CN115207245A - 显示面板及其制作方法、显示装置 - Google Patents

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Abstract

本发明公开了一种显示面板及其制作方法、显示装置。该显示面板包括功能显示区以及邻接于功能显示区的常规显示区，功能显示区包括至少一透光子区；该显示面板还包括基底、像素定义层、隔离结构以及阴极层；像素定义层设置于基底的一侧；隔离结构设置于基底靠近像素定义层的一侧，且隔离结构围绕透光子区设置；阴极层设置于像素定义层远离基底的一侧，且阴极层在基底上的正投影与透光子区不重叠。本发明可以在提高功能显示区的光透过率的基础上，还提高了阴极层靠近透光子区一侧的边缘的平整度，提高了显示面板的良品率。

Description

显示面板及其制作方法、显示装置
技术领域
本发明涉及显示技术领域，尤其涉及一种显示面板及其制作方法、显示装置。
背景技术
随着消费者对屏占比需求的提高，屏下摄像头式有机发光二极管(OrganicLight-Emitting Diode，OLED)显示面板已成为OLED显示面板领域主流设计方案之一。
对屏下摄像头来说，必须保证摄像头区域有足够的光透过率。通常的作法是将位于摄像头区域内的阴极层进行图案化处理，以提高摄像头区域的光透过率，但是，在采用激光剥离工艺对阴极层进行剥离的过程中，容易使得阴极层的边缘发生卷曲和翘曲，使得阴极层的边缘不平整且具有缺陷，导致显示面板的良品率降低。
发明内容
本发明实施例提供一种显示面板及其制作方法、显示装置，能够提高阴极层靠近透光子区一侧的边缘的平整性，提高显示面板的良品率。
本发明实施例提供一种显示面板，其包括功能显示区以及邻接于所述功能显示区的常规显示区，所述功能显示区包括至少一透光子区；
所述显示面板还包括：
基底；
像素定义层，设置于所述基底的一侧；
隔离结构，设置于所述基底靠近所述像素定义层的一侧，且所述隔离结构围绕所述透光子区设置；
阴极层，设置于所述像素定义层远离所述基底的一侧，且所述阴极层在所述基底上的正投影与所述透光子区不重叠。
在本发明的一种实施例中，所述像素定义层包括至少一第一透光开口，且一所述第一透光开口对应一所述透光子区设置，其中，所述隔离结构设置于所述第一透光开口内且至少覆盖于所述第一透光开口的侧壁上。
在本发明的一种实施例中，所述显示面板还包括设置于所述基底和所述像素定义层之间的驱动电路层，所述驱动电路层包括至少一第二透光开口，且一所述第二透光开口与一所述第一透光开口对应设置，并与对应的一所述第一透光开口相连通，所述隔离结构还设置于所述第二透光开口内且至少覆盖于所述第二透光开口的侧壁上。
在本发明的一种实施例中，所述基底靠近所述像素定义层的一侧设置有至少一第三透光开口，且一所述第三透光开口与一所述第二透光开口对应设置，并与对应的一所述第二透光开口相连通，所述隔离结构还设置于所述第三透光开口内且至少覆盖于所述第三透光开口的侧壁上，且所述第三透光开口的深度小于所述基底的厚度。
在本发明的一种实施例中，所述像素定义层还包括多个像素开口，至少一所述第一透光开口在所述基底上的正投影与多个所述像素开口在所述基底上的正投影不重叠，且所述隔离结构远离所述基底一侧的表面与所述像素定义层远离所述基底一侧的表面相平齐。
在本发明的一种实施例中，所述隔离结构设置于所述像素定义层靠近所述阴极层一侧的表面上，并位于所述像素定义层和所述阴极层之间。
在本发明的一种实施例中，所述显示面板还包括设置于所述像素定义层远离所述基底一侧的有机功能层，所述有机功能层在所述基底上的正投影与所述透光子区不重叠，所述阴极层覆盖于所述有机功能层远离所述像素定义层的一侧；
其中，所述阴极层靠近所述透光子区一侧的端部在所述基底上的正投影位于所述隔离结构在所述基底上的正投影的覆盖范围以内，或者位于所述隔离结构在所述基底上的正投影远离所述透光子区的一侧，所述有机功能层靠近所述透光子区一侧的端部在所述基底上的正投影位于所述隔离结构在所述基底上的正投影的覆盖范围以内，或者位于所述隔离结构在所述基底上的正投影远离所述透光子区的一侧。
根据本发明的上述目的，本发明实施例还提供一种显示面板的制作方法，其包括功能显示区以及邻接于所述功能显示区的常规显示区，所述功能显示区包括至少一透光子区；
所述显示面板的制作方法包括以下步骤：
提供基底；
在所述基底的一侧形成像素定义层；
在所述基底靠近所述像素定义层的一侧形成隔离结构，且所述隔离结构围绕所述透光子区设置；
在所述像素定义层远离所述基底的一侧形成阴极层，所述阴极层覆盖所述像素定义层以及所述隔离结构，并延伸至所述透光子区内；
去除位于所述透光子区内的所述阴极层，以使所述阴极层在所述基底上的正投影与所述透光子区不重叠。
在本发明的一种实施例中，所述在所述基底靠近所述像素定义层的一侧形成隔离结构的步骤还包括：
在所述透光子区内形成牺牲层，且所述隔离结构围绕所述牺牲层设置，其中，所述隔离结构远离所述基底的一端到所述基底的距离大于所述牺牲层远离所述基底的一端到所述基底的距离；
所述去除位于所述透光子区内的所述阴极层的步骤还包括：
去除位于所述透光子区内的所述牺牲层以及所述阴极层。
根据本发明的上述目的，本发明实施例还提供一种显示装置，所述显示装置包括感光器件、以及所述显示面板，或采用所述显示面板的制作方法制得的显示面板，且所述感光器件对应所述功能显示区设置于所述显示面板的一侧。
本发明的有益效果：本发明通过设置围绕透光子区的隔离结构，进而在制程中，去除位于透光子区内的阴极层时，可以在透光子区边缘起到保护作用，避免阴极层靠近透光子区一侧的边缘出现卷曲和翘曲等不平整的现象，即本发明在提高功能显示区的光透过率的基础上，还提高了阴极层靠近透光子区一侧的边缘的平整度，提高了显示面板的良品率。
附图说明
下面结合附图，通过对本发明的具体实施方式详细描述，将使本发明的技术方案及其它有益效果显而易见。
图1为本发明实施例提供的显示面板的一种结构示意图；
图2为本发明实施例提供的显示面板的平面分布结构示意图；
图3为本发明实施例提供的显示面板的功能显示区内的平面分布结构示意图；
图4为本发明实施例提供的显示面板的另一种结构示意图；
图5为本发明实施例提供的显示面板的制作方法流程图；
图6至图8为本发明实施例提供的显示面板的制作过程结构示意图。
具体实施方式
下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述。显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。
下文的公开提供了许多不同的实施方式或例子用来实现本发明的不同结构。为了简化本发明的公开，下文中对特定例子的部件和设置进行描述。当然，它们仅仅为示例，并且目的不在于限制本发明。此外，本发明可以在不同例子中重复参考数字和/或参考字母，这种重复是为了简化和清楚的目的，其本身不指示所讨论各种实施方式和/或设置之间的关系。此外，本发明提供了的各种特定的工艺和材料的例子，但是本领域普通技术人员可以意识到其他工艺的应用和/或其他材料的使用。
本发明实施例提供一种显示面板，请结合图1和图2，该显示面板包括功能显示区101以及邻接于功能显示区101的常规显示区102，功能显示区101包括至少一透光子区1011。
进一步地，该显示面板还包括基底10、像素定义层20、隔离结构30以及阴极层40。
其中，像素定义层20设置于基底10的一侧；隔离结构30设置于基底10靠近像素定义层20的一侧；阴极层40设置于像素定义层20远离基底10的一侧，且阴极层40在基底10上的正投影与透光子区1011不重叠。
在实施应用过程中，本发明实施例通过设置围绕透光子区1011的隔离结构30，进而在制程中，去除位于透光子区1011内的阴极层40时，可以在透光子区1011边缘起到保护作用，避免阴极层40靠近透光子区1011一侧的边缘出现卷曲和翘曲等不平整的现象，提高了阴极层40靠近透光子区一侧的边缘的平整度，提高了显示面板的良品率。
具体地，在本发明的一种实施例中，请结合图1和图2，该显示面板包括基底10、设置于基底10上的驱动电路层50、设置于驱动电路层50上的像素定义层20、设置于像素定义层20上的有机功能层70、以及设置于有机功能层70上的阴极层40。
其中，基底10包括依次层叠设置的第一柔性衬底层11、第一水氧阻挡层12、间隔保护层13、第二柔性衬底层14以及第二水氧阻挡层15；其中，第一柔性衬底层11和第二柔性衬底层14的材料可以包括聚酰亚胺，间隔保护层13的材料可以为半导体材料，例如a-Si，第一水氧阻挡层12和第二水氧阻挡层15的材料可以包括氧化硅以及氮化硅中的至少一者。
驱动电路层50包括依次层叠设置于基底10上的绝缘层以及包覆于绝缘层内的薄膜晶体管58；具体地，绝缘层包括依次设置于基底10上的缓冲层51、钝化层52、第一栅极绝缘层53、第二栅极绝缘层54、层间介质层55、第一平坦层56以及第二平坦层57；薄膜晶体管58包括设置于缓冲层51上并被钝化层52覆盖的有源层、设置于钝化层52上并被第一栅极绝缘层53覆盖的第一栅极、设置于第一栅极绝缘层53上并被第二栅极绝缘层54覆盖的第二栅极、以及设置于层间介质层55上并被第一平坦层56覆盖的源极和漏极；其中，第一栅极和第二栅极皆位于有源层的上方，源极和漏极皆穿过层间介质层55、第二栅极绝缘层54、第一栅极绝缘层53以及钝化层52与有源层的两侧搭接。
进一步地，显示面板还包括设置于第二柔性衬底层14上并被第二水氧阻挡层15覆盖的遮光层61，且遮光层61位于有源层的下方，以阻挡有源层下方的光线照射至有源层上，影响有源层的电性。
此外，显示面板还包括设置于第二平坦层57上的阳极层，驱动电路层50还包括设置于第二平坦层57上并被第二平坦层57覆盖的转接部59；其中，阳极层包括多个阳极61，而各阳极61穿过第二平坦层57与转接部59搭接，转接部59穿过第一平坦层56与薄膜晶体管的漏极搭接，以将电信号传输阳极61中。
像素定义层20设置于第二平坦层57上，且像素定义层20包括多个像素开口201，且每一像素开口201对应一个阳极61设置，以露出对应阳极61的上表面。
有机功能层70设置于像素定义层20上，并连续地覆盖多个像素开口201，在每一个像素开口201内，有机功能层70覆盖各阳极61的上表面。
阴极层40设置于有机功能层70远离像素定义层20的一侧，且阴极层40连续地覆盖多个像素开口201，并覆盖于有机功能层70远离像素定义层20一侧的表面，且阴极层40沿延伸至显示面板的非显示区内，并与信号端子连接，以将电信号传输至阴极层40中。
在本发明实施例中，功能显示区101包括至少一透光子区1011，需要说明的是，在本发明实施例中，显示面板的功能显示区101可以对应一些感光器件进行设置，且功能显示区101内设置透光子区1011的作用在于提高功能显示区101的光透过率，以提高感光器件的感光效果。
其中，请结合图1、图2以及图3，至少一透光子区1011在基底10上的正投影与多个像素开口201在基底10上的正投影不重叠，在本发明实施例中，有机功能层70位于每一个像素开口201内的部分将形成一个发光单元71，则在本发明实施例中，至少一透光子区1011在基底10上的正投影与多个发光单元71在基底10上的正投影不重叠。
本发明实施例提供一种多个发光单元71的排列方式，其中，功能显示区101内包括多个虚拟矩形，并对每一虚拟矩形进行四等分，形成四个虚拟子矩形，即形成一“田”字形，而每一个虚拟矩形中设置有12个发光单元71，各发光单元71位于虚拟子矩形的边长中心上，而各透光子区1011位于各虚拟子矩形的中间区域；且本发明实施例仅以上述排列为例进行说明，但并不限于此。
可选的，发光单元71可以包括红色发光单元711、绿色发光单元712以及蓝色发光单元713。
进一步地，在本发明实施例中，像素定义层20包括至少一第一透光开口210，而每一个第一透光开口210皆与一个透光子区1011对应设置，且显示面板还包括设置于第一透光开口210内并围绕对应的一个透光子区1011的隔离结构30，可以理解的是，每一个第一透光开口210的面积大于对应的一个透光子区1011的面积，以容置对应的隔离结构30。
在本实施例中，隔离结构30至少覆盖于第一透光开口210的侧壁上，且隔离结构30远离基底10一侧的表面与像素定义层20远离基底10一侧的表面相平齐，以提高像素定义层20远离基底10一侧表面的平整性，提高后续封装制程的良品率；或者在本发明的其他实施例中，隔离结构30远离基底10一侧的表面凸出于像素定义层20远离基底10一侧的表面。
有机功能层70在基底10上的正投影和阴极层40在基底10上的正投影皆与透光子区1011不重叠，即有机功能层70和阴极层40皆位于透光子区1011以外，且阴极层40靠近透光子区1011一侧的端部在基底10上的正投影位于隔离结构30在基底10上的正投影的覆盖范围以内，或者位于隔离结构30在基底10上的正投影远离透光子区1011的一侧，有机功能层70靠近透光子区1011一侧的端部在基底10上的正投影位于隔离结构30在基底10上的正投影的覆盖范围以内，或者位于隔离结构30在基底10上的正投影远离透光子区1011的一侧。即在本发明实施例中，有机功能层70靠近透光子区1011一侧的端部不超过透光子区1011的边界，而阴极层40靠近透光子区1011一侧的端部不超过透光子区1011的边界。
可选的，隔离结构30的材料可以包括不活泼的金属，且不会对激光的刻蚀产生热激发的响应，例如Mo、Ti、Au、Pt等惰性金属。且隔离结构30沿第一方向上的长度可大于或等于0.1微米，且小于或等于10微米，且第一方向为远离透光子区1011的方向。
承上，本发明实施例通过设置围绕透光子区1011的隔离结构30，进而在制程中，去除位于透光子区1011内的阴极层40时，可以在透光子区1011边缘起到保护作用，避免阴极层40靠近透光子区1011一侧的边缘出现卷曲和翘曲等不平整的现象，即本发明实施例在提高功能显示区101的光透过率的基础上，还提高了阴极层40靠近透光子区一侧的边缘的平整度，提高了显示面板的良品率。
在本发明的另一种实施例中，请参照图4，本实施例与上一个实施例的区别之处在于，除了像素定义层20中设置有对应透光子区1011内的第一透光开口210，驱动电路层50中还设置有对应透光子区1011内的第二透光开口510，以及基底10靠近像素定义层20的一侧还设置有对应透光子区1011内的第三透光开口110，且第一透光开口210、第二透光开口510以及第三透光开口110皆相连通，而隔离结构30覆盖于第一透光开口210的侧壁上、第二透光开口510的侧壁上以及第三透光开口110的侧壁上，隔离结构30远离基底一侧的表面与像素定义层20远离基底10一侧的表面相平齐，以提高像素定义层20远离基底10一侧表面的平整性，提高后续封装制程的良品率。
具体地，在本发明实施例中，第一透光开口210贯穿像素定义层20，第二透光开口510贯穿驱动电路层50中的第二平坦层57、第一平坦层56、层间介质层55、第二栅极绝缘层54、第一栅极绝缘层53、钝化层52以及缓冲层51，第三透光开口110穿过部分第二水氧阻挡层15。
第三透光开口110在基底10上的正投影位于第二透光开口510在基底10上的正投影的覆盖范围以内，第二透光开口510在基底10上的正投影位于第一透光开口210在基底10上的正投影的覆盖范围以内，且第一透光开口210、第二透光开口510以及第三透光开口110沿平行于基底10方向截得的截面积沿远离基底10的方向上增大。
承上，本发明实施例通过设置围绕透光子区1011的隔离结构30，进而在制程中，去除位于透光子区1011内的阴极层40时，可以在透光子区1011边缘起到保护作用，避免阴极层40靠近透光子区1011一侧的边缘出现卷曲和翘曲等不平整的现象，即本发明实施例在提高功能显示区101的光透过率的基础上，还提高了阴极层40靠近透光子区一侧的边缘的平整度，提高了显示面板的良品率；且相对于上一实施例中，本实施例减小了透光子区1011内的膜层厚度，可以进一步地提高头缸子区1011的光透过率，提高感光器件的感光效果。
需要说明的是，在本发明的其他实施例中，显示面板仅包括设置于像素定义层20中的第一透光开口210以及设置于驱动电路层50中的第二透光开口510，且第二透光开口510的深度小于或等于驱动电路层50的厚度。此外，隔离结构30还可以设置于像素定义层20靠近阴极层40一侧的表面上，并位于像素定义层20和阴极层40之间。
另外，本发明实施例还提供一种显示面板的制作方法，请结合图1、图2、图5以及图6至图7，该包括功能显示区101以及邻接于功能显示区101的常规显示区102，功能显示区101包括至少一透光子区1011。
且该显示面板的制作方法包括以下步骤：
S10、提供基底10。
其中，基底10包括依次层叠设置的第一柔性衬底层11、第一水氧阻挡层12、间隔保护层13、第二柔性衬底层14以及第二水氧阻挡层15；其中，第一柔性衬底层11和第二柔性衬底层14的材料可以包括聚酰亚胺，间隔保护层13的材料可以为半导体材料，例如a-Si，第一水氧阻挡层12和第二水氧阻挡层15的材料可以包括氧化硅以及氮化硅中的至少一者。
需要说明的是，在本发明实施例中，在基底10中形成有位于第二柔性衬底层14上并被第二水氧阻挡层15覆盖的遮光层61。
S20、在基底10的一侧形成像素定义层20。
在基底10的一侧形成驱动电路层50，驱动电路层50包括依次层叠设置于基底10上的绝缘层以及包覆于绝缘层内的薄膜晶体管58；具体地，绝缘层包括依次设置于基底10上的缓冲层51、钝化层52、第一栅极绝缘层53、第二栅极绝缘层54、层间介质层55、第一平坦层56以及第二平坦层57；薄膜晶体管58包括设置于缓冲层51上并被钝化层52覆盖的有源层、设置于钝化层52上并被第一栅极绝缘层53覆盖的第一栅极、设置于第一栅极绝缘层53上并被第二栅极绝缘层54覆盖的第二栅极、以及设置于层间介质层55上并被第一平坦层56覆盖的源极和漏极；其中，有源层位于遮光层61的上方，而第一栅极和第二栅极皆位于有源层的上方，源极和漏极皆穿过层间介质层55、第二栅极绝缘层54、第一栅极绝缘层53以及钝化层52与有源层的两侧搭接。
此外，驱动电路层还包括设置于第一平坦层56上并被第二平坦层57覆盖的转接部59。
在驱动电路层50远离基底10的一侧形成有阳极层，阳极层包括多个阳极61，而各阳极61穿过第二平坦层57与转接部59搭接，转接部59穿过第一平坦层56与薄膜晶体管的漏极搭接，以将电信号传输阳极61中。
在阳极层远离驱动电路层50的一侧形成像素定义层20，并在像素定义层20中形成多个像素开口201以及至少一第一透光开口210，且每一像素开口201对应一个阳极61设置，以露出对应阳极61的上表面，每一个第一透光开口210皆对应一个透光子区1011；且至少一第一透光开口210与多个像素开口201错开设置。
S30、在基底10靠近像素定义层20的一侧形成隔离结构30，且隔离结构30围绕透光子区1011设置。
在各第一透光开口210内形成围绕透光子区1011隔离结构30，以及在第一透光开口210内形成位于透光子区1011内的牺牲层80，且隔离结构30围绕牺牲层80设置。
其中，隔离结构30覆盖于对应的第一透光开口210的侧壁上，且隔离结构30远离基底10一侧的表面与像素定义层20远离基底10一侧的表面相平齐；此外，隔离结构30远离基底10的一端到基底10的距离大于牺牲层80远离基底10的一端到基底10的距离，即隔离结构30的厚度大于牺牲层80的厚度。
可选的，隔离结构30的厚度于牺牲层80的厚度的差值可大于或等于0.01微米，且小于或等于20微米，且牺牲层80沿第一方向上的长度可大于或等于1微米，且小于或等于50微米，第一方向为远离透光子区1011的方向。
可选的，隔离结构30的材料可以包括不活泼的金属，且不会对激光的刻蚀产生热激发的响应，例如Mo、Ti、Au、Pt等惰性金属。且隔离结构30沿第一方向上的长度可大于或等于0.1微米，且小于或等于10微米。
此外，在本发明的其他实施例中，请参照图8，除了像素定义层20中形成有对应透光子区1011内的第一透光开口210，驱动电路层50中还形成有对应透光子区1011内的第二透光开口510，以及基底10靠近像素定义层20的一侧还形成有对应透光子区1011内的第三透光开口110，且第一透光开口210、第二透光开口510以及第三透光开口110皆相连通，而隔离结构30覆盖于第一透光开口210的侧壁上、第二透光开口510的侧壁上以及第三透光开口110的侧壁上，隔离结构30远离基底一侧的表面与像素定义层20远离基底10一侧的表面相平齐。而隔离结构30形成于第一透光开口210的侧壁上、第二透光开口510的侧壁上以及第三透光开口110的侧壁上，而牺牲层80形成于第三透光开口110的底部。
需要指出的是，本发明实施例以图1所示结构为例，进行描述。
S40、在像素定义层20远离基底10的一侧形成阴极层40，阴极层40覆盖像素定义层20以及隔离结构30，并延伸至透光子区1011内。
在像素定义层20远离基底10的一侧形成有机功能层70，有机功能层70连续地覆盖多个像素开口201和至少一第一透光开口210，在每一个像素开口201内，有机功能层70覆盖各阳极61的上表面，每一第一透光开口210处，有机功能层70覆盖隔离结构30以及牺牲层80。
在有机功能层70远离像素定义层20的一侧形成阴极层40，阴极层40连续地覆盖有机功能层70远离像素定义层20一侧的表面，即覆盖多个像素开口201以及至少一第一透光开口210，其中，在每一第一透光开口210处，阴极层40覆盖隔离结构30以及牺牲层80。
S50、去除位于透光子区1011内的阴极层40，以使阴极层40在基底10上的正投影与透光子区1011不重叠。
采用激光剥离工艺去除位于透光子区1011内的牺牲层80、有机功能层70、以及阴极层40。即采用激光照射牺牲层80，牺牲层80受到激光照射后发生膨胀，使得位于牺牲层80上方的有机功能层70和阴极层40一起脱落，且由于本发明实施例中设置有隔离结构30围绕透光子区1011、以及位于透光子区1011内的牺牲层80，进而隔离结构30可以对膨胀之后的牺牲层起到隔离作用，以及对围绕透光子区1011周围的膜层起到保护作用，避免隔离结构30膨胀之后对透光子区1011周围的膜层造成影响，使得透光子区1011内的有机功能层70和阴极层40皆正常脱落，且减小或者避免了阴极层40边缘和有机功能层70边缘产生毛刺等凸起结构，提高了阴极层40边缘和有机功能层70边缘的平整性，提高了显示面板的良品率。
需要说明的是，在本发明实施例中，阴极层40靠近透光子区1011一侧的端部在基底10上的正投影位于隔离结构30在基底10上的正投影的覆盖范围以内，或者位于隔离结构30在基底10上的正投影远离透光子区1011的一侧，有机功能层70靠近透光子区1011一侧的端部在基底10上的正投影位于隔离结构30在基底10上的正投影的覆盖范围以内，或者位于隔离结构30在基底10上的正投影远离透光子区1011的一侧。即在本发明实施例中，有机功能层70靠近透光子区1011一侧的端部不超过透光子区1011的边界，而阴极层40靠近透光子区1011一侧的端部不超过透光子区1011的边界。
综上所述，本发明实施例通过设置围绕透光子区1011的隔离结构30，进而在制程中，去除位于透光子区1011内的阴极层40时，可以在透光子区1011边缘起到保护作用，避免阴极层40靠近透光子区1011一侧的边缘出现卷曲和翘曲等不平整的现象，即本发明实施例在提高功能显示区101的光透过率的基础上，还提高了阴极层40靠近透光子区一侧的边缘的平整度，提高了显示面板的良品率。
另外，本发明实施例还提供一种显示装置，该显示装置包括感光器件、以及上述实施例中所述的显示面板，或采用上述实施例中所述的显示面板的制作方法制得的显示面板，且感光器件对应功能显示区101设置于显示面板的一侧。
可选的，该感光器件可以包括摄像头组件，在此不作限定。
在上述实施例中，对各个实施例的描述都各有侧重，某个实施例中没有详述的部分，可以参见其他实施例的相关描述。
以上对本发明实施例所提供的一种显示面板及其制作方法、显示装置进行了详细介绍，本文中应用了具体个例对本发明的原理及实施方式进行了阐述，以上实施例的说明只是用于帮助理解本发明的技术方案及其核心思想；本领域的普通技术人员应当理解：其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分技术特征进行等同替换；而这些修改或者替换，并不使相应技术方案的本质脱离本发明各实施例的技术方案的范围。

Claims (10)

1.一种显示面板，其特征在于，包括功能显示区以及邻接于所述功能显示区的常规显示区，所述功能显示区包括至少一透光子区；
所述显示面板还包括：
基底；
像素定义层，设置于所述基底的一侧；
隔离结构，设置于所述基底靠近所述像素定义层的一侧，且所述隔离结构围绕所述透光子区设置；
阴极层，设置于所述像素定义层远离所述基底的一侧，且所述阴极层在所述基底上的正投影与所述透光子区不重叠。
2.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述像素定义层包括至少一第一透光开口，且一所述第一透光开口对应一所述透光子区设置，其中，所述隔离结构设置于所述第一透光开口内且至少覆盖于所述第一透光开口的侧壁上。
3.根据权利要求2所述的显示面板，其特征在于，所述显示面板还包括设置于所述基底和所述像素定义层之间的驱动电路层，所述驱动电路层包括至少一第二透光开口，且一所述第二透光开口与一所述第一透光开口对应设置，并与对应的一所述第一透光开口相连通，所述隔离结构还设置于所述第二透光开口内且至少覆盖于所述第二透光开口的侧壁上。
4.根据权利要求3所述的显示面板，其特征在于，所述基底靠近所述像素定义层的一侧设置有至少一第三透光开口，且一所述第三透光开口与一所述第二透光开口对应设置，并与对应的一所述第二透光开口相连通，所述隔离结构还设置于所述第三透光开口内且至少覆盖于所述第三透光开口的侧壁上，且所述第三透光开口的深度小于所述基底的厚度。
5.根据权利要求2所述的显示面板，其特征在于，所述像素定义层还包括多个像素开口，至少一所述第一透光开口在所述基底上的正投影与多个所述像素开口在所述基底上的正投影不重叠，且所述隔离结构远离所述基底一侧的表面与所述像素定义层远离所述基底一侧的表面相平齐。
6.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述隔离结构设置于所述像素定义层靠近所述阴极层一侧的表面上，并位于所述像素定义层和所述阴极层之间。
7.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述显示面板还包括设置于所述像素定义层远离所述基底一侧的有机功能层，所述有机功能层在所述基底上的正投影与所述透光子区不重叠，所述阴极层覆盖于所述有机功能层远离所述像素定义层的一侧；
其中，所述阴极层靠近所述透光子区一侧的端部在所述基底上的正投影位于所述隔离结构在所述基底上的正投影的覆盖范围以内，或者位于所述隔离结构在所述基底上的正投影远离所述透光子区的一侧，所述有机功能层靠近所述透光子区一侧的端部在所述基底上的正投影位于所述隔离结构在所述基底上的正投影的覆盖范围以内，或者位于所述隔离结构在所述基底上的正投影远离所述透光子区的一侧。
8.一种显示面板的制作方法，其特征在于，包括功能显示区以及邻接于所述功能显示区的常规显示区，所述功能显示区包括至少一透光子区；
所述显示面板的制作方法包括以下步骤：
提供基底；
在所述基底的一侧形成像素定义层；
在所述基底靠近所述像素定义层的一侧形成隔离结构，且所述隔离结构围绕所述透光子区设置；
在所述像素定义层远离所述基底的一侧形成阴极层，所述阴极层覆盖所述像素定义层以及所述隔离结构，并延伸至所述透光子区内；
去除位于所述透光子区内的所述阴极层，以使所述阴极层在所述基底上的正投影与所述透光子区不重叠。
9.根据权利要求8所述的显示面板的制作方法，其特征在于，所述在所述基底靠近所述像素定义层的一侧形成隔离结构的步骤还包括：
在所述透光子区内形成牺牲层，且所述隔离结构围绕所述牺牲层设置，其中，所述隔离结构远离所述基底的一端到所述基底的距离大于所述牺牲层远离所述基底的一端到所述基底的距离；
所述去除位于所述透光子区内的所述阴极层的步骤还包括：
去除位于所述透光子区内的所述牺牲层以及所述阴极层。
10.一种显示装置，其特征在于，所述显示装置包括感光器件、以及如权利要求1至7任一项所述显示面板，或采用如权利要求8至9任一项所述的显示面板的制作方法制得的显示面板，且所述感光器件对应所述功能显示区设置于所述显示面板的一侧。
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