CN115430327A - 一种半导体用boe蚀刻液制备装置 - Google Patents

一种半导体用boe蚀刻液制备装置 Download PDF

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CN115430327A CN202211068497.1A CN202211068497A CN115430327A CN 115430327 A CN115430327 A CN 115430327A CN 202211068497 A CN202211068497 A CN 202211068497A CN 115430327 A CN115430327 A CN 115430327A
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陈桂红
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Abstract

本申请涉及一种半导体用BOE蚀刻液制备装置,涉及搅拌装置的技术领域,其包括支撑架和搅拌桶,所述搅拌桶设置在支撑架上,所述支撑架的上还固定设置有连接架,所述连接架连接有密封盖,所述密封盖位于搅拌桶上方以对搅拌桶进行密封;所述密封盖上设置有搅拌电机,所述搅拌电机的驱动轴贯穿密封盖连接有搅拌套筒,所述搅拌套筒的侧壁上设置有若干个搅拌叶,所述搅拌叶的侧壁上设置有若干个搅拌片;所述搅拌叶与搅拌套筒之间转动连接,所述搅拌桶内设置有搅拌组件,所述搅拌组件用于驱动搅拌叶与搅拌套筒之间旋转;本申请具有对多种液体进行均匀有效搅拌,提高搅拌效果,增强搅拌效率,进而提高产品质量的优势。

Description

一种半导体用BOE蚀刻液制备装置
技术领域
本申请涉及搅拌装置的技术领域,尤其是涉及一种半导体用BOE蚀刻液制备装置。
背景技术
目前缓冲氧化蚀刻剂主要用于微电子行业,可作为清洗剂、蚀刻剂,在半导体工业中常用于蚀刻无光刻胶护罩的氧化层;其主要成分为氢氟酸和氟化铵的酸性氟化铵蚀刻液,又称为BOE蚀刻液,在生产过程中需要用装置对各种类型的液体之间进行搅拌中和。
相关技术中设计有申请公布号为CN114504970A的中国专利提供了一种半导体用BOE蚀刻液制备装置及其制备方法,包括有制备桶和制备搅拌机构,制备搅拌机构包括门架、升降台、制备搅拌电机和搅拌桨,制备桶位于门架的下方,升降台设置在门架上,制备搅拌电机安装在升降台上,搅拌桨与制备搅拌电机的驱动轴相互连接;需要对BOE蚀刻液进行生产时,将各类溶液倒入制备桶内,然后通过升降台将搅拌桨伸入制备桶内,制备搅拌电机带动搅拌桨转动,搅拌桨对制备桶内的溶液搅拌混合。
针对上述中的相关技术,单纯通过搅拌桨旋转对液体进行搅拌适用于固液进行混合,而对液体与液体之间的相互混合搅拌效果较差,不同高度的液体受介质密度等原因难以充分混合到一起,难以对多种液体进行均匀有效搅拌,搅拌效率低,搅拌效果差,进而影响了BOE蚀刻液的产品质量,因此有待改善。
发明内容
本申请的目的是提供一种半导体用BOE蚀刻液制备装置,具有对多种液体进行均匀有效搅拌,提高搅拌效果,增强搅拌效率,进而提高产品质量的优势。
本申请提供的一种半导体用BOE蚀刻液制备装置采用如下的技术方案:
一种半导体用BOE蚀刻液制备装置,包括支撑架和搅拌桶,所述搅拌桶设置在支撑架上,所述支撑架的上还固定设置有连接架,所述连接架连接有密封盖,所述密封盖位于搅拌桶上方以对搅拌桶进行密封;所述密封盖上设置有搅拌电机,所述搅拌电机的驱动轴贯穿密封盖连接有搅拌套筒,所述搅拌套筒的侧壁上设置有若干个搅拌叶,所述搅拌叶的侧壁上设置有若干个搅拌片;所述搅拌叶与搅拌套筒之间转动连接,所述搅拌桶内设置有搅拌组件,所述搅拌组件用于驱动搅拌叶与搅拌套筒之间旋转。
通过采用上述技术方案,需要对BOE蚀刻液进行制备时,将各种类型的溶液通过密封盖上的进料口倒入搅拌桶内,而连接架对密封盖进行固定,密封盖对搅拌桶开口进行密封;然后对搅拌桶内的溶液进行搅拌,通过搅拌电机带动搅拌套筒在搅拌桶内转动,搅拌套筒转动时带动搅拌叶对搅拌桶内的溶液进行搅拌,同时搅拌组件驱动搅拌叶与搅拌套筒之间旋转,搅拌叶转带动搅拌片搅拌,进而实现搅拌叶沿搅拌套筒圆周方向转动的同时也可以沿搅拌叶自身圆周方向转动,从而搅拌叶和搅拌片可以同时对搅拌桶内的溶液进行搅拌,搅拌片的转动有利于搅拌桶内不同高度的溶液进行混合,实现对多种液体进行均匀有效搅拌,提高了搅拌桶内多种溶液的搅拌效果,进而提高了制备效率,减少搅拌时间,提高加工效率,进而增强产品质量。
搅拌组件可选的,所述搅拌组件包括旋转杆、主动锥齿轮、从动锥齿轮和连接杆,所述旋转杆转动设置在搅拌桶内的底壁上,所述旋转杆位于搅拌套筒内,所述主动锥齿轮固定套设在旋转杆的侧壁上,所述搅拌叶的一端伸入搅拌套筒内与从动锥齿轮固定连接,所述主动锥齿轮和从动锥齿轮之间相互啮合,所述连接杆的一端与搅拌套筒的内壁相互固定,所述连接杆的另一端与旋转杆相互固定,所述搅拌套筒和旋转杆同轴设置。
通过采用上述技术方案,搅拌电机带动搅拌套筒在搅拌桶内转动时,由于连接杆将搅拌套筒与旋转杆之间进行连接固定,从而搅拌套筒转动的同时带动旋转杆在搅拌套筒内同步转动,旋转杆转动的同时带动主动锥齿轮转动,主动锥齿轮与从动锥齿轮转动,从动锥齿轮转动带动搅拌叶转动,实现一个搅拌电机带动搅拌套筒和搅拌叶同时转动的效果,减少了设备的实现成本。
可选的,所述搅拌套筒的内壁上设置有支撑杆,所述支撑杆连接有支撑环,所述旋转杆贯穿支撑环,所述支撑环的内壁和旋转杆的外壁相互贴合。
通过采用上述技术方案,搅拌电机带动搅拌套筒和旋转杆同步转动时,支撑环的内壁和旋转杆的外壁相互贴合,支撑杆和支撑环对旋转杆支撑,提高了旋转杆在搅拌套筒内的稳定性。
可选的,所述搅拌桶包括底座和筒体,所述底座固定设置在支撑架上,所述底座的表面开设有旋转槽,所述筒体转动设置在旋转槽内,所述底座上设置有旋转组件,所述旋转组件用于驱动筒体在旋转槽内转动;所述筒体的内侧壁上设置有搅拌杆。
通过采用上述技术方案,搅拌电机带动搅拌套筒和搅拌叶转动以对搅拌桶内的溶液进行搅拌混合时,旋转组件带动筒体在旋转槽内转动,筒体的转动方向和搅拌套筒的转动方向相反,筒体转动的同时搅拌杆可以对溶液进行搅拌,有利于对靠近筒体内侧壁位置的溶液进行搅拌,从而进一步提高了对搅拌桶内溶液的搅拌效果。
可选的,所述旋转组件包括旋转电机、齿轮和齿条,所述旋转电机安装在底座上,所述齿轮与旋转电机的驱动轴相互连接,所述齿条固定设置筒体的外壁上,所述齿条与齿轮之间相互啮合。
通过采用上述技术方案,需要带动筒体转动时,通过旋转电机带动齿轮转动,齿轮与齿条相抵,进而带动与齿条相连的筒体在旋转槽内转动,控制方便快捷。
可选的,所述筒体的外壁上设置有密封环块,所述旋转槽的内侧壁上开设有密封环槽,所述密封环块与密封环槽相互适配,所述密封环槽的内侧壁上设置有安装槽,所述安装槽内设置有与密封环块表面相抵的密封圈。
通过采用上述技术方案,筒体在旋转槽内转动时,密封环块在密封环槽内转动,密封环块的外壁和密封环槽的内壁相互贴合,密封环块和密封环槽提高了筒体与旋转槽之间的密封性,增大了溶液溢出路径,同时安装槽内的密封圈与密封环块表面相抵的,密封圈对密封环块和密封环槽之间的间隙进行密封,进一步提高了密封环块和密封环槽之间的密封性,从而筒体内的溶液不易从筒体与旋转槽之间的缝隙流出,提高了筒体在旋转时搅拌桶的密封性,减少了浪费和污染。
可选的,所述密封环槽的底壁上开设有若干个减摩槽,所述减摩槽内嵌设有减摩球,所述密封环块的底壁上开设有供减摩球插设并且滑移的滑移槽,所述减摩球与滑移槽的底壁相抵。
通过采用上述技术方案,旋转电机带动筒体在旋转槽内转动时,减摩球与滑移槽的底壁相抵,同时减摩球可以在减摩槽转动,筒体转动的同时,减摩球在滑移槽内滑移,减摩球减少了筒体与旋转槽之间的摩擦力,从而有利于旋转组件带动筒体在旋转槽内旋转。
可选的,所述密封盖的表面开设有清洁孔,所述清洁孔内贯穿设置有清洁杆,所述清洁杆的侧壁上设置有可与筒体内壁相抵的清洁棉,所述密封盖上设置有固定件,所述固定件用于将清洁杆与密封盖之间进行固定。
通过采用上述技术方案,需要对筒体内壁进行清理时,将清洁杆在清洁孔内滑移,使清洁杆伸入筒体内,并将清洁杆上的清洁棉与筒体内壁相抵,然后利用固定件将清洁杆与密封盖之间进行固定,由于连接架将密封盖与支撑架之间连接固定,利用旋转组件带动筒体在旋转槽内旋转,从而筒体与清洁棉之间旋转,筒体旋转的同时清洁棉对筒体内壁进行有效清洁,实现自动对搅拌桶内壁进行清洁的作用,无需人为清理,提高了设备的自动化程度。
可选的,所述固定件为插销,所述清洁杆的侧壁上开设有若干个供插销插设并且相抵的固定孔。
通过采用上述技术方案,不需要清洁棉对筒体内壁进行清洁时,将清洁杆从筒体内抽出,清洁杆可以对清洁孔进行密封,然后将插销插入位于清洁杆上较低端的固定孔内,插销与固定孔内壁相抵,从而将清洁杆固定在密封盖的上方;需要使用清洁棉对筒体内壁进行清洁时,将插销与固定孔相互脱离,然后驱动清洁杆在清洁孔内滑移,将清洁杆伸入筒体内,最后将插销插入位于清洁杆上较高端的固定孔内,从而将清洁杆固定在筒体内,操作方便快捷,实现成本低。
综上所述,本申请包括以下至少一种有益技术效果:
1.通过设置支撑架、搅拌桶、连接架、密封盖、搅拌电机、搅拌套筒、搅拌叶、搅拌片、旋转杆、主动锥齿轮、从动锥齿轮和连接杆,实现搅拌叶沿搅拌套筒圆周方向转动的同时也可以沿搅拌叶自身圆周方向转动,从而搅拌叶和搅拌片可以同时对搅拌桶内的溶液进行搅拌,搅拌片的转动有利于搅拌桶内不同高度的溶液进行混合,实现对多种液体进行均匀有效搅拌,提高了搅拌桶内多种溶液的搅拌效果,进而提高了制备效率,减少搅拌时间,提高加工效率,进而增强产品质量;
2.通过设置底座、筒体、旋转槽、搅拌杆、旋转电机、齿轮、齿条、密封环块、密封环槽、安装槽和密封圈,搅拌电机带动搅拌套筒和搅拌叶转动以对搅拌桶内的溶液进行搅拌混合时,旋转电机带动筒体在旋转槽内转动,筒体的转动方向和搅拌套筒的转动方向相反,筒体转动的同时搅拌杆可以对溶液进行搅拌,有利于对靠近筒体内侧壁位置的溶液进行搅拌,从而进一步提高了对搅拌桶内溶液的搅拌效果;
3.通过设置清洁孔、清洁杆、清洁棉和固定件,需要对筒体内壁进行清理时,将清洁杆在清洁孔内滑移,使清洁杆伸入筒体内,并将清洁杆上的清洁棉与筒体内壁相抵,然后利用固定件将清洁杆与密封盖之间进行固定,再利用旋转组件带动筒体在旋转槽内旋转,从而筒体与清洁棉之间旋转,筒体旋转的同时清洁棉对筒体内壁进行有效清洁,实现自动对搅拌桶内壁进行清洁的作用,无需人为清理,提高了设备的自动化程度。
附图说明
图1是本申请实施例提供的一种半导体用BOE蚀刻液制备装置的整体剖面示意图;
图2是图1中A部分的局部放大示意图;
图3是图1中B部分的局部放大示意图;
图中,1、支撑架;2、搅拌桶;21、底座;211、旋转槽;22、筒体;221、搅拌杆;222、出料口;3、连接架;31、密封盖;311、进料口;4、搅拌电机;41、搅拌套筒;42、搅拌叶;43、搅拌片;5、搅拌组件;51、旋转杆;52、主动锥齿轮;53、从动锥齿轮;54、连接杆;6、支撑杆;61、支撑环;7、旋转组件;71、旋转电机;72、齿轮;73、齿条;8、密封环块;81、密封环槽;82、安装槽;821、密封圈;9、减摩槽;91、减摩球;92、滑移槽;10、清洁孔;101、清洁杆;1011、清洁棉;1012、固定孔;11、固定件。
具体实施方式
以下结合附图1-附图3,对本申请作进一步详细说明。
一种半导体用BOE蚀刻液制备装置,参照图1,包括包括支撑架1和搅拌桶2,搅拌桶2设置在支撑架1上,搅拌桶2包括底座21和筒体22,底座21通过焊接固定在支撑架1上,筒体22设置在底座21上。支撑架1的侧壁上还通过焊接固定设置有连接架3,连接架3远离支撑架1的一端焊接固定连接有密封盖31,密封盖31位于搅拌桶2的上方且对搅拌桶2的开口进行密封。密封盖31的上表面开设有进料口311,筒体22的外侧壁开设有出料口222。
参照图1,密封盖31上通过螺栓固定安装有搅拌电机4,搅拌电机4的驱动轴贯穿密封盖31连接有搅拌套筒41,搅拌套筒41伸入筒体22内,搅拌套筒41的长度方向沿筒体22的高度方向设置,搅拌套筒41远离搅拌电机4方向的一端与底座21的上表面紧密贴合,以确保搅拌套筒41与底座21之间具有良好的密封性。搅拌套筒41的侧壁上设置有若干个搅拌叶42,搅拌叶42的侧壁上固定设置有若干个搅拌片43,搅拌叶42与搅拌套筒41之间转动连接,搅拌桶2内还设置有搅拌组件5。在对BOE蚀刻液进行制备时,将各种类型的溶液通过密封盖31上的进料口311倒入搅拌桶2内,然后启动搅拌电机4,搅拌电机4带动搅拌套筒41旋转,搅拌套筒41旋转带动搅拌叶42对搅拌桶2内的溶液进行搅拌。同时搅拌组件5带动搅拌叶42与搅拌套筒41之间旋转,搅拌叶42转动带动搅拌片43搅拌,实现搅拌叶42沿搅拌套筒41圆周方向转动的同时也可以沿搅拌叶42自身圆周方向转动,从而搅拌叶42和搅拌片43同时对筒体22内的溶液进行搅拌。搅拌片43转动时,有利于筒体22内不同高度的溶液进行混合,实现对多种液体进行均匀有效搅拌的效果,提高了搅拌效果,进而提高了加工效率。
参照图1,搅拌组件5包括旋转杆51、主动锥齿轮52、从动锥齿轮53和连接杆54,旋转杆51转动设置在底座21的表面上,旋转杆51位于搅拌套筒41内,旋转杆51的长度方向沿搅拌套筒41的长度方向设置,搅拌套筒41和旋转杆51之间同轴设置。主动锥齿轮52通过焊接固定套设在旋转杆51的侧壁上,主动锥齿轮52的数量可以根据搅拌叶42的数量设置若干个,主动锥齿轮52与旋转杆51之间同轴设置。搅拌叶42的一端伸入搅拌套筒41内与从动锥齿轮53固定连接,主动锥齿轮52和从动锥齿轮53之间相互啮合。连接杆54的一端与搅拌套筒41的内壁相互固定,连接杆54的另一端与旋转杆51外壁相互固定。当搅拌电机4带动搅拌套筒41旋转时,搅拌套筒41通过连接杆54带动旋转杆51同步转动,旋转杆51转动的同时带动主动锥齿轮52转动,进而主动锥齿轮52与从动锥齿轮53转动,从动锥齿轮53再带动搅拌叶42转动,实现一个搅拌电机4带动搅拌套筒41和搅拌叶42同时沿个子的圆周方向进行转动的效果。
为了提高旋转杆51的稳定性,参照图1,搅拌套筒41的内壁上焊接固定设置有支撑杆6,支撑杆6可以设置有若干个,支撑杆6固定连接有支撑环61,旋转杆51贯穿支撑环61。当搅拌套筒41和旋转杆51在同步转动时,支撑环61一同转动,而支撑环61的内侧壁和旋转杆51的外壁相互贴合,支撑杆6和支撑环61对旋转杆51支撑,从而提高了旋转杆51在搅拌套筒41内旋转时的稳定性。
参照图1和图2,底座21的表面开设有旋转槽211,筒体22转动设置在旋转槽211内,筒体22的外侧壁和旋转槽211的内侧壁相互贴合,筒体22的内侧壁上固定设置有若干个搅拌杆221。底座21上设置有旋转组件7,旋转组件7包括旋转电机71、齿轮72和齿条73,旋转电机71通过螺栓固定安装在底座21上,齿轮72与旋转电机71的驱动轴相互连接,齿条73通过焊接固定设置筒体22的外壁上,齿条73的长度方向沿筒体22的圆周方向设置,齿条73与齿轮72之间相互啮合。搅拌电机4带动搅拌套筒41和搅拌叶42对筒体22内的液体进行搅拌时,旋转电机71带动齿轮72转动,齿轮72与齿条73相抵,进而带动与齿条73相连的筒体22在旋转槽211内转动,而筒体22的转动方向和搅拌套筒41的转动方向相反,同时搅拌杆221可以对溶液进行搅拌,有利于对靠近筒体22内侧壁位置的溶液进行搅拌混合,进一步提高了搅拌桶2内溶液的搅拌效果和效率。
为了提高筒体22与旋转槽211之间的密封性,参照图1和图2,筒体22的外壁上固定设置有密封环块8,密封环块8的长度方向沿筒体22的圆周方向设置,旋转槽211的内侧壁上开设有密封环槽81,密封环槽81的长度方向沿旋转槽211的圆周方向设置,密封环块8与密封环槽81相互适配。当旋转组件7带动筒体22在旋转槽211内转动时,密封环块8在密封环槽81内转动,密封环块8的外壁和密封环槽81的内壁相互贴合,增大了溶液溢出路径。密封环槽81的内侧壁上设置有安装槽82,安装槽82的长度方向沿密封环槽81的长度方向设置,安装槽82内设置有与密封环块8表面相抵的密封圈821。密封圈821对密封环块8和密封环槽81之间的间隙进行密封,进一步提高了密封环块8和密封环槽81之间的密封性,从而搅拌桶2内的溶液不易从筒体22与旋转槽211之间的缝隙流出,提高了筒体22在旋转时的密封性,减少了不必要的污染和浪费。
为了便于筒体22转动,参照图1和图2,密封环槽81的底壁上开设有若干个减摩槽9,减摩槽9内嵌设有减摩球91,密封环块8的底壁上开设有供减摩球91插设并且滑移的滑移槽92,滑移槽92的长度方向沿密封环块8的圆周方向设置。当旋转电机71带动筒体22在旋转槽211内转动时,减摩球91与滑移槽92的底壁相抵,同时减摩球91在减摩槽9内转动,随着密封环块8的转动,减摩球91在滑移槽92内滑移,减摩球91减少了筒体22与旋转槽211之间的摩擦力,进而有利于旋转组件7带动筒体22在旋转槽211内转动。
为了便于对筒体22内壁进行清洁,参照图1和图3,密封盖31的表面开设有清洁孔10,清洁孔10内贯穿设置有清洁杆101,清洁杆101的长度方向沿筒体22的高度方向设置。清洁杆101的侧壁上粘接固定设置有清洁棉1011,清洁棉1011可与筒体22的内壁相抵。密封盖31上设置有固定件11,固定件11为插销,插销通过螺栓固定设置在密封盖31的上表面,清洁杆101的侧壁上开设有若干个供插销插设的固定孔1012,固定孔1012至少设置有两个。当需要对筒体22内壁进行清洁时,将清洁杆101在清洁孔10内滑移,使清洁杆101伸入筒体22内,并将清洁杆101上的清洁棉1011与筒体22内壁相抵,再滑移插销,将插销插入位于清洁杆101上较高端的固定孔1012内,从而将清洁杆101固定在密封盖31的下表面,然后再利用旋转组件7带动筒体22在旋转槽211内旋转,筒体22旋转的同时清洁棉1011对筒体22内壁进行有效清洁,实现自动对搅拌桶2内壁进行清洁的功能。在不需要使用清洁棉1011对筒体22内壁进行清洁时,将插销插入位于清洁杆101上较低端的固定孔1012内,插销与固定孔1012内壁相抵,可以将清洁杆101固定在密封盖31的上方,同时清洁杆101可以对清洁孔10密封,操作方便快捷。
本申请实施例的实施原理为:
需要对BOE蚀刻液进行制备时,将各种类型的溶液通过密封盖31上的进料口311倒入搅拌桶2内,启动搅拌电机4和旋转电机71,搅拌电机4带动搅拌套筒41在筒体22内转动,搅拌套筒41转动时带动搅拌叶42对搅拌桶2内的溶液进行搅拌。搅拌套筒41转动的同时通过连接杆54带动旋转杆51转动,旋转杆51带动主动锥齿轮52转动,主动锥齿轮52与从动锥齿轮53转动,从动锥齿轮53转动带动搅拌叶42转动,搅拌叶42带动搅拌片43转动。实现搅拌叶42沿搅拌套筒41圆周方向转动的同时也可以沿搅拌叶42其自身圆周方向转动,从而搅拌叶42和搅拌片43可以同时对搅拌桶2内的溶液进行搅拌。同时旋转电机71带动筒体22在旋转槽211内转动,搅拌杆221再进行搅拌,有利于搅拌桶2内不同位置的溶液充分混合,提高了搅拌效果,进而提高了搅拌效率,增强了产品质量。
本具体实施方式的实施例均为本申请的较佳实施例,并非依此限制本申请的保护范围,其中相同的零部件用相同的附图标记表示。故:凡依本申请的结构、形状、原理所做的等效变化,均应涵盖于本申请的保护范围之内。

Claims (9)

1.一种半导体用BOE蚀刻液制备装置,包括支撑架(1)和搅拌桶(2),所述搅拌桶(2)设置在支撑架(1)上,其特征在于,所述支撑架(1)的上还固定设置有连接架(3),所述连接架(3)连接有密封盖(31),所述密封盖(31)位于搅拌桶(2)上方以对搅拌桶(2)进行密封;所述密封盖(31)上设置有搅拌电机(4),所述搅拌电机(4)的驱动轴贯穿密封盖(31)连接有搅拌套筒(41),所述搅拌套筒(41)的侧壁上设置有若干个搅拌叶(42),所述搅拌叶(42)的侧壁上设置有若干个搅拌片(43);所述搅拌叶(42)与搅拌套筒(41)之间转动连接,所述搅拌桶(2)内设置有搅拌组件(5),所述搅拌组件(5)用于驱动搅拌叶(42)与搅拌套筒(41)之间旋转。
2.根据权利要求1所述的一种半导体用BOE蚀刻液制备装置,其特征在于,所述搅拌组件(5)包括旋转杆(51)、主动锥齿轮(52)、从动锥齿轮(53)和连接杆(54),所述旋转杆(51)转动设置在搅拌桶(2)内的底壁上,所述旋转杆(51)位于搅拌套筒(41)内,所述主动锥齿轮(52)固定套设在旋转杆(51)的侧壁上,所述搅拌叶(42)的一端伸入搅拌套筒(41)内与从动锥齿轮(53)固定连接,所述主动锥齿轮(52)和从动锥齿轮(53)之间相互啮合,所述连接杆(54)的一端与搅拌套筒(41)的内壁相互固定,所述连接杆(54)的另一端与旋转杆(51)相互固定,所述搅拌套筒(41)和旋转杆(51)同轴设置。
3.根据权利要求2所述的一种半导体用BOE蚀刻液制备装置,其特征在于,所述搅拌套筒(41)的内壁上设置有支撑杆(6),所述支撑杆(6)连接有支撑环(61),所述旋转杆(51)贯穿支撑环(61),所述支撑环(61)的内壁和旋转杆(51)的外壁相互贴合。
4.根据权利要求1所述的一种半导体用BOE蚀刻液制备装置,其特征在于,所述搅拌桶(2)包括底座(21)和筒体(22),所述底座(21)固定设置在支撑架(1)上,所述底座(21)的表面开设有旋转槽(211),所述筒体(22)转动设置在旋转槽(211)内,所述底座(21)上设置有旋转组件(7),所述旋转组件(7)用于驱动筒体(22)在旋转槽(211)内转动;所述筒体(22)的内侧壁上设置有搅拌杆(221)。
5.根据权利要求4所述的一种半导体用BOE蚀刻液制备装置,其特征在于,所述旋转组件(7)包括旋转电机(71)、齿轮(72)和齿条(73),所述旋转电机(71)安装在底座(21)上,所述齿轮(72)与旋转电机(71)的驱动轴相互连接,所述齿条(73)固定设置筒体(22)的外壁上,所述齿条(73)与齿轮(72)之间相互啮合。
6.根据权利要求5所述的一种半导体用BOE蚀刻液制备装置,其特征在于,所述筒体(22)的外壁上设置有密封环块(8),所述旋转槽(211)的内侧壁上开设有密封环槽(81),所述密封环块(8)与密封环槽(81)相互适配,所述密封环槽(81)的内侧壁上设置有安装槽(82),所述安装槽(82)内设置有与密封环块(8)表面相抵的密封圈(821)。
7.根据权利要求6所述的一种半导体用BOE蚀刻液制备装置,其特征在于,所述密封环槽(81)的底壁上开设有若干个减摩槽(9),所述减摩槽(9)内嵌设有减摩球(91),所述密封环块(8)的底壁上开设有供减摩球(91)插设并且滑移的滑移槽(92),所述减摩球(91)与滑移槽(92)的底壁相抵。
8.根据权利要求4所述的一种半导体用BOE蚀刻液制备装置,其特征在于,所述密封盖(31)的表面开设有清洁孔(10),所述清洁孔(10)内贯穿设置有清洁杆(101),所述清洁杆(101)的侧壁上设置有可与筒体(22)内壁相抵的清洁棉(1011),所述密封盖(31)上设置有固定件(11),所述固定件(11)用于将清洁杆(101)与密封盖(31)之间进行固定。
9.根据权利要求8所述的一种半导体用BOE蚀刻液制备装置,其特征在于,所述固定件(11)为插销,所述清洁杆(101)的侧壁上开设有若干个供插销插设并且相抵的固定孔(1012)。
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