- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/708—Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
- G03F7/70858—Environment aspects, e.g. pressure of beam-path gas, temperature
- G03F7/70866—Environment aspects, e.g. pressure of beam-path gas, temperature of mask or workpiece
- G03F7/70875—Temperature, e.g. temperature control of masks or workpieces via control of stage temperature
-
- G—PHYSICS
- G05—CONTROLLING; REGULATING
- G05D—SYSTEMS FOR CONTROLLING OR REGULATING NON-ELECTRIC VARIABLES
- G05D7/00—Control of flow
- G05D7/06—Control of flow characterised by the use of electric means
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Abstract
本发明涉及一种流量控制装置和自动补液系统。该流量控制装置包括:壳体,包括下水孔,位于壳体底部;进液管,与壳体的顶部相连通;电机,位于壳体内部;锁流叶片和若干流量控制叶片,与电机相连接,各流量控制叶片上设置有大小不同的漏水孔;电机带动流量控制叶片和锁流叶片旋转,以将不同的漏水孔对准下水孔,或封堵下水孔;出液管,与下水孔相连通。上述流量控制装置,通过电机带动流量控制叶片旋转,将不同大小的漏水孔对准下水孔,以较小的变化量地调整液体流量,可以缓慢增加液体流量,避免液体流量变化过大造成机台温度的波动,减小了补液操作对机台产能的影响。
Description
技术领域
本发明涉及半导体光刻设备,特别是涉及一种流量控制装置和自动补液系统。
背景技术
LCWC(lens cooling water cabinet,镜头冷却水柜)用于为主机台提供冷却水,保证机台的正常运转。随着冷却水的消耗,LCWC的水位不断下降,当水位低于补水界面(refill)时系统会发出补水信号,提醒工作人员到现场进行手动补水。
但是,手动补水容易造成补水速度过快,造成水温剧烈波动,影响机台的正常运转,机台需要3-5小时才能重新进入生产状态,造成了一定的产能损失。
发明内容
基于此,针对上述技术问题,本申请提供一种流量控制装置和一种自动补液系统,旨在控制进水速度,降低补水动作对机台产能造成的影响。
本申请公开了一种流量控制装置,包括:壳体,包括下水孔,位于壳体底部;进液管,与壳体的顶部相连通;电机,位于壳体内部;锁流叶片和若干流量控制叶片,与电机相连接,各流量控制叶片上设置有大小不同的漏水孔;电机带动流量控制叶片和锁流叶片旋转,以将不同的漏水孔对准下水孔,或封堵下水孔;出液管,与下水孔相连通。
在其中一个实施例中,壳体中还设置有过滤膜,位于电机和流量控制叶片的上方。
基于同样的发明构思,本申请还公开了一种自动补液系统,包括:上述任一实施例中的流量控制装置;供液装置,与进液管相连接,用于提供液体;控制器,与流量控制装置相连接,控制器被配置为:控制电机转动,以将锁流叶片或流量控制叶片旋转至下水孔上方;液体缓冲槽,与出液管相连接;液体箱,位于液体缓冲槽下方,用于盛放液体。
在其中一个实施例中,液体缓冲槽的形状包括圆柱体、正方体、球体或椭球体。
在其中一个实施例中,液体缓冲槽和流量控制装置的数量为一个或多个。
在其中一个实施例中,液体缓冲槽的底部或侧壁设置有若干引流孔,各引流孔的高度相同或不同;自动补液系统还包括:若干引流管,引流管与引流孔相连接,用于将液体缓冲槽中的液体引流至液体箱的侧壁。
在其中一个实施例中,液体缓冲槽之间通过引流管连通。
在其中一个实施例中,自动补液系统还包括:流量计,设置于进液管上,流量计被配置为:采集流量数据,并将流量数据发送至控制器。
在其中一个实施例中,自动补液系统还包括:液位测量装置,设置于液体箱中;液位测量装置被配置为:测量液体箱中液体的液位高度,并将液位高度发送至控制器。
在其中一个实施例中,液位测量装置包括压敏电阻应变片,压敏电阻应变片设置于液体箱底部。
在其中一个实施例中,控制器被配置为:记录预设时间段内的流量数据和液位高度的变化量;根据流量数据和液位高度的变化量,计算得到预设时间段内液体的消耗速率和消耗量。
在其中一个实施例中,控制器中存储有液位下限值和液位上限值,控制器被配置为:若液位高度达到液位下限值,则生成补液指令,并将补液指令发送至流量控制装置;若液位高度达到液位上限值,则生成锁流指令,并将锁流指令发送至流量控制装置;流量控制装置被配置为:根据补液指令,将流量控制叶片旋转至下水孔上方,或根据锁流指令,将锁流叶片旋转至下水孔上方。
在其中一个实施例中,控制器内存储有液体的标准消耗速率区间;控制器被配置为:若消耗速率超出标准消耗速率区间,则生成报警信号。
在其中一个实施例中,控制器中存储有预设目标液位,控制器被配置为:根据预设目标液位、流量数据和消耗速率,生成流量调节指令,并将流量调节指令发送至流量控制装置;流量控制装置基于流量调整指令,调大或调小液体的流量,以使得液位高度等于或接近预设目标液位。
在其中一个实施例中,自动补液系统还包括:显示装置,与控制器相连接;显示装置被配置为:显示流量数据、液位高度、消耗速率和消耗量。
本公开实施例至少具有以下优点:
上述流量控制装置,通过电机带动流量控制叶片旋转,将不同大小的漏水孔对准下水孔,以较小的变化量地调整液体流量,可以缓慢增加液体流量,避免液体流量变化过大造成机台温度的波动,减小了补液操作对机台产能的影响。
上述自动补液系统,通过设置控制器和流量控制装置,可以精确地控制和调整进入液体箱中的液体流量,避免在进行补液操作时液体流量过大,引起液体温度波动,影响机台的正常运转;并且,通过设置液体缓冲槽,可以进一步缓冲液体进入液体箱时的冲击力,减小补液操作对液体温度造成的影响。
附图说明
图1为本申请一实施例中流量控制装置的结构示意图。
图2为本申请一实施例中限流器的结构示意图。
图3为本申请一实施例中自动补液系统的结构示意图。
图4a和图4b为本申请一实施例中液体缓冲槽的结构示意图。
图5为本申请另一实施例中自动补液系统的结构示意图。
图6为本申请一实施例中显示消耗速率曲线的显示界面示意图。
图7为本申请一实施例中显示液位高度的显示界面示意图。
附图标号说明:
10、流量控制装置;11、壳体;111、下水孔;12、进液管;13、过滤膜;14、限流器;141、电机;142、锁流叶片;143、流量控制叶片;15、出液管;21、供液装置;22、流量计;23、液体缓冲槽;231、引流孔;24、引流管;25、液体箱;26、液位测量装置。
具体实施方式
为了便于理解本发明,下面将参照相关附图对本发明进行更全面的描述。附图中给出了本发明的较佳的实施例。但是,本发明可以以许多不同的形式来实现,并不限于本文所描述的实施例。相反地,提供这些实施例的目的是使对本发明的公开内容的理解更加透彻全面。
除非另有定义,本文所使用的所有的技术和科学术语与属于本发明的技术领域的技术人员通常理解的含义相同。本文中在本发明的说明书中所使用的术语只是为了描述具体的实施例的目的,不是旨在于限制本发明。本文所使用的术语“及/或”包括一个或多个相关的所列项目的任意的和所有的组合。
在描述位置关系时,除非另有规定,否则当一元件例如层、膜或基板被指为在另一膜层“上”时,其能直接在其他膜层上或亦可存在中间膜层。进一步说,当层被指为在另一层“下”时,其可直接在下方,亦可存在一或多个中间层。亦可以理解的是,当层被指为在两层“之间”时,其可为两层之间的唯一层,或亦可存在一或多个中间层。
在使用本文中描述的“包括”、“具有”、和“包含”的情况下,除非使用了明确的限定用语,例如“仅”、“由……组成”等,否则还可以添加另一部件。除非相反地提及,否则单数形式的术语可以包括复数形式,并不能理解为其数量为一个。
如图1和图2所示,本申请的一个实施例公开了一种流量控制装置10。该流量控制装置10可以用于控制液体流量,例如,可以将该流量控制装置10应用于LCWC的补液系统中,以调控机台冷却水的补液速度。示例地,流量控制装置10可以包括:壳体11,包括下水孔111,位于壳体11底部;进液管12,与壳体11的顶部相连通;电机141,位于壳体11内部;锁流叶片142和若干流量控制叶片143,与电机141相连接,各流量控制叶片143上设置有大小不同的漏水孔;电机141带动流量控制叶片143和锁流叶片142旋转,以将不同的漏水孔对准下水孔111,或封堵下水孔111;出液管15,与下水孔111相连通。
其中,电机141、锁流叶片142和流量控制叶片143共同组成限流器14,如图2所示。示例地,电机141可以为微型电机。电机141可以带动流量控制叶片143进行旋转,将不同大小的漏水孔对准下水孔111,以实现对液体流量的调节。例如,当需要调小液体流量时,可以控制电机141带动流量控制叶片143旋转,将较小的漏水孔旋转至下水孔111上方;当需要调大液体流量时,可以控制电机141带动流量控制叶片143旋转,将较大的漏水孔旋转至下水孔111上方。
示例地,各个流量控制叶片143上的漏水孔的形状可以相同或不同,例如,漏水孔可以为圆形、椭圆形或梯形。各个漏水孔的面积可以从最小的漏水孔开始递增,每次增加的面积值决定了流量控制装置10的调节精度。操作者可以根据实际需求设置流量控制叶片143的数量,在成本和精度之间取得平衡。示例地,当需要停止补液操作时,可以将锁流叶片142旋转至下水孔111上方,将下水孔111完全封堵,此时液体流量为零,补液过程结束。
在其他实施例中,锁流叶片和流量控制叶片可以为一体片式结构,一体片式结构上开设有多个漏水孔,漏水孔的大小不同,且相邻的漏水孔的截面面积之差决定了流量控制装置的精度,此时,操作者根据需要,控制电机,带动一体片式结构旋转,使得漏水孔与下水孔相通,实现补液。且一体片式机构上预留一定的锁流区域,当补液完成,继续控制电机,带动一体片式结构转动,使得锁流区域位于下水孔的上方,将下水孔封堵,停止补液。
上述流量控制装置10,通过将不同大小的漏水孔对准下水孔111,以较小的变化量地调整液体流量,使得补液过程更近柔和,避免液体流量变化过大造成机台温度的波动,减小了补液操作对机台产能的影响。
在一个实施例中,请继续参考图1,流量控制装置10的壳体11中还设置有过滤膜13,位于电机141和流量控制叶片143的上方。
示例地,过滤膜13可以采用PP棉滤芯,以过滤液体中的杂质。并且,通过在流量控制叶片143上方设置过滤膜13,可以对进入流量控制装置10的液体进行缓冲,减小液体流速。
本申请的一个实施例还公开了一种自动补液系统,如图3所示。具体地,该自动补液系统包括:上述任一实施例中的流量控制装置10;供液装置21,与进液管12相连接,用于提供液体;控制器(图中未示出),与流量控制装置10相连接,控制器被配置为:控制电机141转动,以将锁流叶片142或流量控制叶片143旋转至下水孔111上方;液体缓冲槽23,与出液管15相连接;液体箱25,位于液体缓冲槽23下方,用于盛放液体。
示例地,供液装置21可以是厂务端的供水管路,用于向自动补液系统提供纯净水。可选地,供液装置21还可以提供其他所需液体,例如一些化学试剂。
在本实施例中,以供液装置21向自动补液系统提供纯净水为例进行说明。如图3所示,供液装置21与流量控制装置10的进液管12相连接,纯净水流到流量控制装置10后,经过流量调控实现第一次缓冲,然后再通过出液管15流至液体缓冲槽23,实现第二次缓冲,然后再流入液体箱25。经过两次缓冲,流入液体箱25的水流速度大大下降,冲击力明显降低,减小了对液体箱25中的水温的影响。
在整个补液的过程中,液体流量的调节由控制器(图中未示出)控制。控制器与流量控制装置10相连接,以控制电机141转动,电机141带动锁流叶片142或流量控制叶片143旋转至下水孔111的上方。示例地,不同的流量控制叶片143对应不同的液体流量。通过将液体流量控制在较小的范围内,可以避免短时间内向液体箱25中注入较多的水,防止水温产生较大波动。
上述自动补液系统,通过控制流量控制装置10,可以精确地控制和调整进入液体箱25中的液体流量,避免在进行补液操作时液体流量过大,引起液体温度波动,影响机台的正常运转;并且,通过设置液体缓冲槽23,可以实现对液体的二次缓冲,防止补液操作对液体箱25中的液体温度造成较大波动。
在一个实施例中,如图4a和图4b所示,液体缓冲槽23的形状可以包括圆柱体和正方体。可选地,液体缓冲槽23的形状还可以是球体或椭球体。示例地,液体缓冲槽23可以采用不锈钢材质,耐腐蚀且洁净度高。
在一个实施例中,液体缓冲槽23和流量控制装置10的数量为一个或多个。作为示例,液体缓冲槽23和流量控制装置10的数量相等,且液体缓冲槽23和流量控制装置10一一对应连接。可选地,可以将流量控制装置10的数量设置为一个,液体缓冲槽23的数量设置为多个,流量控制装置10配置多个出液管15分别连接至各个液体缓冲槽23,以将液体分散至多个液体缓冲槽23进行缓冲后流入液体箱25,加强缓冲效果。可选地,可以将流量控制装置10的数量设置为多个,液体缓冲槽23的数量设置为一个。本申请对液体缓冲槽23和流量控制装置10的数量不做限制。
通过调整液体缓冲槽23和流量控制装置10的数量,可以设计多种补液方案,以适应不同的补液需求。
在一个实施例中,如图4a和图4b所示,液体缓冲槽23的底部或侧壁设置有若干引流孔231,各引流孔231的高度相同或不同。如图5所示,自动补液系统还包括若干引流管24,引流管24与引流孔231相连接,用于将液体缓冲槽23中的液体引流至液体箱25的侧壁。
示例地,引流管24可以采用不锈钢材质,以提高耐腐蚀度和洁净度。
示例地,如图4a和图4b所示,圆柱状的液体缓冲槽23的高度可以为20mm-50mm,例如为20mm、30mm、40mm或50mm。圆柱的直径可以在20mm-40mm之间,例如为20mm、30mm或40mm。立方体的液体缓冲槽23的边长可以为20mm-50mm,例如为20mm、30mm、40mm或50mm。
示例地,如图5所示,引流孔231与引流管24相连接,将液体引流至液体箱25的侧壁。各个引流孔231的高度可以相同,也可以不同。作为示例,引流孔231距离水槽底部距离可以在0mm-10mm之间。
作为示例,各个引流孔231的高度不同。通过将引流孔231设置在不同的高度,可以将液体缓冲槽23中的液体分阶段放出,实现对液体流速的缓冲;同时,通过引流管24将液体引流至液体箱25的侧壁,使得液体沿着侧壁缓慢流入液体箱25,可以实现对液体流速的进一步缓冲,使相同流量的液体以更缓慢的速度注入液体箱25中,避免引起水温的剧烈波动,保证机台在补液过程中的正常运转。
在一个实施例中,各个引流孔231的直径相同或不同,引流管24与引流孔231的直径相匹配。通过调整引流孔231的直径,并为各个引流孔231配备相匹配的引流管24,可以提供更加丰富的补液方案,调整液体流出液体缓冲槽23的速率。
在一个实施例中,请继续参考图5,液体缓冲槽23之间通过引流管24连通。示例地,连接液体缓冲槽23的引流管24的高度低于其他引流管24的高度。通过引流管24将各个液体缓冲槽23连通,可以将流至液体缓冲槽23中的液体流量进行平均,当进入某个液体缓冲槽23中的液体流量过大时,通过引流管24可以将进入该液体缓冲槽23的液体引流至其他液体缓冲槽23,再经过各个引流管24引流至液体箱25的侧壁,减缓了进入液体箱25的液体流速。
在一个实施例中,请继续参考图5,自动补液系统还包括:流量计22,设置于进液管12上,流量计22被配置为:采集流量数据,并将流量数据发送至控制器。
示例地,流量计22可以统计一段时间内注入液体箱25的水量,并将流量数据发送至控制器进行存储。通过在进液管12上设置流量计22,可以实时获取各个进液管12的流量。
在其中一个实施例中,请继续参考图5,自动补液系统还包括:液位测量装置26,设置于液体箱25中;液位测量装置26被配置为:测量液体箱25中液体的液位高度,并将液位高度发送至控制器。
示例地,如图5所示,液位测量装置26可以是压敏电阻应变片,压敏电阻应变片设置于液体箱25底部。具体地,通过压敏电阻应变片测量得到液体箱25底部的液压值F,然后根据下列公式计算得到液体箱25中的液体高度。
F=P·s;
P=ρ·g·h;
其中,P为压强,s为压敏电阻应变片的面积,ρ为液体密度,g为重力加速度,h为液体高度。
通过在液体箱25中设置液位测量装置26,可以实时获取液体箱25中的液位高度,便于根据液位高度判断是否需要补液。
在一个实施例中,控制器被配置为:记录预设时间段内的流量数据和液位高度的变化量;根据流量数据和液位高度的变化量,计算得到预设时间段内液体的消耗速率和消耗量。
示例地,当机台处于正常运转的状态时,需要不断消耗冷却水。因此,当没有执行补液操作时,液体箱25中的液位高度会随着时间的增加不断下降。假设正常运转状态下的机台的冷却水消耗速率为v,那么时间长度T与机台的冷却水消耗速率v的乘积,即为该时间长度内机台消耗的冷却水的量V1。
当执行补液操作时,通过进液管12不断向液体箱25中输入新的冷却水,通过流量计22可以实时采集进液管12内的流量数据。控制器根据流量数据在时间上的累积,可以获得时间长度T内注入液体箱25中的冷却水的量V2。
以V2大于V1为例进行说明,在执行补液操作的同时,机台也在消耗冷却水,经过时间T后液体箱25内的液位高度会增加,通过液位测量装置26可以测得液位高度的增加量△h。液体箱25的底面面积为S。根据公式
V2-V1=S·△h
可以计算出时间长度T内机台对冷却水的消耗速率v。时间长度T内机台对冷却水的消耗量V1可以根据公式V1=v·T计算得到。
在一个实施例中,自动补液系统还包括显示装置,用于显示液体的消耗速率、消耗量、液位高度和流量数据等信息,便于用户直观地获取补液系统的运行装置。
在一个实施例中,控制器内存储有液体的标准消耗速率区间;控制器被配置为:若消耗速率超出标准消耗速率区间,则生成报警信号。
示例地,控制器中存储有机台正常工作时对冷却水的标准消耗速率区间。控制器可以将计算得到的消耗速率b与该标准消耗速率区间a-c进行对比,当消耗速率b超出控制器中存储的消耗速率区间a-c后,控制器控制报警装置发出报警信号。例如,当测量到的消耗速率b大于该标准消耗速率区间a-c的最大值c,则可能是液体箱25出现了漏水故障;当测量到的消耗速率b小于该标准消耗速率区间a-c的最小值a,则可能是机台运转出现了问题。
示例地,如图6所示,显示装置的显示界面可以包括消耗速率曲线按钮和液位高度按钮。用户通过点击消耗速率曲线按钮,然后选择想要查询的时间区间,即可获得该时间区间内的消耗速率曲线b。可选地,在显示消耗速率曲线b的同时,还可以显示标准消耗速率区间a-c的曲线,以便于用户直观地判断液体消耗速率b是否正常。作为示例,当前冷却液的消耗速率曲线b对应的数值为0.3ml/min,标准消耗速率区间a-c为0.28ml/min-0.32ml/min。0.3ml/min位于0.28ml/min-0.32ml/min之间,表示冷却液的消耗速率正常,即机台运行正常。
通过设置标准消耗速率区间,并在消耗速率超出标准消耗速率区间时生成报警信号,可以及时提醒操作人员对补液系统进行检查,提高了系统的安全性,避免液体箱25发生泄漏而长时间未被发现。
在其中一个实施例中,控制器中存储有液位下限值和液位上限值,控制器被配置为:若液位高度达到液位下限值,则生成补液指令,并将补液指令发送至流量控制装置10;若液位高度达到液位上限值,则生成锁流指令,并将锁流指令发送至流量控制装置10;流量控制装置10被配置为:根据补液指令,将流量控制叶片143旋转至下水孔111上方,或根据锁流指令,将锁流叶片142旋转至下水孔111上方。
通过设置液位上限值和液位下限值,可以在液位高度到达液位上限值时,及时锁流,或者在液位高度降至液位下限值时,及时启动补液操作;实现自动化操作,无需人工参与。
示例地,如图7所示,通过点击液位高度按钮,可以将显示界面切换至液位高度示意图,同时显示当前液体箱25的容量、液位高度和本月液体消耗量等信息。具体地,还可以在图中标识出液位上限值和液位下限值的位置,用户可以直观地获取当前的液位高度,便于用户做出是否需要补液或停止补液的决定。
在一个实施例中,控制器中存储有预设目标液位,控制器被配置为:根据预设目标液位、流量数据和消耗速率,生成流量调节指令,并将流量调节指令发送至流量控制装置10;流量控制装置10基于流量调整指令,调大或调小液体的流量,以使得液位高度等于或接近预设目标液位。
如图7所示,预设目标液位用虚线标出。通过设置预设目标液位,并根据预设目标液位、流量数据和消耗速率对进液流量进行调节,将液体箱25中的液体始终维持在预设目标液位附近,可以确保为机台提供充足且稳定的液体供应。
以上所述实施例的各技术特征可以进行任意的组合,为使描述简洁,未对上述实施例中的各个技术特征所有可能的组合都进行描述,然而,只要这些技术特征的组合不存在矛盾,都应当认为是本说明书记载的范围。
以上所述实施例仅表达了本发明的几种实施方式,其描述较为具体和详细,但并不能因此而理解为对发明专利范围的限制。应当指出的是,对于本领域的普通技术人员来说,在不脱离本发明构思的前提下,还可以做出若干变形和改进,这些都属于本发明的保护范围。因此,本发明专利的保护范围应以所附权利要求为准。
Claims (15)
1.一种流量控制装置,其特征在于,包括:
壳体,包括下水孔,位于所述壳体底部;
进液管,与所述壳体的顶部相连通;
电机,位于所述壳体内部;
锁流叶片和若干流量控制叶片,与所述电机相连接,各流量控制叶片上设置有大小不同的漏水孔;所述电机带动所述流量控制叶片和所述锁流叶片旋转,以将不同的漏水孔对准所述下水孔,或封堵所述下水孔;
出液管,与所述下水孔相连通。
2.根据权利要求1所述的流量控制装置,其特征在于,所述壳体中还设置有过滤膜,位于所述电机和所述流量控制叶片的上方。
3.一种自动补液系统,其特征在于,包括:
如权利要求1-2任一项所述的流量控制装置;
供液装置,与所述进液管相连接,用于提供液体;
控制器,与所述流量控制装置相连接,所述控制器被配置为:控制所述电机转动,以将所述锁流叶片或所述流量控制叶片旋转至所述下水孔上方;
液体缓冲槽,与所述出液管相连接;
液体箱,位于所述液体缓冲槽下方,用于盛放所述液体。
4.根据权利要求3所述的自动补液系统,其特征在于,所述液体缓冲槽的形状包括圆柱体、正方体、球体或椭球体。
5.根据权利要求3所述的自动补液系统,其特征在于,所述液体缓冲槽和所述流量控制装置的数量为一个或多个。
6.根据权利要求5所述的自动补液系统,其特征在于,所述液体缓冲槽的底部或侧壁设置有若干引流孔,各所述引流孔的高度相同或不同;所述自动补液系统还包括:
若干引流管,所述引流管与所述引流孔相连接,用于将所述液体缓冲槽中的液体引流至所述液体箱的侧壁。
7.根据权利要求6所述的自动补液系统,其特征在于,所述液体缓冲槽之间通过所述引流管连通。
8.根据权利要求3所述的自动补液系统,其特征在于,还包括:
流量计,设置于所述进液管上,所述流量计被配置为:采集流量数据,并将所述流量数据发送至所述控制器。
9.根据权利要求8所述的自动补液系统,其特征在于,还包括:
液位测量装置,设置于所述液体箱中;
所述液位测量装置被配置为:测量所述液体箱中液体的液位高度,并将所述液位高度发送至所述控制器。
10.根据权利要求9所述的自动补液系统,其特征在于,所述液位测量装置包括压敏电阻应变片,所述压敏电阻应变片设置于所述液体箱底部。
11.根据权利要求9所述的自动补液系统,其特征在于,所述控制器被配置为:
记录预设时间段内的所述流量数据和所述液位高度的变化量;
根据所述流量数据和所述液位高度的变化量,计算得到所述预设时间段内所述液体的消耗速率和消耗量。
12.根据权利要求9所述的自动补液系统,其特征在于,所述控制器中存储有液位下限值和液位上限值,所述控制器被配置为:
若所述液位高度达到所述液位下限值,则生成补液指令,并将所述补液指令发送至所述流量控制装置;
若所述液位高度达到所述液位上限值,则生成锁流指令,并将所述锁流指令发送至所述流量控制装置;
所述流量控制装置被配置为:
根据所述补液指令,将所述流量控制叶片旋转至所述下水孔上方,或根据所述锁流指令,将所述锁流叶片旋转至所述下水孔上方。
13.根据权利要求11所述的自动补液系统,其特征在于,所述控制器内存储有所述液体的标准消耗速率区间;
所述控制器被配置为:若所述消耗速率超出所述标准消耗速率区间,则生成报警信号。
14.根据权利要求11所述的自动补液系统,其特征在于,所述控制器中存储有预设目标液位,所述控制器被配置为:
根据所述预设目标液位、所述流量数据和所述消耗速率,生成流量调节指令,并将所述流量调节指令发送至所述流量控制装置;
所述流量控制装置基于所述流量调整指令,调大或调小所述液体的流量,以使得所述液位高度等于或接近所述预设目标液位。
15.根据权利要求11所述的自动补液系统,其特征在于,还包括:显示装置,与所述控制器相连接;
所述显示装置被配置为:显示所述流量数据、所述液位高度、所述消耗速率和所述消耗量。
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN202210020964.7A CN116449878A (zh) | 2022-01-10 | 2022-01-10 | 流量控制装置和自动补液系统 |
PCT/CN2022/081507 WO2023130579A1 (zh) | 2022-01-10 | 2022-03-17 | 流量控制装置和自动补液系统 |
US17/807,020 US20230223288A1 (en) | 2022-01-10 | 2022-06-15 | Flow control equipment and automatic refilling system |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN202210020964.7A CN116449878A (zh) | 2022-01-10 | 2022-01-10 | 流量控制装置和自动补液系统 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN116449878A true CN116449878A (zh) | 2023-07-18 |
Family
ID=87072975
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN202210020964.7A Pending CN116449878A (zh) | 2022-01-10 | 2022-01-10 | 流量控制装置和自动补液系统 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
CN (1) | CN116449878A (zh) |
WO (1) | WO2023130579A1 (zh) |
Family Cites Families (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN102230170B (zh) * | 2011-05-30 | 2013-03-27 | 江苏菲达宝开电气有限公司 | 高效循环净化磷化装置 |
CN202181228U (zh) * | 2011-08-10 | 2012-04-04 | 美的集团有限公司 | 一种节水型自动调节废水比电磁阀 |
US20170356552A1 (en) * | 2016-06-10 | 2017-12-14 | Ecotec Solutions, Inc. | Multi-orifice plate flow valve |
CN110260022A (zh) * | 2019-06-05 | 2019-09-20 | 鲁浩杰 | 一种浓水排放回流一体调节阀 |
CN111527837A (zh) * | 2020-06-10 | 2020-08-14 | 东北农业大学 | 多行条播种粒流量可调播种总成 |
CN213332468U (zh) * | 2020-08-28 | 2021-06-01 | 谢祥平 | 一种电动可调节法兰阀门 |
-
2022
- 2022-01-10 CN CN202210020964.7A patent/CN116449878A/zh active Pending
- 2022-03-17 WO PCT/CN2022/081507 patent/WO2023130579A1/zh unknown
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
WO2023130579A1 (zh) | 2023-07-13 |
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PB01 | Publication | ||
PB01 | Publication | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
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