CN115516348A - 圆偏振片 - Google Patents

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CN115516348A CN202180033894.2A CN202180033894A CN115516348A CN 115516348 A CN115516348 A CN 115516348A CN 202180033894 A CN202180033894 A CN 202180033894A CN 115516348 A CN115516348 A CN 115516348A
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Abstract

本发明的目的在于提供一种具有优异的挠性和优异的耐弯曲性的圆偏振片。本发明提供一种圆偏振片，具有包含线偏振层而成的偏振层、以及包含λ/4相位差层、相位差层贴合层和正C层而成的相位差层，该相位差层贴合层具有1GPa以上的弹性模量，该圆偏振片具有15％以上的裂纹应变，该裂纹应变是将长5cm×宽10mm的圆偏振片的两端在长度方向以4mm/分钟的速度拉伸、该圆偏振片产生裂纹时的伸长率(％)。

Description

圆偏振片
技术领域
本发明涉及圆偏振片，特别涉及薄型耐弯曲性圆偏振片。
背景技术
为了消除外部光反射、背景映入等问题，在有机EL显示器的可视面设置圆偏振片。圆偏振片一般通过在线偏振层上层叠λ/4相位差层而发挥圆偏振功能。出于防止倾斜观察时的反射光的着色等光学补偿的目的，在λ/4相位差层上贴合正C层。
近年来，为了在可弯曲的有机EL显示器中使用，一直在寻求一种薄型且耐弯曲性优异的圆偏振片。薄型圆偏振片中，通常使用液晶涂布型的相位差层作为λ/4相位差层和正C层等相位差层。液晶涂布型的相位差层是指在取向层上涂布相位差层形成用组合物并使其涂膜固化而形成的相位差层。
专利文献1中记载了一种液晶涂布型椭圆偏振片，具有偏振层、λ/4相位差层、垂直取向液晶固化层和增强层。该椭圆偏振片中，通过向偏振层与λ/4相位差层之间导入增强层来提高机械强度，得到在切断液晶固化膜时在切断端面不产生波纹等不良情况的优异的加工特性(实施例7～9、比较例2)。
专利文献2中记载了一种偏振片，其包含：基材、形成于基材的一面的偏振涂覆层、形成于偏振涂覆层上的第1粘接层、形成于第1粘接层上的第1相位差涂覆层、形成于第1相位差涂覆层上的第2粘接层、形成于第2粘接层上的第2相位差涂覆层和形成于第2相位差涂覆层上的软质层，软质层由下式定义的修正韧性为1000～40000MPa·％。
修正韧性＝最大应力×最大变形率
[式中，最大应力表示应力－变形率图中破坏点处的应力，最大变形率表示应力－变形率图中破坏点处的变形率。]
该圆偏振片中，通过如上所述规定相当于专利文献1中的增强层的软质层的修正韧性，并选定满足该修正韧性的适当的膜而使圆偏振片具有弯曲性。
现有技术文献
专利文献
专利文献1：日本特开2019－20725号公报
专利文献2：韩国专利公开10－1933765号公报
发明内容
具备液晶涂布型相位差层的圆偏振片以较小的弯曲半径(例如，弯曲半径1mm)弯曲(例如，内折叠方式)时存在弯曲部的相位差层劣化、容易断裂的问题。
专利文献1并未提及偏振片的耐弯曲性的提高。另外，专利文献2所记载的圆偏振片中，作为相当于增强层的软质层，使用了二官能聚氨酯丙烯酸酯、三乙酰纤维素或聚对苯二甲酸乙二醇酯等比较刚性的树脂，挠性(柔性)并不充分。
本发明解决上述以往的圆偏振片所存在的问题，其目的在于提供一种具有优异的挠性和优异的耐弯曲性的圆偏振片。
本发明提供一种圆偏振片，其具有：包含线偏振层而成的偏振层、以及包含液晶涂布型相位差层而成的相位差层，
该圆偏振片具有15％以上的裂纹应变，
该裂纹应变是将长5cm×宽10mm的圆偏振片的两端在长度方向以4mm/分钟的速度拉伸、该圆偏振片产生裂纹时的伸长率(％)。
某一方式中，上述相位差层是包含λ/4相位差层、相位差层贴合层和正C层而成的。
某一方式中，上述相位差层贴合层具有1GPa以上的弹性模量。
某一方式中，上述相位差层贴合层具有1～5μm的厚度。
某一方式中，上述正C层为液晶涂布型的相位差层。
某一方式中，上述相位差层在其至少一个面具有增强层。
某一方式中，上述增强层形成于上述相位差层的上部。
某一方式中，上述增强层形成于上述相位差层的下部。
某一方式中，上述增强层形成于上述相位差层的上部和下部。
某一方式中，上述圆偏振片具有5～50μm的厚度。
某一方式中，上述圆偏振片具有如下耐弯曲性：将以偏振层为内侧以弯曲半径1mm弯曲180°并伸展的操作反复进行30万次时，相位差层不产生破裂或断裂。
根据本发明，提供一种具有优异的挠性和优异的耐弯曲性的圆偏振片。本发明的圆偏振片例如可以以弯曲半径1mm这样较小的弯曲半径进行弯曲。另外，本发明的圆偏振片在将以偏振层为内侧以弯曲半径1mm弯曲180°并伸展的操作反复进行30万次时，相位差层不产生破裂或断裂。
附图说明
图1是示出本发明的一个实施方式的圆偏振片的结构的截面图。
图2是示出本发明的另一实施方式的圆偏振片的结构的截面图。
图3是示出本发明的另一实施方式的圆偏振片的结构的截面图。
图4是示出本发明的另一实施方式的圆偏振片的结构的截面图。
图5是示出本发明的圆偏振片的静态弯曲耐久性试验(芯轴弯曲试验)的方法的截面图。(a)表示试验的准备阶段，(b)表示正在试验。
具体实施方式
图1是示出本发明的圆偏振片100的结构的一个例子的截面图。图1所示的圆偏振片100从偏振层侧起依次具备偏振层10、粘接/粘合剂层20和相位差层30。该偏振层10包含线偏振层12。该相位差层30从偏振层侧起依次包含λ/4相位差层31、相位差层贴合层32和正C层33。可以在圆偏振片100的偏振层10侧进一步层叠前面板。
〔偏振层10〕
图1的实施方式中，偏振层10从被看到的外侧起依次具备保护层11、线偏振层12和罩面层13。
(保护层11)
保护层11设置于线偏振层而具有保护线偏振层12的功能。作为保护层的材料，没有特别限定，例如，可以举出环状聚烯烃系树脂、由三乙酰纤维素(TAC)、二乙酰纤维素这样的树脂构成的乙酸纤维素系树脂、由聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚萘二甲酸乙二醇酯、聚对苯二甲酸丁二醇酯这样的树脂构成的聚酯系树脂、聚碳酸酯系树脂、(甲基)丙烯酸系树脂、聚丙烯系树脂等本领域公知的树脂。从提高弯曲性的观点考虑，保护层的厚度通常为100μm以下，优选为80μm以下，更优选为50μm以下，另外，通常为5μm以上，优选为20μm以上。保护层可以为膜，膜状的保护层可以具有相位差。保护层为膜时，线偏振层与保护层可以介由粘合剂层、粘接剂层层叠。
保护层11可以为后述的罩面层，可以为有机物层或无机物层。有机物层或无机物层可以为通过涂覆而形成的层。有机物层可以使用保护层形成用组合物例如(甲基)丙烯酸系树脂组合物、环氧系树脂组合物、聚酰亚胺系树脂组合物等而形成。保护层形成用组合物可以为活性能量射线固化型，也可以为热固化型。无机物层例如可以由硅氧化物等形成。保护层11为有机物层时，保护层也可被称为硬涂层。
保护层11为有机物层时，例如可以通过将活性能量射线固化型的保护层形成用组合物涂布于基材膜上，照射活性能量而使其固化来制作保护层。基材膜适用后述的前面板的树脂制的板状体的说明。基材膜通常进行剥离而除去。作为涂布保护层形成用组合物的方法，例如可举出棒涂法、旋涂法等。保护层11为无机物层时，例如可以利用溅射法、蒸镀法等形成保护层。保护层11为有机物层或无机物层时，保护层11的厚度例如可以为0.1μm～10μm，优选为0.5μm～5μm。
(线偏振层12)
线偏振层12是具有使自然光等非偏振光的光线中某一个方向的线偏振光选择性地透过的功能的层。线偏振层12包含例如聚合性液晶化合物的固化物和二色性色素，二色性色素在聚合性液晶化合物的固化物中分散并取向。上述线偏振层12与使碘等二色性色素在聚乙烯醇系树脂中吸附取向而得的线偏振层进行比较时，湿热试验中的收缩量小，因此尺寸变化小。因此，可以适当用于在要求湿热耐久性的环境下使用的圆偏振片。
聚合性液晶化合物为具有聚合性反应基团且表现出液晶性的化合物。聚合性反应基团为参与聚合反应的基团，优选为光聚合性反应基团。光聚合性反应基团是指可以通过由光聚合引发剂产生的活性自由基、酸等而参与聚合反应的基团。作为光聚合性官能团，可举出乙烯基、乙烯基氧基、1－氯乙烯基、异丙烯基、4－乙烯基苯基、丙烯酰氧基、甲基丙烯酰氧基、氧杂环丙烷基、氧杂环丁烷基等。其中，优选丙烯酰氧基、甲基丙烯酰氧基、乙烯基氧基、氧杂环丙烷基和氧杂环丁烷基，更优选丙烯酰氧基。聚合性液晶化合物的种类没有特别限定，可以使用棒状液晶化合物、圆盘状液晶化合物和它们的混合物。聚合性液晶化合物的液晶性可以为热致性液晶或溶致性液晶，作为相序结构，可以为向列相液晶或近晶相液晶。
二色性色素是指具有分子的长轴方向的吸光度与短轴方向的吸光度不同的性质的色素。作为二色性色素，优选在300～700nm的范围具有极大吸收波长(λMAX)。作为上述二色性色素，例如，可举出吖啶色素、
Figure BDA0003931848130000051
嗪色素、花青色素、萘色素、偶氮色素和蒽醌色素等，其中，优选偶氮色素。作为偶氮色素，可举出单偶氮色素、双偶氮色素、三偶氮色素、四偶氮色素和芪偶氮色素等，优选为双偶氮色素和三偶氮色素。二色性色素可以单独使用或组合2种以上使用，优选组合3种以上使用。特别是，更优选组合3种以上的偶氮化合物。二色性色素的一部分可以具有反应性基团，另外也可以具有液晶性。
线偏振层12例如可以通过在形成于保护层11上的取向层上涂布包含聚合性液晶化合物和二色性色素的线偏振层形成用组合物，使聚合性液晶化合物聚合并固化而形成。或者，也可以通过在基材层上涂布线偏振层形成用组合物形成涂膜，将该涂膜与基材层一起拉伸来形成线偏振层12。
取向层具有使聚合性液晶化合物在所期望的方向进行液晶取向的取向限制力。作为取向层，可以举出：由取向性聚合物形成的取向性聚合物层、由光取向聚合物形成的光取向性聚合物层、层表面具有凹凸图案、多个沟槽(groove)的沟槽取向层。取向层的厚度通常为10～500nm，优选为10～200nm。
取向性聚合物层可以通过将在溶剂中溶解有取向性聚合物的组合物涂布于基材层、相位差层用基材层并除去溶剂，根据需要进行摩擦处理而形成。该情况下，取向限制力在由取向性聚合物形成的取向性聚合物层中，可以根据取向性聚合物的表面状态、摩擦条件进行任意调整。
光取向性聚合物层可以通过将具有光反应性基团的聚合物或包含单体和溶剂的组合物涂布于基材层、相位差层用基材层并照射偏振光而形成。该情况下，取向限制力在光取向性聚合物层中可以根据对光取向性聚合物的偏振光照射条件等进行任意调整。
例如，沟槽取向层可以通过以下方法来形成，即，介由具有图案形状的狭缝的曝光用掩模对感光性聚酰亚胺膜表面进行曝光、显影等来形成凹凸图案的方法；在表面具有槽的板状母盘形成活性能量射线固化性树脂的未固化的层，将该层转印至基材层、相位差层用基材层进行固化的方法；在基材层、相位差层用基材层上形成活性能量射线固化性树脂的未固化的层，并通过将具有凹凸的辊状母盘按压于该层等而形成凹凸并使其固化的方法等。
作为包含聚合性液晶化合物和二色性色素的线偏振层形成用组合物、以及使用该组合物的线偏振层的制造方法，可以举出日本特开2013－37353号公报、日本特开2013－33249号公报、日本特开2017－83843号公报等中记载的内容。线偏振层形成用组合物除了聚合性液晶化合物和二色性色素以外，也可以进一步包含溶剂、聚合引发剂、交联剂、流平剂、抗氧化剂、增塑剂、敏化剂等添加剂。这些成分可以分别单独使用或者组合2种以上使用。
线偏振层12的厚度例如为0.3～10μm，优选为0.5～8μm，更优选为1～5μm。
(罩面层13)
罩面层13以保护线偏振层12、抑制线偏振层12中的二色性色素的转移、赋予对氧、水分的阻隔性等为目的而设置。罩面层13可以设置于线偏振层12的两面。罩面层13例如可以通过在线偏振层12的表面涂布用于形成罩面层13的材料(组合物)而形成。
罩面层13优选耐溶剂性、透明性、机械强度、热稳定性、遮蔽性和各向同性等优异。作为构成罩面层13的材料，例如，可举出光固化性树脂、水溶性聚合物等。
作为光固化性树脂，例如，可举出(甲基)丙烯酸系树脂、聚氨酯系树脂、(甲基)丙烯酸聚氨酯系树脂、环氧系树脂、有机硅系树脂等。作为水溶性聚合物，例如，可举出聚(甲基)丙烯酰胺系聚合物；聚乙烯醇、和乙烯－乙烯醇共聚物、乙烯－乙酸乙烯酯共聚物、(甲基)丙烯酸或其酐－乙烯醇共聚物等乙烯醇系聚合物；羧基乙烯基系聚合物；聚乙烯吡咯烷酮；淀粉类；海藻酸钠；聚环氧乙烷系聚合物等。
罩面层13的厚度例如为0.1～5μm，优选为0.3～4μm，更优选为0.5～3μm。
〔粘接/粘合剂层20〕
图1的实施方式中，粘接/粘合剂层20为将偏振层10与相位差层30贴合的层。粘接/粘合剂层20为粘合剂层或粘接剂层。应予说明，粘合剂是指具有压敏粘接性的粘接剂。粘接/粘合剂层20优选为粘合剂层。
粘接/粘合剂层20为粘合剂层时，粘合剂层例如由以(甲基)丙烯酸系、橡胶系、聚氨酯系、酯系、有机硅系、聚乙烯基醚系这样的树脂为主成分的粘合剂组合物构成。其中，优选以透明性、耐候性、耐热性等优异的(甲基)丙烯酸系树脂为基础聚合物的粘合剂组合物。粘合剂组合物可以为活性能量射线固化型、热固化型。
作为粘合剂组合物中使用的(甲基)丙烯酸系树脂(基础聚合物)，例如，优选使用以(甲基)丙烯酸丁酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸异辛酯、(甲基)丙烯酸2－乙基己酯等(甲基)丙烯酸酯中的1种或2种以上为单体的聚合物或共聚物。优选使基础聚合物共聚极性单体。作为极性单体，例如，可以举出(甲基)丙烯酸、(甲基)丙烯酸2－羟基丙酯、(甲基)丙烯酸羟基乙酯、(甲基)丙烯酰胺、(甲基)丙烯酸N,N－二甲基氨基乙酯、(甲基)丙烯酸缩水甘油酯这样的具有羧基、羟基、酰胺基、氨基、环氧基等的单体。
粘合剂组合物可以由上述基础聚合物单独构成，通常进一步包含交联剂。作为该交联剂，可举出2价以上的金属离子且与羧基之间形成羧酸金属盐的金属离子；在与羧基之间形成酰胺键的多胺化合物；在与羧基之间形成酯键的聚环氧化合物或多元醇；在与羧基之间形成酰胺键的聚异氰酸酯化合物等。其中，优选聚异氰酸酯化合物。
活性能量射线固化型粘合剂组合物具有受到紫外线、电子束这样的活性能量射线的照射而固化的性质，可以在活性能量射线照射前也具有粘接/粘合性而密合于膜等被覆体。可以通过照射活性能量射线而固化来进行密合力的调整。活性能量射线固化型粘合剂组合物优选为紫外线固化型。活性能量射线固化型粘合剂组合物如上所述除了基础聚合物、交联剂以外还包含活性能量射线聚合性化合物。也适当包含光聚合引发剂、光敏化剂等。
粘合剂组合物可以进一步包含用于赋予光散射性的微粒、珠(树脂珠、玻璃珠等)、玻璃纤维、基础聚合物以外的树脂、粘接/粘合性赋予剂、填充剂(金属粉、其它无机粉末等)、抗氧化剂、紫外线吸收剂、染料、颜料、着色剂、消泡剂、防腐蚀剂、光聚合引发剂等添加剂。
粘合剂层可以通过将粘合剂组合物的有机溶剂稀释液涂布于基材上使其干燥而形成。使用活性能量射线固化型粘合剂组合物时，可以通过对形成的粘合剂层照射活性能量射线而制作具有所期望的固化度的固化物。
粘合剂层的厚度例如为0.1～30μm，优选为0.5～20μm，更优选为1～10μm。
粘接/粘合剂层20为粘接剂层时，粘接剂层例如由水系粘接剂或活性能量射线固化型粘接剂形成。
水系粘接剂可举出聚乙烯醇系树脂水溶液、水系二液型聚氨酯系乳液粘接剂组合物等，优选为聚乙烯醇系树脂水溶液。
水系粘接剂包含聚乙烯醇系树脂时，聚乙烯醇系树脂的含量相对于水100质量份，优选为1质量份～10质量份，更优选为1质量份～5质量份。
水系粘接剂中可以添加多元醛、水溶性环氧化合物、三聚氰胺系化合物、氧化锆化合物、锌化合物等作为添加剂。
为了提高粘接性，水系粘接剂优选包含乙醛酸的金属盐、乙二醛、水溶性环氧树脂等固化性成分和/或交联剂。作为乙醛酸的金属盐，优选为碱金属盐或碱土金属盐，例如，可举出乙醛酸钠、乙醛酸钾、乙醛酸镁、乙醛酸钙等。作为水溶性环氧树脂，例如可以优选使用使表氯醇与由二亚乙基三胺、三亚乙基四胺等聚亚烷基多胺与己二酸等二羧酸的反应得到的聚酰胺胺反应而得到的聚酰胺多胺环氧树脂。
活性能量射线固化型粘接剂包含活性能量射线固化型的化合物。作为活性能量射线固化型的化合物，可举出阳离子聚合性化合物或自由基聚合性化合物。包含阳离子聚合性化合物或自由基聚合性化合物时，能够期待提高粘接剂层的硬度的效果。
作为阳离子聚合性化合物，例如可举出氧杂环丁烷化合物或环氧化合物等。阳离子聚合性化合物的含量相对于活性能量射线固化性的粘接剂组合物100质量份，优选为10～99质量份，更优选为40～99质量份。
活性能量射线固化型粘接剂可以仅包含1种氧杂环丁烷化合物，也可以包含2种以上氧杂环丁烷化合物。活性能量射线固化型粘接剂可以仅包含1种环氧化合物，也可以包含2种以上环氧化合物。
作为自由基聚合性化合物，可以举出(甲基)丙烯酸化合物、(甲基)丙烯酰胺化合物等。
作为(甲基)丙烯酸系化合物，可举出分子内具有至少1个(甲基)丙烯酰氧基的(甲基)丙烯酸酯单体、分子内具有至少2个(甲基)丙烯酰氧基的(甲基)丙烯酸酯低聚物等。这些可以分别单独使用，也可以并用2种以上。
作为(甲基)丙烯酰胺系化合物，可举出N－取代(甲基)丙烯酰胺化合物。N－取代(甲基)丙烯酰胺化合物为N－位具有取代基的(甲基)丙烯酰胺化合物。该取代基的典型例子为烷基。N－位的取代基可以相互键合而形成环，构成该环的－CH 2－可以被取代为氧原子。此外，构成该环的碳原子可以键合有烷基、氧代基(＝O)等取代基。N－取代(甲基)丙烯酰胺一般可以通过(甲基)丙烯酸或其氯化物与伯或仲胺的反应来制造。
自由基聚合性化合物的含量相对于活性能量射线固化型粘接剂100质量份优选为1～70质量份，更优选为10～60质量份。
活性能量射线固化型粘接剂可以仅包含1种自由基聚合性化合物，也可以包含2种以上自由基聚合性化合物。
活性能量射线固化型粘接剂可以进一步包含阳离子聚合引发剂或自由基聚合引发剂。活性能量射线固化型粘接剂可以仅包含1种聚合引发剂，也可以包含2种以上聚合引发剂。
(其它添加剂)
活性能量射线固化粘接剂可以包含光敏化剂、溶剂、流平剂、抗氧化剂、光稳定剂、紫外线吸收剂等。
粘接剂层的厚度例如为0.1～5μm，优选为0.5～3μm。
〔相位差层30〕
相位差层包含液晶涂布型相位差层。液晶涂布型相位差层由于薄，因此存在弯曲时容易产生裂纹的趋势，但根据本发明，能够防止弯曲时的裂纹。图1的实施方式中，相位差层30从偏振层10侧起依次具备λ/4相位差层31、相位差层贴合层32和正C层33。另一实施方式中，相位差层从偏振层10侧起依次具备λ/2相位差层、相位差层贴合层和λ/4相位差层。
(λ/4相位差层)
λ/4相位差层31具有对入射光赋予λ/4相位差的功能。λ/4相位差层31例如相对于波长550nm的光的面内相位差值可以为100～160nm。λ/4相位差层31包含聚合性液晶化合物的固化物。λ/4相位差层31可以具有取向层。作为聚合性液晶化合物，例如，可以采用上述线偏振层12中使用的聚合性液晶化合物。形成线偏振层12的聚合性液晶化合物与形成λ/4相位差层31的聚合性液晶化合物可以为相同种类，也可以为不同种类。
从薄型化的观点考虑，λ/4相位差层31优选为液晶涂布型相位差层。液晶涂布型的λ/4相位差层可以通过在相位差层用取向层上涂布包含聚合性液晶化合物的相位差层形成用组合物，使聚合性液晶化合物聚合并固化而形成。
λ/4相位差层31的厚度例如为0.3～10μm，优选为0.5～8μm，更优选为1～5μm。
(相位差层贴合层32)
相位差层贴合层32为贴合λ/4相位差层31与正C层33的层、或者贴合λ/2相位差层与λ/4相位差层的层。相位差层贴合层32由与粘接/粘合剂层20同样的材料并利用同样的方法而形成。粘接/粘合剂层20优选为粘接剂层，更优选由活性能量射线固化型粘接剂形成。
相位差层贴合层32的厚度例如为0.1～30μm，优选为0.5～20μm，更优选为1～10μm，进一步优选为1～5μm以下。如果相位差层贴合层32的厚度小于1μm，则有时得到的圆偏振片的耐弯曲性变得不充分，如果超过30μm，则有时得到的圆偏振片的挠性变得不充分。相位差层贴合层的弹性模量通过后述的实施例中记载的方法来测定。相位差层贴合层的弹性模量可以为温度25℃下的值。
相位差层贴合层32的弹性模量为1GPa以上，优选为1.5～6GPa，更优选为2～5GPa。如果相位差层贴合层32的弹性模量小于1GPa，则有时得到的圆偏振片的耐弯曲性变得不充分。如果相位差层贴合层32的弹性模量过大，则有时圆偏振片的挠性变得不充分。
(正C层33)
正C层33是防止从倾斜方向观察表面时反射光看起来着色等补偿圆偏振片所带来的光学功能的层。“正C”是指将沿着正C层的层面的X轴向的折射率设为nx、将在沿着层面的方向与X轴正交的Y轴向的折射率设为ny、将层厚方向的折射率设为nz时，满足nz＞nx≈ny(光轴：nz方向)的关系的性质。
正C层33包含聚合性液晶化合物的固化物。正C层33可以具有取向层。作为聚合性液晶化合物，例如，可以采用上述线偏振层12中使用的聚合性液晶化合物。形成线偏振层12的聚合性液晶化合物与形成正C层33的聚合性液晶化合物可以为相同种类，也可以为不同种类。作为该聚合性液晶化合物，可举出圆盘状液晶材料(盘状液晶材料)和棒状液晶材料等，从可以通过变更主链和侧链来控制分散性、也容易调整波长分散性的方面看，更优选使用棒状液晶材料。
从薄型化的观点考虑，正C层33优选为液晶涂布型相位差层。液晶涂布型的正C层可以通过在相位差层用取向层上涂布包含聚合性液晶化合物的相位差层形成用组合物，使聚合性液晶化合物聚合并固化而形成。
正C层33的厚度例如为0.01～10μm，优选为0.1～8μm，更优选为0.3～5μm。
(λ/2相位差层)
λ/2相位差层具有对入射光赋予λ/2相位差的功能。λ/2相位差层例如相对于波长550nm的光的面内相位差值可以为200～350nm。λ/2相位差层可以包含聚合性液晶化合物的固化物。λ/2相位差层可以具有取向层。作为聚合性液晶化合物，例如，可以采用上述λ/4相位差层中使用的聚合性液晶化合物。形成λ/4相位差层的聚合性液晶化合物与形成λ/2相位差层的聚合性液晶化合物可以为相同种类，也可以为不同种类。
从薄型化的观点考虑，λ/2相位差层优选为液晶涂布型相位差层。液晶涂布型的λ/2相位差层可以通过在相位差层用取向层上涂布包含聚合性液晶化合物的相位差层形成用组合物，使聚合性液晶化合物聚合并固化而形成。
λ/2相位差层的厚度例如为0.3～10μm，优选为0.5～8μm，更优选为1～5μm。
〔圆偏振片100的制造〕
图1的实施方式中，圆偏振片100例如可以通过以下方法来制造。即，在保护层11上形成线偏振层12和罩面层13，得到偏振层10。在另行准备的基材上形成λ/4相位差层31，在另行准备的基材上形成正C层33。接着，使用相位差层贴合层32用粘接/粘合剂，将λ/4相位差层31与正C层33贴合，得到相位差层30。然后，除去λ/4相位差层31侧的基材，使用粘接/粘合剂层20用粘接/粘合剂，将偏振层10的罩面层13与相位差层30的λ/4相位差层31贴合，得到圆偏振片100。
〔其他实施方式〕
图2～4是示出本发明的其他实施方式的圆偏振片的结构的截面图。图2～4的圆偏振片的相位差层30在其至少一个面具有增强层。图2的圆偏振片200中，第1增强层41形成于相位差层30的上部。图3的圆偏振片300中，第2增强层42形成于相位差层30的下部。图4的圆偏振片400中，第1增强层41形成于相位差层30的上部，第2增强层42形成于相位差层30的下部。图2～4的圆偏振片通过具有增强层而表现出更优异的耐弯曲性。
增强层由与粘接/粘合剂层20同样的材料并利用同样的方法而形成。增强层优选使用前述的活性能量射线固化型粘接剂而形成。例如，可以在形成相位差层30之后与偏振层10贴合之前通过在相位差层30的外侧面，即，λ/4相位差层31的露出面涂布第1增强层41用粘接/粘合剂而形成第1增强层41。另外，可以在形成相位差层30之后通过在相位差层30的内侧面，即，正C层33的露出面涂布第2增强层42用粘接/粘合剂而形成第2增强层42。可以根据需要加热粘接/粘合剂，或者对粘接/粘合剂照射活性能量射线而使粘接/粘合剂固化。
增强层的厚度例如为0.1～30μm，优选为0.3～10μm，更优选为0.5～5μm。如果增强层的厚度小于0.1μm，则有时得到的圆偏振片的耐弯曲性变得不充分，如果超过30μm，则有时得到的圆偏振片的挠性变得不充分。
增强层的弹性模量例如为1GPa以上，优选为1.5～6GPa，更优选为2～5GPa。如果增强层的弹性模量小于1GPa，则有时得到的圆偏振片的耐弯曲性变得不充分。如果增强层的弹性模量过大，则有时圆偏振片的挠性变得不充分。增强层的弹性模量通过后述的实施例中记载的方法来测定。增强层的弹性模量可以为温度25℃下的值。
〔圆偏振片〕
从容易赋予优异的挠性的观点考虑，本发明的圆偏振片具有100μm以下、优选5～50μm、更优选10～30μm的厚度。如果圆偏振片的厚度超过150μm，则有时挠性变得不充分。
从具有优异的耐弯曲性的观点考虑，本发明的圆偏振片具有15％以上、优选18％以上、更优选20％以上、进一步优选26％以上的裂纹应变。裂纹应变的上限没有特别限定，裂纹应变例如可以为50％以下，也可以为35％以下。如果圆偏振片的裂纹应变小于15％，则有时耐弯曲性变得不充分。这里，裂纹应变是指在规定条件下将材料向一个方向拉伸而伸长时不产生裂纹的极限的伸长率(％)。裂纹应变的测定条件如实施例所记载。裂纹应变可以通过构成圆偏振片的层的材料、厚度等来调整。例如，可以通过使相位差层具备增强层，或者增加增强层的数量来增大裂纹应变。另外，也可以通过将圆偏振片例如以50～100℃进行0.5～24小时加热处理来增大裂纹应变。
(前面板)
前面板(附图中未显示)一般配置于保护层11的上部，构成偏振层10的最外侧。前面板为具有一体性和透光性的板状的层。前面板可以由2层以上构成。作为前面板的例子，可举出树脂制的板状体(例如，树脂板、树脂片、树脂膜)、玻璃制的板状体(例如，玻璃板)、树脂制的板状体与玻璃制的板状体的层叠体等。
前面板为树脂制的板状体时，作为材料，例如，可举出聚(甲基)丙烯酸甲酯和聚(甲基)丙烯酸乙酯等丙烯酸系树脂；聚乙烯、聚丙烯、聚甲基戊烯和聚苯乙烯等聚烯烃系树脂；三乙酰纤维素、乙酰纤维素丁酸酯、丙酰纤维素、丁酰纤维素和乙酰丙酰纤维素等纤维素系树脂；乙烯－乙酸乙烯酯共聚物、聚氯乙烯、聚偏氯乙烯、聚乙烯醇和聚乙烯醇缩醛等聚乙烯基系树脂；聚砜和聚醚砜等砜系树脂；聚醚酮和聚醚醚酮等酮系树脂；聚醚酰亚胺；聚碳酸酯系树脂；聚酯系树脂；聚酰亚胺系树脂；聚酰胺酰亚胺系树脂；和聚酰胺系树脂等。这些高分子可以单独或混合2种以上使用。其中，从提高强度和透明性的观点考虑，优选使用聚碳酸酯系树脂、聚酯系树脂、聚酰亚胺系树脂、聚酰胺酰亚胺系树脂、或聚酰胺系树脂。
前面板可以为由上述树脂形成的膜，也可以在膜的至少一个面具有硬涂层。硬涂层可以形成于膜的外侧的面，也可以形成于两个面。通过设置硬涂层，能够制成提高了硬度和耐划伤性的树脂膜。硬涂层例如为紫外线固化型树脂的固化层。作为紫外线固化型树脂，例如，可举出丙烯酸系树脂、有机硅系树脂、聚酯系树脂、聚氨酯系树脂、酰胺系树脂、环氧系树脂等。硬涂层可以含有添加剂用于提高硬度。添加剂只要不阻碍前面板的透光性，就没有特别限定，可以使用无机系微粒、有机系微粒或它们的混合物。
圆偏振片100用于显示器面板时，前面板可以具有作为显示器面板中的视窗膜的功能。前面板可以进一步具有作为触控传感器的功能、蓝光截止功能、视野角调整功能等。
前面板的厚度例如为1～100μm，优选为10～70μm，更优选为20～60μm。
(背面板)
可以将背面板(附图中未显示)介由粘合剂层层叠于相位差层30的下部。作为背面板，可以使用可透过光的板状体或通常的显示装置中使用的构成要素等。
背面板的厚度例如可以为5μm～2000μm，优选为10μm～1000μm，更优选为15μm～500μm。
背面板中使用的板状体可以仅由1层构成，也可以由2层以上构成，可以使用在前面板中描述的板状体所例示的板状体。
作为背面板中使用的通常的显示装置所采用的构成要素，例如可举出隔离件、触摸传感器面板、有机EL显示元件等。作为显示装置中的构成要素的层叠顺序，例如可举出前面板/圆偏振片/隔离件、前面板/圆偏振片/有机EL显示元件、前面板/圆偏振片/触摸传感器面板/有机EL显示元件、前面板/触摸传感器面板/圆偏振片/有机EL显示元件等。
实施例
以下，根据实施例对本发明进行更详细的说明。本发明不限定于这些实施例。本实施例中，配合物质的比例的单位“份”只要没有特别说明，就为重量基准。
(a)层的厚度的测定方法
构成圆偏振片的层的厚度使用接触式膜厚测定装置(株式会社尼康制“MS－5C”(商品名))进行测定。其中，偏振层和取向层使用激光显微镜(奥林巴斯株式会社制“OLS3000”(商品名))进行测定。
(b)弹性模量(G’)的测定方法
粘接/粘合剂层20和增强层为粘合剂层时，将粘合剂层层叠至150μm，制作样品。弹性模量(G’)使用流变仪(Anton Parr公司制“MCR－301”(商品名))，测定储能弹性模量。测定条件为温度25℃、应力1％和频率1Hz。
另外，粘接/粘合剂层20和增强层不为粘合剂层而为粘接剂层时，在将粘接剂组合物涂敷于玻璃(厚度1.0mm)所得到的涂膜上层叠COP膜(日本瑞翁株式会社制，厚度50μm)。然后，使用紫外线照射装置(Fusion UV系统公司制，具备无电极紫外线灯的H阀)对涂膜以光照射强度为400mW/cm2、波长280～320nm处的累积光量为1500mJ/cm2的方式照射紫外线，使粘接剂组合物固化，得到具有玻璃/粘接剂层/COP膜的层结构的层叠片。从层叠片上剥下COP膜后，对露出的粘接剂层使用纳米压痕仪(Nano Indenter)(HM－500，FischerInstruments公司制)以温度25℃、相对湿度50％、压力1mN的条件进行压缩弹性模量的测定。压头使用伯克维奇(Berkovich)三角锥压头。
＜制造例1＞
(偏振层10的制造)
取向层形成用组合物的制备
制备将以下结构式表示的具有光反应性基团的聚合物以浓度5％溶解于环戊酮而得的溶液作为取向层形成用组合物(1)。
Figure BDA0003931848130000151
线偏振层形成用组合物的制备
使用以下结构表示的化合物(1－1)和化合物(1－2)作为聚合性液晶化合物。化合物(1－1)和化合物(1－2)通过Lub et al.Recl.Trav.Chim.Pays－Bas，115，321－328(1996)中记载的方法来合成。
·化合物(1－1)
Figure BDA0003931848130000161
·化合物(1－2)
Figure BDA0003931848130000162
使用以下结构表示的化合物(2－1a)、化合物(2－1b)和化合物(2－2)作为二色性色素。
·化合物(2－1a)
Figure BDA0003931848130000163
·化合物(2－1b)
Figure BDA0003931848130000164
·化合物(2－2)
Figure BDA0003931848130000165
线偏振层形成用组合物通过将化合物(1－1)75份、化合物(1－2)25份、作为二色性色素的上述式(2－1a)、(2－1b)、(2－2)表示的偶氮色素各2.5份、作为聚合引发剂的2－二甲基氨基－2－苄基－1－(4－吗啉代苯基)丁烷－1－酮(Irgacure369，BASF公司制)6份和作为流平剂的聚丙烯酸酯化合物(BYK－361N，BYK公司制)1.2份混合到作为溶剂的甲苯400份中，将所得到的混合物以80℃搅拌1小时来制备。
罩面层形成用组合物的制备
用于形成罩面层的罩面层形成用组合物通过将水100份、聚乙烯醇树脂粉末(KL－318，株式会社Kuraray制，平均聚合度18000)3份、作为交联剂的聚酰胺环氧树脂(SR650(30)，Sumika Chemtex株式会社制)1.5份混合来制备。
层叠体的制作
使用三乙酰纤维素(TAC)膜(KC2UA，柯尼卡美能达株式会社制，厚度25μm)作为保护层11，在输出功率0.3kW、处理速度3m/分钟的条件下对其实施电晕处理。然后，利用棒涂法对膜的电晕处理面涂布上述制备的取向层形成用组合物(1)，在温度80℃的干燥烘箱中加热干燥1分钟。透过线栅(UIS－27132##，牛尾电机株式会社制)对得到的被膜照射调整成波长365nm处的累积光量为100mJ/cm2的紫外线，得到厚度100nm的取向层。然后，利用棒涂法对得到的取向层涂布上述制备的线偏振层形成用组合物，将被膜在温度120℃的干燥烘箱中加热干燥1分钟并冷却至室温。对其照射调整成波长365nm处的累积光量为1200mJ/cm2的紫外线，形成厚度2.0μm的线偏振层12。利用棒涂法在所形成的线偏振层上以干燥后的厚度为1.0μm的方式涂布上述制备的罩面层形成用组合物，在温度80℃下干燥3分钟。按照上述步骤来制造依次具备保护层11(厚度25μm)、线偏振层12(厚度2.0μm)和罩面层13(厚度1.0μm)的偏振层10。
＜制造例2＞
(粘接/粘合剂层20用粘合剂的制造)
通过将丙烯酸丁酯70份、丙烯酸甲酯20份、丙烯酸2.0份和自由基聚合引发剂(2,2’－偶氮双异丁腈)0.2份在氮气氛下一边搅拌一边以55℃反应而得到丙烯酸树脂。然后，将该丙烯酸树脂100份、交联剂(东曹株式会社制“Coronate L”)1.0份、硅烷偶联剂(信越化学工业株式会社制“X－12－981”)0.5份混合，以固体成分浓度为10％的方式添加乙酸乙酯，由此得到粘合剂组合物。利用涂敷器将得到的粘合剂组合物以干燥后的厚度为5μm的方式涂布于经脱模处理的聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)膜(厚度38μm)的脱模处理面。将涂布层在100℃下干燥1分钟，得到带有PET膜的粘接/粘合剂层20用粘合剂层。然后，在该粘合剂层贴合经脱模处理的另一聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)膜(厚度38μm)，以温度23℃、相对湿度50％RH的条件熟化7天。粘接/粘合剂层20用粘合剂层具有0.7MPa的弹性模量(储能弹性模量)。作为基材的PET膜在制造圆偏振片的过程中适当地剥离。
＜制造例3＞
(相位差层30的制造)
λ/4相位差层31形成用组合物的制备
用于形成λ/4相位差层31的λ/4相位差层31形成用组合物通过混合以下示出的各成分，并将得到的混合物在80℃下搅拌1小时来制备。
·下述的结构式表示的化合物：80份
Figure BDA0003931848130000181
·下述的结构式表示的化合物：20份
Figure BDA0003931848130000182
·聚合引发剂(Irgacure369，BASF公司制)：6份
·流平剂(BYK－361N，聚丙烯酸酯化合物，BYK公司制)：0.1份
·溶剂(环戊酮)：400份
λ/4相位差层31的制作
利用棒涂法在聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)膜(厚度100μm)的基材上涂布上述取向层形成用组合物(1)，在温度80℃的干燥烘箱中加热干燥1分钟。对得到的涂膜实施偏振光UV照射处理而形成取向层。使用UV照射装置(SPOT CURE SP－7，牛尾电机株式会社制)以波长365nm处的累积光量为100mJ/cm2的条件进行偏振光UV处理。另外，以偏振光UV的偏振光方向相对于线偏振层的吸收轴成45°的方式进行。
接下来，利用棒涂法在所形成的取向层上涂布上述λ/4相位差层形成用组合物，在温度120℃的干燥烘箱中加热干燥1分钟后，冷却至室温。对得到的涂膜照射调整成波长365nm处的累积光量为1000mJ/cm2的紫外线，形成厚度2.0μm的λ/4相位差层，得到带有PET膜的λ/4相位差层31。该λ/4相位差层表现出逆波长分散性。
正C层33的制作
将丙烯酸2－苯氧基乙酯、丙烯酸四氢糠酯、二季戊四醇三丙烯酸酯和双(2－乙烯基氧基乙基)醚以1:1:4:5的比例混合，以4％的比例添加作为聚合引发剂的LUCIRINTPO，由此制备取向层形成用组合物(2)。
作为正C层形成用组合物，将光聚合性向列型液晶化合物(默克公司制，RMM28B)和溶剂以固体成分为1～1.5g的方式制备而制作。溶剂使用将甲基乙基酮(MEK)、甲基异丁基酮(MIBK)和环己酮(CHN)以质量比(MEK:MIBK:CHN)为35:30:35的比例混合而得的混合溶剂。
准备厚度38μm的聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)膜作为基材。在基材的单面以达到膜厚3μm的方式涂布取向层形成用组合物(2)，照射200mJ/cm2的紫外线，制作取向层。
利用模涂法在上述取向层上涂敷正C层形成用组合物。涂敷量为4～5g(wet)。将干燥温度设为75℃，将干燥时间设为120秒，使涂膜干燥。然后，对涂膜进行紫外线(UV)照射，使聚合性液晶化合物聚合。对得到的涂膜的厚度利用激光显微镜(LEXT，奥林巴斯株式会社制)进行测定，结果，与取向层的合计为4μm。
相位差层的贴合
以作为光阳离子固化性树脂的3’,4’－环氧环己基甲基3,4－环氧环己烷羧酸酯(商品名：CEL2021P，株式会社大赛璐制)70份、新戊二醇二缩水甘油醚(EX－211，长濑化成株式会社制)20份、2－乙基己基缩水甘油醚(EX－121，长濑化成株式会社制)10份、光阳离子聚合引发剂(CPI－100，San-Apro株式会社制)2.25份、作为光阳离子聚合敏化剂的1,4－二乙氧基萘2份的配合比混合后，进行脱气，制备作为光固化型粘接剂的相位差层贴合层用粘接剂。光阳离子聚合引发剂以50％碳酸亚丙酯溶液的形式混合。
在输出功率0.3kW、处理速度3m/分钟的条件下对上述带有PET膜的λ/4相位差层31的λ/4相位差层侧和带有PET膜的正C层33的正C层侧进行一次电晕处理。在λ/4相位差层31与正C层33之间以厚度为1.5μm的方式涂布上述相位差层贴合层用粘接剂，用捏合辊进行贴合。从贴合的相位差层30的正C层33的PET膜基材侧照射调整成波长365nm处的累积光量为300mJ/cm2的紫外线，使相位差层贴合层进行紫外线固化。按照上述步骤来制造依次具备λ/4相位差层31、相位差层贴合层32和正C层33的相位差层30。固化的相位差层贴合层具有2.4GPa的弹性模量(压缩弹性模量)。作为基材的PET膜在制造圆偏振片的过程中适当地剥离。
＜实施例1＞
图2所示的圆偏振片200的制造
1.对制造例1中得到的偏振层10的罩面层13侧的面进行电晕处理(条件：输出功率0.3kW，处理速度3m/分钟)，对制造例2中得到的粘接/粘合剂层20用粘合剂层的面进行电晕处理，将电晕处理面彼此贴合。
2.对制造例3中得到的相位差层30的λ/4相位差层31侧的面进行电晕处理，将其与环烯烃聚合物(COP)膜(厚度23μm)介由制造例3中得到的相位差层贴合层用粘接剂(厚度1～2μm)利用捏合辊进行层叠。然后，从COP膜侧照射调整成波长365nm处的累积光量为300mJ/cm2的紫外线，得到厚度1.5μm的第1增强层41。COP膜在形成第1增强层41之后剥离除去。
3.对步骤1中得到的贴合体的粘接/粘合剂的面进行电晕处理，对步骤2中形成的第1增强层41的面进行电晕处理，将电晕处理面彼此贴合，得到在相位差层30的上部具有第1增强层41的圆偏振片200。
＜实施例2＞
图3所示的圆偏振片300的制造
1.对制造例1中得到的偏振层10的罩面层13侧的面进行电晕处理，对制造例2中得到的粘接/粘合剂层20用粘合剂层的面进行电晕处理，将电晕处理面彼此贴合。
2.对得到的贴合体的粘接/粘合剂层20用粘合剂层的面进行电晕处理，对制造例3中得到的相位差层30的λ/4相位差层侧的面进行电晕处理，将电晕处理面彼此贴合。
3.将对得到的贴合体的正C层侧的面进行电晕处理的面与另行准备的COP膜(厚度23μm)介由制造例3中得到的相位差层贴合层用粘接剂(厚度1.5μm)利用捏合辊进行层叠。然后，从COP膜侧照射调整成波长365nm处的累积光量为300mJ/cm2的紫外线，除去COP膜，得到在相位差层的下部具有第2增强层42的圆偏振片300。
＜实施例3＞
图4所示的圆偏振片400的制造
对实施例1中得到的圆偏振片200的正C层侧的面进行电晕处理。接下来，将其与另行准备的COP膜(厚度23μm)介由制造例3中得到的相位差层贴合层用粘接剂(厚度1.5μm)利用捏合辊进行层叠。然后，从COP膜侧照射调整成波长365nm处的累积光量为300mJ/cm2的紫外线，除去COP膜，得到在相位差层30的上部具有第1增强层41且在相位差层30的下部具有第2增强层42的圆偏振片400。
＜实施例4＞
图1所示的圆偏振片100的制造
与实施例2的步骤1和2同样地得到圆偏振片100。将该圆偏振片进一步以80℃熟化1小时。
＜比较例1＞
在输出功率0.3kW、处理速度3m/分钟的条件下对制造例3中得到的带有PET膜的λ/4相位差层31的λ/4相位差层侧和带有PET膜的正C层33的正C层侧进行电晕处理。在λ/4相位差层31与正C层33之间配置制造例2中得到的粘接/粘合剂层20用粘合剂层，将两者贴合。按照上述步骤来制作依次具备λ/4相位差层(厚度2.0μm)、相位差层贴合层(厚度5μm)和正C层(厚度450nm)的相位差层。作为基材的PET膜在制造圆偏振片的过程中适当地剥离。
使用上述相位差层来代替制造例3中得到的相位差层30，除此以外，与实施例2的步骤1和2同样地得到圆偏振片。得到的圆偏振片的结构与实施例4同样，但在相位差层贴合层的弹性模量(储能弹性模量)为0.0007GPa的方面不同。
＜比较例2＞
使用还用作保护层的TAC膜来代替PET膜，除此以外与制造例3同样地在TAC膜上形成正C层。
使用所得到的带有TAC膜的正C层，除此以外，与比较例1同样地得到圆偏振片。由此，得到在相位差层的下部具有TAC膜(厚度25μm)作为增强层的圆偏振片。
＜裂纹应变的测定＞
将各圆偏振片裁断成长5cm×宽10mm的尺寸来制备样品。使用UTM(UniversalTesting Machine，株式会社岛津制作所制“autograph AG－X”(产品名))，利用夹子夹住制备的样品的两端，一边在长度方向以4mm/分钟的速度拉伸，一边目视观察样品表面。将样品产生裂纹时的伸长率记录为裂纹应变(％)。例如，在实施例1中产生裂纹时的样品的长度为6.25cm，因此裂纹应变计算为100×(6.25－5)/5＝25％。
＜动态耐弯曲性试验＞
动态弯曲试验在室温条件下(温度25℃，湿度50％)进行。在实施例和比较例中制造的圆偏振片的保护层上贴合在单面上具有硬涂层(厚度10μm)的聚酰亚胺系高分子树脂膜(前面板，厚度40μm)，在正C层上双重贴合2片聚酰亚胺膜(背面板，厚度均为38μm，拉伸弹性模量5GPa以上)，得到弯曲试验用层叠体。上述膜的贴合中使用了除了将交联剂的使用量变更为3.0份以外与制造例2同样地制备的弯曲试验用粘合剂层(厚度25μm)。
将得到的弯曲试验用层叠体以平坦的状态(未弯曲的状态)设置于动态弯曲试验机(Science Town公司制“STS－VRT－500”(产品名))，以前面板层侧成为内侧的方式(内折叠方式)使其弯曲180°，然后，恢复到原来的平坦的状态。弯曲半径在室温条件下为1.0mm。
将进行1次使其弯曲并恢复为平坦的操作计数为弯曲次数1次，重复进行该动作。弯曲速度为60rpm。将弯曲操作中弯曲的区域中最下层的相位差层产生裂纹(破裂或断裂)时的弯曲次数作为极限弯曲次数记录于表1。
＜静态弯曲耐久性试验＞
图5是示出本发明的圆偏振片的静态弯曲耐久性试验(芯轴弯曲试验)的方法的截面图。首先，将上述弯曲试验用层叠体裁断为1cm×10cm的试验片。将裁断后的弯曲试验用层叠体52以其前面板侧为上侧的方式放置于试验板51上，在其上放置直径3mm的铁制棒53(图5中的(a))。夹着铁制棒53用手将试验板51和弯曲试验用层叠体52折弯180°，并固定(图5中的(b))。其后，在高温高湿条件下(温度60℃，湿度90％)载置折叠状态的弯曲试验用层叠体52。
在弯曲操作中弯曲的区域，以构成圆偏振片的层中的最下层的相位差层产生裂纹时为基准，对静态弯曲耐久性进行如下评价。将结果示于表1。
A：在经过30天的时刻未产生裂纹。
B：在经过30天的时刻产生了裂纹。
C：在经过20天的时刻产生了裂纹。
D：在经过10天的时刻产生了裂纹。
[表1]
Figure BDA0003931848130000231
*实施例4中，在80℃下熟化1小时。
根据表1可知：裂纹应变高的本发明的圆偏振片具有优异的耐弯曲性。其中，在相位差层的上部、下部具有增强层的圆偏振片具有特别优异的耐弯曲性。
符号说明
10…偏振层，
11…保护层，
12…线偏振层，
13…罩面层，
20…粘接/粘合剂层，
30…相位差层，
31…λ/4相位差层，
32…相位差层贴合层，
33…正C层，
41…第1增强层，
42…第2增强层，
51…试验板，
52…弯曲试验用层叠体，
53…铁制棒，
100，200，300，400…圆偏振片。

Claims (11)

1.一种圆偏振片，具有：包含线偏振层而成的偏振层，以及包含液晶涂布型相位差层而成的相位差层，
该圆偏振片具有15％以上的裂纹应变，
该裂纹应变是将长5cm×宽10mm的圆偏振片的两端在长度方向以4mm/分钟的速度拉伸而在该圆偏振片产生裂纹时的伸长率，伸长率的单位为％。
2.根据权利要求1所述的圆偏振片，其中，所述相位差层为包含λ/4相位差层、相位差层贴合层和正C层而成的。
3.根据权利要求2所述的圆偏振片，其中，所述相位差层贴合层具有1GPa以上的弹性模量。
4.根据权利要求2或3所述的圆偏振片，其中，所述相位差层贴合层具有1～5μm的厚度。
5.根据权利要求2～4中任一项所述的圆偏振片，其中，所述正C层为液晶涂布型的相位差层。
6.根据权利要求1～5中任一项所述的圆偏振片，其中，所述相位差层在其至少一个面具有增强层。
7.根据权利要求6所述的圆偏振片，其中，所述增强层形成于所述相位差层的上部。
8.根据权利要求6所述的圆偏振片，其中，所述增强层形成于所述相位差层的下部。
9.根据权利要求6所述的圆偏振片，其中，所述增强层形成于所述相位差层的上部和下部。
10.根据权利要求1～9中任一项所述的圆偏振片，其中，具有5～50μm的厚度。
11.根据权利要求1～10中任一项所述的圆偏振片，其中，具有如下耐弯曲性：将以偏振层为内侧以弯曲半径1mm弯曲180°并伸展的操作反复进行30万次时，相位差层不产生破裂或断裂。
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