CN115703670A - 一种玻璃蚀刻减薄工艺及蚀刻液 - Google Patents
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Abstract
本发明涉及玻璃加工技术领域，具体涉及一种玻璃蚀刻减薄工艺以及一种玻璃减薄蚀刻液。所述玻璃蚀刻减薄工艺包括以下步骤：步骤一、对待蚀刻的玻璃原片进行预处理使其表面清洁；步骤二、配置质量百分比由6％‑8％的氢氟酸、6％‑8％的硝酸、4％‑6％的硫酸以及78％‑86％的水组成的蚀刻液；步骤三、将待蚀刻的玻璃原片放入蚀刻治具上然后将治具转移到蚀刻槽中并使玻璃原片垂直向下完全没入蚀刻液中进行蚀刻减薄，时间13±3分钟；步骤四、将蚀刻后的玻璃转移到清水槽中进行清洗。所述玻璃减薄蚀刻液包括质量百分比为6％‑8％的氢氟酸、6％‑8％的硝酸、4％‑6％的硫酸以及78％‑86％的水。本发明的目的在于提升玻璃减薄蚀刻效率和厚度均匀性。
Description
技术领域
本发明涉及玻璃加工技术领域，特别是涉及一种玻璃蚀刻减薄工艺及蚀刻液。
背景技术
随着5G智能手机的推广，手机型号多元化需求也呈现出来，目前中高端的手机倾向于采用玻璃后盖，在玻璃后盖的加工过程中通常包含蚀刻减薄的过程。
现有的玻璃蚀刻减薄工艺在蚀刻后玻璃的厚度均匀性不够，且耗时较长，蚀刻效率较低。
发明内容
本发明的目在于解决上述问题，提供一种玻璃蚀刻减薄工艺，用于提升蚀刻效率和厚度均匀性，本发明同时提供了一种玻璃减薄蚀刻液。
本发明的目的通过以下技术方案来实现：
一种玻璃蚀刻减薄工艺,其特征在于，包括以下步骤：
步骤一、对待蚀刻的玻璃原片进行预处理使其表面清洁；
步骤二、配置质量百分比由6％-8％的氢氟酸、6％-8％的硝酸、4％-6％的硫酸以及78％-86％的水组成的蚀刻液；
步骤三、将待蚀刻的玻璃原片放入蚀刻治具上然后将治具转移到蚀刻槽中并使玻璃原片垂直向下完全没入蚀刻液中进行蚀刻减薄，时间13±3分钟；
步骤四、将蚀刻后的玻璃转移到清水槽中进行清洗。
进一步的，步骤一中对玻璃原片进行预处理的过程为采用质量百分比为20％的氢氧化钠和80％水构成的前处理液进行浸泡，时间11±2分钟。
进一步的，步骤二中氢氟酸、硝酸、硫酸以及水的加入顺序为水、硫酸、氢氟酸、硝酸，每次加入药液过程需要开鼓泡搅拌。
进一步的，步骤三中玻璃原片放入蚀刻液的速度为10-20mm/s。
进一步的，在步骤三的玻璃蚀刻过程中，蚀刻槽内的温度保持在26±2℃。
进一步的，在步骤三的蚀刻过程中，通过鼓泡装置向蚀刻液内均匀吹入气泡，通过抛动装置使玻璃原片在蚀刻槽内上下运动。
一种玻璃减薄蚀刻液，包括质量百分比为6％-8％的氢氟酸、6％-8％的硝酸、4％-6％的硫酸以及78％-86％的水。
与现有技术相比，本发明的有益效果是：
采用本发明所提供的玻璃蚀刻减薄工艺进行减薄后的玻璃，其厚度均匀性较好，整个平面度不会相差2UM，在蚀刻之前采用前处理液对玻璃原片进行浸泡能够避免玻璃表面出现白点等不良，提升良品率，在时刻过程中能够通过调整玻璃进入蚀刻液的速度、角度以及蚀刻时间从而达到不同的厚度减薄效果，通过此工艺生产的玻璃晶体结构在500倍显微镜下观察能够完全展开，将其应用于手机或3C产品外壳，能够使产品外观更为精美，表面更光滑，手感更好。
本发明所提供的玻璃减薄蚀刻液，其蚀刻速率可达每分钟7-8UM。
附图说明
图1为本发明所述的一种玻璃蚀刻减薄工艺的流程图。
图2为采用本发明所述的玻璃蚀刻减薄工艺制作的玻璃样品放大500倍后的扫描电镜照片。
具体实施方式
为详细说明本发明的技术特征和所实现的目的和效果，以下结合附图做进一步的描述:
如图1所示，一种玻璃蚀刻减薄工艺,包括以下步骤：
步骤一、对待蚀刻的玻璃原片进行预处理使其表面清洁；
步骤二、配置质量百分比由6％-8％的氢氟酸、6％-8％的硝酸、4％-6％的硫酸以及78％-86％的水组成的蚀刻液；
步骤三、将待蚀刻的玻璃原片放入蚀刻治具上然后将治具转移到蚀刻槽中并使玻璃原片垂直向下完全没入蚀刻液中进行蚀刻减薄，时间13±3分钟；
步骤四、将蚀刻后的玻璃转移到清水槽中进行清洗。
优选的，步骤一中对玻璃原片进行预处理的过程为采用质量百分比为20％的氢氧化钠和80％水构成的前处理液进行浸泡，时间11±2分钟，去除玻璃原片表面脏污及污渍等，使其表面清洁，保证蚀刻后玻璃的外观，避免出现白点等不良。
优选的，步骤二中氢氟酸、硝酸、硫酸以及水的加入顺序为水、硫酸、氢氟酸、硝酸，每次加入药液过程需要开鼓泡搅拌。
优选的，步骤三中玻璃原片放入蚀刻液的速度为10-20mm/s。
优选的，在步骤三的玻璃蚀刻过程中，蚀刻槽内的温度保持在26±2℃。
优选的，在步骤三的蚀刻过程中，通过鼓泡装置向蚀刻液内均匀吹入气泡，通过抛动装置使玻璃原片在蚀刻槽内上下运动，使玻璃两面蚀刻均匀，保证厚度均匀性。
图2为上述的玻璃蚀刻减薄工艺制作的玻璃样品放大500倍后的扫描电镜照片。
一种玻璃减薄蚀刻液，包括质量百分比为6％-8％的氢氟酸、6％-8％的硝酸、4％-6％的硫酸以及78％-86％的水，用于上述玻璃蚀刻减薄工艺，在蚀刻过程中，蚀刻速率可达每分钟7-8UM。
实施例1
步骤一、采用质量百分比为20％的氢氧化钠和80％水构成的前处理液对待蚀刻的玻璃原片进行浸泡，时间11±2分钟；
步骤二、配置质量百分比为8％的氢氟酸、8％的硝酸、6％的硫酸以及78％的水组成的蚀刻液；
步骤三、将浸泡后的玻璃原片连同蚀刻治具转移到蚀刻槽中并以14mm/s的速度使玻璃原片垂直向下完全没入蚀刻液中进行蚀刻减薄，蚀刻时间13±3分钟，蚀刻液温度为27℃；
步骤四、将蚀刻后的玻璃转移到清水槽中进行清洗。
实施例2
步骤一、采用质量百分比为20％的氢氧化钠和80％水构成的前处理液对待蚀刻的玻璃原片进行浸泡，时间14±2分钟；
步骤二、配置质量百分比为7％的氢氟酸、7％的硝酸、5％的硫酸以及81％的水组成的蚀刻液；
步骤三、将浸泡后的玻璃原片连同蚀刻治具转移到蚀刻槽中并以10mm/s的速度使玻璃原片垂直向下完全没入蚀刻液中进行蚀刻减薄，蚀刻时间14±2分钟，蚀刻液温度为28℃；
步骤四、将蚀刻后的玻璃转移到清水槽中进行浸泡清洗。
根据玻璃行业统一测试方法对实施例1和实施例2的减薄后的玻璃样品进行测试，具体数据见下表：
| 实施例1 | 实施例2 | |
| 原始厚度 | 0.55 | 0.55 |
| 减薄后的厚度 | 0.495-0.5 | 0.5-0.505 |
本发明并不限于上述实施方式，对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明的构思的前提下，还可以做出各种变形、改进和替代，这些都属于本发明的保护范围，本发明的保护范围以所附权利要求书为准。
Claims (7)
1.一种玻璃蚀刻减薄工艺,其特征在于，包括以下步骤：
步骤一、对待蚀刻的玻璃原片进行预处理使其表面清洁；
步骤二、配置质量百分比由6％-8％的氢氟酸、6％-8％的硝酸、4％-6％的硫酸以及78％-86％的水组成的蚀刻液；
步骤三、将待蚀刻的玻璃原片放入蚀刻治具上然后将治具转移到蚀刻槽中并使玻璃原片垂直向下完全没入蚀刻液中进行蚀刻减薄，时间13±3分钟；
步骤四、将蚀刻后的玻璃转移到清水槽中进行清洗。
2.根据权利要求1所述的一种玻璃蚀刻减薄工艺，其特征在于：步骤一中对玻璃原片进行预处理的过程为采用质量百分比为20％的氢氧化钠和80％水构成的前处理液进行浸泡，时间11±2分钟。
3.根据权利要求1所述的一种玻璃蚀刻减薄工艺，其特征在于：步骤二中氢氟酸、硝酸、硫酸以及水的加入顺序为水、硫酸、氢氟酸、硝酸，每次加入药液过程需要开鼓泡搅拌。
4.根据权利要求1所述的一种玻璃蚀刻减薄工艺,其特征在于：步骤三中玻璃原片放入蚀刻液的速度为10-20mm/s。
5.根据权利要求1所述的一种玻璃蚀刻减薄工艺，其特征在于：在步骤三的玻璃蚀刻过程中，蚀刻槽内的温度保持在26±2℃。
6.根据权利要求1所述的一种玻璃蚀刻减薄工艺，其特征在于：在步骤三的蚀刻过程中，通过鼓泡装置向蚀刻液内均匀吹入气泡，通过抛动装置使玻璃原片在蚀刻槽内上下运动。
7.一种玻璃减薄蚀刻液，其特征在于：包括质量百分比为6％-8％的氢氟酸、6％-8％的硝酸、4％-6％的硫酸以及78％-86％的水。
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