CN115261451A - 一种用于测序芯片表面化学处理及封装键合的方法 - Google Patents
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- 238000012163 sequencing technique Methods 0.000 title claims abstract description 142
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 106
- 239000000126 substance Substances 0.000 title abstract description 21
- 238000004806 packaging method and process Methods 0.000 title abstract description 20
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 103
- 238000005530 etching Methods 0.000 claims abstract description 31
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 claims abstract description 27
- 238000004080 punching Methods 0.000 claims abstract description 25
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 claims abstract description 21
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 55
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 claims description 30
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 26
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 claims description 23
- 238000004506 ultrasonic cleaning Methods 0.000 claims description 18
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims description 13
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 claims description 12
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 10
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims description 8
- 229910021642 ultra pure water Inorganic materials 0.000 claims description 8
- 239000012498 ultrapure water Substances 0.000 claims description 8
- 239000007791 liquid phase Substances 0.000 claims description 7
- 238000002791 soaking Methods 0.000 claims description 7
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 238000001039 wet etching Methods 0.000 claims description 6
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 238000001035 drying Methods 0.000 claims description 5
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 239000010703 silicon Substances 0.000 claims description 5
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 claims description 4
- 238000001312 dry etching Methods 0.000 claims description 3
- 238000007654 immersion Methods 0.000 claims description 3
- 238000005488 sandblasting Methods 0.000 claims description 3
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 claims description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 2
- 239000004033 plastic Substances 0.000 claims description 2
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 claims description 2
- 230000008569 process Effects 0.000 abstract description 34
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 abstract description 8
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 abstract description 6
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 description 193
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 28
- 239000003153 chemical reaction reagent Substances 0.000 description 12
- 239000012530 fluid Substances 0.000 description 12
- 238000013461 design Methods 0.000 description 10
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 9
- 108090000623 proteins and genes Proteins 0.000 description 9
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 8
- 238000004088 simulation Methods 0.000 description 7
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 7
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 6
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 6
- 238000005842 biochemical reaction Methods 0.000 description 5
- 238000003698 laser cutting Methods 0.000 description 5
- 238000004364 calculation method Methods 0.000 description 4
- 239000012634 fragment Substances 0.000 description 4
- 238000005457 optimization Methods 0.000 description 4
- 238000009461 vacuum packaging Methods 0.000 description 4
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 3
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 3
- 238000005576 amination reaction Methods 0.000 description 3
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 3
- 238000000861 blow drying Methods 0.000 description 3
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 3
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- 239000003292 glue Substances 0.000 description 3
- 238000003672 processing method Methods 0.000 description 3
- 229930040373 Paraformaldehyde Natural products 0.000 description 2
- 239000004696 Poly ether ether ketone Substances 0.000 description 2
- 239000004697 Polyetherimide Substances 0.000 description 2
- 239000004721 Polyphenylene oxide Substances 0.000 description 2
- 239000004734 Polyphenylene sulfide Substances 0.000 description 2
- 238000004026 adhesive bonding Methods 0.000 description 2
- 125000003172 aldehyde group Chemical group 0.000 description 2
- 125000002915 carbonyl group Chemical group [*:2]C([*:1])=O 0.000 description 2
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 2
- 238000007385 chemical modification Methods 0.000 description 2
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N ether Substances CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 2
- 108020004707 nucleic acids Proteins 0.000 description 2
- 150000007523 nucleic acids Chemical class 0.000 description 2
- 102000039446 nucleic acids Human genes 0.000 description 2
- 229920002530 polyetherether ketone Polymers 0.000 description 2
- 229920001601 polyetherimide Polymers 0.000 description 2
- 229920006324 polyoxymethylene Polymers 0.000 description 2
- 229920006380 polyphenylene oxide Polymers 0.000 description 2
- 229920000069 polyphenylene sulfide Polymers 0.000 description 2
- 239000004820 Pressure-sensitive adhesive Substances 0.000 description 1
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical group [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000009471 action Effects 0.000 description 1
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 description 1
- 230000009286 beneficial effect Effects 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 239000007853 buffer solution Substances 0.000 description 1
- 125000003636 chemical group Chemical group 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 239000000306 component Substances 0.000 description 1
- 238000010205 computational analysis Methods 0.000 description 1
- 239000008358 core component Substances 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 238000012938 design process Methods 0.000 description 1
- 238000011161 development Methods 0.000 description 1
- 238000003745 diagnosis Methods 0.000 description 1
- 201000010099 disease Diseases 0.000 description 1
- 208000037265 diseases, disorders, signs and symptoms Diseases 0.000 description 1
- 229920006351 engineering plastic Polymers 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 1
- 238000000605 extraction Methods 0.000 description 1
- 238000009396 hybridization Methods 0.000 description 1
- 230000005660 hydrophilic surface Effects 0.000 description 1
- 230000005661 hydrophobic surface Effects 0.000 description 1
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 1
- 238000001746 injection moulding Methods 0.000 description 1
- 238000011068 loading method Methods 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 230000010355 oscillation Effects 0.000 description 1
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 1
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 1
- -1 polyoxymethylene Polymers 0.000 description 1
- 238000005086 pumping Methods 0.000 description 1
- 238000003908 quality control method Methods 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 1
- 238000005070 sampling Methods 0.000 description 1
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 1
- 238000006467 substitution reaction Methods 0.000 description 1
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C12—BIOCHEMISTRY; BEER; SPIRITS; WINE; VINEGAR; MICROBIOLOGY; ENZYMOLOGY; MUTATION OR GENETIC ENGINEERING
- C12Q—MEASURING OR TESTING PROCESSES INVOLVING ENZYMES, NUCLEIC ACIDS OR MICROORGANISMS; COMPOSITIONS OR TEST PAPERS THEREFOR; PROCESSES OF PREPARING SUCH COMPOSITIONS; CONDITION-RESPONSIVE CONTROL IN MICROBIOLOGICAL OR ENZYMOLOGICAL PROCESSES
- C12Q1/00—Measuring or testing processes involving enzymes, nucleic acids or microorganisms; Compositions therefor; Processes of preparing such compositions
- C12Q1/68—Measuring or testing processes involving enzymes, nucleic acids or microorganisms; Compositions therefor; Processes of preparing such compositions involving nucleic acids
- C12Q1/6869—Methods for sequencing
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C12—BIOCHEMISTRY; BEER; SPIRITS; WINE; VINEGAR; MICROBIOLOGY; ENZYMOLOGY; MUTATION OR GENETIC ENGINEERING
- C12Q—MEASURING OR TESTING PROCESSES INVOLVING ENZYMES, NUCLEIC ACIDS OR MICROORGANISMS; COMPOSITIONS OR TEST PAPERS THEREFOR; PROCESSES OF PREPARING SUCH COMPOSITIONS; CONDITION-RESPONSIVE CONTROL IN MICROBIOLOGICAL OR ENZYMOLOGICAL PROCESSES
- C12Q1/00—Measuring or testing processes involving enzymes, nucleic acids or microorganisms; Compositions therefor; Processes of preparing such compositions
- C12Q1/68—Measuring or testing processes involving enzymes, nucleic acids or microorganisms; Compositions therefor; Processes of preparing such compositions involving nucleic acids
- C12Q1/6869—Methods for sequencing
- C12Q1/6874—Methods for sequencing involving nucleic acid arrays, e.g. sequencing by hybridisation
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C12—BIOCHEMISTRY; BEER; SPIRITS; WINE; VINEGAR; MICROBIOLOGY; ENZYMOLOGY; MUTATION OR GENETIC ENGINEERING
- C12Q—MEASURING OR TESTING PROCESSES INVOLVING ENZYMES, NUCLEIC ACIDS OR MICROORGANISMS; COMPOSITIONS OR TEST PAPERS THEREFOR; PROCESSES OF PREPARING SUCH COMPOSITIONS; CONDITION-RESPONSIVE CONTROL IN MICROBIOLOGICAL OR ENZYMOLOGICAL PROCESSES
- C12Q1/00—Measuring or testing processes involving enzymes, nucleic acids or microorganisms; Compositions therefor; Processes of preparing such compositions
- C12Q1/68—Measuring or testing processes involving enzymes, nucleic acids or microorganisms; Compositions therefor; Processes of preparing such compositions involving nucleic acids
- C12Q1/6876—Nucleic acid products used in the analysis of nucleic acids, e.g. primers or probes
- C12Q1/6883—Nucleic acid products used in the analysis of nucleic acids, e.g. primers or probes for diseases caused by alterations of genetic material
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
- C23C16/44—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating
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- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
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- Mechanical Engineering (AREA)
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- General Physics & Mathematics (AREA)
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Abstract
本发明公开了一种用于测序芯片表面化学处理及封装键合的方法。所述方法包括：对晶圆衬底进行打孔，在晶圆盖板蚀刻流道结构，将打孔后的晶圆衬底和蚀刻后晶圆盖板进行键合，得到键合晶圆，对键合晶圆进行表面处理，进行切割，得到所述测序芯片。本发明从晶圆级别进行封装键合以及表面处理，最后进行单个芯片的切割和组装，能够解决目前测序芯片制备中存在的相关技术问题，并且在此基础上简化操作流程，降低工艺成本，显著提高生产效率和产能。
Description
技术领域
本发明属于基因测序技术领域，涉及一种用于测序芯片表面化学处理及封装键合的方法。
背景技术
基因测序是一种新型基因检测技术，整个平台系统包括测序仪器，生化反应试剂和基因测序芯片等，通过相互配合来完成测序全流程，测序芯片是基因测序系统的重要耗材和载体，测序芯片表面需要经过一定化学修饰而形成特定的基团，此化学基团能够捕捉所要检测的DNA片段，并且可以将DNA片段稳定的固定在其表面，同时，测序芯片经过特殊的封装键合工艺可以在内部形成特定的腔体，在测序仪器液路系统的驱动下下，生化反应试剂会根据流体时序依次进入芯片流道中，试剂和芯片表面的DNA进行反应，测序仪器可以通过检测NDA片段上所携带的光学以及电学信号而获取DNA片段的生物信息，从而完成整个测序流程。
目前，大部分测序芯片的加工处理工艺基本类似，首先在芯片衬底材料上面进行表面化学处理，常规的处理方法主要包括化学气相沉积和液相浸泡法，化学气相沉积获得的表面均匀性和稳定性比较好，不过化学气相沉积的成本相对比较高，液相浸泡的方法成本低廉，不过其均匀性和稳定性略差一些，相比于液相浸泡的方法，目前大部分的量产测序芯片的表面化学处理方法均采用化学气相沉积的方式。
芯片的衬底材料在进行表面化学处理后，需要将处理后的衬底材料和玻璃进行封装键合而形成密封的腔体，目前主要的封装键合方法包括双面胶PSA的粘结，液体胶水(例如UV胶和热固胶)的粘结，胶粘的封装键合工艺比较繁琐，且成本比较高；且芯片衬底表面已经进行的表面化学处理无法承受高温，这就意味着芯片封装难以采用阳极键合等高温键合工艺，因此，目前大部分的量产测序芯片的键合方式主要是胶粘的方式。经过上述的芯片衬底材料的表面化学处理，胶粘的封装键合，然后再对单个的芯片进行后续的组装，整个流程的工序比较多，导致操作比较繁琐和良率下降，并且芯片的封装键合是基于单个芯片，整体产能也比较受限。
综上所述，基于基因测序芯片开发和生产中存在的技术问题，亟需开新的测序芯片的制备方法，以提高基因测序芯片的产能和降低基因测序芯片的成本。
发明内容
针对现有技术的不足和实际需求，本发明提供一种用于测序芯片表面化学处理及封装键合的方法，本发明重新设计制备测序芯片的方法，简化操作流程，降低工艺成本，实现测序芯片的标准化和批量化生产加工。
为达上述目的，本发明采用以下技术方案：
第一方面，本发明提供一种用于测序芯片表面化学处理及封装键合的方法，所述方法包括：
对晶圆衬底进行打孔，在晶圆盖板蚀刻流道结构，将打孔后的晶圆衬底和蚀刻后晶圆盖板进行键合，得到键合晶圆，对键合晶圆进行表面处理，进行切割，得到所述测序芯片。
本发明中，重新设计制备测序芯片工艺流程，从晶圆级别进行封装键合，然后从晶圆级别进行化学的表面处理，最后进行单个芯片的切割和组装，能够显著简化操作流程、提高生产效率并降低生产成本。
本发明中，晶圆衬底和晶圆盖板是整个芯片的核心部件，晶圆盖板其中一个作用是蚀刻形成特定的流道，晶圆衬底和晶圆盖板的主要功能是通过特定的表面属性将DNA进行捕获，然后使DNA和芯片中的试剂进行反应，最后仪器对基板或者盖板上的信号尽心检测，晶圆衬底和晶圆盖板的性能好坏直接影响生化反应效果和测试结果。
优选地，所述晶圆衬底和晶圆盖板的材质各自独立地选自石英玻璃、普通玻璃或硅片中任意一种或至少两种的组合。
优选地，所述晶圆衬底的厚度为0.5mm～1mm，包括但不限于0.6mm、0.7mm、0.8mm或0.9mm。
优选地，所述晶圆盖板的厚度为0.1mm～0.5mm，包括但不限于0.2mm、0.3mm或0.4mm。
优选地，所述方法还包括在打孔和蚀刻前分别对晶圆衬底和晶圆盖板进行清洗的步骤。
本发明中，打孔的目的是为了使测序芯片和测序仪器相连通，形成芯片的进液孔和出液孔，清洗的作用是去除基板上面的杂质，为后续的表面处理提供洁净的表面。
优选地，所述清洗的方式包括浸泡清洗、超声清洗或等离子清洗。
优选地，所述清洗使用的清洗液包括超纯水。
优选地，所述清洗后还包括使用惰性气体吹干的步骤。
优选地，所述惰性气体包括氮气。
优选地，所述打孔的方法包括激光打孔、机械打孔或喷砂打孔。
优选地，所述打孔包括形成进液孔和出液孔。
优选地，所述进液孔和出液孔的孔径各自独立地为0.5mm～2.0mm，包括但不限于0.6mm、0.7mm、0.8mm、0.9mm、1mm、1.2mm、1.4mm、1.5mm、1.6mm、1.7mm、1.8mm或1.9mm。
优选地，所述打孔后还包括进行超声清洗的步骤。
本发明中，可根据需求设计流道结构，并利用流体的模拟仿真进行计算分析和优化，流体的模拟仿真可以采用Comsol和Ansys等软件，同时，确认芯片在晶圆上的结构分布，根据上述的流道结构设计和芯片在晶圆上的分布，设计对应的光学掩膜版。
优选地，所述蚀刻包括根据所需流道结构设计光学掩膜版，利用所述光学掩膜版对晶圆盖板进行蚀刻。
优选地，所述蚀刻的方法包括湿法刻蚀或干法刻蚀。
优选地，所述流道结构的深度为0.05mm～0.1mm，包括但不限于0.06mm、0.07mm、0.08mm或0.09mm。
本发明中，利用掩膜版对晶圆盖板进行流道的蚀刻加工的深度公差控制可以是+/-0.5μm、+/-1μm或+/-2μm等。
本发明中，蚀刻好的晶圆盖板和打孔好的晶圆衬底进行键合，整个键合过程需要依次进行晶圆盖板和晶圆衬底进行对准，晶圆盖板和晶圆衬底的贴合，晶圆盖板和晶圆衬底的键合，晶圆盖板和晶圆衬底对准和贴合的具体操作过程可以在晶圆对准机上进行，晶圆衬底和晶圆盖板的键合可以在键合机上进行。
优选地，所述键合的方法包括阳极键合、激光键合或热压键合。
优选地，所述阳极键合的温度为200℃～400℃，包括但不限于201℃、202℃、203℃、205℃、210℃、250℃、260℃、280℃、300℃、350℃、360℃、370℃、380℃或390℃。
优选地，所述表面处理的方法包括化学气相沉积处理或液相浸泡处理。
本发明中，化学气相沉积设备中的试剂可以通过晶圆衬底上面的进出液孔扩散到键合后晶圆内部的腔体，从而在腔体内部产生化学反应而沉积到表面，达到表面化学修饰的效果。
本发明中，表面处理的效果根据具体需求形成亲水性表面、疏水性表面或具有特定官能基团的表面，具体的官能基团可以是氨基、羟基、羧基、醚键、醛基、羰基或其他硅烷基团。
优选地，所述化学气相沉积处理的温度为25℃～50℃，包括但不限于26℃、27℃、28℃、29℃、30℃、31℃、35℃、36℃、40℃、42℃、44℃、46℃、48℃或49℃，时间为5min～60min，包括但不限于6min、7min、8min、9min、10min、15min、20min、22min、26min、28min、40min、45min、49min、50min、52min、54min、55min、56min、58min或59min。
优选地，所述方法还包括向切割后得到的测序芯片组装芯片框架的步骤。
本发明中，芯片框架不仅起到芯片和仪器平台的连接作用，同时还为芯片提供支撑和保护作用，另外，芯片框架结构件上可以根据实际需求加载标签，标记或者产品信息等，芯片框架可以是透明或者不透明，加工方式可以是机械加工或开模注塑等。
本发明中，所述芯片框架使用前同样进行清洗。
所述芯片框架的材质选自塑料、陶瓷或金属中任意一种。
本发明中，切割方法可以是激光切割、刀切割或者其他机械切割方法。
本发明中，还涉及切割后形成的单个测序芯片进行后续的工艺，可包括装配芯片外壳、完整芯片的检测、芯片的真空包装等，检测项目可包括外观检测、尺寸检测、芯片流道间隙检测等。
作为优选的技术方案，所述方法包括以下步骤；
(1)对晶圆衬底和晶圆盖板进行超声清洗；
(2)对晶圆衬底进行打孔并进行超声清洗；
(3)根据所需流道结构设计光学掩膜版，利用所述光学掩膜版对晶圆盖板进行蚀刻；
(4)将打孔后的晶圆衬底和蚀刻后的晶圆盖板进行键合，得到键合晶圆；
(5)对所述键合晶圆进行化学气相沉积处理或液相浸泡处理；
(6)将步骤(5)处理后的键合晶圆进行切割，并组装芯片框架，得到测序芯片。
第二方面，本发明提供一种测序芯片，所述测序芯片由第一方面所述的方法制备得到。
本发中，所述测序芯片具有广泛应用前景，例如基因测序、杂交及疾病诊断等。
与现有技术相比，本发明具有以下有益效果：
(1)本发明的测序芯片制备方法，整体基于晶圆级别的工艺流程，相比于传统单个芯片的加工方式，整体的效率提高近几十倍，操作简便、成本低，且使测序芯片的制备标准化，检测和质控方式更加准确；
(2)本发明的测序芯片的封装采用键合方法取代传统胶粘的方式，显著简化工艺、降低成本，并且芯片的键合步骤在表面化学处理之前进行，可以避免芯片表面的化学物质在键合过程中受到破坏；
(3)本发明可进一步控制芯片表面处理方式为化学气相沉积处理，化学物质可以通过进出液口扩散到芯片腔体，进一步提高均匀性和稳定性。
附图说明
图1为8英寸晶圆衬底的俯视图，图中1为晶圆衬底，图中2为单个测序芯片的衬底在8英寸晶圆衬底上面的分布情况，图中3为单个测序芯片的衬底，一个晶圆衬底可以切割出来36个测序芯片的衬底，图中4为衬底上的进液口或出液口，进液口和出液口在每个测序芯片的衬底上呈对角分布；
图2为图1中单个测序芯片衬底的侧视图，图中3代表单个测序芯片的衬底；
图3为本发明8英寸晶圆盖板的俯视图，图中5为晶圆盖板，图中6为单个测序芯片的盖板在8英寸晶圆盖板上面的分布情况，图中7为单个测序芯片的盖板，一个晶圆盖板可以切割出来36个测序芯片的盖板，图中8为单个测序芯片盖板内部蚀刻的流道腔体形状，每个测序芯片盖板上面有一个流道腔体；
图4为图3中单个测序芯片盖板的侧视图，图中7代表单个测序芯片的盖板，图中8代表单个测序芯片的流道腔体；
图5为晶圆衬底和晶圆盖板阳极键合后的测序芯片分布俯视图，图中9为阳极键合后的晶圆，图中10为单个测序芯片在8英寸晶圆上面的分布情况，图中11为单个测序芯片，一个晶圆可以切割出来36个测序芯片，图中12为单个测序芯片内部的流道腔体，图中13为单个测序芯片的进液孔或出液孔；
图6为图5中的单个测序芯片图，图中11代表单个测序芯片，图中12为单个测序芯片内部的流道腔体，图中13为单个测序芯片的进液孔或出液孔；
图7为单个测序芯片组装上芯片框架之后的俯视图，图中14代表组装有芯片框架的完整芯片，图中15为芯片框架；
图8为测序芯片流道内部的压力分布图；
图9为测序芯片表面的应力分布图；
图10为测序芯片产品实物图。
具体实施方式
为进一步阐述本发明所采取的技术手段及其效果，以下结合实施例和附图对本发明作进一步地说明。可以理解的是，此处所描述的具体实施方式仅仅用于解释本发明，而非对本发明的限定。
实施例中未注明具体技术或条件者，按照本领域内的文献所描述的技术或条件，或者按照产品说明书进行。所用试剂或仪器未注明生产厂商者，均为可通过正规渠道商购获得的常规产品。
在本发明中，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”、“固定”等术语应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或成一体；可以是机械连接，可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通或两个元件的相互作用关系。对于本领域的普通技术人员而言，可以根据具体情况理解上述术语在本发明中的具体含义。
本发明的具体实施方式中，测序芯片的加工制备方法，主要包括芯片内部流道的结构设计，晶圆衬底的打孔，晶圆盖板的流道蚀刻，晶圆衬底和晶圆盖板的阳极键合，键合后晶圆的表面化学处理和晶圆的切割等。
本发明的具体实施方式中，芯片框架的功能首先为测序芯片的主体部分提供支撑和保护，其次作为测序芯片和测序仪器接触的连接部分。
本发明的具体实施方式中，芯片框架的材质可以是工程塑料，其种类可以是聚醚醚酮(PEEK)、聚醚酰亚胺(PEI)、聚碳酸酯(PC)、聚苯硫醚(PPS)、聚甲醛(POM)、聚苯醚(PPO)等。
本发明的具体实施方式中，测序芯片衬底具有进液口和出液口，所述的进液口和出液口的数量不局限于1个，还可以是2个，3个，或者多于3个。
本发明的具体实施方式中，测序芯片衬底上的进液口和出液口的形状可以是圆形、椭圆形、正方形、长方形、三角形以及多边形。
本发明的具体实施方式中，测序芯片衬底上的进液口和出液口，其所在位置可以在底面。
本发明的具体实施方式中，测序芯片的衬底，其材质可以是石英玻璃、硅片或普通玻璃。
本发明的具体实施方式中，测序芯片的内部的流道腔体可以具有一定的流道设计结构，此结构的形状经过理论的计算模拟和具体的实验验证，可以有效的解决和改善流体流动和分布的均匀性，从而提高试剂的替换比和反应效率。
本发明的具体实施方式中，测序芯片流道的形状可以具有流线型结构，其中，此流线型结构不局限于流道两侧或者两端具有圆弧形曲面的其形状还可以是圆形，椭圆形，抛物线形，圆滑的曲线等结构。
本发明的具体实施方式中，测序芯片的流道数量不局限于1个，还可以是2个，3个，或者多于3个。
本发明的具体实施方式中，晶圆衬底和晶圆盖板的清洗，清洗方式可以为超声清洗、离心震荡的方法、等离子清洗的方法、缓冲液浸泡清洗的方法等。
本发明的具体实施方式中，晶圆衬底在清洗之后需要进一步打孔加工，打孔加工的方法包括激光打孔、喷砂打孔、机械钻孔等。
本发明的具体实施方式中，晶圆衬底上打孔的目的是作为测序芯片的进液孔和出液孔，孔径的尺寸为0.5mm～2mm。
本发明的具体实施方式中，上述晶圆盖板在清洗之后需要进一步蚀刻加工，晶圆盖板的流道形状通过掩膜版设计形成特定的流道结构，而流道的深度通过蚀刻形成特定深度的流道，晶圆盖板的蚀刻方式可以包括湿法刻蚀，干法刻蚀等。
本发明的具体实施方式中，晶圆盖板蚀刻加工是形成测序芯片的流道腔体，蚀刻的流道深度范围可以为50μm～100μm。
本发明的具体实施方式中，蚀刻后的晶圆盖板和打孔的晶圆衬底进行键合，主要步骤包括晶圆的对准，晶圆的贴合和晶圆的键合等步骤。
本发明的具体实施方式中，具体键合方式可以是阳极键合，热压键合和激光键合等。
本发明的具体实施方式中，晶圆衬底和晶圆盖板键合后形成的流道腔体，密封的流道腔体高度范围为50μm-100μm。
本发明的具体实施方式中，键合后的晶圆需要进一步表面处理形成氨基化基团的表面结构，在其他实施例中，晶圆衬底和晶圆盖板的表面处理会形成特定的官能基团，包括羟基、羧基、醚键、醛基、羰基等。
本发明的具体实施方式中，上述晶圆衬底和晶圆盖板的表面处理的方法可以为化学气相沉积(Chemical Vapor Deposition简称CVD)，此处理方法可以保证晶圆衬底和晶圆盖板的表面形成均匀分布的所需的官能团，并且稳定性比较好，此外，键合后的晶圆衬底和晶圆盖板表面处理方法还可以是液相浸泡的方法，因此，晶圆衬底和晶圆盖板的表面处理方法主要包括化学气相沉积，液相浸泡等方法。
本发明的具体实施方式中，键合后的晶圆在表面处理之后，可进一步的检测，检测方法可以是测试表面的接触角，此方法需要通过抽检的方式破坏掉部分测序芯片，晶圆衬底和晶圆盖板表面的接触角代表对水的表面张力和表面能，接触角可以间接的反映表面处理效果的程度和好坏，除了采用接触角的方法间接测量表面处理的效果，还可以采用直接加载核酸的方法测试，根据芯片表面捕获核酸的情况判断是否具有所要的官能团，以及表面官能团的密度。
本发明的具体实施方式中，键合后的晶圆切割形成单个的测序芯片，切割方式可以是激光切割、刀切割和机械切割等方法。
本发明的具体实施方式中，上述的芯片内部流体的理论模拟计算方法，其中流体的流动包括层流，湍流，紊流等情况，以及所述的流体流动和分布的均匀性，其方法主要计算不局限于流道内部流速以及流线的分布情况，流道内部压力的分布情况，流道内部以及芯片盖板的应力分布情况。
本发明的具体实施方式中，测序芯片的流道设计会影响试剂的流动和分布，目前很多类似的微流控的芯片和流道中，如果流道的结构设计不合理，或者表面处理的不均匀，在流体流动过程中，有时候流体会沿着局部流动而形成死体积和气泡，死体积的存在会导致试剂的残留和污染，气泡的形成会影响生化反应，死体积和气泡都会严重影响整体的测试效果，因此，死体积和气泡是流道设计过程中重点考虑的因素。
另外，流道设计的不合理会影响测序试剂在测序芯片中的替换比，从而间接的导致试剂用量的增多，测序仪器抽液时间的延长，测序效率的下降，因此，测序芯片内部的流道结构设计对测序芯片和系统的整体性能至关重要。
实施例1
本发明提供一种用于测序芯片表面化学处理及封装键合的方法，所述方法步骤为：
(1)对芯片框架进行超声清洗，清洗过程中采用超纯水，清洗之后，采用高纯氮气吹干晶圆的表面；
(2)对晶圆衬底(石英玻璃材质，厚度0.5mm)和晶圆盖板(普通玻璃材质，厚度0.1mm)进行超声清洗，清洗过程中采用超纯水，清洗之后，采用高纯氮气吹干晶圆的表面，晶圆的保存在氮气柜里面；
(3)对晶圆衬底进行打孔加工处理，具体方式采用激光打孔，打2个孔，孔径均为0.5mm，可分别作为进液口或出液口，在每个测序芯片的衬底上呈对角分布，打孔完之后再对其进行超声清洗和高出氮气吹干处理；
(4)设计测序芯片的的流道结构，流道结构的深度为0.05mm，并利用流体的模拟仿真进行计算分析和优化，同时，确认芯片在晶圆上的结构分布；
(5)根据上述的芯片流道结构设计和芯片在晶圆上的分布，设计对应的光学掩膜版，并进行掩膜版的加工制备；
(6)利用上述的掩膜版对晶圆盖板进行蚀刻加工，蚀刻的方法采用湿法刻蚀，蚀刻深度大约50μm，蚀刻的精度公差可以控制在+/-2μm；
(7)将上述蚀刻好的晶圆盖板和打孔好的晶圆衬底进行阳极键合，整个键合过程需要依次进行晶圆盖板和晶圆衬底进行对准，晶圆盖板和晶圆衬底的贴合，晶圆盖板和晶圆衬底的键合，晶圆盖板和晶圆衬底对准和贴合的具体操作过程在晶圆对准机上进行，对准方式主要是采用晶圆盖板和晶圆衬底上的标识，晶圆衬底和晶圆盖板的键合是在键合机上进行，阳极键合的温度为200℃；
(8)对上述键合好的晶圆进行表面化学处理，具体方式是将键合后的晶圆放在卡槽里，将装有晶圆的卡槽放入到表面处理的设备中，表面处理方法为采用化学气相沉积的方法形成氨基化基团的表面结构，化学气相沉积处理的温度为25℃，时间为60min；
(9)将上述键合与化学气相沉积表面处理后的晶圆进行激光切割，从而形成单个的测序芯片；
(10)将上述切割后形成的单个测序芯片进行后续的工艺，包括装配芯片框架，完整芯片的检测(测试表面的接触角，表面接触角为80°)和芯片的真空包装，最终得到成品芯片如图10所示。
实施例2
本发明提供一种用于测序芯片表面化学处理及封装键合的方法，所述方法步骤为：
(1)对芯片框架进行超声清洗，清洗过程中采用超纯水，清洗之后，采用高纯氮气吹干晶圆的表面；
(2)对晶圆衬底(硅片材质，厚度0.8mm)和晶圆盖板(普通玻璃材质，厚度0.4mm)进行超声清洗，清洗过程中采用超纯水，清洗之后，采用高纯氮气吹干晶圆的表面，晶圆的保存在氮气柜里面；
(3)对晶圆衬底进行打孔加工处理，具体方式采用激光打孔，打2个孔，孔径均为0.9mm，可分别作为进液口或出液口，在每个测序芯片的衬底上呈对角分布，打孔完之后再对其进行超声清洗和高出氮气吹干处理；
(4)设计测序芯片的的流道结构，流道结构的深度为0.07mm，并利用流体的模拟仿真进行计算分析和优化，同时，确认芯片在晶圆上的结构分布；
(5)根据上述的芯片流道结构设计和芯片在晶圆上的分布，设计对应的光学掩膜版，并进行掩膜版的加工制备；
(6)利用上述的掩膜版对晶圆盖板进行蚀刻加工，蚀刻的方法采用湿法刻蚀，蚀刻深度大约50μm，蚀刻的精度公差可以控制在+/-2μm；
(7)将上述蚀刻好的晶圆盖板和打孔好的晶圆衬底进行阳极键合，整个键合过程需要依次进行晶圆盖板和晶圆衬底进行对准，晶圆盖板和晶圆衬底的贴合，晶圆盖板和晶圆衬底的键合，晶圆盖板和晶圆衬底对准和贴合的具体操作过程在晶圆对准机上进行，对准方式主要是采用晶圆盖板和晶圆衬底上的标识，晶圆衬底和晶圆盖板的键合是在键合机上进行，阳极键合的温度为300℃；
(8)对上述键合好的晶圆进行表面化学处理，具体方式是将键合后的晶圆放在卡槽里，将装有晶圆的卡槽放入到表面处理的设备中，表面处理方法为采用化学气相沉积的方法形成氨基化基团的表面结构，化学气相沉积处理的温度为45℃，时间为20min；
(9)将上述键合与化学气相沉积表面处理后的晶圆进行激光切割，从而形成单个的测序芯片；
(10)将上述切割后形成的单个测序芯片进行后续的工艺，包括装配芯片框架，完整芯片的检测(测试表面的接触角，表面接触角为120°)和芯片的真空包装。
实施例3
本发明提供一种用于测序芯片表面化学处理及封装键合的方法，所述方法步骤为：
(1)对芯片框架进行超声清洗，清洗过程中采用超纯水，清洗之后，采用高纯氮气吹干晶圆的表面；
(2)对晶圆衬底(普通玻璃材质，厚度1mm)和晶圆盖板(石英玻璃材质，厚度0.5mm)进行超声清洗，清洗过程中采用超纯水，清洗之后，采用高纯氮气吹干晶圆的表面，晶圆的保存在氮气柜里面；
(3)对晶圆衬底进行打孔加工处理，具体方式采用激光打孔，打2个孔，孔径均为2mm，可分别作为进液口或出液口，在每个测序芯片的衬底上呈对角分布，打孔完之后再对其进行超声清洗和高出氮气吹干处理；
(4)设计测序芯片的的流道结构，流道结构的深度为0.1mm，并利用流体的模拟仿真进行计算分析和优化，同时，确认芯片在晶圆上的结构分布；
(5)根据上述的芯片流道结构设计和芯片在晶圆上的分布，设计对应的光学掩膜版，并进行掩膜版的加工制备；
(6)利用上述的掩膜版对晶圆盖板进行蚀刻加工，蚀刻的方法采用湿法刻蚀，蚀刻深度大约50μm，蚀刻的精度公差可以控制在+/-2μm；
(7)将上述蚀刻好的晶圆盖板和打孔好的晶圆衬底进行阳极键合，整个键合过程需要依次进行晶圆盖板和晶圆衬底进行对准，晶圆盖板和晶圆衬底的贴合，晶圆盖板和晶圆衬底的键合，晶圆盖板和晶圆衬底对准和贴合的具体操作过程在晶圆对准机上进行，对准方式主要是采用晶圆盖板和晶圆衬底上的标识，晶圆衬底和晶圆盖板的键合是在键合机上进行，阳极键合的温度为400℃；
(8)对上述键合好的晶圆进行表面化学处理，具体方式是将键合后的晶圆放在卡槽里，将装有晶圆的卡槽放入到表面处理的设备中，表面处理方法为采用化学气相沉积的方法形成氨基化基团的表面结构，化学气相沉积处理的温度为50℃，时间为5min；
(9)将上述键合与化学气相沉积表面处理后的晶圆进行激光切割，从而形成单个的测序芯片；
(10)将上述切割后形成的单个测序芯片进行后续的工艺，包括装配芯片框架，完整芯片的检测(测试表面的接触角，表面接触角为60°)和芯片的真空包装。
结合图1～图7对测序芯片制备进行进一步说明，图1为8英寸晶圆衬底的俯视图，图中1为晶圆衬底，图中2为单个测序芯片的衬底在8英寸晶圆衬底上面的分布情况，图中3为单个测序芯片的衬底，一个晶圆衬底可以切割出来36个测序芯片的衬底，图中4为衬底上的进液口或出液口，进液口和出液口在每个测序芯片的衬底上呈对角分布；图中2为图1中单个测序芯片衬底的侧视图，图中3代表单个测序芯片的衬底；图3为本发明8英寸晶圆盖板的俯视图，图中6为单个测序芯片的盖板在8英寸晶圆盖板上面的分布情况，图中7为单个测序芯片的盖板，一个晶圆盖板可以切割出来36个测序芯片的盖板，图中8为单个测序芯片盖板内部蚀刻的流道腔体形状，每个测序芯片盖板上面有一个流道腔体；图4为图3中单个测序芯片盖板的侧视图，图中7代表单个测序芯片的盖板，图中8代表单个测序芯片的流道腔体；图5为晶圆衬底和晶圆盖板阳极键合后的测序芯片分布俯视图，图中10为单个测序芯片在8英寸晶圆上面的分布情况，图中11为单个测序芯片，一个晶圆可以切割出来36个测序芯片，图中12为单个测序芯片内部的流道腔体，图中13为单个测序芯片的进液孔或出液孔；图6为图5中的单个测序芯片图，图中11代表单个测序芯片，图中12为单个测序芯片内部的流道腔体，图中13为单个测序芯片的进液孔或出液孔；图7为单个测序芯片组装上芯片框架之后的俯视图，图中14代表组装有芯片框架的完整芯片，图中15为芯片框架。
此外，对制备的测序芯片流道内部的压力分布和芯片表面的应力分布进行分析，结果如图8和图9所示，芯片流道内部的压力分布，采用不同颜色深度表示压力的大小，从图8中可以看出，压力分布主要是从进液口到出液口方向，压力逐渐增大的趋势，这是由于本身测序仪器的负压抽液模式导致，不过，芯片流道中的最大压力和最小压力之间的差值非常小，压力差值较小可以降低测序仪器流路的负载，同时芯片内部压力的均匀可以降低芯片表面不同区域生化试剂反应的差异性。芯片表面的应力分布，采用不同颜色深度表示应力的大小，从图9中可以看出，芯片流道内部，除了边缘位置之外，其他位置的应力分布非常均匀，而边缘位置的应力较大，主要是因为芯片基板，芯片盖板，压敏胶，液体试剂形成的多相界面处在外力作用下形成的，不过应力比较大的边缘位置的区域较小，也意味着受影响区域较小。
本发明的制备测序芯片的方法，工艺简单，能够进行批量化表面处理和封装，显著提高生产效率和产能，降低成本，本发明流道设计比较合理，可以有效的减弱芯片流道的边缘效应，减小芯片盖板和流道的形变，减小芯片进液口，出液口以及不同区域的生化反应差异性，从而可以整体提高测序芯片的性能。
综上所述，本发明从晶圆级别进行封装键合以及表面处理，最后进行单个芯片的切割和组装，能够解决目前测序芯片制备中存在的相关技术问题，并且在此基础上简化操作流程，降低工艺成本，显著提高生产效率和产能。
申请人声明，本发明通过上述实施例来说明本发明的详细方法，但本发明并不局限于上述详细方法，即不意味着本发明必须依赖上述详细方法才能实施。所属技术领域的技术人员应该明了，对本发明的任何改进，对本发明产品各原料的等效替换及辅助成分的添加、具体方式的选择等，均落在本发明的保护范围和公开范围之内。
Claims (10)
1.一种用于测序芯片表面化学处理及封装键合的方法，其特征在于，所述方法包括：
对晶圆衬底进行打孔，在晶圆盖板蚀刻流道结构，将打孔后的晶圆衬底和蚀刻后晶圆盖板进行键合，得到键合晶圆，对键合晶圆进行表面处理，进行切割，得到所述测序芯片。
2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述晶圆衬底和晶圆盖板的材质各自独立地选自石英玻璃、普通玻璃或硅片中任意一种或至少两种的组合；
优选地，所述晶圆衬底的厚度为0.5mm～1mm；
优选地，所述晶圆盖板的厚度为0.1mm～0.5mm。
3.根据权利要求1或2所述的方法，其特征在于，所述方法还包括在打孔和蚀刻前分别对晶圆衬底和晶圆盖板进行清洗的步骤；
优选地，所述清洗的方式包括浸泡清洗、超声清洗或等离子清洗；
优选地，所述清洗使用的清洗液包括超纯水；
优选地，所述清洗后还包括使用惰性气体吹干的步骤；
优选地，所述惰性气体包括氮气。
4.根据权利要求1-3任一项所述的方法，其特征在于，所述打孔的方法包括激光打孔、机械打孔或喷砂打孔；
优选地，所述打孔包括形成进液孔和出液孔；
优选地，所述进液孔和出液孔的孔径各自独立地为0.5mm～2.0mm；
优选地，所述打孔后还包括进行超声清洗的步骤。
5.根据权利要求1-4任一项所述的方法，其特征在于，所述蚀刻包括根据所需流道结构设计光学掩膜版，利用所述光学掩膜版对晶圆盖板进行蚀刻；
优选地，所述蚀刻的方法包括湿法刻蚀或干法刻蚀；
优选地，所述流道结构的深度为0.05mm～0.1mm。
6.根据权利要求1-5任一项所述的方法，其特征在于，所述键合的方法包括阳极键合、激光键合或热压键合；
优选地，所述阳极键合的温度为200℃～400℃。
7.根据权利要求1-6任一项所述的方法，其特征在于，所述表面处理的方法包括化学气相沉积处理或液相浸泡处理；
优选地，所述化学气相沉积处理的温度为25℃～50℃，时间为5min～60min。
8.根据权利要求1-7任一项所述的方法，其特征在于，所述方法还包括向切割后得到的测序芯片组装芯片框架的步骤；
所述芯片框架的材质选自塑料、陶瓷或金属中任意一种。
9.根据权利要求1-8任一项所述的方法，其特征在于，所述方法包括以下步骤；
(1)对晶圆衬底和晶圆盖板进行超声清洗；
(2)对晶圆衬底进行打孔并进行超声清洗；
(3)根据所需流道结构设计光学掩膜版，利用所述光学掩膜版对晶圆盖板进行蚀刻；
(4)将打孔后的晶圆衬底和蚀刻后的晶圆盖板进行键合，得到键合晶圆；
(5)对所述键合晶圆进行化学气相沉积处理或液相浸泡处理；
(6)将步骤(5)处理后的键合晶圆进行切割，并组装芯片框架，得到测序芯片。
10.一种测序芯片，其特征在于，所述测序芯片由权利要求1-9任一项所述的方法制备得到。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN202210882256.4A CN115261451A (zh) | 2022-07-26 | 2022-07-26 | 一种用于测序芯片表面化学处理及封装键合的方法 |
| PCT/CN2022/141107 WO2024021464A1 (zh) | 2022-07-26 | 2022-12-22 | 一种用于测序芯片表面化学处理及封装键合的方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN202210882256.4A CN115261451A (zh) | 2022-07-26 | 2022-07-26 | 一种用于测序芯片表面化学处理及封装键合的方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CN115261451A true CN115261451A (zh) | 2022-11-01 |
Family
ID=83770123
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CN202210882256.4A Pending CN115261451A (zh) | 2022-07-26 | 2022-07-26 | 一种用于测序芯片表面化学处理及封装键合的方法 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| CN (1) | CN115261451A (zh) |
| WO (1) | WO2024021464A1 (zh) |
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|---|---|---|---|---|
| WO2024021464A1 (zh) * | 2022-07-26 | 2024-02-01 | 深圳太古语科技有限公司 | 一种用于测序芯片表面化学处理及封装键合的方法 |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| CN208883882U (zh) * | 2018-08-16 | 2019-05-21 | 深圳华大智造科技有限公司 | 加载装置及基因测序系统 |
| CN111320133B (zh) * | 2020-02-27 | 2022-03-25 | 西人马联合测控（泉州）科技有限公司 | 芯片的分离方法以及晶圆 |
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-
2022
- 2022-07-26 CN CN202210882256.4A patent/CN115261451A/zh active Pending
- 2022-12-22 WO PCT/CN2022/141107 patent/WO2024021464A1/zh unknown
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| WO2024021464A1 (zh) * | 2022-07-26 | 2024-02-01 | 深圳太古语科技有限公司 | 一种用于测序芯片表面化学处理及封装键合的方法 |
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| WO2024021464A1 (zh) | 2024-02-01 |
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