CN116334568A - 单向旋转装置、上料装置以及真空镀膜设备 - Google Patents

单向旋转装置、上料装置以及真空镀膜设备 Download PDF

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Abstract

本发明公开了一种单向旋转装置、上料装置以及真空镀膜设备。所述单向旋转装置包括：驱动轴，用于驱动所述单向旋转装置旋转；花键组件，连接到所述驱动轴，并随着所述驱动轴的旋转而旋转；以及螺旋座，连接到所述花键组件，并随着所述花键组件的旋转而旋转；其中，所述花键组件包括花键轴，所述花键轴设有多个单向卡头，所述螺旋座设有与所述多个单向卡头相配合的多个单向卡槽，从而允许所述螺旋座能够相对于所述花键轴沿一个方向旋转，并限制所述螺旋座沿相反的方向旋转。所述上料装置包括大转架、多个小转架以及单向旋转装置。通过所述单向旋转装置，随时调整装料位置，实现高效率装料，提高了产能。

Description

单向旋转装置、上料装置以及真空镀膜设备
技术领域
本发明涉及真空镀膜技术领域，特别涉及一种用于真空镀膜的单向旋转装置、上料装置以及真空镀膜设备。
背景技术
在现有的真空镀膜的上料装置中，n个行星小转架与太阳轮之间是通过齿轮啮合的，所以n个行星小转架与整个上料装置只能联动，而不能自由自转，在某些特定位置，会挡住上料位置，使得装料困难，装料效率极低。
发明内容
为了解决现有技术中存在的技术问题，本发明的实施例提供了一种单向旋转装置以及包括所述单向旋转装置的上料装置和真空镀膜设备，通过所述单向旋转装置，装料小转架可以自由自转，可随时调整装料位置，实现高效率装料，提高了产能。
根据本发明的一个方面，提供一种单向旋转装置，用于在真空镀膜设备中进行旋转上料。所述单向旋转装置包括：驱动轴，用于驱动所述单向旋转装置旋转；花键组件，连接到所述驱动轴，并随着所述驱动轴的旋转而旋转；以及螺旋座，连接到所述花键组件，并随着所述花键组件的旋转而旋转；其中，所述花键组件包括花键轴，所述花键轴设有多个单向卡头，所述螺旋座设有与所述多个单向卡头相配合的多个单向卡槽，从而允许所述螺旋座能够相对于所述花键轴沿一个方向旋转，并限制所述螺旋座沿相反的方向旋转。
可选地，所述花键轴的每个单向卡头具有第一弧形表面，所述螺旋座的每个单向卡槽具有与所述第一弧形表面相滑动配合的第二弧形表面。
可选地，所述花键轴的每个单向卡头具有第一止挡表面，所述螺旋座的每个单向卡槽具有与所述第一止挡表面相止挡配合的第二止挡表面。
可选地，所述花键轴与所述驱动轴之间设有压缩弹簧。
可选地，所述花键组件还包括安装到所述花键轴上的花键套，所述花键套与所述驱动轴固定连接。
可选地，所述花键套与所述螺旋座通过定位套连接。
可选地，所述定位套为哈夫式定位套。
根据本发明的另一个方面，提供一种上料装置，用于在真空镀膜设备中进行旋转上料。所述上料装置包括：大转架，安装有太阳轮和与所述太阳轮相啮合的多个行星轮，所述大转架能够相对于所述太阳轮旋转，所述行星轮随着所述大转架的旋转而旋转，并围绕所述太阳轮转动；多个小转架，具有用于支撑物料的支架；以及单向旋转装置，其安装在相对应的行星轮和小转架之间。
可选地，所述上料装置还包括用于带动所述大转架旋转的转台。
可选地，所述上料装置还包括用于限制所述太阳轮旋转的止动销。
根据本发明的又一个方面，提供一种真空镀膜设备。所述真空镀膜设备包括：腔体；以及上料装置，设置于所述腔体内。
与现有技术相比，本发明的实施例的技术方案具有以下有益效果：
根据本发明的实施例，所述花键轴设有多个单向卡头，所述螺旋座设有与所述多个单向卡头相配合的多个单向卡槽，从而允许所述螺旋座能够相对于所述花键轴沿一个方向旋转，并限制所述螺旋座沿相反的方向旋转。
设计增加了单向旋转装置，在顺着行星小转架与太阳轮联动转动的方向，装料小转架可以自由单独旋转，实现高效率装料，提高了设备产能。
附图说明
本发明的其它特征以及优点将通过以下结合附图详细描述的可选实施方式更好地理解，附图中相同的标记表示相同或相似的部件，其中：
图1示出了根据本发明的一个实施例的单向旋转装置的结构示意图；
图2示出了图1中的单向旋转装置的花键轴与螺旋座的结构示意图；
图3示出了根据本发明的一个实施例的上料装置的结构示意图；
图4示出了图3中的上料装置的小转架和单向旋转装置的结构示意图；
图5示出了图3中的上料装置的小转架和单向旋转装置的局部放大图。
具体实施方式
下面详细讨论实施例的实施和使用。然而，应当理解，所讨论的具体实施例仅仅示范性地说明实施和使用本发明的特定方式，而非限制本发明的范围。在描述时各个部件的结构位置例如上、下、顶部、底部等方向的表述不是绝对的，而是相对的。当各个部件如图中所示布置时，这些方向表述是恰当的，但图中各个部件的位置改变时，这些方向表述也相应改变。
如背景技术中所述，在现有的上料装置中，n个行星小转架与太阳轮之间是通过齿轮啮合的，所以n个行星小转架与整个上料装置只能联动，而不能自由自转，在某些特定位置(比如装料小转架上靠近大转架中心的位置)，会挡住上料位置，使得装料困难，装料效率极低。
为此，本发明的实施例提供一种单向旋转装置以及上料装置，用于在真空镀膜设备中进行旋转上料。通过所述单向旋转装置，随时调整装料位置，实现高效率装料，提高了产能。
图1示出了根据本发明的一个实施例的单向旋转装置100的结构示意图；图2示出了图1中的单向旋转装置的花键轴与螺旋座的结构示意图。
如图1和图2中所示，单向旋转装置100包括驱动轴110、花键组件120以及螺旋座130。驱动轴110用于驱动单向旋转装置100旋转，例如，驱动单向旋转装置100沿顺时针方向旋转。花键组件120包括花键轴121和花键套122，花键组件120连接到驱动轴110，并随着驱动轴110的旋转而旋转，其中花键套122安装到花键轴121，花键套122与驱动轴110通过例如多个第一螺栓141固定连接。多个第一螺栓141沿着圆周方向分布，例如，设有4个第一螺栓141。
在一些实施例中，花键套122能够相对花键轴121轴向滑动且能够随花键轴121的旋转而旋转。例如，花键轴121上设有沿其轴向设置的花键槽，花键套122内设有滚动件，所述滚动件部分卡在所述花键槽内，且能够在所述花键槽内滚动，从而实现花键套122能够相对花键轴121轴向滑动且能够随花键轴121的旋转而旋转。
螺旋座130连接到花键组件120，并随着花键组件120的旋转而旋转。其中，螺旋座130套设在花键组件120的花键轴121上，花键轴121设有多个单向卡头1211，螺旋座130设有与多个单向卡头1211相配合的多个单向卡槽131，从而允许螺旋座130能够相对于花键轴121沿一个方向旋转，并限制螺旋座130沿相反的方向旋转。多个单向卡头1211沿着花键轴121的周向分布，多个单向卡槽131沿着螺旋座130的周向分布，多个单向卡头1211和多个单向卡槽131的具体数目可以根据需要进行设置。
在一些实施例中，花键轴121的每个单向卡头1211具有第一弧形表面12111，螺旋座130的每个单向卡槽131具有与第一弧形表面12111相滑动配合的第二弧形表面1311。
在一些实施例中，花键轴121的每个单向卡头1211具有第一止挡表面12112，螺旋座130的每个单向卡槽131具有与第一止挡表面12112相止挡配合的第二止挡表面1312。
在一些实施例中，花键轴121与驱动轴110之间设有压缩弹簧150。花键轴121的轴端1212插入驱动轴110的内定位孔111内，压缩弹簧150环绕花键轴121的轴端1212，压缩弹簧150的一端抵接驱动轴110，另一端抵接花键轴121。在压缩弹簧150的作用下，使得花键轴121的每个单向卡头1211的第一弧形表面12111贴合螺旋座130的每个单向卡槽131的第二弧形表面1311。
在一些实施例中，花键套122与螺旋座130通过定位套160连接。花键轴121的每个单向卡头1211的第一弧形表面12111与螺旋座130的每个单向卡槽131的第二弧形表面1311配合后被限定在定位套160内部。例如，定位套160为哈夫式定位套。定位套160与花键套122例如通过多个第二螺栓142固定连接。多个第二螺栓142沿着圆周方向分布，例如，设有4个第二螺栓142。
当驱动轴110被驱动沿顺时针方向旋转时，花键轴121随着驱动轴110沿顺时针方向旋转。花键轴121的每个单向卡头1211的第一止挡表面12112抵接螺旋座130的每个单向卡槽131的第二止挡表面1312，使得花键轴121带动螺旋座130沿顺时针方向旋转。当驱动轴110被锁定静止时，螺旋座130的每个单向卡槽131的第二弧形表面1311能够相对花键轴121的每个单向卡头1211的第一弧形表面12111滑动，允许螺旋座130相对花键轴121继续沿着顺时针方向旋转，而螺旋座130的每个单向卡槽131的第二止挡表面1312抵接花键轴121的每个单向卡头1211的第一止挡表面12112，限制螺旋座130相对花键轴121沿着逆时针方向旋转。当驱动轴110沿顺时针方向旋转时，螺旋座130可以在外部驱动力的作用下以大于驱动轴110的旋转速度沿顺时针方向旋转。
更具体地，当螺旋座130相对驱动轴110沿顺时针方向旋转时，单向卡槽131的第二弧形表面1311相对于相配合的单向卡头1211的第一弧形表面12111也对应地沿顺时针方向滑动，此时花键轴的轴端1212在驱动轴110的内定位孔111内沿轴向方向向上移动；当螺旋座130转到一定角度之后，在压缩弹簧150的作用下，花键轴121的轴端1212在驱动轴110的内定位孔111内又会沿着轴向方向向下移动，此时单向卡槽131的第二弧形表面1311与相邻的另一个单向卡头1211的第一弧形表面12111相配合，如此循环往复，螺旋座130可相对驱动轴110自由转动。
图3示出了根据本发明的一个实施例的上料装置200的结构示意图；
图4示出了图3中的上料装置200的小转架和单向旋转装置的结构示意图；
图5示出了图3中的上料装置200的小转架和单向旋转装置的局部放大图。上料装置200可以布置在真空镀膜设备的腔体内。
如图3到图5所示，上料装置200包括单向旋转装置100、大转架210以及多个小转架220。大转架210安装有太阳轮211和与太阳轮211相啮合的多个行星轮212，大转架210能够相对于太阳轮211旋转，多个行星轮212随着大转架210的旋转而旋转，并围绕太阳轮211转动。每个小转架220具有用于支撑待镀膜物料300的支架221，单向旋转装置100安装在相对应的一个行星轮212和一个小转架220之间。
具体来说，大转架210被可转动地设置于镀膜设备的腔体内，并且多个小转架220分别被可转动地设置于大转架210上，以形成行星转架。其中多个小转架220用于放置待镀膜物料300，使得被放置于小转架220上的该待镀膜物料300在小转架220的带动下，绕着小转架220的自转轴进行转动的同时，还在大转架210的带动下，绕着大转架210的公转轴进行转动，也就是说，被放置于小转架220上的该待镀膜物料300在镀膜设备的腔体内既进行自转，又进行公转。
在一些实施例中，上料装置200还包括用于带动大转架210旋转的转台。在一些实施例中，上料装置200还包括用于限制太阳轮211旋转的止动销(图未示)，止动销固定太阳轮211。具体来说，太阳轮211被实施为齿轮结构，并且太阳轮211具有多个通道，其中止动销自上而下穿过太阳轮211的通道，从而所述太阳轮211的转动被所述止动销限制。在所述大转架210相对于所述腔体转动时，所述太阳轮211被限制自转。位于所述太阳轮211周围的所述行星轮212仍然可以绕着所述太阳轮211转动，并且能够在绕着大转架210的公转轴转动的同时也绕着小转架220的自转轴转动。即，当转台带动大转架210旋转时，行星轮212随着大转架210绕大转架210的公转轴进行公转，同时行星轮212将沿着太阳轮211的外周缘进行啮合地滚动，以带动小转架220进行同步地转动，使得小转架220进行自转。
在一些实施例中，每个小转架220可以包括绕着所述自转轴转动的多个支架221，其中多个支架221被间隔地叠置于所述自转轴，以在每层或多层支架221上放置一个或多个待镀膜物料300，使得支架221带动大量的待镀膜物料300在所述镀膜腔室内进行自转和公转，以便批量地实现镀膜工序。
如图4到图5所示，行星轮212安装在单向旋转装置100的驱动轴110的端部，例如通过结构中的扁头扁孔实现同转同停。单向旋转装置100的螺旋座130与小转架220例如通过多个第三螺栓143固定连接。当行星轮212在驱动力作用下沿顺时针方向旋转时，通过螺旋座130带动小转架220沿顺时针方向旋转。当行星轮212被锁定静止时，小转架220只能沿顺时针方向旋转，而不能沿逆时针方向旋转。当行星轮212沿顺时针旋转时，小转架220可以在外部驱动力的作用下以大于行星轮212的旋转速度沿顺时针方向旋转，也就是说，小转架220可以超越行星轮212的旋转速度沿顺时针方向单向旋转。
使用时，n个(例如，5个)小转架220安装在大转架210上，太阳轮211安装在大转架210上，太阳轮211可以相对大转架210正反旋转，大转架210安装在转台上，在大转架210自身的重力作用下与转台产生摩擦力，当转台旋转时，在摩擦力的作用下，大转架210也跟随旋转。太阳轮211通过腔体内的顶部止动机构(例如，止动销)，使太阳轮211不能相对腔体正反旋转，转台在腔体内部可以在驱动力的作用下相对腔体作正反旋转。由于太阳轮211相对腔体不能旋转，所以当转台静止时，n个行星轮212与太阳轮211啮合被锁定不能旋转，n个小转架220装料时可以沿顺时针方向旋转，解决了装料小转架220靠近大转架210中心位置装料困难的问题，提高了装料效率，实现了提高设备产能的目的。
在上面的实施例中，单向旋转装置100的驱动轴110沿顺时针方向旋转，螺旋座130能够相对于花键轴121沿顺时针方向旋转，并限制螺旋座130沿逆时针方向旋转，此时，n个小转架220装料时可以沿顺时针方向旋转，而不能沿逆时针方向旋转；在其他的实施例中，单向旋转装置100的驱动轴110沿逆时针方向旋转，螺旋座130能够相对于花键轴121沿逆时针方向旋转，并限制螺旋座130沿顺时针方向旋转，此时，n个小转架220装料时可以沿逆时针方向旋转，而不能沿顺时针方向旋转。
根据本发明的实施例，设计增加了单向旋转装置，在顺着行星小转架与太阳轮联动转动的方向，可以自由单独旋转，实现高效率装料，提高了设备产能。
以上已揭示本发明的技术内容及技术特点，然而可以理解，在本发明的创作思想下，本领域的技术人员可以对上述公开的构思作各种变化和改进，但都属于本发明的保护范围。上述实施方式的描述是例示性的而不是限制性的，本发明的保护范围由权利要求所确定。

Claims (11)

1.一种单向旋转装置，用于在真空镀膜设备中进行旋转上料，其特征在于，包括：
驱动轴，用于驱动所述单向旋转装置旋转；
花键组件，连接到所述驱动轴，并随着所述驱动轴的旋转而旋转；以及
螺旋座，连接到所述花键组件，并随着所述花键组件的旋转而旋转；
其中，所述花键组件包括花键轴，所述花键轴设有多个单向卡头，所述螺旋座设有与所述多个单向卡头相配合的多个单向卡槽，从而允许所述螺旋座能够相对于所述花键轴沿一个方向旋转，并限制所述螺旋座沿相反的方向旋转。
2.根据权利要求1所述的单向旋转装置，其特征在于，所述花键轴的每个单向卡头具有第一弧形表面，所述螺旋座的每个单向卡槽具有与所述第一弧形表面相滑动配合的第二弧形表面。
3.根据权利要求1所述的单向旋转装置，其特征在于，所述花键轴的每个单向卡头具有第一止挡表面，所述螺旋座的每个单向卡槽具有与所述第一止挡表面相止挡配合的第二止挡表面。
4.根据权利要求1到3中任一项所述的单向旋转装置，其特征在于，所述花键轴与所述驱动轴之间设有压缩弹簧。
5.根据权利要求1到3中任一项所述的单向旋转装置，其特征在于，所述花键组件还包括安装到所述花键轴上的花键套，所述花键套与所述驱动轴固定连接。
6.根据权利要求5所述的单向旋转装置，其特征在于，所述花键套与所述螺旋座通过定位套连接。
7.根据权利要求6所述的单向旋转装置，其特征在于，所述定位套为哈夫式定位套。
8.一种上料装置，用于在真空镀膜设备中进行旋转上料，其特征在于，包括：
大转架，安装有太阳轮和与所述太阳轮相啮合的多个行星轮，所述大转架能够相对于所述太阳轮旋转，所述行星轮随着所述大转架的旋转而旋转，并围绕所述太阳轮转动；
多个小转架，具有用于支撑物料的支架；以及
根据权利要求1到7中任一项所述的单向旋转装置，其安装在相对应的行星轮和小转架之间。
9.根据权利要求8所述的上料装置，其特征在于，还包括用于带动所述大转架旋转的转台。
10.根据权利要求8所述的上料装置，其特征在于，还包括用于限制所述太阳轮旋转的止动销。
11.一种真空镀膜设备，其特征在于，包括：
腔体；以及
根据权利要求8到10中任一项所述的上料装置，设置于所述腔体内。
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Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN117660914B (zh) * 2024-01-31 2024-04-09 山西贝创玻璃制品有限公司 一种红外线灯泡蒸铝镀膜装置

Family Cites Families (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4888281B2 (ja) * 2007-08-29 2012-02-29 日本精工株式会社 電動式パワーステアリング装置
TWI343321B (en) * 2008-11-17 2011-06-11 Kinpo Elect Inc Unidirectional rotation device and unidirectional paper-feeding apparatus using the same
CN101988187B (zh) * 2009-08-07 2012-11-07 沈阳科友真空技术有限公司 一种真空磁控溅射彩镀设备
CN102022453B (zh) * 2010-11-11 2012-04-25 左佳奇 单双向离合机构
GB2490114B (en) * 2011-04-18 2013-06-12 Rolls Royce Plc Rotational assembly
CN106244993B (zh) * 2016-09-13 2019-10-11 宇龙计算机通信科技(深圳)有限公司 一种真空电镀转架及真空镀膜机
CN206511652U (zh) * 2016-12-31 2017-09-22 深圳大宇精雕科技有限公司 吸取装置
CN111809160A (zh) * 2020-07-29 2020-10-23 北航歌尔(潍坊)智能机器人有限公司 工件架旋转系统以及真空镀膜设备

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