CN115678447B - 易洁卷材及其制备方法 - Google Patents

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Abstract

本发明属于涂层技术领域,公开了易洁卷材及其制备方法。该易洁卷材包括沉积在基底上的二氧化硅层和沉积在二氧化硅层上的易洁涂层,易洁涂层的组分包括全氟聚醚硅氧烷或聚硅氧烷中的至少一种。制备方法包括:将基底置于卷绕式镀膜机上,在基底表面沉积二氧化硅层;在二氧化硅层表面沉积易洁涂层。本发明公开的易洁卷材由于沉积的二氧化硅层可以与基底牢固结合,同时二氧化硅提供了活性羟基使得易洁涂层键合,使得易洁卷材的易洁性能的耐久性大大提升,且该卷材操作灵活,适用于多种场合。

Description

易洁卷材及其制备方法
技术领域
本发明属于涂层技术领域,具体涉及易洁卷材及其制备方法。
背景技术
为了使基材具有抗污易洁功能,通常采用喷涂、浸渍、物理气相沉积(PVD)等方法在基材表面涂覆一层易洁涂层。其中,易洁涂层可分为疏水型和亲水型的,前者在厨电玻璃、便携式电子设备屏幕玻璃上有着广泛的应用。这是由于上述应用中构成涂层的疏水物质多采用全氟聚醚硅氧烷或聚硅氧烷,它们的分子结构含有-Si(OR)3官能团(R通常是甲基或乙基),其水解后形成硅羟基,与玻璃表面的硅羟基脱水缩合形成硅氧共价键,也与邻近分子形成类似的键合,进而形成纳米级别厚度的膜层(其他应用场合也有采用其他疏水物质的,如氟/硅改性聚丙烯酸酯、氟代聚烯烃等,但分子中不一定有-Si(OR)3官能团)。这种涂层薄而透明,牢固耐磨,因此能满足商业应用的要求。另外,市面上这种涂层的疏水物质一般是单一类型的,即很少有全氟聚醚硅氧烷和聚硅氧烷的复合涂层。
但对于非玻璃基材,由于表面缺乏足够多的活性羟基,如果直接涂覆,则无法形成牢固、耐磨的涂层,耐久性差。行业上较好的解决方案通常是先在基材上PVD镀一层二氧化硅,以提供活性羟基,再以喷涂或PVD的方式涂覆疏水物质。这些构件通常是小体积、已成型的,在执行PVD工艺时,要通过挂具或黏贴的方式固定在炉腔内,一炉一炉、间歇式操作,每一炉都要花费大量时间抽真空和解除真空,因此效率低、成本高。如果构件体积较大,则空间利用率低,成本更高,甚至会因为构件过大或构件已经安装在现场不便拆卸而无法放进炉内。
对于疏水物质为全氟聚醚硅氧烷或聚硅氧烷的易洁涂层,尽管前者的多数性能都优于后者,但价格较高。此外,在抗油性笔(大头笔)涂鸦特性上,两者有所区别,用油性笔在易洁涂层上涂鸦时,在全氟聚醚硅氧烷易洁涂层上留下的笔迹是收缩的不连续幼线,在聚硅氧烷易洁涂层上留下的是连续的粗线(即外观上与在普通基材上的无异),但笔迹一旦彻底干燥附着如12h或24h后,在前者上留下的笔迹则更难擦除。制作两者的复合涂层,可平衡优缺点,然而市面上相应的复合涂料不多见,相关技术通过前期反应把全氟聚醚链段接枝到聚硅氧烷上,得到全氟聚醚改性的聚硅氧烷,但是合成过程复杂而导致成本高,其作为易粘结涂层的应用案例也不多。
另外,市面上带有易洁涂层的贴膜,多是直接涂覆,涂层耐久性差。更好的一些产品是先涂覆一层树脂底漆,再涂覆易洁涂层,虽然一定程度提高了耐久性,但仍不足,且这些贴膜在刮擦时易留下划痕。
因此,提供制备成本低、效率高,操作灵活、耐久性高的贴膜材料具有重要意义。
发明内容
本发明旨在至少解决上述现有技术中存在的技术问题之一。为此,本发明提出一种易洁卷材,其易洁性能的耐久性高,经受刮擦不易出现划痕,应用场合灵活。
本发明还提出一种所述易洁卷材的制备方法。
根据本发明的一个方面,提出了一种易洁卷材,包括沉积在基底上的二氧化硅层和沉积在所述二氧化硅层上的易洁涂层;所述易洁涂层的组分包括全氟聚醚硅氧烷或聚硅氧烷中的至少一种。
根据本发明的一种优选的实施方式,至少具有以下有益效果:
本发明提供的易洁卷材,可以如同通常的贴膜一样,贴在大体积或已经安装而不便拆卸的构件上,例如作为墙纸,也可以模切成特定形状进行贴合,操作灵活,但其易洁性能的耐久性较一般贴膜大大提升,且经受刮擦不易出现划痕。这是由于沉积的二氧化硅层可以与基底牢固结合,同时二氧化硅提供的活性羟基可以与全氟聚醚硅氧烷或聚硅氧烷中的Si(OR)3官能团(R通常是甲基或乙基)脱水缩合形成硅氧共价键,从而使易洁涂层键合,因此易洁涂层不易被磨损,使得其易洁性能耐久。
具体地,所述易洁涂层是提供易洁性能的涂层,可以是只包括高成本的全氟聚醚硅氧烷的涂层,也可以是只包括低成本的聚硅氧烷的涂层,还可以是包括全氟聚醚硅氧烷和聚硅氧烷的复合涂层。上述易洁涂层中两种组分的比例可调,便于平衡性能与成本的矛盾。
在本发明的一些实施方式中,所述易洁涂层为包括所述全氟聚醚硅氧烷和所述聚硅氧烷的复合涂层。
将所述易洁涂层制备为所述复合涂层,可以降低成本,且用油性笔在所述复合涂层上进行涂鸦时,笔迹彻底干燥后更易擦除,平衡了全氟聚醚硅氧烷易洁涂层(价格昂贵,笔迹为收缩的不连续幼线,笔迹干燥后更难擦除)和聚硅氧烷易洁涂层(价格便宜,笔迹为连续的粗线,但笔迹干燥后更易擦除)的优缺点。此外,相较于单组分聚硅氧烷易洁涂层,所述复合涂层的耐磨性更好,不易被磨损。
在本发明的一些实施方式中,所述二氧化硅层是偶联层,作为所述基底与所述易洁涂层结合的媒介。同时,它本身的硬度,加上所述易洁涂层的低摩擦系数,协同使得所述易洁卷材不易被刮花。
在本发明的一些实施方式中,所述二氧化硅层的厚度为2~50nm。
在本发明的一些优选的实施方式中,所述二氧化硅层的厚度为3~20nm。
在本发明的一些更优选的实施方式中,所述二氧化硅层的厚度为5~20nm。
市面上的易洁卷材一般无所述二氧化硅层,易洁性能的耐久性差,也易被刮擦。本发明设置上述厚度的二氧化硅层可以解决该问题,其厚度是关键因素,太厚的二氧化硅层会影响易洁卷材的耐久性。
在本发明的一些实施方式中,所述基底包括聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)、聚酰亚胺(PI)中的任一种。
在本发明的一些实施方式中,所述基底的厚度为5~200μm。
在本发明的一些优选的实施方式中,所述基底的厚度为10~20μm。
在本发明的一些实施方式中,所述基底进行了电晕处理。
在本发明的一些优选的实施方式中,所述基底进行了双面电晕处理。
进行所述电晕处理的目的是改变所述基底的表面能量,使其易与其他材料层如二氧化硅层粘结。
在本发明的一些实施方式中,所述二氧化硅层设置于所述基底的一侧。
在本发明的一些实施方式中,所述易洁卷材还包括保护膜、胶层和离型底膜。
具体地,这种易洁卷材没有装饰层,适用于不需要装饰性能的场合。
具体地,所述保护膜设置于所述易洁涂层的表面。所述保护膜是一种低粘膜,可避免流转过程和贴膜过程对所述易洁卷材的损伤,当完成贴膜后,即可撕除所述保护膜。
具体地,所述胶层和离型底膜依次层叠设置于所述基底背离所述二氧化硅层的一侧。
具体地,所述胶层为不干胶层,是与被贴物的粘合层。
在本发明的一些优选的实施方式中,所述易洁卷材还包括保护膜、透明油墨层、铝层、胶层和离型底膜。
具体地,所述铝层为真空镀铝层。
具体地,这种易洁卷材由于引入了透明油墨层和铝层而具有装饰性能,适用于需要装饰,且不要求对铝层的更长久保护的场合。
具体地,所述透明油墨层、铝层、胶层和离型底膜依次层叠设置于所述基底背离所述二氧化硅层的一侧。
具体地,在基底背离二氧化硅层的一侧印刷透明油墨,可形成装饰图案,不会影响易洁涂层的性能,而易洁涂层的透明性也不会遮盖透明油墨的装饰效果,且装饰图案可以个性化定制,提高时尚感。铝层可以反射穿过透明油墨的光线,使易洁卷材在视觉上具有金属光泽色彩而更加美观。进一步地,所述装饰除可以形成金属光泽色彩外,还可以是但不限于发光、变色、镭射。
在本发明的一些实施方式中,所述易洁卷材还包括保护膜、透明油墨层、铝层、胶水-基底复合层、胶层和离型底膜。
具体地,这种易洁卷材由于引入了胶水-基底复合层,可以保护铝层,减缓其氧化变黑的速度,适用于既需要装饰,又要求对铝层有更长久保护的场合。
具体地,所述透明油墨层、铝层、胶水-基底复合层、胶层和离型底膜依次层叠设置于所述基底背离所述二氧化硅层的一侧。
具体地,所述胶水-基底复合层为复合胶水和基底复合形成的层。所述基底包括PET、PI中的任一种。
更具体地,所述基底选择PET基底。所述PET基底进行了单电晕处理,其强电晕面与所述铝层复合。所述复合选自干式复合或无溶剂复合中的任一种。所述PET基底的弱电晕面与所述胶层贴合。所述胶层优选双面胶层。
更具体地,所述基底的厚度为5~12μm。
根据本发明的再一个方面,提出了所述易洁卷材的制备方法,包括以下步骤:
S1:将基底置于卷绕式镀膜机上,在所述基底表面沉积二氧化硅层;
S2:在所述二氧化硅层表面沉积易洁涂层。
根据本发明的一种优选的实施方式,至少具有以下有益效果:
本发明在镀二氧化硅层时,采用卷绕式镀膜机进行连续作业,避免了现有易洁构件的间歇式作业,也不存在空间利用率的问题,成本低,效率高。使得采用本发明的方法制备的易洁卷材,可以如同通常的贴膜一样,贴在大体积或已经安装而不便拆卸的构件上,例如作为墙纸,也可以模切成特定形状进行贴合,操作灵活。且由于采用上述方法可以将二氧化硅层和基底牢固结合,同时二氧化硅提供的活性羟基可以使易洁涂层键合,使得易洁涂层能经受刮擦不易出现划痕,大大提升了其易洁性能的耐久性。
在本发明的一些实施方式中,步骤S1在将所述基底置于所述卷绕式镀膜机上前,需先对所述基底进行清洗烘干。
在本发明的一些实施方式中,步骤S1所述将基底置于卷绕式镀膜机上后,需先对所述基底的一侧进行等离子清洗,然后在清洗面上沉积所述二氧化硅层。
在本发明的一些实施方式中,步骤S1中沉积所述二氧化硅层的方法选自物理气相沉积(PVD)镀膜法或化学气相沉积(CVD)镀膜法。
在本发明的一些优选的实施方式中,步骤S1中沉积所述二氧化硅层的方法选自所述PVD镀膜法。
在本发明的一些实施方式中,所述PVD镀膜法选自溅射镀膜、真空蒸镀、离子镀膜中的任一种。
在本发明的一些优选的实施方式中,步骤S1中沉积所述二氧化硅层的方法选自所述溅射镀膜。
在本发明的一些优选的实施方式中,步骤S1中沉积所述二氧化硅层的方法选自磁控溅射镀膜。
在本发明的一些更优选的实施方式中,步骤S1中沉积所述二氧化硅层的方法选择中频磁控溅射镀膜,靶材是纯硅靶,气体是氧气和氩气。
在本发明的一些实施方式中,步骤S1中所述等离子清洗和所述沉积二氧化硅层两个步骤连线进行。
在本发明的一些实施方式中,步骤S2中所述沉积的方式选自双源共蒸法或瞬时蒸发法。
在本发明的一些优选的实施方式中,步骤S2中所述沉积的方式选择所述双源共蒸法。
具体地,所述双源共蒸法在一个蒸发区放置负载全氟聚醚硅氧烷的药丸,另一个蒸发区放置负载聚硅氧烷的药丸,通过不同的加热功率控制所述全氟聚醚硅氧烷和所述聚硅氧烷的蒸发速率,以实现两种物质比例的调控。
具体地,所述加热功率通过控制蒸发温度来控制所述全氟聚醚硅氧烷和所述聚硅氧烷的蒸发速率。
具体地,所述蒸发温度为50~200℃。
采用上述方法沉积所述易洁涂层,可根据不同的应用要求灵活调控全氟聚醚硅氧烷和聚硅氧烷的比例(如强调被涂鸦后笔迹要更易擦除时,所述聚硅氧烷的比例可以较大一点),也不需要或更少地引入其他助剂组分,可以更好平衡性能与成本的矛盾。基于此,制备的易洁涂层可以是全氟聚醚硅氧烷易洁涂层,也可以是聚硅氧烷易洁涂层,还可以是包括全氟聚醚硅氧烷和聚硅氧烷的复合易洁涂层。
具体地,经调控后,所述聚硅氧烷占全氟聚醚硅氧烷和聚硅氧烷总分子量的百分比为0~40%。
所述易洁涂层的制备,理论上可以用市售的全氟聚醚硅氧烷溶液和聚硅氧烷溶液混合得到新的涂料,然后进行喷涂,但是两者的溶剂一般不互溶,因此不能进行简单的机械混合。即使两者的各种组分互不反应,也必须加入乳化剂或分散剂等其他助剂帮助分散,但这会引入不必要的组分而影响涂层性能。如果将两者进行接枝改性,根据不同场合进行分子的个性化定制,成本往往会很高。另外,如果是喷涂,一般要加热固化(如120~150℃,30min左右),这时基底就需要较大的厚度,则明显抑制了应用场合,如果不进行加热固化,涂层的性能又不好。因此,采用上述方法沉积所述易洁涂层可以降低成本,简化流程,无需加热固化,应用更加灵活。
在本发明的一些实施方式中,步骤S2可与步骤S1中的所述等离子清洗和所述沉积二氧化硅层连线进行,取决于设备的大小和功能。
在本发明的一些实施方式中,步骤S2在沉积所述易洁涂层后,进行收卷,收卷的同时将保护膜与所述易洁涂层的表面贴合。
在本发明的一些实施方式中,步骤S2结束后,所述制备方法还可包括在所述基底背离所述二氧化硅层的一侧印刷透明油墨层,以及在所述透明油墨层表面沉积铝层。
具体地,印刷所述透明油墨和所述铝层是为了装饰所述易洁卷材,使其更美观。
具体地,制备所述易洁涂层和印刷装饰层的步骤可以对调,互有优缺点。先制备易洁涂层,一是可直接清洗基底,如果先做其他涂层,易受到更多污染,且带有其他复合层时清洗也不方便;二是可以把更长的卷材放进镀膜机,镀膜是高成本步骤。缺点是一旦后工序出现故障,则高成本易洁涂层可能会被浪费,因此一般卷材的制作会尽量把成本高的工序放到最后面。
在本发明的一些实施方式中,所述铝层的沉积方式选择真空蒸镀法。
在本发明的一些实施方式中,所述制备方法还包括将所述铝层与胶水-基底复合层复合。
具体地,所述胶水-基底复合层中的基底进行了单电晕处理。
具体地,所述铝层的表面与所述基底的强电晕面接触而进行复合。
具体地,所述复合的方式包括干式复合或无溶剂复合。
在本发明的一些实施方式中,所述制备方法还包括在所述基底的弱电晕面与胶层贴合。所述胶层优选双面胶层。
在本发明的一些实施方式中,所述制备方法还包括制备完成后按需进行分卷、分切或模切。
具体地,本发明可以按需裁切使用(如作为墙纸),也可以模切成特定形状使用(如贴膜),甚至可以贴在已经安装好的玻璃上(这些玻璃表面因受长时间污染,已经不适合直接涂覆易洁涂料)。
附图说明
下面结合附图和实施例对本发明做进一步的说明,其中:
图1为本发明实施例1制备易洁卷材的工艺流程图;
图2为本发明实施例1制备的易洁卷材的结构示意图。
附图标记:
1-保护膜,2-易洁涂层,3-二氧化硅层,4-PET基底,5-透明油墨层,6-真空镀铝层,7-复合胶水-PET基底,8-耐水双面胶层,9-离型底膜。
具体实施方式
下面详细描述本发明的实施例,通过参考附图描述的实施例是示例性的,仅用于解释本发明,而不能理解为对本发明的限制。
本发明的描述中,除非另有明确的限定,沉积、印刷等词语应做广义理解,所属技术领域技术人员可以结合技术方案的具体内容合理确定上述词语在本发明中的具体含义。
本发明的描述中,参考术语“一个实施例”、“一些实施例”等的描述意指结合该实施例描述的具体特征、结构、材料或者特点包含于本发明的至少一个实施例中。在本说明书中,对上述术语的示意性表述不一定指的是相同的实施例。而且,描述的具体特征、结构、材料或者特点可以在任何的一个或多个实施例中以合适的方式结合。
实施例中所使用的试验方法如无特殊说明,均为常规方法;所使用的材料、试剂等,如无特殊说明,均可从商业途径得到的试剂和材料。
实施例1
本实施例制备了易洁卷材1,具体过程(见图1)为:
(1)对双面电晕处理的PET基底进行清洗烘干,基底厚度为10μm;
(2)把上述基底装在卷绕式磁控溅射镀膜机上,抽真空,开启收放卷装置,先对基底的一侧进行等离子清洗,然后以纯硅靶作为靶材,气体选择氧气和氩气,对清洗面进行中频溅射沉积二氧化硅层,两者连线进行,使制备得到的二氧化硅层的厚度为13~15nm;
(3)采用双源共蒸法,一个蒸发区放置负载全氟聚醚硅氧烷的药丸,另一个蒸发区放置负载聚硅氧烷的药丸,控制加热功率,在二氧化硅层的表面沉积全氟聚醚硅氧烷易洁涂层;收卷的同时将保护膜贴合在易洁涂层的表面;
(4)在PET基底背离二氧化硅层的一侧印刷透明油墨层;
(5)在透明油墨层表面真空蒸发镀铝,形成真空镀铝层;
(6)将真空镀铝层与复合胶水-PET基底中的PET基底的强电晕面进行干式复合,收卷的同时,将PET基底的弱电晕面和耐水双面胶层的一面贴合;耐水双面胶层的另一面粘贴离型底膜;
(7)按需进行分卷、分切或模切形成易洁卷材1。
上述易洁卷材1的结构如图2所示,包括从上至下依次层叠设置的保护膜1、易洁涂层2、二氧化硅层3、PET基底4、透明油墨层5、真空镀铝层6、复合胶水-PET基底7、耐水双面胶层8和离型底膜9。
实施例2
本实施例制备了易洁卷材2,具体过程同实施例1,其二氧化硅层的厚度为20~22nm。
实施例3
本实施例制备了易洁卷材3,具体过程同实施例1,其二氧化硅层的厚度为13~15nm,易洁涂层为全氟聚醚硅氧烷和聚硅氧烷复合易洁涂层,在其上有干笔迹容易擦除。
对比例1
本对比例制备了易洁卷材a,与实施例1的区别在于本对比例的易洁涂层为聚硅氧烷易洁涂层,且没有沉积二氧化硅层。即在PET基底的强电晕面直接喷涂聚硅氧烷。
试验例
本试验例测试了实施例1~3和对比例1制备的易洁卷材的耐久性,用耐磨性来衡量。具体采用往复式循环摩擦机试验,并用接触角仪测定摩擦前后的接触角大小,以评价易洁涂层的磨损程度。摩擦时,把干摩擦介质置于磨头和试样之间,并施加一定的载荷进行往复摩擦,通常一来一回的摩擦算作1次。例如,磨头尺寸是1×1cm2时,施加1kg载荷,则试样受到的压强是100KPa(这种载荷大小比较常见),而摩擦介质选用无尘布(聚酯布)和钢丝绒,施加压强是120KPa。检测结果如表1所示。
表1
从表1可以看出,本发明制备的易洁卷材由于加入了二氧化硅层,二氧化硅提供的活性羟基可以使易洁涂层键合,使得易洁涂层能经受刮擦不易出现划痕,大大提升了其易洁性能的耐久性;同时,实施例3为全氟聚醚硅氧烷和聚硅氧烷复合易洁涂层,可看出其耐磨性虽不如实施例1,但笔迹干燥后更易擦除。而对比例1的易洁卷材由于没有加入二氧化硅层,使其在刮擦后易被划花,耐久性较低。
上面对本发明实施例作了详细说明,但是本发明不限于上述实施例,在所属技术领域普通技术人员所具备的知识范围内,还可以在不脱离本发明宗旨的前提下作出各种变化。此外,在不冲突的情况下,本发明的实施例及实施例中的特征可以相互组合。

Claims (20)

1.一种易洁卷材,其特征在于,包括沉积在基底上的二氧化硅层和沉积在所述二氧化硅层上的易洁涂层;所述易洁涂层的组分为全氟聚醚硅氧烷或全氟聚醚硅氧烷-聚硅氧烷;所述二氧化硅层的厚度为3~20nm;所述易洁卷材采用包括以下步骤的制备方法制得:
S1:将基底置于卷绕式镀膜机上,在所述基底表面沉积二氧化硅层;
S2:在所述二氧化硅层表面沉积易洁涂层;
步骤S2中所述沉积的方式选自双源共蒸法或瞬时蒸发法。
2.根据权利要求1所述的易洁卷材,其特征在于,所述易洁涂层为包括所述全氟聚醚硅氧烷和所述聚硅氧烷的复合涂层。
3.根据权利要求1所述的易洁卷材,其特征在于,所述二氧化硅层的厚度为5~20nm。
4.根据权利要求1~3任一项所述的易洁卷材,其特征在于,所述易洁卷材还包括保护膜、胶层和离型底膜。
5.根据权利要求4所述的易洁卷材,其特征在于,所述保护膜设置于所述易洁涂层的表面。
6.根据权利要求4所述的易洁卷材,其特征在于,所述胶层和所述离型底膜依次层叠设置于所述基底背离所述二氧化硅层的一侧。
7.根据权利要求1~3任一项所述的易洁卷材,其特征在于,所述易洁卷材还包括保护膜、透明油墨层、铝层、胶层和离型底膜。
8.根据权利要求7所述的易洁卷材,其特征在于,所述透明油墨层、所述铝层、所述胶层和所述离型底膜依次层叠设置于所述基底背离所述二氧化硅层的一侧。
9.根据权利要求1~3任一项所述的易洁卷材,其特征在于,所述易洁卷材还包括保护膜、透明油墨层、铝层、胶水-基底复合层、胶层和离型底膜。
10.根据权利要求9所述的易洁卷材,其特征在于,所述透明油墨层、所述铝层、所述胶水-基底复合层、所述胶层和所述离型底膜依次层叠设置于所述基底背离所述二氧化硅层的一侧。
11.权利要求1~10任一项所述易洁卷材的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:
S1:将基底置于卷绕式镀膜机上,在所述基底表面沉积二氧化硅层;
S2:在所述二氧化硅层表面沉积易洁涂层。
12.根据权利要求11所述的制备方法,其特征在于,步骤S1中沉积所述二氧化硅层的方法选自物理气相沉积镀膜法或化学气相沉积镀膜法。
13.根据权利要求12所述的制备方法,其特征在于,所述物理气相沉积镀膜法选自溅射镀膜、真空镀膜、离子镀膜中的任一种。
14.根据权利要求13所述的制备方法,其特征在于,步骤S1中沉积所述二氧化硅层的方法选自溅射镀膜。
15.根据权利要求11所述的制备方法,其特征在于,步骤S1在将所述基底置于所述卷绕式镀膜机上前,需先对所述基底进行清洗烘干;所述将基底置于卷绕式镀膜机上后,需先对所述基底的一侧进行等离子清洗,然后在清洗面上沉积所述二氧化硅层。
16.根据权利要求11所述的制备方法,其特征在于,步骤S2中所述沉积的方式选自双源共蒸法或瞬时蒸发法。
17.根据权利要求16所述的制备方法,其特征在于,步骤S2中所述沉积的方式选自双源共蒸法。
18.根据权利要求11所述的制备方法,其特征在于,步骤S2在沉积所述易洁涂层后,进行收卷,收卷的同时将保护膜与所述易洁涂层的表面贴合。
19.根据权利要求11所述的制备方法,其特征在于,步骤S2结束后,所述制备方法还包括在所述基底背离所述二氧化硅层的一侧印刷透明油墨层,以及在所述透明油墨层表面沉积铝层。
20.根据权利要求19所述的制备方法,其特征在于,所述制备方法还包括将所述铝层与胶水-基底复合层复合。
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Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003073619A (ja) * 2001-09-05 2003-03-12 Sumitomo Rubber Ind Ltd コーティング用組成物および2液型コーティング剤
JP2006131809A (ja) * 2004-11-08 2006-05-25 Dainippon Toryo Co Ltd 被覆用組成物及び該被覆用組成物の硬化被膜を有する物品
JP2011012177A (ja) * 2009-07-02 2011-01-20 Shin-Etsu Chemical Co Ltd オルガノポリシロキサン組成物及びその製造方法
WO2016122059A1 (ko) * 2015-01-26 2016-08-04 주식회사 맥스젠테크놀로지 지문방지층을 가진 고경도의 유리 구조체 및 이를 위한 코팅방법
CN107254808A (zh) * 2017-07-07 2017-10-17 广东玉兰集团股份有限公司 一种墙纸用表面膜及其制备方法

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TWI322833B (en) * 2005-12-27 2010-04-01 Ind Tech Res Inst Water-repellent structure and method for making the same

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003073619A (ja) * 2001-09-05 2003-03-12 Sumitomo Rubber Ind Ltd コーティング用組成物および2液型コーティング剤
JP2006131809A (ja) * 2004-11-08 2006-05-25 Dainippon Toryo Co Ltd 被覆用組成物及び該被覆用組成物の硬化被膜を有する物品
JP2011012177A (ja) * 2009-07-02 2011-01-20 Shin-Etsu Chemical Co Ltd オルガノポリシロキサン組成物及びその製造方法
WO2016122059A1 (ko) * 2015-01-26 2016-08-04 주식회사 맥스젠테크놀로지 지문방지층을 가진 고경도의 유리 구조체 및 이를 위한 코팅방법
CN107254808A (zh) * 2017-07-07 2017-10-17 广东玉兰集团股份有限公司 一种墙纸用表面膜及其制备方法

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