CN115365495A - 铜包覆云母粉及其制备方法 - Google Patents

铜包覆云母粉及其制备方法 Download PDF

Info

Publication number
CN115365495A
CN115365495A CN202210905770.5A CN202210905770A CN115365495A CN 115365495 A CN115365495 A CN 115365495A CN 202210905770 A CN202210905770 A CN 202210905770A CN 115365495 A CN115365495 A CN 115365495A
Authority
CN
China
Prior art keywords
copper
mica powder
layer
oxide
coated
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
CN202210905770.5A
Other languages
English (en)
Other versions
CN115365495B (zh
Inventor
李祈霖
黄腾
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Meizhou Sanbao Guangguang Mica Technology Co ltd
Guangdong Triratna New Material Science And Technology Co ltd
Original Assignee
Meizhou Sanbao Guangguang Mica Technology Co ltd
Guangdong Triratna New Material Science And Technology Co ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Meizhou Sanbao Guangguang Mica Technology Co ltd, Guangdong Triratna New Material Science And Technology Co ltd filed Critical Meizhou Sanbao Guangguang Mica Technology Co ltd
Priority to CN202210905770.5A priority Critical patent/CN115365495B/zh
Publication of CN115365495A publication Critical patent/CN115365495A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN115365495B publication Critical patent/CN115365495B/zh
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B22—CASTING; POWDER METALLURGY
    • B22F—WORKING METALLIC POWDER; MANUFACTURE OF ARTICLES FROM METALLIC POWDER; MAKING METALLIC POWDER; APPARATUS OR DEVICES SPECIALLY ADAPTED FOR METALLIC POWDER
    • B22F1/00—Metallic powder; Treatment of metallic powder, e.g. to facilitate working or to improve properties
    • B22F1/18—Non-metallic particles coated with metal
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B22—CASTING; POWDER METALLURGY
    • B22F—WORKING METALLIC POWDER; MANUFACTURE OF ARTICLES FROM METALLIC POWDER; MAKING METALLIC POWDER; APPARATUS OR DEVICES SPECIALLY ADAPTED FOR METALLIC POWDER
    • B22F1/00—Metallic powder; Treatment of metallic powder, e.g. to facilitate working or to improve properties
    • B22F1/14—Treatment of metallic powder
    • B22F1/145—Chemical treatment, e.g. passivation or decarburisation
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C18/00—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating
    • C23C18/16—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by reduction or substitution, e.g. electroless plating
    • C23C18/31—Coating with metals
    • C23C18/38—Coating with copper
    • C23C18/40—Coating with copper using reducing agents

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Silicates, Zeolites, And Molecular Sieves (AREA)
  • Pigments, Carbon Blacks, Or Wood Stains (AREA)

Abstract

本发明公开了一种铜包覆云母粉及其制备方法。这种铜包覆云母粉中，云母粉外依次包覆氧化物过渡层、氧化物底色层和铜微纳米层，从而使得氧化物过渡层和氧化物底色层可以稳固地附着在云母粉表面，铜微纳米层可以稳固地附着在氧化物底色层上，从而使得铜包覆云母粉的结构稳定。这种铜包覆云母粉在具备铜的优良导电性的前提下，还具备云母粉的片状特性，具有优秀的应用前景。此外，氧化物底色层的材料为Fe2O3，从而可以大幅度改善铜包覆云母粉的整体外观，使得铜包覆云母粉具有更接近铜的颜色和表观质感，外观上也更接近铜粉的外观，扩大了铜包覆云母粉的应用场景。

Description

铜包覆云母粉及其制备方法
技术领域
本发明涉及导电性粉末材料技术领域，尤其是涉及一种铜包覆云母粉制备方法。
背景技术
作为防静电填料、电磁波密封材料的导电性粉末早已获得广泛应用，不仅如此，导电性粉末还能增强塑料的机械强度。导电性粉末通常为金属粉末，主要包括银粉、镍粉和铜粉。其中银粉的化学稳定性好，导电性高，但价格昂贵，使用受到限制，一般用于重要的、可靠性高的电气设备上。镍粉价格适中，性能也比较稳定，故应用较为广泛。在贱金属中，铜是作为电子浆料的主要原材料，因为它具有理想的作为导体浆料应有的特性，用它制作的电子陶瓷元件的电极能达到使用要求，且价格比贵金属低得多，是一种性价比高的电极材料。
铜粉作为导电填料，其形貌和粒径对涂料的导电性有很大的影响。一般情况下，导电填料的粒径越小，相同质量铜粉的颗粒数越多，相互接触点也多，材料的导电性越好。球形导电填料主要是点接触，而片状填料主要是面接触，有利于电荷的传导，且表现光滑可增加接触面积，这都有利于导电性的提高。因此，制备片状、表面光滑、粒度小的导电填料是提高涂料导电性的关键。
制备超细铜粉的方法很多，如还原法、电解法、雾化法等，但制备的铜粉均是球形。传统的片状铜粉是通过机械球磨铜粉制得，该法成本较低，设备简单，但球磨过程中易带入杂质，制得的铜粉外形不规则、表面凹凸不平，性能不好。
云母粉是一种常见的片状材料，在云母粉外包覆铜后形成的铜包覆云母粉可以在具备铜的优良导电性的前提下，具备片状特性，有着优秀的应用前景。然而，由于云母粉的表面特性，其表面很难附着包括铜在内的金属材料，想要获得结构稳定的铜包覆云母粉较为困难。
发明内容
基于此，有必要提供一种结构稳定的铜包覆云母粉。
此外，还有必要提供一种用于制备上述铜包覆云母粉的铜包覆云母粉的制备方法。
一种铜包覆云母粉，包括云母粉、包覆在所述云母粉外的氧化物过渡层、包覆在所述氧化物过渡层外的氧化物底色层以及包覆在所述氧化物底色层外的铜微纳米层，所述氧化物底色层的材料为Fe2O3。
在一个实施例中，所述云母粉的粒径为10μm～40μm、20μm～80μm或50μm～200μm；
所述氧化物过渡层的厚度为10nm～50nm；所述氧化物底色层的厚度为200nm～400nm；所述铜微纳米层的厚度为300nm～600nm。
在一个实施例中，所述氧化物过渡层的材料为SnO2、SiO2或ZnO；
所述云母粉为天然云母粉或合成云母粉，优选人工合成云母粉KMg3[AlSi3O10]F2，通过湿法水力破碎，剥片研磨的方式制备而成，具有更好的径厚比及片面化学键力。
在一个实施例中，还包括包覆在所述铜微纳米层外的保护层，所述保护层的厚度为300nm～600nm。
一种上述的铜包覆云母粉的制备方法，包括如下步骤：
对云母片通过湿法水力破碎-剥片研磨得到径厚比好的云母粉，进行表面激活修饰预处理，得到预处理后的云母粉；
在预处理后的所述云母粉外依次包覆氧化物过渡层和氧化物底色层，得到半成品，其中，所述氧化物底色层的材料为Fe2O3；
在所述半成品外包覆铜微纳米层，得到所需要的铜包覆云母粉，其中，所述铜包覆云母粉包括所述云母粉、包覆在所述云母粉外的所述氧化物过渡层、包覆在所述氧化物过渡层外的所述氧化物底色层以及包覆在所述氧化物底色层外的所述铜微纳米层。
在一个实施例中，所述在预处理后的所述云母粉外依次包覆氧化物过渡层和氧化物底色层，得到半成品的操作为：
在液相条件下，分别在预处理后的所述云母粉外依次包覆预氧化物过渡层和氧化铁底色层，煅烧后所述预氧化物过渡层和所述氧化铁底色层分别转变成所述氧化物过渡层和所述氧化物底色层，得到半成品。
在一个实施例中，所述在所述半成品外包覆铜微纳米层的操作为：
在液相条件下，分别采用碱式碳酸铜为铜剂，胺类物质为络合剂，醛基物质为还原剂，通过液相沉积的方式，在所述半成品外逐步包覆所述铜微纳米层，微纳米层厚度可控。
在一个实施例中，所述碱式碳酸铜、所述胺类物质中的铵根和所述醛基物质中的醛基的摩尔比为0.8～1.8：7.2～8.2：3.5～4.5。
在一个实施例中，所述胺类物质包括乙二胺四乙酸二钠、酒石酸钾钠和质量百分比浓度为18％～28％氨水中的至少一种；
所述醛基物质包括维生素C、葡萄糖和碳原子数为1～12的直链或支链的醛中的至少一种。
在一个实施例中，还包括在所述半成品外包覆铜微纳米层的操作之后，继续包覆形成保护层的操作。
这种铜包覆云母粉中，云母粉外依次包覆氧化物过渡层、氧化物底色层和铜微纳米层，从而使得氧化物过渡层和氧化物底色层可以稳固地附着在云母粉表面，铜微纳米层可以稳固地附着在氧化物底色层上，从而使得铜包覆云母粉的结构稳定。这种铜包覆云母粉在具备铜的优良导电性的前提下，还具备云母粉的片状特性，具有优秀的应用前景。
此外，氧化物底色层的材料为Fe2O3，从而可以大幅度改善铜包覆云母粉的整体外观，使得铜包覆云母粉具有更接近铜的颜色和表观质感，外观上也更接近铜粉的外观，扩大了铜包覆云母粉的应用场景。
结合图2，这种铜包覆云母粉通过多重包覆，实现铜包覆云母粉的均匀片状化，外形更为规则，并且表面相对光滑，性能较好。
附图说明
为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
其中：
图1为一实施方式的铜包覆云母粉的制备方法的流程图。
图2为实施例1制得的铜包覆合成云母粉的XRD图。
具体实施方式
下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。
本发明公开了一实施方式的铜包覆云母粉，包括云母粉、包覆在云母粉外的氧化物过渡层、包覆在氧化物过渡层外的氧化物底色层以及包覆在氧化物底色层外的铜微纳米层，氧化物底色层的材料为Fe2O3。
这种铜包覆云母粉中，云母粉外依次包覆氧化物过渡层、氧化物底色层和铜微纳米层，从而使得氧化物过渡层和氧化物底色层可以稳固地附着在云母粉表面，铜微纳米层可以稳固地附着在氧化物底色层上，从而使得铜包覆云母粉的结构稳定。这种铜包覆云母粉在具备铜的优良导电性的前提下，还具备云母粉的片状特性，具有优秀的应用前景。
此外，氧化物底色层的材料为Fe2O3，从而可以大幅度改善铜包覆云母粉的整体外观，使得铜包覆云母粉具有更接近铜的颜色和表观质感，外观上也更接近铜粉的外观，扩大了铜包覆云母粉的应用场景。
结合图2，这种铜包覆云母粉还通过多重包覆，实现铜包覆云母粉的均匀片状化，外形更为规则，并且表面相对光滑，性能较好。
这种铜包覆云母粉铜将铜微纳米层包覆在云母粉表面，兼顾云母粉良好透明载体的作用，使铜包覆云母粉铜具有更好的耐候性、结构性等物理性能。
优选的，云母粉的粒径为10～40μm、20μm～80μm或50μm～200μm。
优选的，氧化物过渡层的厚度为10nm～50nm。
优选的，氧化物底色层的厚度为200nm～400nm。
优选的，铜微纳米层的厚度为300nm～600nm。
由于铜微纳米层的厚度为300nm～600nm，故在铜包覆云母粉表观上，无法达到金属铜粉的自然颜色和光泽，需要对其进行修饰，展现出更好的铜质感。
为了解决该问题，本发明中设计了氧化物底色层。具体来说，氧化物底色层的主要作用有两点：1、赋予粉体表面具有活性的化学键，使得铜微纳米层可以实现稳固地附着；2、改善铜包覆云母粉的整体外观，使得铜包覆云母粉具有更接近铜的颜色和表观质感，外观上也更接近铜粉的外观。
氧化物过渡层的主要作用在于使得氧化物底色层可以实现稳固地附着。
本实施方式中，氧化物过渡层的材料为SnO2、SiO2或ZnO。在其他的实施方式中，也可以选择具有类似功能的材料。
本实施方式中，云母粉为合成云母粉。具体来说，本实施方式中，合成云母粉为合成氟金云母粉KMg3[AlSi3O10]F2。
氟金云母粉KMg3[AlSi3O10]F2通过湿法水力破碎，剥片研磨的方式制备而成，具有更好的径厚比及片面化学键力。
在其他的实施方式中，云母粉也可以为天然云母粉。
优选的，本实施方式中，铜包覆云母粉还包括包覆在铜微纳米层外的保护层，保护层的厚度为10nm～50nm。
保护层可以保护铜微纳米层，避免铜微纳米层被外界氧化。
本实施方式中，保护层的材料为SiO2。在其他的实施方式中，也可以选择具有类似功能的材料。
结合图1，本发明还公开了一实施方式的上述铜包覆云母粉的制备方法，包括如下步骤：
S10、对云母粉进行预处理，得到预处理后的云母粉。
云母粉可以通过对云母片通过湿法水力破碎、剥片、研磨，得到。这种方法得到的云母粉径厚比较好。
预处理的目的为表面激活修饰。
具体来说，本实施方式中，预处理为粗化处理(粗糙化处理)，是通过酸的轻腐蚀，使云母粉表面产生均匀的断裂化学键，使云母粉外能更好的包覆氧化物过渡层。
具体来说，S10为：将云母粉加入到6mol/L盐酸溶液中，分散30min后静置1h，接着加入去离子水，搅拌并压滤脱水，冲洗后得到预处理后的云母粉。
S20、在预处理后的云母粉外依次包覆氧化物过渡层和氧化物底色层，得到半成品。
本实施方式中，氧化物底色层的材料为Fe2O3。
优选的，S20为：在液相条件下，分别在预处理后的云母粉外依次包覆预氧化物过渡层和氧化铁底色层，煅烧后预氧化物过渡层和氧化铁底色层分别转变成氧化物过渡层和氧化物底色层，得到半成品。
需要指出的是，这里的煅烧目的是使氧化层晶体晶型更稳定，不会因外界环境而改变晶型，从而颜色和性质改变。
氧化物过渡层的材料为SnO2或ZnO时，在制备时，可以选择相应的可溶性盐，形成的预氧化物过渡层实际上分别为对应的氢氧化物。
氧化物过渡层的材料为SiO2时，优选偏硅酸盐，因为整个反应体系偏向于酸性，在酸性溶液环境下，偏硅酸盐能更好的水解获得SiO2，水解效果优于硅酸盐水解。
氢氧化铁底色层的制备可以选择可溶性的三价铁盐。
具体来说，S20为：将预处理后的云母粉与水混合，从常温开始加热搅拌，升温至65℃～70℃，调pH值为1.5～2.0，边升温边搅拌，恒温搅拌0.5h；
滴定SnCl4溶液(或七水合硫酸锌或偏硅酸钠)，调整酸泵滴定速度为75d/min，用时30min～40min内加完，恒温搅30min；
滴加质量百分比浓度为10％NaOH的或质量百分比浓度为10％～15％的氨水调整pH值为3.0～3.5；
升温至82℃～84℃，温度达到后，再次调整pH值为3.0～3.5；
温度计达到82～84℃后，开始滴加FeCl3溶液，同时滴加碱液以保持溶液的pH为3.0～3.5，酸泵速度设为80d/min～90d/min，碱泵速度设为160d/min～180d/min，碱泵装10wt％NaOH或10wt％～15wt％的氨水；
反应完全后，反应物粉体表面呈现浅黄铜光泽；
滴加完保温搅拌30min后，取出静置1h后，倒去上清液，用蒸馏水稀释，洗涤抽滤，以120℃烘干；
反应产物在800℃下煅烧，保温30min之后，自然冷却，得到半成品。
S30、在半成品外包覆铜微纳米层，得到所需要的铜包覆云母粉。
其中，铜包覆云母粉包括云母粉、包覆在云母粉外的氧化物过渡层、包覆在氧化物过渡层外的氧化物底色层以及包覆在氧化物底色层外的铜微纳米层。
优选的，在半成品外包覆铜微纳米层的操作为：在液相条件下，分别采用碱式碳酸铜为铜剂，胺类物质为络合剂，醛基物质为还原剂，在半成品外包覆铜微纳米层。
相关的化学式如下：
Cu(OH)CO+8NH·H2O→2[Cu(NH3)4](OH)2+CO2↑+7H2O；
2R-CHO+[Cu(NH)](OH)+2H2O→2R-COONH4+2NH·HO+Cu↓+H2↑。
更优选的，在半成品外包覆铜微纳米层的操作为：在液相条件下，分别采用碱式碳酸铜为铜剂，胺类物质为络合剂，醛基物质为还原剂，α,α`-联吡啶为稳定剂，在半成品外包覆铜微纳米层。
具体来说，碱式碳酸铜、胺类物质中的铵根和醛基物质中的醛基的摩尔比为0.8～1.8：7.2～8.2：3.5～4.5。
α,α`-联吡啶添加量为碱式碳酸铜质量的0.005％～0.015％。
需要指出的是，由于不发生化学反应，这个数据一般都是按痕量来添加，具体数据影响不大。
优选的，胺类物质包括氨水、乙二胺四乙酸二钠和酒石酸钾钠中的至少一种。
优选的，醛基物质包括维生素C、葡萄糖和碳原子数为1～12的直链或支链的醛中的至少一种。
具体来说，S30为：将半成品和水混合，调节温度至20℃～30℃，再加入碱式碳酸铜，搅拌0.5小时(搅拌速度可为400rpm)。
将10wt％胺类物质溶液加入上述混合体系中，直至反应溶液澄清；
控制温度为20℃～30℃，pH为12～13，在搅拌的条件下，同时加入醛基物质溶液、稳定剂溶液和胺类物质溶液，半成品表面将从浅黄铜光泽逐步变成深铜色，稳定搅拌0.5小时后滤出得到所需要的铜包覆云母粉。
还原剂溶液按下述配置工艺制备：取3～4重量份醛基物质、100重量份30wt％的乙醇溶液混合，搅拌均匀后得到还原剂溶液。
优选的，S30还包括在半成品外包覆铜微纳米层的操作之后，继续包覆形成保护层的操作。
具体来说，继续包覆形成保护层的操作为：将滤出的粉料和水混合，在温度70℃～80℃的条件下，添加15wt％～20wt％的偏硅酸钠溶液，过程中用10wt％的HCl溶液进行pH值调节，维持pH值为5～6。然后滤出粉料烘干，在800℃下煅烧，保温30min之后，自然冷却。
这种铜微纳米层的制备方法在云母粉表面多次沉积，包覆过程精准可控，且包覆层牢固，耐候性强，制得的铜微纳米层保持了铜的良好性能并且具有良好的片状结构。
具体来说，氧化物过渡层、氧化物底色层以及铜微纳米层的厚度，均可以通过对制备过程的调节实现控制。
以下为具体实施例。
实施例中提及的份数，在未经说明的情况下，均为重量份数。
实施例1
取100份合成云母粉(20微米～80微米)(广东三宝新材料科技股份有限公司产，B2080)，加入400份去离子水，加入20份6mol/L盐酸溶液中，充分搅拌分散30min，静置1h。
经过抽滤式或板框式脱水，冲洗后干燥，得到粗化后的合成云母粉。
用1L的烧杯称取50g粗化后的合成云母粉，倒入蒸馏水至500mL，充分搅拌，加入3mol/L的HCl，调节pH值稳定在1.8左右，静置30min；
倒去上清液再加水至500mL，用数显恒温搅拌器从常温开始加热搅拌，升温至68℃左右，再次调pH值至1.5～2.0，边升温边搅拌，恒温搅拌0.5h；
滴定100mL配置好的质量百分比浓度为0.3-0.5％SnCl4溶液，调整酸泵滴定速度为75d/min，用时30-40min内加完，恒温搅30min；
滴加10wt％NaOH调整pH值为3.0～3.5；
pH控制器设置低限报警为3.0～3.5，温度补偿为82～84℃；
升温至82～84℃，温度达到后，调整pH值为3.0～3.5；
温度计达到82～84℃后，开始滴加质量百分比浓度为10％FeCl3溶液，同时滴加碱液控制溶液的pH，酸泵速度设为80～90d/min，碱泵速度设为160～180d/min，碱泵装10％NaOH或10-15％氨水；
反应完全后，合成云母粉表面呈现浅黄铜光泽，即可；
滴加完保温搅拌30min后，取出静置1h后，倒去上清液，用蒸馏水稀释，洗涤抽滤，以120℃烘干。
煅烧温度800℃，保温30min之后，自然冷却，得到半成品。
取30份半成品加入到反应容器中，再向反应容器中加入300重量份去离子水；然后将反应容器中的物料温度调节至20-30℃，再加入1份碱式碳酸铜Cu(OH)CO，搅拌0.5小时，搅拌速度为400rpm。
通过滴定隔膜泵，滴加浓度为10wt％乙二胺四乙酸二钠溶液到混合体系中，待反应溶液澄清为止，其中，碱式碳酸铜和乙二胺四乙酸二钠溶液中的铵根的摩尔比为1：8；
控制温度在20～30℃，pH值控制在12～13，不断搅拌的条件下，将配制好的还原剂溶液、稳定剂溶液(α,α`-联吡啶，添加量为碱式碳酸铜质量的0.01wt％)和22wt％氨水通过三个滴定隔膜泵，同时添加到反应容器中，半成品表面将从浅黄铜光泽，逐步变成深铜色，反应在1小时内添加完成，稳定搅拌0.5小时，然后滤出粉料。
还原剂溶液按下述配置工艺制备：取3～4重量份维生素C、100重量份30wt％的乙醇溶液混合，搅拌均匀后得到还原剂溶液。
将滤出粉料加入200份去离子水，在温度为70℃～80℃的条件下，添加100份18wt％的偏硅酸钠溶液，过程中用10％的HCl溶液进行pH值调节，维持pH值为5-6，在1小时内添加完成。然后滤出粉料烘干，煅烧温度800℃，保温30min之后，自然冷却，得到铜包覆合成云母粉。
图2为实施例1制得的铜包覆合成云母粉的XRD图。
结合图2，可以看出，实施例1制得的铜包覆合成云母粉通过多重包覆，实现铜包覆合成云母粉的均匀片状化，外形更为规则，并且表面相对光滑，性能较好。
以上所述实施例仅表达了本发明的几种实施方式，其描述较为具体和详细，但并不能因此而理解为对申请专利范围的限制。应当指出的是，对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明构思的前提下，还可以做出若干变形和改进，这些都属于本发明的保护范围。因此，本发明专利的保护范围应以所附权利要求为准。

Claims (10)

1.一种铜包覆云母粉，其特征在于，包括云母粉、包覆在所述云母粉外的氧化物过渡层、包覆在所述氧化物过渡层外的氧化物底色层以及包覆在所述氧化物底色层外的铜微纳米层，所述氧化物底色层的材料为Fe2O3。
2.根据权利要求1所述的铜包覆云母粉，其特征在于，所述云母粉的粒径为10μm～40μm、20μm～80μm或50μm～200μm；
所述氧化物过渡层的厚度为10nm～50nm；所述氧化物底色层的厚度为200nm～400nm；所述铜微纳米层的厚度为300nm～600nm。
3.根据权利要求2所述的铜包覆云母粉，其特征在于，所述氧化物过渡层的材料为SnO2、SiO2或ZnO；
所述云母粉为天然云母粉或合成云母粉。
4.根据权利要求1～3中任意一项所述的铜包覆云母粉，其特征在于，还包括包覆在所述铜微纳米层外的保护层，所述保护层的厚度为300nm～600nm。
5.一种权利要求1～4中任意一项所述的铜包覆云母粉的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：
对云母粉进行预处理，得到预处理后的所述云母粉；
在预处理后的所述云母粉外依次包覆氧化物过渡层和氧化物底色层，得到半成品，其中，所述氧化物底色层的材料为Fe2O3；
在所述半成品外包覆铜微纳米层，得到所需要的铜包覆云母粉，其中，所述铜包覆云母粉包括所述云母粉、包覆在所述云母粉外的所述氧化物过渡层、包覆在所述氧化物过渡层外的所述氧化物底色层以及包覆在所述氧化物底色层外的所述铜微纳米层。
6.根据权利要求5所述的铜包覆云母粉的制备方法，其特征在于，所述在预处理后的所述云母粉外依次包覆氧化物过渡层和氧化物底色层，得到半成品的操作为：
在液相条件下，分别在预处理后的所述云母粉外依次包覆预氧化物过渡层和氧化铁底色层，煅烧后所述预氧化物过渡层和所述氧化铁底色层分别转变成所述氧化物过渡层和所述氧化物底色层，得到半成品。
7.根据权利要求5所述的铜包覆云母粉的制备方法，其特征在于，所述在所述半成品外包覆铜微纳米层的操作为：
在液相条件下，分别采用碱式碳酸铜为铜剂，胺类物质为络合剂，醛基物质为还原剂，通过液相沉积的方式，在所述半成品外逐步包覆所述铜微纳米层，微纳米层厚度可控。
8.根据权利要求7所述的铜包覆云母粉的制备方法，其特征在于，所述碱式碳酸铜、所述胺类物质中的铵根和所述醛基物质中的醛基的摩尔比为0.8～1.8：7.2～8.2：3.5～4.5。
9.根据权利要求7所述的铜包覆云母粉的制备方法，其特征在于，所述胺类物质包括乙二胺四乙酸二钠、酒石酸钾钠和质量百分比浓度为18％～28％氨水中的至少一种；
所述醛基物质包括维生素C、葡萄糖和碳原子数为1～12的直链或支链的醛中的至少一种。
10.根据权利要求5所述的铜包覆云母粉的制备方法，其特征在于，还包括在所述半成品外包覆铜微纳米层的操作之后，继续包覆形成保护层的操作。
CN202210905770.5A 2022-07-29 2022-07-29 铜包覆云母粉及其制备方法 Active CN115365495B (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN202210905770.5A CN115365495B (zh) 2022-07-29 2022-07-29 铜包覆云母粉及其制备方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN202210905770.5A CN115365495B (zh) 2022-07-29 2022-07-29 铜包覆云母粉及其制备方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN115365495A true CN115365495A (zh) 2022-11-22
CN115365495B CN115365495B (zh) 2024-05-28

Family

ID=84064565

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN202210905770.5A Active CN115365495B (zh) 2022-07-29 2022-07-29 铜包覆云母粉及其制备方法

Country Status (1)

Country Link
CN (1) CN115365495B (zh)

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS57161055A (en) * 1981-03-30 1982-10-04 Toppan Printing Co Ltd Metallic powder body
JPS6320486A (ja) * 1986-07-11 1988-01-28 Sanyo Shikiso Kk 銀又は銅被膜雲母の製造法
US5763085A (en) * 1993-02-05 1998-06-09 Nittetsu Mining Co., Ltd. Powder having at least one layer and process for preparing the same
KR20170098567A (ko) * 2016-02-22 2017-08-30 주식회사 엘지화학 레이저 직접 구조화용 핵형성제, 이의 제조 방법 및 이를 이용한 전도성 구리 박막 패턴의 제조방법
CN107130231A (zh) * 2017-07-03 2017-09-05 汕头市三宝云母科技股份有限公司 纳米金属银包覆人工合成氟金云母粉的制备方法
KR20190070248A (ko) * 2017-12-12 2019-06-20 롯데첨단소재(주) 레이저 직접 구조화 공정용 열가소성 수지 조성물 및 이를 포함하는 성형품

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS57161055A (en) * 1981-03-30 1982-10-04 Toppan Printing Co Ltd Metallic powder body
JPS6320486A (ja) * 1986-07-11 1988-01-28 Sanyo Shikiso Kk 銀又は銅被膜雲母の製造法
US5763085A (en) * 1993-02-05 1998-06-09 Nittetsu Mining Co., Ltd. Powder having at least one layer and process for preparing the same
KR20170098567A (ko) * 2016-02-22 2017-08-30 주식회사 엘지화학 레이저 직접 구조화용 핵형성제, 이의 제조 방법 및 이를 이용한 전도성 구리 박막 패턴의 제조방법
CN107130231A (zh) * 2017-07-03 2017-09-05 汕头市三宝云母科技股份有限公司 纳米金属银包覆人工合成氟金云母粉的制备方法
KR20190070248A (ko) * 2017-12-12 2019-06-20 롯데첨단소재(주) 레이저 직접 구조화 공정용 열가소성 수지 조성물 및 이를 포함하는 성형품

Non-Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
STUCKEY, JW ET AL.: "Highly charged swelling mica reduces Cu bioavailability in Cu-contaminated soils", 《ENVIRONMENTAL POLLUTION》, vol. 157, no. 1, 1 January 2009 (2009-01-01), pages 12 - 16, XP025693990, DOI: 10.1016/j.envpol.2008.09.009 *
郝良鹏等: "云母在覆铜板中的应用研究", 第十八届中国覆铜板技术·市场研讨会, 31 December 2017 (2017-12-31), pages 1 - 7 *
郝良鹏等: "云母在覆铜板中的应用研究", 第十八届中国覆铜板技术市场研讨会论文集, pages 1 - 7 *

Also Published As

Publication number Publication date
CN115365495B (zh) 2024-05-28

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN109423637B (zh) 一种高导电材料的制备方法
CN110551995B (zh) 一种化学镀法制备光滑致密银包铜粉的方法
Chang et al. Ultra-thin metal composites for electromagnetic interference shielding
CN101343424B (zh) 一种珠光颜料及其制备方法
CN108728835B (zh) 一种表面镀银材料的制备方法
CN105273689A (zh) 一种新型多元结构复合导电填料
CN102993781B (zh) 一种磁性纳米四氧化三铁改性空心玻璃微珠的制备方法
CN102381844A (zh) 采用化学沉淀法对空心玻璃微珠进行改性的方法
WO2019119487A1 (zh) 羟基石墨烯改性镀层封闭剂及其制备方法
KR101218062B1 (ko) 은 코팅 안료 및 그 제조 방법
CN109957144B (zh) 一种表面镀银导电填料的制备方法
WO2010078820A1 (zh) 一种复合二氧化钛及其制备方法
CN107130231B (zh) 纳米金属银包覆人工合成氟金云母粉的制备方法
US20190382627A1 (en) Electrically conductive particle and manufacturing method thereof, and electrically conductive adhesive and manufacturing method thereof
CN112430450B (zh) 一种改性石墨(烯)纳米片复合粉体及其制备方法
CN102683050A (zh) 纳米Ag-SnO2电接触复合材料的制备方法
CN105665698B (zh) 一种纳米镁铝尖晶石前驱体‑树脂修饰金属铝粉表面的方法
WO2022253114A1 (zh) 一种光亮型高导电石墨烯/铜复合材料的制备方法
CN109112508B (zh) 一种钴包覆氧化铝复合粉体的制备方法
CN115365495A (zh) 铜包覆云母粉及其制备方法
He et al. Durable cellulose paper by grafting thiol groups and controlling silver deposition for ultrahigh electromagnetic interference shielding
CN114260450A (zh) 镀银微米级颗粒及其制备方法和用途
CN104195532A (zh) 一种石墨片表面化学镀铁镍合金层的制备方法
CN112063998B (zh) 一种超薄铜/石墨烯复合箔的制备方法
CN105741908B (zh) 一种非金属绝缘材料表面电镀用纳米导电碳浆及其制备方法

Legal Events

Date Code Title Description
PB01 Publication
PB01 Publication
SE01 Entry into force of request for substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
GR01 Patent grant
GR01 Patent grant