CN116157894A

CN116157894A - 质谱分析装置的机差校正方法

Info

Publication number: CN116157894A
Application number: CN202180056975.4A
Authority: CN
Inventors: 金子直树; 大久保达树; 押川伦宪; 小林裕子; 田井中善树; 铃木晃平; 西风隆司
Original assignee: Shimadzu Corp
Current assignee: Shimadzu Corp
Priority date: 2020-08-07
Filing date: 2021-01-06
Publication date: 2023-05-23
Also published as: EP4195237A4; WO2022030032A1; JP7364086B2; US20240266158A1; JPWO2022030032A1; EP4195237A1

Abstract

一种质谱分析中的信号强度比的机差校正方法，包括以下工序：通过质谱分析装置测定包含2个以上的校准物质的校准品，来获得所述校准物质各自的峰信号；求出所述2个以上的校准物质中的一个校准物质的峰信号的强度相对于另一个校准物质的峰信号的强度的峰信号强度比；根据所述峰信号强度比求出校正式；通过所述质谱分析装置测定包含2个以上的分析对象物质的试样，来获得所述分析对象物质各自的峰信号；求出所述2个以上的分析对象物质中的一个分析对象物质的峰信号的强度相对于另一个分析对象物质的峰信号的强度的峰信号强度比；以及使用所述校正式对所述分析对象物质的所述峰信号强度比进行校正。

Description

质谱分析装置的机差校正方法

技术领域

本发明涉及一种使用通过质谱分析获取到的肽比的方法。本发明涉及一种对质谱分析装置的机差进行校正的方法以及对质谱分析装置的机差进行校正的系统。

背景技术

在想要使用质谱分析装置来对物质的存在量进行比较解析的情况下，使用最多的是利用两个峰信号的强度比率的方法。例如，向想要比较的试样中添加固定量的内部标准物质，如有必要则进行预处理，之后对该试样进行质谱分析，对计算测定对象峰相对于内部标准物质的峰的强度比所得到的值进行比较(非专利文献1、2、3)。

作为专利文献，列举有国际公开WO2015/178398(美国公开US2017/0184573)、国际公开WO2017/047529(美国公开US2018/0238909)等。

此外，还能够将由于使用稳定同位素元素而具有不同质量的标记化合物标记于源自各不相同的试样的对象物质，通过质谱分析计算质量不同的对象物质的峰彼此的强度比率，由此来进行半定量的比较解析。在蛋白质组学领域中使用的ICAT(注册商标)法、iTRAQ(注册商标)法相当于这种方法(非专利文献4、5)。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：国际公开WO2015/178398

专利文献2：美国公开US2017/0184573

专利文献3：国际公开WO2017/047529

专利文献4：美国公开US2018/0238909

非专利文献

非专利文献1：Kaneko N,Nakamura A,Washimi Y,Kato T,Sakurai T,Arahata Y,Bundo M,Takeda A,Niida S,Ito K,Toba K,Tanaka K,Yanagisawa K.：Novel plasmabiomarker surrogating cerebral amyloid deposition(代替脑淀粉样沉积的新型血浆生物标记物).Proc Jpn Acad Ser B Phys Biol Sci.2014；90(9):353-364.

非专利文献2：Nakamura A,Kaneko N,Villemagne VL,Kato T,Doecke J,DoréV,Fowler C,Li QX,Martins R,Rowe C,Tomita T,Matsuzaki K,Ishii K,Ishii K,ArahataY,Iwamoto S,Ito K,Tanaka K,Masters CL,Yanagisawa K.：High performance plasmaamyloid-βbiomarkers for Alzheimer's disease(阿尔茨海默病的高效血浆淀粉样蛋白-β生物标记物).Nature.2018；554(7691):249-254.

非专利文献3：Nicol GR,Han M,Kim J,Birse CE,Brand E,Nguyen A,Mesri M,FitzHugh W,Kaminker P,Moore PA,Ruben SM,He T：Use of an immunoaffinity-massspectrometry-based approach for the quantification of protein biomarkers fromserum samples of lung cancer patients(使用基于免疫亲和-质谱的方法对肺癌患者血清样本中的蛋白质生物标记物进行定量分析).Mol Cell Proteomics.2008Oct；7(10):1974-82.

非专利文献4：Han DK,Eng J,Zhou H,Aebersold R：Quantitative profiling ofdifferentiationinduced microsomal proteins using isotope-coded affinity tagsand mass spectrometry(利用同位素编码的亲和标签和质谱法对分化诱导的微粒体蛋白进行定量分析).Nat Biotechnol.2001Oct；19(10):946-51.

非专利文献5：Ross PL,Huang YN,Marchese JN,Williamson B,Parker K,HattanS,Khainovski N,Pillai S,Dey S,Daniels S,Purkayastha S,Juhasz P,Martin S,Bartlet-Jones M,He F,Jacobson A,Pappin DJ：Multiplexed protein quantitation inSaccharomyces cerevisiae using amine-reactive isobaric tagging reagents(使用胺类反应的等压标记试剂在酿酒酵母中进行多重蛋白质定量分析).Mol CellProteomics.2004Dec；3(12):1154-69.

发明内容

发明要解决的问题

在想要使用质谱仪来测定极微量的物质的情况下，确认到下面的现象：即使是相同的机型，机体不同则检测出的峰强度比率也不同。作为对不同机体的峰强度比的差异进行校正的手段之一，列举有如下的绝对定量法。

准备要进行定量的对象物质的标准品和作为强度比的基准的物质(基准物质；一般使用对象物质的稳定同位素标记物质)。通过对将固定浓度的基准物质和调成不同浓度的标准品混合而成的样品进行测定，来制作标准品相对于基准物质的峰强度比的检量线。根据该检量线能够进行对象物质的绝对定量。因而，只要按各装置、各测定制作检量线，则即使不同的装置存在峰强度比率的差异，也能够不受该差异影响地对生物体试样中存在的未知的对象物质进行定量。

但是，该检量线的方法需要标准品。在无法容易地合成标准品的情况下、因对象物质的种类庞大而在时间上、费用上难以准备全部的标准品并进行品质管理的情况下、或是不稳定的标准品的情况下，无法制作检量线。如上所述，质谱分析装置由于机体之间的峰强度比变化，因此在无法制作检量线的情况下，必须用1台机体测定作为比较对象的试样，但即便如此也会发生因机体的使用所致的检测器劣化，因此峰强度比发生变动，从而难以获取一致性的数据。

在质谱分析中，照射激光来使样品离子化。因此，数据会受到质谱分析装置的激光器的状态(基于使用次数等的劣化)的影响。因而，即使在对相同的样品进行测定的情况下，不同的装置之间也存在不小的机差。因此，数据的稳定性不足。

本发明的目的在于提供一种对质谱分析数据的因质谱分析装置的机体而产生的差异进行校正的方法、以及对质谱分析装置的机差进行校正的系统。

用于解决问题的方案

本发明包括下面的方案。

一种质谱分析中的信号强度比的机差校正方法，包括以下工序：

通过质谱分析装置测定包含2个以上的校准物质的校准品，来获得所述校准物质各自的峰信号；

求出所述2个以上的校准物质中的一个校准物质的峰信号的强度相对于另一个校准物质的峰信号的强度的峰信号强度比；

根据所述峰信号强度比求出校正式；

通过所述质谱分析装置测定包含2个以上的分析对象物质的试样，来获得所述分析对象物质各自的峰信号；

求出所述2个以上的分析对象物质中的一个分析对象物质的峰信号的强度相对于另一个分析对象物质的峰信号的强度的峰信号强度比；以及

使用所述校正式对所述分析对象物质的所述峰信号强度比进行校正。

本发明还包括下面的方案。

一种质谱分析装置的机差校正系统，包括：

测定方法制定部，其制定用于计算质谱分析装置的校正值的校准品的测定方法；以及

校正值计算部，其对使用所述测定方法获取到的质谱分析数据进行解析并计算校正值。

发明的效果

根据本发明，能够使用根据校准物质的测定结果求出的校正式，来对分析对象物质的峰强度比进行校正。其结果是，即使通过不同的机体对同一试样进行测定，也能够获得同等的峰强度比。

附图说明

图1示出在对掺入有内部标准肽(SIL-Aβ1-38)的血浆样品(Sample No.1)进行免疫沉淀(IP)后通过3台质谱分析装置(Performance 1、2以及3)测定Aβ和Aβ相关肽所得到的结果。图1的(A)的纵轴示出Aβ或Aβ相关肽相对于SIL-Aβ1-38的各个峰强度比。图1的(B)的纵轴示出Aβ、Aβ相关肽、或SIL-Aβ1-38相对于APP669-711的各个峰强度比。

图2在纵轴示出在对血浆样品(Sample No.1)进行IP后通过3台质谱分析装置(Performance 1、2以及3)测定出的各峰强度比的在装置间的变动系数(CV)。横轴示出通过3台质谱分析装置测定出的平均值。

图3在纵轴示出对在对血浆样品(Sample No.1)进行IP后通过Performance1(标准器)测定出的各峰强度比进行对数变换所得到的值。另外，在横轴示出对通过Performance2或3对相同的样品测定出的各峰强度比进行对数变换所得到的值。在图中示出Performance 2或3的测定值相对于Performance 1(标准器)的测定值的直线回归方程式、以及决定系数(R²)。

图4在纵轴示出在对血浆样品(Sample No.1)进行IP后通过Performance1(标准器)测定出的各峰强度比。另外，在横轴示出通过Performance 2或3对相同的样品测定出的各峰强度比。在图中示出Performance 2或3的测定值相对于Performance 1(标准器)的测定值的乘方近似式、以及决定系数(R²)。

图5示出使用校正式将通过Performance 2和Performance 3测定出的、Aβ或Aβ相关肽相对于内部标准肽(SIL-Aβ1-38)的峰强度比校正为与Performance 1(标准器)同等的峰强度比所得到的值。Performance 2(Cal.)和Performance 3(Cal.)是指该校正所得到的值(calibrated value)。图5的纵轴示出Aβ或Aβ相关肽相对于SIL-Aβ1-38的各个峰强度比。图5中的数值(％)表示Performance 1(标准器)、Performance 2(Cal.)以及Performance 3(Cal.)中的峰强度比的变动系数(CV)。

图6示出在对血浆样品(Sample No.2)进行IP后通过Performance 1、2以及3测定时的、Aβ或Aβ相关肽相对于SIL-Aβ1-38的各个峰强度比。图6的(A)示出使用校正式对通过Performance 2和Performance 3测定出的、Aβ或Aβ相关肽相对于SIL-Aβ1-38的峰强度比进行校正之前的峰强度比，图6的(B)示出校正后的峰强度比。Performance 2(Cal.)和Performance 3(Cal.)是指该校正所得到的值(calibrated value)。图6的(A)和(B)中的数值(％)表示Performance 1(标准器)、Performance 2(Cal.)以及Performance 3(Cal.)中的峰强度比的变动系数(CV)。

图7示出在对血浆样品(Sample No.3)进行IP后通过Performance 1、2以及3测定时的、Aβ或Aβ相关肽相对于SIL-Aβ1-38的各个峰强度比。图7的(A)示出使用校正式对通过Performance 2和Performance 3测定出的、Aβ或Aβ相关肽相对于SIL-Aβ1-38的峰强度比进行校正之前的峰强度比，图7的(B)示出校正后的峰强度比。Performance 2(Cal.)和Performance 3(Cal.)是指该校正所得到的值(calibrated value)。图7的(A)和(B)中的数值(％)表示Performance 1(标准器)、Performance 2(Cal.)以及Performance 3(Cal.)中的峰强度比的变动系数(CV)。

图8示出分开2天(Day1和Day2)对血浆样品(Sample No.1)进行IP-MS所得到的结果。在纵轴示出对每一天中通过Performance 1(标准器)测定出的各峰强度比进行对数变换所得到的值。另外，在横轴示出同样对通过Performance2测定出的各峰强度比进行对数变换所得到的值。在图中示出Performance 2的测定值相对于Performance 1的测定值的直线回归方程式、以及决定系数(R²)。

图9示出分开2天(Day1和Day2)对血浆样品(Sample No.1)进行IP-MS所得到的结果。在纵轴示出对每一天中通过Performance 1(标准器)测定出的各峰强度比进行对数变换所得到的值。另外，在横轴示出同样对通过Performance3测定出的各峰强度比进行对数变换所得到的值。在图中示出Performance 3的测定值相对于Performance 1的测定值的直线回归方程式、以及决定系数(R²)。

图10示出在检测器更换前后的Performance 1号机以及Performance 3号机这3个条件下测定IC-1～IC-5所得到的结果。横轴示出Aβ1-38/SIL-Aβ1-38的量比，纵轴示出Aβ1-38/SIL-Aβ1-38的峰强度比。在图中分别示出乘方近似式。在图10的(A)中示出Performance1号机(检测器更换前)的结果，在图10的(B)中示出Performance 1号机(检测器更换后)的结果，在图10的(C)中示出Performance 3号机的结果。

图11示出在检测器更换前后的Performance 1号机以及Performance 3号机这3个条件下通过IP-MS获取到的、Aβ或Aβ相关肽相对于SIL-Aβ1-38的各个峰强度比。图11的(A)示出使用校正式对Aβ或Aβ相关肽相对于SIL-Aβ1-38的峰强度比进行校正之前的峰强度比，图11的(B)示出校正后的峰强度比。通过a的值固定为1(a＝1)而仅使用b值的方法进行了校正。

图12示出在检测器更换前后的Performance 1号机以及Performance 3号机这3个条件下通过IP-MS获取到的生物标记物的峰强度比、即APP669-711/Aβ1-42以及Aβ1-40/Aβ1-42的各个峰强度比。图12的(A)示出使用校正式对生物标记物的峰强度比进行校正之前的峰强度比，图12的(B)示出校正后的峰强度比。通过a的值固定为1(a＝1)而仅使用b值的方法进行了校正。

图13示出在检测器更换前后的Performance 1号机以及Performance 3号机这3个条件下通过IP-MS获取到的、Aβ或Aβ相关肽相对于SIL-Aβ1-38的各个峰强度比。图13的(A)示出使用校正式对Aβ或Aβ相关肽相对于SIL-Aβ1-38的峰强度比进行校正之前的峰强度比，图13的(B)示出校正后的峰强度比。通过使用a值和b值的方法进行了校正。

图14示出在检测器更换前后的Performance 1号机以及Performance 3号机这3个条件下通过IP-MS获取到的生物标记物的峰强度比、即APP669-711/Aβ1-42以及Aβ1-40/Aβ1-42的各个峰强度比。图14的(A)示出使用校正式进行校正之前的峰强度比，图14的(B)示出校正后的峰强度比。通过使用a值和b值的方法进行了校正。

图15示出Aβ1-40/Aβ1-42比的在b值校正前后的比较。误差条示出三组测定中的标准偏差。

图16示出APP669-711/Aβ1-42比的在b值校正前后的比较。误差条示出三组测定中的标准偏差。

图17是示出Performance 4号机中的检测器电压与校正式的b值的关系的图。纵轴为b值，横轴为检测器电压。

图18是示出Performance 1号机中的检测器电压与校正式的b值的关系的图。纵轴为b值，横轴为检测器电压。

图19是示出Performance 1号机中的AD转换器的基线水平与校正式的b值的关系的图。纵轴为b值，横轴为检测器电压。示出将AD转换器的基线水平设为181和179的情况下的检测器电压与b值的关系。

图20是本发明的质谱分析装置的校正值计算系统的一个实施方式的概要框图。

图21是示出用于计算本发明中的质谱分析装置的校正值的过程的一例的流程图。

图22是在制定测定方法的情况下显示于显示部4的图形用户接口(GUI)的一例。

图23是在计算校正值的情况下显示于显示部4的图形用户接口(GUI)的一例。

具体实施方式

本发明的方法的一个实施方式是一种质谱分析中的信号强度比的机差校正方法，包括以下工序：

根据所述峰信号强度比求出校正式；

下面，对本实施方式进行详细说明。此外，在后述的实施例中，使用图1～图19示出更具体的例子。

[1.分析对象物质]

分析对象物质并没有特别限定，例如能够包含肽、糖肽、糖链、蛋白质、脂质、糖脂质等。在肽、糖肽、糖链、蛋白质、脂质、糖脂质中能够包含各种物质。更具体地说，也可以是Aβ和Aβ相关肽。“Aβ和Aβ相关肽”有时也简单地统称为“Aβ相关肽”。在“Aβ和Aβ相关肽”中包含通过切割淀粉样前体蛋白(Amyloid precursor protein；APP)而产生的Aβ和包含Aβ序列的一部分的肽。在实施例中，示出了使用Aβ和Aβ相关肽的例子。

另外，肽也可以是通过免疫沉淀法(IP)得到的肽。或者，也可以是由肽酶等酶消化蛋白质而生成的肽、或者通过色谱法分出的肽。

在分析对象物质中也可以包含内部标准物质。内部标准物质能够由本领域技术人员适当地选择。例如，也可以使用进行了稳定同位素标记的物质。也可以是分析对象物质中的一个物质使用进行了稳定同位素标记的物质。在实施例中，示出了将用稳定同位素进行了标记的Aβ1-38(SIL-Aβ1-38)用作内部标准物质的例子。SIL是stable isotope-labeled(稳定同位素标记)。

包含分析对象物质的试样被使用于质谱分析中。被使用于质谱分析中的所述试样没有特别限定，例如也可以是源自生物体的试样。源自生物体的试样包括血液、脑脊液(CSF)、尿、身体分泌液、唾液及痰等体液、以及粪便。在血液试样中包括全血、血浆以及血清等。血液试样能够通过对从个体采集的全血进行适当处理而制备。作为在由所采集的全血制备血液试样的情况下进行的处理，没有特别限定，可以进行临床医学上所容许的任何处理。例如能够进行离心分离等。另外，被使用于质谱分析中的血液试样也可以是在其制备工序的中途阶段或制备工序后的阶段适当地进行了冷冻等低温下的保存的试样。此外，在本发明中血液试样等源自生物体的试样被使用于质谱分析中的情况下，该源自生物体的试样被废弃而不会被送回到作为其来源的受验者。

被使用于质谱分析中的所述试样也可以是进行各种预处理之后的试样。例如，也可以是进行免疫沉淀法(IP)之后。也可以是由肽酶等酶消化蛋白质之后。还可以是进行色谱法之后。被使用于质谱分析中的所述试样也可以使用添加了固定量的内部标准物质的试样。

在本实施方式中，也可以预先进行免疫沉淀法之后将通过免疫沉淀法获得的洗脱液使用于质谱分析中(免疫沉淀-质谱分析Immunoprecipitation-mass spectrometry；IP-MS)。免疫沉淀法也可以使用具有能够识别分析对象物质的抗原结合部位的免疫球蛋白、或利用包含能够识别分析对象物质的抗原结合部位的免疫球蛋白片段制作出的抗体固定化载体来进行。

另外，在本实施方式中，也可以是，连续地进行免疫沉淀(ConsecutiveImmunoprecipitation；cIP)，之后用质谱分析装置进行试样中的肽的检测(cIP-MS)。通过连续两次进行亲和纯化，能够通过第二次的亲和纯化来进一步减少仅进行一次的亲和纯化所不能排除的杂质。因此，能够防止因杂质所致的多肽的离子化抑制，即使是生物体试样中的微量的多肽，也能够通过质谱分析来高灵敏度地进行测量。

[2.质谱分析]

质谱分析法没有特别限定，包括基于基质辅助激光解吸离子化(MALDI)质谱分析法、电喷雾离子化(ESI)质谱分析法等的质谱分析法。例如，能够使用MALDI-TOF(基质辅助激光解吸离子化-飞行时间)型质谱分析装置、MALDI-IT(基质辅助激光解吸离子化-离子阱)型质谱分析装置、MALDI-IT-TOF(基质辅助激光解吸离子化-离子阱-飞行时间)型质谱分析装置、MALDI-FTICR(基质辅助激光解吸离子化-傅立叶变换离子回旋共振)型质谱分析装置、ESI-QqQ(电喷雾离子化-三重四极杆)型质谱分析装置、ESI-Qq-TOF(电喷雾离子化-串联四极杆-飞行时间)型质谱分析装置、ESI-FTICR(电喷雾离子化-傅立叶变换离子回旋共振)型质谱分析装置等。

基质以及基质溶剂能够由本领域技术人员根据分析对象物质适当地决定。

作为基质，例如能够使用α-氰基-4-羟基肉桂酸(CHCA)、2,5-二羟基苯甲酸(2,5-DHB)、芥子酸、3-氨基喹啉(3-AQ)等。

作为基质溶剂，例如能够从由乙腈(ACN)、三氟乙酸(TFA)、甲醇、乙醇以及水组成的组中选择并使用。更具体地说，能够使用ACN-TFA水溶液、ACN水溶液、甲醇-TFA水溶液、甲醇水溶液、乙醇-TFA水溶液、乙醇溶液等。ACN-TFA水溶液中的ACN的浓度例如为10体积％～90体积％，TFA的浓度例如可以为0.05体积％～1体积％、优选为0.05体积％～0.1体积％。

基质浓度例如可以为0.1mg/mL～50mg/mL，优选为0.1mg/mL～20mg/mL、或0.3mg/mL～20mg/mL，更优选为0.5mg/mL～10mg/mL。

使用基于MALDI质谱分析的检测系统的情况下，优选结合使用基质添加剂(co-matrix)。基质添加剂能够由本领域技术人员根据分析对象(多肽)和/或基质适当地进行选择。例如，作为基质添加剂，能够使用含膦酸基的化合物。具体地说，作为含有1个膦酸基的化合物，列举有膦酸(Phosphonic acid)、甲基膦酸(Methylphosphonic acid)、苯基膦酸(Phenylphosphonic acid)以及1-萘基甲基膦酸(1-Naphthylmethylphosphonic acid)等。另外，作为含有2个以上的膦酸基的化合物，列举有亚甲基二膦酸(Methylenediphosphonicacid；MDPNA)、亚乙基二膦酸(Ethylenediphosphonic acid)、乙烷-1-羟基-1,1-二膦酸(Ethane-1-hydroxy-1,1-diphosphonic acid)、次氮基三膦酸(Nitrilotriphosphonicacid)以及亚乙基二氨基四膦酸(Ethylenediaminetetraphosphonic acid)等。在上述的含膦酸基的化合物中，优选1个分子中具有2个以上、优选为2个～4个膦酸基的化合物。

含膦酸基的化合物的使用例如在抗体固定化载体表面残留的清洗溶液的金属离子混入到解离工序后的洗脱液中的情况下是有用的。该金属离子在质谱分析中对背景产生不良影响。含膦酸基的化合物的使用具有抑制这种不良影响的效果。

此外，除了上述基质添加剂以外，也可以使用更一般的添加剂、例如从由铵盐和有机碱组成的组中选择的物质。

基质添加剂能够调制成在水中或基质溶剂中为0.1w/v％～10w/v％、优选为0.2w/v％～4w/v％的溶液。基质添加剂溶液和基质溶液例如能够以1:100～100:1、优选为1:10～10:1的体积比进行混合。

[3.校准物质]

在本实施方式中，通过质谱分析装置对2个以上的校准物质进行测定。使用所述校准物质的测定结果，来计算所述质谱分析装置的校正式。

校准物质能够由本领域技术人员适当地决定。例如，可以使用分析对象物质本身，也可以使用与分析对象物质不同的物质。也可以使用进行了稳定同位素标记的物质。还可以使用进行了稳定同位素标记的物质和未进行稳定同位素标记的物质。校准物质也可以使用Aβ和Aβ相关肽。在将Aβ和Aβ相关肽设为分析对象物质的情况下，例如也可以将用稳定同位素进行了标记的Aβ1-38(SIL-Aβ1-38)用作一个校准物质。

校准物质也可以包含1个化合物和对该化合物进行了稳定同位素标记的物质。在质谱分析中，使化合物离子化来进行检测。其离子化效率根据化合物的不同而不同，离子化效率的差异会影响质谱分析测定结果。某个化合物与对该化合物进行了稳定同位素标记的物质的离子化效率相等。因此，通过将它们用作校准物质，能够获得精度更高的校正式。例如，在实施例2中，将Aβ1-38和用稳定同位素进行了标记的Aβ1-38(SIL-Aβ1-38)用作校准物质。

[4.校准品]

校准品为含有校准物质的溶液。在本实施方式中，校准品为含有2个以上的校准物质的溶液。

作为校准品，例如也能够使用含有分析对象物质的试样本身。另外，也能够使用向含有分析对象物质的试样本身添加校准物质所得到的物质。也可以与含有分析对象物质的试样本身分开地制作并使用含有2个以上的校准物质的溶液。

使用所述含有2个以上的校准物质的溶液的测定结果，来计算所述质谱分析装置的校正式。为了计算校正式，需要多个数据。例如，在使用峰信号强度比来计算校正式的情况下，需要峰信号强度比不同的多个数据。

例如，在使用一个校准品计算校正式的情况下，需要使用含有至少3种校准物质的校准品。也可以分别计算相对于1个校准物质的峰信号强度的其它2个以上的校准物质的峰信号强度的比，来获得2个以上的峰信号强度比。

例如，当将校准物质表述为C1、C2、C3时，以C1为基准，分别计算C2/C1、C3/C1的峰强度比。

或者，也可以使用要求出峰信号强度比的校准物质的浓度各不相同的多个校准品。在该情况下，需要使用至少2种校准物质。也可以是，针对各校准品分别计算相对于1个校准物质的峰信号强度的其它校准物质的峰信号强度的比，来获得2个以上的峰信号强度比。

例如，作为校准物质，当将校准物质表述为C1、C2时，针对浓度不同的多个校准品分别计算C2/C1的峰强度比。

也可以使用将1个校准物质的浓度设为固定且使其它校准物质的浓度变化的多个校准品。多个校准品中的要计算峰信号强度比的校准物质的浓度比例如也可以设为1/4～4的范围。例如，也能够使用调整成为1/4、1/2、1、2、4的浓度比的5种校准品溶液。

[5.质谱分析装置中的测定结果的校正]

在本实施方式中，使用通过质谱分析装置对2个以上的校准物质进行测定得到的结果，来计算所述质谱分析装置的校正式。然后，使用计算出的校正式对分析对象物质的测定结果进行校正。本发明中的校正的方法包括使用与标准器之间的校正式进行校正的方法。另外，包括使用存在量已知的校准物质对质谱分析中的测定结果进行标准化的方法。

针对每个质谱分析装置计算校正式。即使是同一个质谱分析装置，在进行了检测器等部件更换的情况下、变更了检测器电压等装置设定的情况下，也优选重新计算校正式。另外，也可以定期地进行校正式的计算。由此，能够发现质谱分析装置的检测器等的劣化、故障并得到排除其影响后的测定结果。因而，不论质谱分析装置的机体、条件如何，都能够高精度地比较评价多个试样间的分析对象物质的存在比。

更优选的是，在进行分析对象物质的测定时，以与该测定的装置条件相同的装置条件测定校准物质，并计算校正式。能够使用与分析对象物质的测定相同的条件下的校正式，从而校正的精度进一步提高。因而，不论质谱分析装置的机体、条件如何，都能够更高精度地比较评价多个试样间的分析对象物质的存在比。

[5-1.使用与标准器之间的校正式进行的校正]

[5-1-1.校正式的计算]

在标准器中，对含有2个以上的校准物质的校准品溶液进行测定，获得各校准物质的峰信号强度。分别计算相对于1个校准物质的峰信号强度的其它各个校准物质的峰信号强度的比。

作为标准器，优选使用可靠性高的质谱分析装置。各使用者能够任意地对要作为标准器使用的质谱分析装置进行设定。

在要计算校正式的质谱分析装置中，对所述含有2个以上的校准物质的校准品溶液进行测定，获得各校准物质的峰信号强度。分别计算相对于一个校准物质的峰信号强度的其它1个以上的校准物质的峰信号强度的比。

在标准器的峰信号强度比与要计算校正式的质谱分析装置的峰信号强度比之间计算回归方程式。在回归方程式的计算中，可以适当地使用最小二乘法等公知的方法。在回归方程式的计算中，也可以使用峰信号强度比的对数。回归方程式可以从线性、多项式、指数、对数、或乘方中适当地选择。

例如，能够使用将峰信号强度比进行对数变换所得到的值来计算直线回归方程式。另外，例如，能够使用峰信号强度比来计算乘方回归方程式。将计算出的回归方程式设为该质谱分析装置的校正式。

例如，将要计算校正式的质谱分析装置的峰信号强度比的对数设为x，将标准器的峰信号强度比的对数设为y，能够计算直线回归方程式(y＝ax+b)的校正系数a和b。能够将计算出的直线回归方程式(y＝ax+b)用作该质谱分析装置的校正式。

或者，也可以将要计算校正式的质谱分析装置的峰信号强度比设为x，将标准器的峰信号强度比设为y，计算乘方回归方程式(y＝ax^b)的校正系数a和b。能够将计算出的乘方回归方程式(y＝ax^b)用作该质谱分析装置的校正式。

认为校正系数a和b是该质谱分析装置所固有的值。因而，可以是根据质谱分析装置的机体、其装置条件而不同的值。另外，由于校正系数b是比校正系数a更大地受到质谱分析装置的机体、其装置条件影响的系数，因此例如也可以是在乘方回归方程式(y＝ax^b)中，a使用a＝1的固定值，仅b值采用计算出的校正系数。也就是说，也可以代替乘方回归方程式(y＝ax^b)而将y＝x^b用作校正式。像这样，在校正系数仅采用b的情况下，将b值称为校正值。

[5-1-2.分析对象物质的测定和校正]

在5-1-1.中计算出校正式的质谱分析装置中，对含有分析对象物质的试样进行测定，获得分析对象物质的峰信号强度。将分析对象物质中的1个分析对象物质(例如，内部标准物质)作为基准，计算其它分析对象物质的峰信号强度相对于设为基准的该分析对象物质的峰信号强度之比。

使用上述5-1-1.中所计算出的校正式对计算出的峰信号强度比进行校正。校正后的峰信号强度比成为与标准器之间的机体差异被消除的值。即，成为与在由标准器测定的情况下得到的峰信号强度比同等的值。因而，只要使用校正后的峰信号强度比，则不论质谱分析装置的机体如何，都能够比较评价多个试样间的分析对象物质的峰信号强度比、即分析对象物质的存在比。

[5-2.将峰信号强度比进行标准化的校正(强度比校准)]

[5-2-1.校正式的计算]

能够使用2个校准物质的浓度比已知的多个校准品溶液来计算将峰信号强度比进行标准化的校正式。

使用2个校准物质的浓度比已知的多个校准品溶液(强度比校准品；IC)。也可以使用1个校准物质以固定浓度存在且另外1个校准物质的浓度不同的多个溶液。例如，也可以使用以将SIL-Aβ1-38设为固定浓度且使Aβ1-38相对于SIL-Aβ1-38的浓度比成为1/4、1/2、1、2、4的方式调制而成的溶液。

通过要计算校正式的质谱分析装置对2个校准物质的浓度比已知的多个校准品溶液(强度比校准品；IC)进行测定，获得各溶液中的各校准物质的峰信号强度。针对各溶液，分别计算相对于固定浓度的校准物质的峰信号强度的另一校准物质的峰信号强度之比。

在各校准品溶液中的2个校准物质的已知的浓度比与上述计算出的峰信号强度比之间计算回归方程式。在回归方程式的计算中，可以适当地使用最小二乘法等公知的方法。在回归方程式的计算中，也可以使用峰信号强度比的对数。回归方程式可以从线性、多项式、指数、对数、或乘方中适当地选择。

例如，能够使用峰信号强度比的对数来计算直线回归方程式。另外，例如，能够使用峰信号强度比来计算乘方回归方程式。将计算出的回归方程式设为该质谱分析装置的校正式。

例如，将各溶液中的2个校准物质的已知的浓度比的对数设为x，将要计算校正式的质谱分析装置的峰信号强度比的对数设为y，能够计算直线回归方程式(y＝ax+b)的校正系数a和b。能够将计算出的直线回归方程式(y＝ax+b)用作该质谱分析装置的校正式。

或者，也可以将各溶液中的2个校准物质的已知的浓度比设为x，将要计算校正式的质谱分析装置的峰信号强度比设为y，来计算乘方回归方程式(y＝ax^b)的校正系数a和b。能够将计算出的乘方回归方程式(y＝ax^b)用作该质谱分析装置的校正式。

[5-2-2.分析对象物质的测定和校正]

在5-2-1.中计算出校正式的质谱分析装置中，对含有分析对象物质的试样进行测定，获得分析对象物质的峰信号强度。将分析对象物质中的1个分析对象物质(例如，内部标准物质)作为基准，计算其它分析对象物质的峰信号强度相对于设为基准的该分析对象物质的峰信号强度之比。

使用上述5-2-1.中所计算出的校正式对计算出的峰信号强度比进行校正。通过校正，分析对象物质的峰信号强度比被变换为用校准物质进行了标准化的峰信号强度比。所得到的标准化的峰信号强度通过校正式而被消除了机体差异。因而，不论质谱分析装置的机体如何，都能够比较评价多个试样间的分析对象物质的存在比。即，不只是日本，还能够与美国、法国以及其它国家的质谱分析测定结果直接进行比较。另外，该校正能够应用于各种使用质谱分析的研究、检查，是通用性高的技术。

[5-2-3.校正值和装置条件]

如上所述，在本实施方式中，通过在分析对象物质的测定所使用的质谱分析装置以及其装置条件下计算校正式并进行校正，如上述那样，不论质谱分析装置的机体或装置条件如何，都能够比较评价多个试样间的分析对象物质的存在比。

在强度比校准的校正式的建立中，能够使用2个校准物质的浓度比已知的多个校准品溶液，例如以将SIL-Aβ1-38设为固定浓度且使Aβ1-38相对于SIL-Aβ1-38的浓度比成为1/4、1/2、1、2、4的方式调整而成的5种溶液。在各个溶液的质谱中出现固定量的SIL-Aβ1-38的峰和Aβ1-38的与浓度相应的峰。理想的是，应当成为与各校准品溶液中的浓度比相应的峰强度比。但是，由于该峰强度比根据装置状态而变动，因此以使峰强度比与各校准品溶液中的浓度比一致的方式计算校正式，来进行检查体测定结果的校正。由此消除装置的机差。

校正式根据质谱分析装置的机体而不同。另外，即使是同一个质谱分析装置，在进行了检测器等部件更换的情况下、变更了检测器电压等装置设定的情况下，质谱分析装置的状态也会不同，因此根据装置的状态而校正式各不相同。另外，即使在由于检测器的劣化等而装置的状态发生了变化的情况下，校正式也可能变化。

例如，由于检测器的劣化等装置条件的影响，在对相同的试样进行测定的情况下，由质谱分析装置检测出的峰信号强度比会变大。认为这是由于，存在量小的校准品物质的峰信号因检测器的劣化等装置条件的影响而变小。在质谱分析装置中，如果峰信号强度变得过小，则从S/N比的观点出发，测定精度一般会降低。因而，在质谱分析装置中，优选的是峰信号强度不会过小。

例如，在5-2-1.中求出乘方回归方程式(y＝ax^b)的情况下，当由于一些装置条件的影响而导致由质谱分析装置检测的峰信号强度变小时，校正式中的校正值b值变大。因而，若使该b值处于某个固定的范围，则峰信号强度不会过小，质谱分析装置的测定精度进一步提高，校正的精度也进一步提高。

能够通过使质谱分析装置的检测灵敏度变化来使b值变动。b值例如能够通过变更检测器电压来控制。另外，例如也能够通过变更模拟数字(Analog digital；AD)转换器的基线水平来使b值变化。

根据本实施方式，通过使用校正式对分析对象物质的峰信号强度比进行校正，由此不论质谱分析装置的机体或装置条件如何，都能够比较评价多个试样间的分析对象物质的存在比。另外，通过以使校正式中的校正系数的值处于某个固定的范围的方式调整装置条件，能够更高精度地对分析对象物质的峰信号强度比进行校正。

[6.质谱分析装置的校正值计算系统和程序]

本发明的一个实施方式的质谱分析装置的机差校正系统包括：

另外，本发明的一个实施方式的质谱分析装置的机差校正用程序包括使计算机执行以下步骤：

测定方法制定步骤，制定测定方法，所述测定方法对用于计算质谱分析装置的校正值的样品进行测定；以及

校正值计算步骤，对使用所述测定方法获取到的质谱分析数据进行解析并计算校正值。

下面，参照附图来对本发明的质谱分析装置的机差校正系统以及机差校正用程序的一个实施方式进行说明。本实施方式的质谱分析装置的校正值计算系统以及校正值计算用程序计算用于进行上述5-2.所记载的将峰信号强度比进行标准化的校正(强度比校准)的校正值。

图20是本实施方式的质谱分析装置的校正值计算系统的概要框图。如图20所示，本系统具备对试样执行测定的质谱分析部1、进行测定执行前后的数据处理的数据处理部2、以及作为用户接口的输入部3及显示部4。数据处理部2作为功能模块而包括：测定方法制定部20，其制定对用于计算质谱分析部1的校正值的样品进行测定的测定方法；以及校正值计算部21，其对由质谱分析部1获得的质谱数据进行解析并计算校正值。

质谱分析部1没有特别限定，包括基于基质辅助激光解吸离子化(MALDI)质谱分析法、电喷雾离子化(ESI)质谱分析法等的质谱分析法。例如，能够使用MALDI-TOF(基质辅助激光解吸离子化-飞行时间)型质谱分析装置、MALDI-IT(基质辅助激光解吸离子化-离子阱)型质谱分析装置、MALDI-IT-TOF(基质辅助激光解吸离子化-离子阱-飞行时间)型质谱分析装置、MALDI-FTICR(基质辅助激光解吸离子化-傅立叶变换离子回旋共振)型质谱分析装置、ESI-QqQ(电喷雾离子化-三重四极杆)型质谱分析装置、ESI-Qq-TOF(电喷雾离子化-串联四极杆-飞行时间)型质谱分析装置、ESI-FTICR(电喷雾离子化-傅立叶变换离子回旋共振)型质谱分析装置等。

数据处理部2实际例如是通用的个人计算机、或更高性能的工作站。可以是单体，也可以是由多台构成的计算机系统。通过在这样的计算机中安装专用的数据处理用程序并使该计算机动作，来实现本实施方式。另外，输入部3通常是附设于计算机的键盘、鼠标等指示设备。另外，显示部4通常是附设于计算机的监视器。

在质谱分析装置中，根据机体、装置条件的不同，即使在对相同的试样进行测定的情况下，测定结果有时也会不同。为了消除因该机体、装置条件所引起的差异，如5-2.所记载的那样进行校正。

测定方法制定部20自动地制定用于计算校正值的校准品的测定方法。按照由测定方法制定部20制定的测定方法，由质谱分析部1对样品进行测定。测定方法制定部20还包括设定部201。设定部201设定在所述校准品的测定中使用的激光功率值。

校正值计算部21对由质谱分析部1测定出的质谱数据进行解析，使用峰信号强度比计算校正值。

接着，使用图20和图21，详细地说明使用本实施方式的质谱分析装置的校正值计算系统以及校正值计算用程序进行的测定。图21是示出用于计算质谱分析装置的校正值的过程的流程图。

使用者准备在质谱分析装置的校正值计算中使用的样品。作为样品，使用内部标准物质与目标物质的浓度之比逐渐地不同的5种样品(IC1～IC5)。作为一例，使用该浓度之比(内部标准物质的浓度:目标物质的浓度)在IC-1中为1:4、在IC-2中为1:2、在IC-3中为1:1、在IC-4中为1:0.5、在IC-5中为1:0.25的样品。

使用者接下来自动制定测定方法。在图22中示出在制定测定方法的情况下显示于显示部4的图形用户接口(GUI)的例子。在GUI中包括数据集名称输入部和样品板显示部。使用者通过输入部5进行操作来输入数据集名称，按下文件创建按钮(S1)。

测定方法制定部20制定被输入的数据集名称的测定方法(S2、测定方法制定步骤)。具体地说，为了设定在测定方法中使用的质谱分析装置的激光功率值，预先计算激光功率值。并且，决定各样品IC1～IC5的样品滴加位置。测定方法制定部20使激光功率显示于在显示部4上显示的GUI，另外，使IC1～IC5的样品滴加位置示出在GUI的样品板显示部。

能够通过公知的各种方法进行激光功率的计算。

例如通过下面的方法来进行。例如，能够使用具有如下步骤的激光功率的调整方法：测定步骤，针对同一试样，使激光功率以n个等级(n为3以上的整数)变化，并获取源自该试样中的特定成分的离子的信号强度；以及处理步骤，在对所述测定步骤中得到的n个信号强度或作为根据该信号强度求出的SN比的信号值与激光功率之间的关系进行绘制而得到的2轴的曲线图中，分别计算将在激光功率轴向上相邻的两个绘制点连结而成的直线的斜率，针对每个绘制点，求出反映了作为其前方侧的直线的斜率的前斜率值与作为后方侧的直线的斜率的后斜率值之比的指标值，利用该指标值选定适当的激光功率。

此外，计算出的激光功率也可以是根据样品板的孔的不同而不同的值。例如，针对滴加通过本测定方法进行测定并在校正值的计算中使用的样品IC1～IC5的孔(校准品孔)计算出的激光功率也可以是与在要分析的实际试样的测定所使用的孔(样品孔)中使用的激光功率不同的值。例如，也可以使在校准品孔中使用的激光功率比在样品孔中使用的激光功率低10。

能够通过公知的各种方法进行样品滴加位置的决定。

所决定的样品滴加位置如图22例示的那样被显示于样品板显示部。在图22中，例如能够决定为从最上部的右端起滴加IC-1、IC-2、IC-3、IC-4、IC-5。

使用者将各校准品IC1～IC5滴加到显示部4所示出的样品滴加位置，并开始测定。质谱分析部1在规定的条件下对各校准品进行测定(S3)。

当测定结束时，使用者进行校正值的计算的操作。在图23中示出在计算校正值的情况下显示于显示部4的图形用户接口(GUI)的例子。使用者通过输入部5进行操作来选择所述数据集名称，按下解析按钮。

校正值计算部21对在所选择的所述数据集名称下由质谱分析部1测定出的质谱数据进行解析(S4)，计算校正值(S5)。校正值计算步骤包括S4和S5。在校正值的计算中，例如能够使用上述的[5.质谱分析装置中的测定结果的校正]所记载的方法。

具体地说，分别计算各样品IC1～IC5中的目标物质的峰信号强度相对于内部标准物质的峰信号强度之比。能够在各溶液中的目标物质相对于内部标准物质的浓度比与上述计算出的峰信号强度比之间计算乘方回归方程式(y＝ax^b)。将计算出的回归方程式的校正系数b作为校正值b值进行输出。校正值b值被显示于显示部4的GUI上。

使用者之后通过质谱分析部1对要分析的试样进行测定，获得使用b值校正后的测定结果。

实施例

下面示出实施例来对本发明进行具体说明，但是本发明并不受限于这些实施例。

通过3台质谱分析装置(均为相同的机型：Performance)对多个种类的肽进行测定，来调查机体间的峰强度比的差异。其结果发现，峰强度比的对数在装置之间具有线性的关系。确认出，基于在机体之间所得到的测定值的对数，能够建立直线的回归方程式并对峰强度比进行校正。另外，确认出，由于峰强度比的对数为线性的关系，因此在不进行对数变换的情况下具有幂(乘方)关系，因此通过建立幂(乘方)回归方程式(乘方近似式)也能够对峰强度比进行校正。

为了成为更实用的方法，准备了包含稳定同位素标记物质(浓度固定)和未标记的相同物质(多个不同的浓度)的强度比校准用的试样。通过质谱分析装置对该试样进行测定，根据其强度比和量比建立乘方近似式的校正式，使用该校正式来校正对象物质的峰强度比。

使用回归方程式对各机体所获得的峰强度比进行了校正。通过该校正，即使通过不同的机体对同一试样进行测定，也能够获得同等的峰强度比。另外，对由于检测器更换、电压变更、劣化而变动的峰强度比，也具有校正的效果。无需针对各对象物质准备稳定同位素物质，通过一种稳定同位素物质就能够进行对象物质量的比较评价。

该方法不限于通过IP得到的肽，也能够使用于通过肽酶等酶消化蛋白质而生成的肽、通过色谱法分出的肽。另外，不限于肽，也能够利用于糖肽、糖链、脂质。

下面示出实施例的更具体的内容。

[实施例1：用于使峰强度比在一台装置中一致的校正方法]

[1-1血浆中的Aβ和Aβ相关肽的测定]

在本实施例中，作为分析对象物质的Aβ和Aβ相关肽如下面那样制备。

针对血浆样品(Sample No.1)，使用SIL-Aβ1-38作为内部标准肽进行了免疫沉淀-质谱分析(Immunoprecipitation-mass spectrometry：IP-MS)。

首先，将0.5μL的基质溶液(0.5mg/mLα-氰基-4-羟基肉桂酸：CHCA，0.2％(w/v)亚甲基二膦酸：MDPNA)添加到μFocus MALDI plate^TM 900μm的孔上并进行干燥。

如下面那样实施IP。用OTG-甘氨酸缓冲液(1％正辛基-β-D-硫代葡糖苷(OTG)，50mM甘氨酸，pH2.8)将使抗Aβ单克隆抗体(克隆6E10和4G8)固定于磁珠上所得到的抗体固定化磁珠清洗2次，用100μL的清洗缓冲液清洗3次。将包含10pM SIL-Aβ1-38(AnaSpec,SanJose,CA,USA)的结合缓冲液(0.2％(w/v)正十二烷基-β-D-麦芽糖苷(DDM)，0.2％(w/v)正壬基-β-D-硫代麦芽糖苷(NTM)，800mM GlcNAc，100mM Tris-HCl，300mM NaCl，pH7.4)250μL与血浆样品250μL混合之后，添加先前的抗体固定化磁珠，在4℃下孵育1小时，由此捕捉到Aβ和Aβ相关肽。之后，用清洗缓冲液(500μL、或100μL)清洗1次，用清洗缓冲液100μL清洗4次，之后，用50mM乙酸铵(50μL、或20μL)清洗2次。再用H₂O(30μL、或20μL)清洗1次之后，用包含5mM盐酸的70％乙腈5μL洗脱被抗体固定化磁珠捕捉到的Aβ和Aβ相关肽。向添加有基质的μFocus MALDI plate^TM 900μm上的4个孔中各滴加1μL的洗脱液。使用3台AXIMA Performance(Shimadzu/KRATOS，Manchester，UK)，通过正离子模式的线性TOF(Linear TOF)对其进行测定。通过光栅模式对400个位置的各个点各累积40次来获取质谱。定量值使用将在4个孔中测定出的谱中的各Aβ和Aβ相关肽相对于内部标准肽(SIL-Aβ1-38)的峰强度比进行平均所得到的值。检测界限被设定为S/N＝3，检测界限以下的峰设为不能检测。在表1中示出所测定出的Aβ和Aβ相关肽的氨基酸序列。

[表1]

[1-2装置间的峰强度比的比较解析]

在图1的(A)中示出血浆样品(Sample 1)的通过IP-MS得到的、Aβ或Aβ相关肽相对于内部标准肽(SIL-Aβ1-38)的峰强度比。使用3台相同机型的质谱分析装置(Performance1～3)对相同的样品进行了测定，但大部分的Aβ和Aβ相关肽的峰强度比在3台间为不同的结果。Aβ1-40的变动系数(CV)为48.7％，Aβ1-42的CV示出54.0％，确认3台之间的差异特别大。另一方面，Aβ6-40的CV示出3.8％，3台之间得到了大致相同的结果。Aβ6-40的峰强度比离1近，但Aβ1-40、Aβ1-42的峰强度比离1远。这表示具有如下的倾向：峰强度比离1越近则3台之间的差异越小，离1越远(也就是说，比1小得越多、或比1大得越多)则3台之间的差异越大。

并且，Aβ、Aβ相关肽、或SIL-Aβ1-38相对于APP669-711的峰强度比也同样具有如下的倾向：峰强度比离1越近则3台之间的机体差异越小，离1越远则3台之间的差异越大(图1的(B))。

在图2中示出通过3台质谱分析装置测定出的、Aβ或Aβ相关肽相对于内部标准肽(SIL-Aβ1-38)的峰强度比、Aβ、Aβ相关肽或SIL-Aβ1-38相对于APP669-711的峰强度比的平均值、以及CV。如该图中所明确的那样，峰强度比离1越近则3台之间的CV越小，峰强度比离1越远则3台之间的CV越大。

在解析3台之间的峰强度比的差异是否存在一些规则时，示出了将峰强度比变换为对数所得到的值在各机体之间具有线性关系(图3)。Performance 1与Performance 2之间的回归直线以及Performance 1与Performance 3之间的回归直线的决定系数均为R²≥0.985，因此确认出它们的直线性良好。各机体之间的直线回归方程式如下述那样。

Performance 1与Performance 2之间的直线回归方程式为：

y＝1.282x+0.045。

在此，x为将Performance 2中的峰信号强度比进行对数变换所得到的值，y为将Performance 1中的峰信号强度比进行对数变换所得到的值。

Performance 1与Performance 3之间的直线回归方程式为：

y＝1.981x+0.081。

在此，x为将Performance 3中的峰信号强度比进行对数变换所得到的值，y为将Performance 1中的峰信号强度比进行对数变换所得到的值。

此外，虽然完全相同，但若是未进行对数变换的值，则机体之间的关系通过乘方近似式来表示(图4)。

Performance 1与Performance 2之间的乘方近似式为：

y＝1.108x^1.282。

在此，x为Performance 2中的峰信号强度比的值，y为Performance 1中的峰信号强度比的值。

Performance 1与Performance 3之间的乘方近似式为：

y＝1.204x^1.981。

在此，x为Performance 3中的峰信号强度比的值，y为Performance 1中的峰信号强度比的值。

调查了在将Performance 1作为标准器的情况下，通过使用这些回归方程式是否能够将由Performance 2和Performance 3测定出的Aβ或Aβ相关肽相对于内部标准肽(SIL-Aβ1-38)的峰强度比校正为与标准器(Performance 1)同等的峰强度比。通过将由Performance 2和Performance 3测定出的峰强度比代入到上述直线回归方程式的x而求出y来进行校正(图5)。将校正后的值分别表示为Performance 2(Cal.)和Performance 3(Cal.)。其结果是，全部的肽在3台之间的差异变小，CV也变低。无论使用对数变换值的直线回归方程式，还是使用乘方近似式，校正后的值都分别为相同的值。

其结果表明，即使由不同的质谱分析装置对相同的样品进行测定，通过用校正式对峰强度比进行校正，也能够得到相同的峰强度比。换言之，表明该校正式能够排除由于质谱分析装置的机体的差异而产生的峰强度比的误差(机差)。

作为峰强度比的对数在各机体之间具有线性的关系的原因，认为是质谱分析的检测器所使用的二次电子倍增管(Secondary Electron Multiplier；SEM)使离子的电信号呈指数函数地放大从而获得了大的信号。

[1-3校正式的妥当性验证]

为了调查在1-2中建立的校正式是否也能够应用于其它样品，针对与在上述的1-1中所使用的样品不同的血浆样品(Sample No.2和No.3)进行IP-MS，并比较校正前与校正后的峰强度比。通过与1-1相同的方法实施IP-MS，校正式使用在1-2中计算出的针对峰强度比的对数变换值的直线回归方程式。其结果确认出，Sample No.2和No.3均通过进行校正从而在3台之间能够得到同等的峰强度比(图6、图7)。也存在根据机体的不同而检测灵敏度不够的肽，关于该情况下的检测界限以下的数据，表示为ND(Not detectable(不能检测))。

这些结果表明，通过使用在1-2中建立的校正式进行校正，无论是哪个样品(Sample No.1、No.2以及No.3)，在通过3台各自的机体进行的测定中都导出同等的峰强度比，证明了该校正式的妥当性。

[1-4校正式的再现性验证]

对在1-2中建立的校正式的再现性进行验证。在与1-1不同的日子，以与1-1同样的过程实施IP-MS，建立校正式(针对对数变换值的直线回归方程式)(图8、图9)。将实施了1-1的日子称为Day1，将重新建立校正用回归方程式(针对对数变换值的直线回归方程式)的日子称为Day2。在Day1和Day2得到的各机体间的校正式如表2那样。

[表2]

通过协方差分析(ANCOVA)来验证在Day1和Day2得到的各机体间的校正式是否相同。首先，在ANCOVA的4组检验中设定p<0.05为统计学上显著并进行解析时，斜率示出p<0.0001。由此证明4组之间在统计学上显著不同。

接着，通过ANCOVA进行4组的成对比较(表3)。在该情况下，会实施4次检验，因此进行Bonferroni的调整，设定p<0.0125统计学上显著。首先，进行回归方程式的斜率的检验，如果没有发现明显的差异，则接下来进行回归方程式的截距的检验。其结果是，在Performance 2(Day1)vs Performance3(Day1)与Performance 2(Day2)vs Performance 3(Day2)这两组的比较中，证明了回归方程式不同，在Performance 2(Day1)vs Performance2(Day2)与Performance 3(Day1)vs Performance 3(Day2)这两组的比较中，证明了回归方程式相同。这些结果表明，校正式根据机体而存在固有的回归方程式，只要装置的状态不因检测器的劣化等而变化，回归方程式就不会根据测定的日期而变动。

[表3]

[实施例2：将峰强度比进行标准化来进行校正的方法]

[2-1血浆中的Aβ和Aβ相关肽的测定]

利用将使用抗Aβ单克隆抗体的免疫沉淀(IP)与质谱分析(MS)组合的IP-MS来测定人血浆中的Aβ相关肽。在IP中，使抗Aβ抗体克隆6E10(BioLegend)与作为磁珠的DynabeadsEpoxy(Thermo Fisher Scientific)共价结合，从而使用抗体磁珠。将血浆250μL与含有内部标准肽的反应溶液250μL混合，并与抗体磁珠混合，在4℃下进行1小时的抗原抗体反应(1st IP)。内部标准(internal standard)肽使用11pM稳定同位素标记(SIL)Aβ1-38。在抗原抗体反应后，清洗抗体磁珠，使用1st IP洗脱液(包含DDM的甘氨酸缓冲液(pH2.8))对Aβ相关肽进行洗脱。在用包含DDM的Tris缓冲液恢复至中性之后，再次用抗体磁珠与Aβ相关肽进行抗原抗体反应(2nd IP)，清洗后，用2nd IP洗脱液(5mM HCl，0.1mM甲硫氨酸，70％(v/v)乙腈)对Aβ相关肽进行洗脱。向预先滴加0.5mg/mL CHCA/0.2％(w/v)MDPNA0.5μL并进行了干燥的μFocus MALDI plate^TM900μm(Hudson Surface Technology，Inc.，Fort Lee，NJ)的4个孔上滴加IP后的洗脱液并进行干燥。

质谱数据是使用AXIMA Performance(Shimadzu/KRATOS，Manchester，UK)通过正离子模式的线性TOF而获取到的。线性TOF的m/z值用峰的平均质量来表示。m/z值是使用人血管紧张素II(human angiotensin II)以及人ACTH片段18-39(human ACTH fragment 18-39)、牛胰岛素氧化β链(bovine insulin oxidized beta-chain)、牛胰岛素(bovineinsulin)作为外部标准进行校准得到的。通过光栅模式对400个位置的各个点各累积40次来获取质谱。定量值使用将在4个孔中测定出的谱中的各Aβ和Aβ相关肽相对于内部标准肽(SIL-Aβ1-38)的峰强度比进行平均所得到的值。检测界限被设定为S/N＝3，检测界限以下的峰设为不能检测。

[2-2强度比校准品(IC)测定]

以表4的组成制备5种用于对通过IP-MS获取到的各Aβ和Aβ相关肽相对于SIL-Aβ1-38的峰强度比进行校正的强度比校准品(Intensity ratio Calibrant；IC)试剂的浓缩液，并冷冻保存。在MS测定前，将IC-1～IC-5浓缩液解冻，用2-1的2nd IP洗脱液(5mM HCl，0.1mM甲硫氨酸，70％(v/v)乙腈)稀释10倍制成IC-1～IC-5，向预先滴加0.5mg/mL CHCA/0.2％(w/v)MDPNA0.5μL并进行了干燥的μFocus MALDI plate^TM900μm上的4个孔中滴加IC-1～IC-5各1μL并进行干燥。在表5中示出IC-1～IC-5的蛋白质/肽组成。IC-1～IC-5中的Aβ1-38相对于SIL-Aβ1-38的量比分别设为4、2、1、1/2、1/4。

[表4]

[表5]

IC-1～IC-5各自的质谱数据是通过与2-1同样的方法获取到的。

[2-3强度比校正]

在检测器更换前后的Performance 1号机以及Performance 3号机这3个条件下，实施了人血浆的IP-MS以及IC-1～IC-5的测定。

根据IC-1～IC-5的质谱的Aβ1-38相对于SIL-Aβ1-38的强度比和量比建立了乘方近似式(图10)。如图10所示，根据机体的状态不同，即使是相同的存在量比，峰强度比也不同，因此乘方近似式也不同。通过使各个乘方近似式与y＝x一致来进行校正处理。

乘方近似式：y＝ax^b

在此，x为Aβ1-38/SIL-Aβ1-38的量比，y为Aβ1-38/SIL-Aβ1-38的峰强度比，a和b为近似式中的系数。

在图10的(A)中，

y＝1.0032x^1.0402。

在图10的(B)中，

y＝1.0413×^0.8182。

在图10的(C)中，

y＝1.0353×^0.7714。

如图4、图10所示，乘方近似式的a值不根据机体的状态而改变，但b值受到机体的条件的影响大，因此通过使用IC测定所得到的a值和b值进行校正的方法、以及a值固定为1(a＝1)且仅使用b值进行校正的方法这两种方法进行评价。

根据IP-MS的质谱分别计算Aβ或Aβ相关肽相对于SIL-Aβ1-38的峰强度比，将强度比应用于IC曲线、即使用IC-1～IC-5的测定结果计算出的乘方近似式来进行校正。具体地说，通过将IP-MS的峰强度比代入到y中而求出x，来进行用于与y＝x一致的操作。计算峰强度比的4次测定数据(n＝4)的平均值并使用于解析中。

在图11中示出利用乘方近似式的a的值固定为1(a＝1)且仅使用b值进行校正的方法校正所得到的结果。Aβ或Aβ相关肽相对于SIL-Aβ1-38的峰强度比通过基于乘方近似式的校正而使3个条件之间的差异变小，变动系数(CV)从校正前16.8％～21.5％变小为校正后3.9％～13.6％。

另外，对作为生物标记物而发挥功能的APP669-711/Aβ1-42和Aβ1-40/Aβ1-42也进行了评价。在校正前的阶段中，在两个峰强度的差小、强度比接近1、因此CV也非常小的APP669-711/Aβ1-42中看不出效果，但是在强度比大的Aβ1-40/Aβ1-42中，校正前为41.1％的CV在校正后变为8.0％(图12)。

此外，即使在使用a值和b值进行校正的方法中，也确认到3个条件之间的Aβ或Aβ相关肽相对于SIL-Aβ1-38的峰强度比的CV变小的效果，对于生物标记物也得到与设为a＝1的方法完全相同的结果(图13、图14)。

以上结果表明，通过本校正方法，具有使装置间的峰强度比的偏差变小的效果。另外表明，由于a值不根据机体的状态而变化，因此即使在仅将b值用作校正值的情况下，也能够得到装置间的峰强度比的偏差变小的效果。实施例2的方法通过乘方近似式将峰强度比进行标准化，因此无需将特定的机体作为标准器就能够应用。

[2-4强度比校正的验证]

对在标准血浆中掺入3种Aβ肽(Aβ1-40、Aβ1-42以及APP669-766)和内部标准肽所得到的样品进行IP处理，用3台AXIMA-Performance与IC试剂一起进行了测定。进行测定的机体和检测器电压、以及根据IC测定的结果计算出的b值如表6那样。

[表6]

此外，由于b值与检测器电压具有相关性，因此能够通过检测器电压来调整b值。

从所得到的质谱中读取Aβ1-40、Aβ1-42以及APP669-766相对于内部标准的强度比，在不用b值校正该强度比的情况下，将生物标记物(APP669-711/Aβ1-42和Aβ1-40/Aβ1-42)进行比较。

图15是Aβ1-40/Aβ1-42比的校正前后的比较。校正前的数据在3台中的偏差大，并且，在1台中变更了检测器电压的情况下偏差也大。能够确认到，通过使用b值进行校正，3台的偏差被抑制，在一台中变更了检测器电压时，肽比也保持恒定。

图16是APP669-711/Aβ1-42比的校正前后的比较。APP669-711/Aβ1-42比的强度差小，即使在校正前，3台间的偏差以及在1台中变更了检测器电压的情况下的偏差也小。但是，能够确认到，通过使用b值进行校正，偏差被抑制得更低。

下面的表7是着眼于b值对数据进行分类并计算各Aβ肽比的CV而得到的。

[表7]

“总体”示出通过全部的6个条件测定所计算出的CV。

“在1个机体内变更检测器电压”示出在P1号机中变更检测器电压而获取到的三个条件下的CV。

“3个机体中b值的偏差小”示出基于在3个机体中b值接近0.95的条件下的测定结果得到的CV。

“3个机体中b值的偏差大”示出基于在3个机体中b值各不相同的3个条件下的测定结果得到的CV。

可以获知：在“3个机体中b值的偏差小”时，CV本来就低，在校正前后没有大的差异，但在其它情况下，通过基于b值的校正大幅地减小了CV。这表明，无论是在1台中改变了装置设定时，还是在不同的机体中装置状态不同的情况下，基于b值的校正都是有效的。

[实施例3：校正值b值的调整1]

如实施例2的2-4所记载的那样，由于b值与检测器电压具有相关性，因此能够用检测器电压来调整b值。下面，示出调查b值与检测器电压之间的关系所得到的结果。

作为校准物质，使用离子化效率相等的通常的Aβ1-38和进行了稳定同位素标记的SIL-Aβ1-38来进行IC测定。作为IC1～IC5，与实施例2的2-2中所使用的相同。

在质谱分析装置Performance 4号机中，在将检测器电压设为2700V、2750V、2800V、2850V、2900V、2950V的情况下分别进行IC测定。使用各检测器电压下的测定结果，如实施例2的2-3那样分别求出校正式(乘方近似式：y＝ax^b)。图17是示出检测器电压与校正式的b值之间的关系的图。纵轴为b值，横轴为检测器电压(V)。

在质谱分析装置Performance 1号机中，在将检测器电压设为2700V、2725V、2750V、2775V、2800V、2825V的情况下分别进行IC测定。使用各检测器电压下的测定结果，如实施例2的2-3那样分别求出校正式(乘方近似式：y＝ax^b)。图18是示出检测器电压与校正式的b值之间的关系的图。纵轴为b值，横轴为检测器电压。

如图17和图18所示那样确认到如下的倾向：当提高检测器电压时b值降低。在b值为1.1以上的情况下，当将检测器电压提高25V时，b值变化约0.15左右，在b值为1.1以下的情况下，当将检测器电压提高25V时，b值变化约0.03～0.07。

使用这样的检测器电压与b值的关系，能够在由于检测器的劣化等而使b值上升的情况下，增加检测器电压来将b值调整到固定的范围内。通过将b值调整到固定的范围内，能够更高精度地校正分析对象物质的峰信号强度比。例如，也可以将b值的范围调整为0.9～1.1。

[实施例4：校正值b值的调整2]

作为调整b值的其它方法，列举有模拟-数字转换器(AD转换器)的基线水平的调整。下面示出调查b值与AD转换器的基线水平设定以及检测器电压的关系所得到的结果。

在质谱分析装置Performance 1号机中，在将检测器电压设为2700V、2725V、2750V、2775V、2800V、2825V的情况下分别进行IC测定。AD转换器的基线水平设为作为通常设定的181、以及从此处降低基线水平设定且提高噪声水平后的状态(179)这2个条件。在2个基线水平下分别获取数据。使用各检测器电压下的测定结果，如实施例2的2-3那样分别求出校正式(乘方近似式：y＝ax^b)。图19是示出检测器电压与校正式的b值之间的关系的图。纵轴为b值，横轴为检测器电压(V)。圆形的数据点为基线设定181，方形的数据点为基线设定179。

如图19所示那样确认到如下的倾向：即使在相同的检测器电压下，降低基线水平设定从而b值也降低。在b值为1.1以上的情况下，当将基线设定降低2时，b值降低约0.2～0.35左右，在b值为1.1以下的情况下，当将基线设定降低2时，b值降低约0.15左右。

使用这样的AD转换器的基线设定与b值的关系，能够在由于检测器的劣化等而使b值上升的情况下，降低基线设定来将b值调整到固定的范围内。通过将b值调整到固定的范围内，能够更高精度地校正分析对象物质的峰信号强度比。例如，也可以将b值的范围调整为0.9～1.1。

在本发明中，例如包括下面的方式。

(1)

根据所述峰信号强度比求出校正式；

(2)

根据上述(1)所记载的校正方法，其中，所述校准物质包含进行了稳定同位素标记的物质和未进行稳定同位素标记的物质。

(3)

根据上述(1)或(2)所记载的校正方法，其中，所述分析对象物质从属于由肽、糖肽、糖链、脂质以及糖脂质组成的组的物质中选择。

(4)

根据上述(1)～(3)中的任一个所记载的校正方法，其中，所述校准物质是Aβ相关肽。

(5)

根据上述(1)～(4)中的任一个所记载的校正方法，其中，所述校准物质是Aβ1-38和进行了稳定同位素标记的Aβ1-38。

(6)

根据上述(1)～(5)中的任一个所记载的校正方法，其中，所述校准品包含3种以上的校准物质。

(7)

根据上述(1)～(6)中的任一个所记载的校正方法，其中，

所述校准品有多个，

多个所述校准品中，要求出所述峰信号强度比的所述校准物质中的至少一个校准物质的浓度各不相同。

(8)

根据上述(7)所记载的校正方法，其中，一个校准物质的浓度相对于另一个校准物质的浓度的比处于1/4～4的范围内。

(9)

根据上述(1)～(8)中的任一个所记载的校正方法，其中，在求出所述校正式的工序中，使用将所述峰信号强度比进行对数变换所得到的值来求出校正式。

(10)

根据上述(1)～(9)中的任一个所记载的校正方法，其中，所述校正式为线性、多项式、指数、对数、或乘方的校正式。

(11)

根据上述(1)～(10)中的任一个所记载的校正方法，其中，所述校正式中的系数处于规定的值的范围内。

(12)

根据上述(11)所记载的校正方法，其中，所述校正式中的所述系数通过调整所述质谱分析装置的检测器电压和/或AD转换器的基线水平而被调整到所述规定的值的范围内。

(13)

根据上述(1)～(12)中的任一个所记载的校正方法，其中，

所述校正式用下面的乘方近似式来表示：

y＝ax^b

(其中，x为作为基准的峰信号强度比或浓度比，y为在要求出校正式的质谱分析装置中得到的峰信号强度比，a为近似式中的系数，b为近似式中的系数且为校正值)。

(14)

一种质谱分析装置的机差校正系统，包括：

(15)

根据上述(14)所记载的机差校正系统，其中，所述测定方法制定部包括设定部，所述设定部将在所述校准品的测定中使用的激光功率值设定为预先计算出的激光功率值。

(16)

根据上述(14)或(15)所记载的机差校正系统，其中，包括显示所述质谱分析装置的样品板的样品板显示部。

(17)

根据上述(16)所记载的机差校正系统，其中，所述样品板显示部示出所述测定方法中的样品滴加位置。

(18)

根据实施(15)～(17)中的任一个所记载的机差校正系统，其中，所述设定部针对样品孔和校准品孔设定各不相同的激光功率值。

(19)

一种质谱分析装置的机差校正用程序，包括使计算机执行以下步骤：

附图标记说明

1：质谱分析部；2：数据处理部；20：测定方法制定部；201：设定部；21：校正值计算部；3：输入部；4：显示部。

序列表

<110> 株式会社岛津制作所（SHIMADZU CORPORATION）

<120> 质谱分析装置的机差校正方法

<130> SP20200444

<150> US 63/062,677

<151> 2020-08-07

<160> 10

<210> 1

<211> 33

<212> PRT

<213> 智人（Homo Sapiens）

<400> 1

His Asp Ser Gly Tyr Glu Val His His Gln Lys Leu Val Phe Phe Ala

1 5 10 15

Glu Asp Val Gly Ser Asn Lys Gly Ala Ile Ile Gly Leu Met Val Gly

20 25 30

Gly

<210> 2

<211> 33

<212> PRT

<213> 智人（Homo Sapiens）

<400> 2

Asp Ala Glu Phe Arg His Asp Ser Gly Tyr Glu Val His His Gln Lys

1 5 10 15

Leu Val Phe Phe Ala Glu Asp Val Gly Ser Asn Lys Gly Ala Ile Ile

20 25 30

Gly

<210> 3

<211> 35

<212> PRT

<213> 智人（Homo Sapiens）

<400> 3

His Asp Ser Gly Tyr Glu Val His His Gln Lys Leu Val Phe Phe Ala

1 5 10 15

Glu Asp Val Gly Ser Asn Lys Gly Ala Ile Ile Gly Leu Met Val Gly

20 25 30

Gly Val Val

35

<210> 4

<211> 35

<212> PRT

<213> 智人（Homo Sapiens）

<400> 4

Asp Ala Glu Phe Arg His Asp Ser Gly Tyr Glu Val His His Gln Lys

1 5 10 15

Leu Val Phe Phe Ala Glu Asp Val Gly Ser Asn Lys Gly Ala Ile Ile

20 25 30

Gly Leu Met

35

<210> 5

<211> 37

<212> PRT

<213> 智人（Homo Sapiens）

<400> 5

Asp Ala Glu Phe Arg His Asp Ser Gly Tyr Glu Val His His Gln Lys

1 5 10 15

Leu Val Phe Phe Ala Glu Asp Val Gly Ser Asn Lys Gly Ala Ile Ile

20 25 30

Gly Leu Met Val Gly

35

<210> 6

<211> 38

<212> PRT

<213> 智人（Homo Sapiens）

<400> 6

Glu Phe Arg His Asp Ser Gly Tyr Glu Val His His Gln Lys Leu Val

1 5 10 15

Phe Phe Ala Glu Asp Val Gly Ser Asn Lys Gly Ala Ile Ile Gly Leu

20 25 30

Met Val Gly Gly Val Val

35

<210> 7

<211> 40

<212> PRT

<213> 智人（Homo Sapiens）

<400> 7

Asp Ala Glu Phe Arg His Asp Ser Gly Tyr Glu Val His His Gln Lys

1 5 10 15

Leu Val Phe Phe Ala Glu Asp Val Gly Ser Asn Lys Gly Ala Ile Ile

20 25 30

Gly Leu Met Val Gly Gly Val Val

35 40

<210> 8

<211> 40

<212> PRT

<213> 智人（Homo Sapiens）

<400> 8

Asp Ala Glu Phe Arg His Asp Ser Gly Tyr Glu Val His His Gln Lys

1 5 10 15

Leu Val Phe Phe Ala Glu Asp Val Gly Ser Asn Lys Gly Ala Ile Ile

20 25 30

Gly Leu Met Val Gly Gly Val Val

35 40

<210> 9

<211> 42

<212> PRT

<213> 智人（Homo Sapiens）

<400> 9

Asp Ala Glu Phe Arg His Asp Ser Gly Tyr Glu Val His His Gln Lys

1 5 10 15

Leu Val Phe Phe Ala Glu Asp Val Gly Ser Asn Lys Gly Ala Ile Ile

20 25 30

Gly Leu Met Val Gly Gly Val Val Ile Ala

35 40

<210> 10

<211> 43

<212> PRT

<213> 智人（Homo Sapiens）

<400> 10

Val Lys Met Asp Ala Glu Phe Arg His Asp Ser Gly Tyr Glu Val His

1 5 10 15

His Gln Lys Leu Val Phe Phe Ala Glu Asp Val Gly Ser Asn Lys Gly

20 25 30

Ala Ile Ile Gly Leu Met Val Gly Gly Val Val

35 40

Claims

1.一种质谱分析中的信号强度比的机差校正方法，包括以下工序：

根据所述峰信号强度比求出校正式；

2.根据权利要求1所述的校正方法，其中，

所述校准物质包含进行了稳定同位素标记的物质和未进行稳定同位素标记的物质。

3.根据权利要求1所述的校正方法，其中，

所述分析对象物质从属于由肽、糖肽、糖链、脂质以及糖脂质组成的组的物质中选择。

4.根据权利要求1所述的校正方法，其中，

所述校准物质是Aβ相关肽。

5.根据权利要求1所述的校正方法，其中，

所述校准物质是Aβ1-38和进行了稳定同位素标记的Aβ1-38。

6.根据权利要求1所述的校正方法，其中，

所述校准品包含3种以上的校准物质。

7.根据权利要求1所述的校正方法，其中，

所述校准品有多个，

8.根据权利要求7所述的校正方法，其中，

一个校准物质的浓度相对于另一个校准物质的浓度的比处于1/4～4的范围内。

9.根据权利要求1所述的校正方法，其中，

在求出所述校正式的工序中，使用将所述峰信号强度比进行对数变换所得到的值来求出校正式。

10.根据权利要求1所述的校正方法，其中，

所述校正式为线性、多项式、指数、对数、或乘方的校正式。

11.根据权利要求1所述的校正方法，其中，

所述校正式中的系数处于规定的值的范围内。

12.根据权利要求11所述的校正方法，其中，

所述校正式中的所述系数通过调整所述质谱分析装置的检测器电压和/或AD转换器的基线水平而被调整到所述规定的值的范围内。

13.根据权利要求1所述的校正方法，其中，

所述校正式用下面的乘方近似式来表示：

y＝a×^b

其中，x为作为基准的峰信号强度比或浓度比，y为在要求出校正式的质谱分析装置中得到的峰信号强度比，a为近似式中的系数，b为近似式中的系数且为校正值。

14.一种质谱分析装置的机差校正系统，包括：

15.根据权利要求14所述的机差校正系统，其中，

所述测定方法制定部包括设定部，所述设定部将在所述校准品的测定中使用的激光功率值设定为预先计算出的激光功率值。

16.根据权利要求14所述的机差校正系统，其中，

包括显示所述质谱分析装置的样品板的样品板显示部。

17.根据权利要求16所述的机差校正系统，其中，

所述样品板显示部示出所述测定方法中的样品滴加位置。

18.根据权利要求15所述的机差校正系统，其中，

所述设定部针对样品孔和校准品孔设定各不相同的激光功率值。

19.一种质谱分析装置的机差校正用程序，包括使计算机执行以下步骤：