CN115171538A - 盖板制备方法、盖板及显示装置 - Google Patents

Abstract

本申请公开了一种盖板制备方法、盖板及显示装置，盖板制备方法，包括：提供待加工的盖板本体；在待加工的盖板本体相对的表面上分别贴附离子交换膜，覆盖待加工的盖板本体的应力平缓区的离子交换膜的离子渗透速率大于覆盖待加工的盖板本体的应力集中区的离子交换膜的离子渗透速率；对贴附离子交换膜的待加工的盖板本体进行化学强化，使得位于应力集中区的部分待加工的盖板本体的弹性模量等于位于应力平缓区的部分待加工的盖板本体的弹性模量的30％～80％。能够缓释位于应力集中区的盖板本体所受到的弯折应力，提升其耐弯折性能，在显示面板贴合盖板后可降低弯折时各膜层之间因应力集中导致的剥离风险，提升显示装置的耐弯折能力。

Description

盖板制备方法、盖板及显示装置

技术领域

本申请属于电子产品技术领域，尤其涉及一种盖板制备方法、盖板及显示装置。

背景技术

近年来，随着用户对大屏幕和便携性的要求以及柔性OLED(Organic Light-Emitting Diode，有机发光二极管)显示面板技术的发展，各大终端厂协同面板厂推出了各种设计的可折叠手机。为了改善显示模组弯折区折痕和提升抗冲击能力，越来越多的厂商采用UTG(Ultra Thin Glass，超薄柔性玻璃)作为保护盖板。受到现有的盖板的结构材料以及制备方法限制，盖板在弯折状态时容易和显示面板之间出现膜层剥离的问题。

因此，亟需一种新的盖板制备方法、盖板及显示装置。

发明内容

本申请实施例提供了一种盖板制备方法、盖板及显示装置，能够缓释位于应力集中区的盖板本体所受到的弯折应力，提升其耐弯折性能，在显示面板贴合盖板后可降低弯折时各膜层之间因应力集中导致的剥离风险，提升显示装置的耐弯折能力。

本申请实施例一方面提供了一种盖板制备方法，包括：提供待加工的盖板本体；在所述待加工的盖板本体相对的表面上分别贴附离子交换膜，覆盖所述待加工的盖板本体的应力平缓区的所述离子交换膜的离子渗透速率大于覆盖所述待加工的盖板本体的应力集中区的所述离子交换膜的离子渗透速率；对贴附所述离子交换膜的所述待加工的盖板本体进行化学强化，使得位于所述应力集中区的部分所述待加工的盖板本体的弹性模量等于位于所述应力平缓区的部分所述待加工的盖板本体的弹性模量的30％～80％。

根据本申请的一个方面，所述待加工的盖板本体具有交错相连的应力平缓区和应力集中区，包括第一应力平缓区、第一应力集中区、第二应力平缓区、第二应力集中区、第三应力平缓区、第三应力集中区、第四应力平缓区，所述第一应力平缓区和所述第四应力平缓区关于所述第二应力集中区对称，所述第二应力平缓区和所述第三应力平缓区关于所述第二应力集中区对称，所述第一应力集中区和所述第三应力集中区关于所述第二应力集中区对称，所述待加工的盖板本体能够以所述第二应力集中区为弯折中心进行弯折；沿垂直于所述应力集中区延伸的方向，所述待加工的盖板本体在弯折状态下的截面呈水滴形。

根据本申请的一个方面，在所述弯折状态下，所述盖板本体包括依次相连的第一平面、第一曲面、第二曲面、第三曲面以及第二平面；所述第一平面、所述第二平面关于所述第二曲面的中心对称设置，所述第一曲面、所述第三曲面关于所述第二曲面的中心对称设置；所述第一曲面至少部分位于所述第一应力集中区，所述第三曲面至少部分位于所述第三应力集中区，所述第二曲面中心位于所述第二应力集中区。

根据本申请的一个方面，所述待加工的盖板本体具有交错相连的应力平缓区和应力集中区，包括第五应力平缓区、第四应力集中区、第六应力平缓区，所述第五应力平缓区和所述第六应力平缓区关于所述第四应力集中区对称，所述待加工的盖板本体能够以所述第四应力集中区为弯折中心进行弯折沿垂直于所述应力集中区延伸的方向，所述待加工的盖板本体在弯折状态下的截面呈U型；在所述弯折状态下，所述盖板本体包括依次相连的第三平面、第四曲面和第四平面，所述第三平面、所述第四平面关于所述第四曲面的中心对称设置；所述第四曲面中心位于所述第四应力集中区。

根据本申请的一个方面，其特征在于，在对贴附所述离子交换膜的所述待加工的盖板本体进行化学强化的步骤中，包括：对贴附所述离子交换膜的所述待加工的盖板本体进行单次化学强化，使得位于所述应力集中区的部分所述待加工的盖板本体的弹性模量等于位于所述应力平缓区的部分所述待加工的盖板本体的弹性模量的30％～80％。

根据本申请的一个方面，其特征在于，覆盖所述待加工的盖板本体应力平缓区的所述离子交换膜的离子交换通道密度大于覆盖所述待加工的盖板本体应力集中区的所述离子交换膜的离子交换通道密度。

根据本申请的一个方面，在所述提供待加工的盖板本体的步骤中包括：提供厚度为30μm～100μm的所述待加工的盖板本体。

根据本申请的一个方面，在所述提供待加工的盖板本体的步骤中包括：提供材料包括铝硅玻璃的所述待加工的盖板本体。

本发明另一方面还提供了一种盖板，由上述任一实施例中的盖板制备方法制成，所述盖板包括：盖板本体，所述盖板本体具有交错相连的应力平缓区和应力集中区，位于所述应力集中区的部分所述盖板本体的弹性模量等于位于所述应力平缓区的部分所述盖板本体的弹性模量的30％～80％。

本发明又一方面还提供了一种显示装置，包括：显示面板；盖板，设于所述显示面板的出光侧，所述盖板为上述任一实施例中的盖板。

与现有技术相比，本发明实施例所提供的盖板制备方法通过在位于应力平缓区的待加工的盖板本体和位于应力集中区的待加工的盖板本体贴附离子渗透速率不同的离子交换膜，以控制位于应力平缓区的待加工的盖板本体和位于应力集中区的待加工的盖板本体的化学强化深度，即让位于应力平缓区的待加工的盖板本体的化学强化深度大于位于应力集中区的待加工的盖板本体的化学强化深度，以使最终形成位于应力集中区的部分待加工的盖板本体的弹性模量等于位于应力平缓区的部分待加工的盖板本体的弹性模量的30％～80％，以缓释位于应力集中区的盖板本体所受到的弯折应力，提升其耐弯折性能，在显示面板贴合盖板后可降低弯折时各膜层之间因应力集中导致的剥离风险，提升显示装置的耐弯折能力。

附图说明

为了更清楚地说明本申请实施例的技术方案，下面将对本申请实施例中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面所描述的附图仅仅是本申请的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1是本申请一种实施例提供的盖板制备方法的流程图；

图2是本申请一种实施例提供的盖板制备方法过程中盖板的结构示意图；

图3是本申请一种实施例提供的盖板本体在弯折状态下的结构示意图；

图4是本申请一种实施例提供的盖板本体在平展状态下的结构示意图；

图5是本申请另一种实施例提供的盖板本体在弯折状态下的结构示意图。

附图中：

1-盖板本体；11-第一平面；12-第一曲面；13-第二曲面；14-第三曲面；15-第二平面；16-第三平面；17-第四平面；18-第四曲面；2-离子交换膜；P-应力平缓区；P1-第一应力平缓区；P2-第二应力平缓区；P3-第三应力平缓区；P4-第四应力平缓区；P5-第五应力平缓区；P6-第六应力平缓区；J-应力集中区；J1-第一应力集中区；J2-第二应力集中区；J3-第三应力集中区；J4-第四应力集中区。

具体实施方式

下面将详细描述本申请的各个方面的特征和示例性实施例，为了使本申请的目的、技术方案及优点更加清楚明白，以下结合附图及具体实施例，对本申请进行进一步详细描述。应理解，此处所描述的具体实施例仅被配置为解释本申请，并不被配置为限定本申请。对于本领域技术人员来说，本申请可以在不需要这些具体细节中的一些细节的情况下实施。下面对实施例的描述仅仅是为了通过示出本申请的示例来提供对本申请更好的理解。

需要说明的是，在本文中，诸如第一和第二等之类的关系术语仅仅用来将一个实体或者操作与另一个实体或操作区分开来，而不一定要求或者暗示这些实体或操作之间存在任何这种实际的关系或者顺序。而且，术语“包括”、“包含”或者其任何其他变体意在涵盖非排他性的包含，从而使得包括一系列要素的过程、方法、物品或者设备不仅包括那些要素，而且还包括没有明确列出的其他要素，或者是还包括为这种过程、方法、物品或者设备所固有的要素。在没有更多限制的情况下，由语句“包括……”限定的要素，并不排除在包括所述要素的过程、方法、物品或者设备中还存在另外的相同要素。

应当理解，在描述部件的结构时，当将一层、一个区域称为位于另一层、另一个区域“上面”或“上方”时，可以指直接位于另一层、另一个区域上面，或者在其与另一层、另一个区域之间还包含其它的层或区域。并且，如果将部件翻转，该一层、一个区域将位于另一层、另一个区域“下面”或“下方”。

在不脱离本申请的精神或范围的情况下，在本申请中能进行各种修改和变化，这对于本领域技术人员来说是显而易见的。因而，本申请意在覆盖落入所对应权利要求(要求保护的技术方案)及其等同物范围内的本申请的修改和变化。需要说明的是，本申请实施例所提供的实施方式，在不矛盾的情况下可以相互组合。

本申请实施例提供了一种盖板制备方法、盖板及显示装置，以下将结合附图1至图5对盖板制备方法、盖板及显示装置的各实施例进行说明。

请参阅图1和图2，图1是本申请一种实施例提供的盖板制备方法的流程图；图2是本申请一种实施例提供的盖板制备方法过程中盖板的结构示意图。

本申请实施例提供了一种盖板制备方法，包括：

S110：提供待加工的盖板本体1；

S120：在待加工的盖板本体1相对的表面上分别贴附离子交换膜2，覆盖位于应力平缓区P的待加工的盖板本体1的部分离子交换膜2的离子渗透速率大于覆盖位于应力集中区J的待加工的盖板本体1的部分离子交换膜2的离子渗透速率，如图2所示；

S130：对贴附离子交换膜2的待加工的盖板本体1进行化学强化，使得位于应力集中区J的部分待加工的盖板本体1的弹性模量等于位于应力平缓区P的部分待加工的盖板本体1的弹性模量的30％～80％。

本发明实施例所提供的盖板制备方法通过在位于应力平缓区P的待加工的盖板本体1和位于应力集中区J的待加工的盖板本体1贴附离子渗透速率不同的离子交换膜2，以控制位于应力平缓区P的待加工的盖板本体1和位于应力集中区J的待加工的盖板本体1的化学强化深度，即让位于应力平缓区P的待加工的盖板本体1的化学强化深度大于位于应力集中区J的待加工的盖板本体1的化学强化深度，以使最终形成位于应力集中区J的部分待加工的盖板本体1的弹性模量等于位于应力平缓区P的部分待加工的盖板本体1的弹性模量的30％～80％，以缓释位于应力集中区J的盖板本体1所受到的弯折应力，提升其耐弯折性能，在显示面板贴合盖板后可降低弯折时各膜层之间因应力集中导致的剥离风险，提升显示装置的耐弯折能力。

在步骤S120中，离子交换膜2是利用离子选择透过性的原理，是一种含离子基团的、对溶液里的离子具有选择透过能力的高分子膜。离子交换膜2按功能及结构的不同，可分为阳离子交换膜2、阴离子交换膜2、两性交换膜、镶嵌离子交换膜2、聚电解质复合物膜五种类型。本发明实施例中的离子交换膜2可对Na+、K+、Li+等离子通过，并且可耐受化学强化工艺的高温，利用离子交换膜2能够将待加工的盖板本体1较大的离子交换出来，并将较小的离子交换进待加工盖板表面，以提高待加工盖板表面的离子浓度，进而起到化学强化的目的。

离子交换膜2的离子渗透速率越快，则单位时间内待加工的盖板本体1的强化深度也就越大，而对应位置的待加工的盖板本体1的弹性模量也就越大，即强化深度和弹性模量呈正相关，而降低离子交换膜2的离子渗透速率，即可对应降低待加工盖板的弹性模量，提高待加工盖板的耐弯折性能。

在步骤S130中，对贴附离子交换膜2的待加工盖板进行化学强化，具体可以将贴附离子交换膜2的待加工盖板投入化学强化炉进行强化，之后在取出待加工盖板，并撕除离子交换膜2，并可以在待加工盖板的表面贴附保护膜，例如防指纹膜等。

需要说明的是，材料在弹性变形阶段，其应力和应变成正比例关系(即符合胡克定律)，其比例系数称为弹性模量，即弹性模量越大，这部分的盖板本体1越不容易变形，且刚性越强、硬度越大，相对应的，弹性模量越小，则盖板本体1在相同弯折应力的作用下所发生的变形越大，进而对弯折应力进行释放，本实施例中盖板本体1的弹性模量可以根据厚度以及工艺进行调整，例如当位于应力平缓区P的部分盖板本体1的弹性模量为400兆帕～600兆帕时，位于应力集中区J的部分盖板本体1的弹性模量可以为120兆帕～480兆帕，即位于应力集中区J的部分盖板本体1的弹性模量等于位于应力平缓区P的部分盖板本体1的弹性模量的30％～80％，以在保证盖板本体1整体结构强度的同时，实现盖板本体1在弯折状态下弯折应力的有效缓释。

请参阅图4，在一些可选的实施例中，待加工的盖板本体具有交错相连的应力平缓区和应力集中区，包括第一应力平缓区P1、第一应力集中区J1、第二应力平缓区P2、第二应力集中区J2、第三应力平缓区P3、第三应力集中区J3、第四应力平缓区P4，第一应力平缓区P1和第四应力平缓区P4关于第二应力集中区J2对称，第二应力平缓区P2和第三应力平缓区P3关于第二应力集中区J2对称，第一应力集中区J1和第三应力集中区J3关于第二应力集中区J2对称，待加工的盖板本体1能够以第二应力集中区J2为弯折中心进行弯折；沿垂直于应力集中区J延伸的方向，待加工的盖板本体1在弯折状态下的截面呈水滴形。

可以理解的是，待加工的盖板本体1的各应力平缓区P和应力集中区J的具体分布需要根据待加工的盖板本体1在弯折状态下的具体受力决定，而盖板本体1在弯折状态的具体形状是根据盖板在应用于显示装置时，显示装置在弯折时的整体形状决定的，即盖板本体1在弯折时的具体形状需要和显示面板的形状相匹配。可选的，盖板本体1在弯折状态下可以呈“U”型或者水滴形等形状，并无特殊限定。

可选的，在平整状态下，第一应力平缓区P1、第二应力平缓区P2、第三应力平缓区P3、第四应力平缓区P4相互平行，第一应力集中区J1、第二应力集中区J2、第三应力集中区J3相互平行。

请参阅图3和图4，在一些可选的实施例中，在弯折状态下，盖板本体1包括依次相连的第一平面11、第一曲面12、第二曲面13、第三曲面14以及第二平面15；第一平面11、第二平面15关于第二曲面13的中心对称设置，第一曲面12、第三曲面14关于第二曲面13的中心对称设置；第一曲面12至少部分位于第一应力集中区J1，第三曲面14至少部分位于第三应力集中区J3，第二曲面13中心位于第二应力集中区J2。

可以理解的是，第一平面11位于第一应力平缓区P1，第二平面15位于第四应力平缓区P4，第二曲面13中心位于第二应力集中区J2，而第二曲面13位于中心两侧的部分分别位于第二应力平缓区P2和第三应力平缓区P3。

经由发明人仿真实验测得，在盖板本体1呈水滴形弯折时，第一曲面12、第二曲面13以及第三曲面14同时承受内折和外折，所受到的弯折应力相对较大，即第一曲面12、第三曲面14至少部分位于应力集中区J，第二曲面13部分位于应力集中区J，而第一平面11和第二平面15由于没有产生弯折，因而第一平面11和第二平面15均位于应力平缓区P，经实验测得，第二曲面13中心所受到的弯折应力较大，因而可以减小这部分第二曲面13的弹性模量。可选的，通过差异化的化学强化等手段可以使第一曲面12、第二曲面13以及第三曲面14的弹性模量小于第一平面11和第二平面15的弹性模量，以缓释第一曲面12、第二曲面13以及第三曲面14所受到的弯折应力，提升其耐弯折性能。

请参阅图5，在一些可选的实施例中，待加工的盖板本体1具有交错相连的应力平缓区P和应力集中区J，包括第五应力平缓区P5、第四应力集中区J4、第六应力平缓区P6，第五应力平缓区P5和第六应力平缓区P6关于第四应力集中区J4对称，待加工的盖板本体1能够以第四应力集中区J4为弯折中心进行弯折；在弯折状态下，盖板本体1呈U型，盖板本体1包括依次相连的第三平面16、第四曲面18和第四平面17，第三平面16、第四平面17关于第四曲面18的中心对称设置；第四曲面18中心位于第四应力集中区J4。

可以理解的是，第三平面16、第四平面17由于没有产生弯折，第三平面16、第四平面17分别位于第五应力平缓区P5和第六应力平缓区P6，第四曲面18即形成于U型底部的那部分曲面，第四曲面18中心所受到的弯折应力相对于第三平面16、第四平面17更大，因而需要调整第四曲面18的弹性模量小于第三平面16和第四平面17的弹性模量。

由于待加工的盖板本体1的强化深度和弹性模量呈正相关关系，为了保证所得到的盖板本体1各区域的弹性模量符合需求，在一些可选的实施例中，在对贴附离子交换膜2的待加工的盖板本体1进行化学强化的步骤中，包括：对贴附离子交换膜2的待加工的盖板本体1进行单次化学强化，使得位于应力集中区J的部分待加工的盖板本体1的弹性模量等于位于应力平缓区P的部分待加工的盖板本体1的弹性模量的30％～80％。

通过调整待加工的盖板本体1的强化深度可以对应调整待加工的盖板本体1的等效弹性模量，即可以降低位于应力集中区J的待加工的盖板本体1的强化深度，以降低位于应力集中区J的待加工的盖板本体1的弹性模量，从而缓解待加工的盖板本体1的弯折应力，提升其耐弯折性能。

在一些可选的实施例中，覆盖位于应力平缓区P的待加工的盖板本体1的部分离子交换膜2的离子交换通道设置密度大于覆盖位于应力集中区J的待加工的盖板本体1的部分离子交换膜2的离子交换通道设置密度。

可以理解的是，离子交换膜2的离子交换通道设置密度越大，则单位时间内所交换的离子数量越多，离子渗透速率越快，强化深度也就越深，通过减小应力集中区J的待加工的盖板本体1的部分离子交换膜2的离子交换通道设置密度，以降低离子交换膜2的离子渗透速率，对应降低待加工盖板的弹性模量，提高待加工盖板的耐弯折性能。当然，可以调整其他工艺参数以控制离子渗透速率，并无特殊限定。

在一些可选的实施例中，在提供待加工的盖板本体1的步骤中包括：提供厚度为30μm～100μm的待加工的盖板本体1。待加工的盖板本体1的厚度不宜过薄，过薄则可能会出现破损，待加工的盖板本体1的具体的厚度可以根据盖板所应用的显示装置的需求进行选择，并无特殊限定。

在提供待加工的盖板本体1的步骤中包括：提供材料包括铝硅玻璃的待加工的盖板本体1。

待加工的盖板本体1可以采用铝硅玻璃材料所制成的超薄柔性玻璃，由于铝硅玻璃材料所制成的超薄柔性玻璃的厚度相对较薄，仅需要采用一次化学强化即可实现所需的化学强化深度，若采用多次化学强化，由于超薄柔性玻璃的厚度相对较薄，可能会导致盖板本体1发生破碎损坏等问题，并且相比于铝硅酸锂玻璃材料，铝硅玻璃材料由于不含锂元素，也就不需要通过额外的化学强化来将锂离子交换出来，因而本发明实施中的盖板本体1仅需要对铝硅玻璃材料进行一次化学强化，例如采用离子交换膜2对铝硅玻璃材料进行钠离子交换即可成型。

本发明还提供了一种盖板，由上述实施例中的盖板制备方法制成，盖板包括：盖板本体1，盖板本体1具有交错相连的应力平缓区P和应力集中区J，位于应力集中区J的部分盖板本体1的弹性模量等于位于应力平缓区P的部分盖板本体1的弹性模量的30％～80％。

本发明实施例所提供的盖板包括盖板本体1，盖板本体1可以平展也可以弯折，以便于应用于可弯折的显示面板中，在弯折状态下，根据所受到的应力大小不同，盖板本体1具有交错相连的的应力平缓区P和应力集中区J，位于应力集中区J的盖板本体1所受到的弯折应力大于位于应力平缓区P的盖板本体1所受到的弯折应力，本实施通过使位于应力集中区J的部分盖板本体1的弹性模量等于位于应力平缓区P的部分盖板本体1的弹性模量的30％～80％，以缓释位于应力集中区J的盖板本体1所受到的弯折应力，提升其耐弯折性能，在显示面板贴合盖板后可降低弯折时各膜层之间因应力集中导致的剥离风险，提升显示装置的耐弯折能力。

本发明实施例中的盖板本体1可以采用柔性材料制作，使盖板可以折叠，从而可应用于柔性、可折叠的显示装置，即具体的，盖板本体1可以采用UTG(Ultra Thin Glass，超薄柔性玻璃)、CPI(Colorless Polyimide，透明聚酰亚胺薄膜)、PET(PolyethyleneTerephthalate，聚对苯二甲酸乙二醇酯)等透明、柔软、可折叠的材料制作，以实现盖板的可弯曲折叠，便于应用于可折叠的显示装置中。本发明实施例中的盖板本体1以采用UTG超薄柔性玻璃为例进行说明，UTG超薄柔性玻璃相较于CPI、PET等高分子材料强度较高但韧性不足。

本发明还提供了一种显示装置，包括：显示面板；盖板，设于显示面板的出光侧，盖板为上述任一实施例中的盖板。

盖板设于显示面板的出光侧，以保护显示面板，由于盖板和显示面板是需要同步弯折的，因而盖板的各部分的受力状态也是和显示面板弯折状态下的受力状态相对应的。

可选的，显示面板具有第一应力区和第二应力区，盖板的盖板本体1的应力平缓区P在显示面板的正投影和第一应力区相重叠，盖板的盖板本体1的应力集中区J在显示面板的正投影和第二应力区相重叠。

可以理解的是，盖板本体1的应力平缓区P和显示面板的第一应力区相对应，均为在弯折状态下所受弯折应力相对较小的区域，而盖板本体1的应力集中区J和显示面板的第二应力区相对应，均为在弯折状态下所受弯折应力相对较大的区域。

因此，本发明实施例提供的显示装置具有上述任一实施例中盖板的技术方案所具有的技术效果，与上述实施例相同或相应的结构以及术语的解释在此不再赘述。

本申请实施例提供的显示装置可以应用于手机，也可以为任何具有显示功能的电子产品，包括但不限于以下类别：电视机、笔记本电脑、桌上型显示器、平板电脑、数码相机、智能手环、智能眼镜、车载显示器、医疗设备、工控设备、触摸交互终端等，本申请实施例对此不作特殊限定。

以上，仅为本申请的具体实施方式，所属领域的技术人员可以清楚地了解到，为了描述的方便和简洁，上述描述的系统、模块和单元的具体工作过程，可以参考前述方法实施例中的对应过程，在此不再赘述。应理解，本申请的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本申请揭露的技术范围内，可轻易想到各种等效的修改或替换，这些修改或替换都应涵盖在本申请的保护范围之内。

还需要说明的是，本申请中提及的示例性实施例，基于一系列的步骤或者装置描述一些方法或系统。但是，本申请不局限于上述步骤的顺序，也就是说，可以按照实施例中提及的顺序执行步骤，也可以不同于实施例中的顺序，或者若干步骤同时执行。

Claims (10)

1.一种盖板制备方法，其特征在于，包括：

提供待加工的盖板本体；

在所述待加工的盖板本体相对的表面上分别贴附离子交换膜，覆盖所述待加工的盖板本体的应力平缓区的所述离子交换膜的离子渗透速率大于覆盖所述待加工的盖板本体的应力集中区的所述离子交换膜的离子渗透速率；

对贴附所述离子交换膜的所述待加工的盖板本体进行化学强化，使得位于所述应力集中区的部分所述待加工的盖板本体的弹性模量等于位于所述应力平缓区的部分所述待加工的盖板本体的弹性模量的30％～80％。

2.根据权利要求1所述的盖板制备方法，其特征在于，所述待加工的盖板本体具有交错相连的应力平缓区和应力集中区，包括第一应力平缓区、第一应力集中区、第二应力平缓区、第二应力集中区、第三应力平缓区、第三应力集中区、第四应力平缓区；

所述第一应力平缓区和所述第四应力平缓区关于所述第二应力集中区对称，所述第二应力平缓区和所述第三应力平缓区关于所述第二应力集中区对称，所述第一应力集中区和所述第三应力集中区关于所述第二应力集中区对称，所述待加工的盖板本体能够以所述第二应力集中区为弯折中心进行弯折；

沿垂直于所述应力集中区延伸的方向，所述待加工的盖板本体在弯折状态下的截面呈水滴形。

3.根据权利要求2所述的盖板制备方法，其特征在于，在所述弯折状态下，所述盖板本体包括依次相连的第一平面、第一曲面、第二曲面、第三曲面以及第二平面；

所述第一平面、所述第二平面关于所述第二曲面的中心对称设置，所述第一曲面、所述第三曲面关于所述第二曲面的中心对称设置；

所述第一曲面至少部分位于所述第一应力集中区，所述第三曲面至少部分位于所述第三应力集中区，所述第二曲面中心位于所述第二应力集中区。

4.根据权利要求1所述的盖板制备方法，其特征在于，所述待加工的盖板本体具有交错相连的应力平缓区和应力集中区，包括第五应力平缓区、第四应力集中区、第六应力平缓区，所述第五应力平缓区和所述第六应力平缓区关于所述第四应力集中区对称，所述待加工的盖板本体能够以所述第四应力集中区为弯折中心进行弯折沿垂直于所述应力集中区延伸的方向，所述待加工的盖板本体在弯折状态下的截面呈U型；

在所述弯折状态下，所述盖板本体包括依次相连的第三平面、第四曲面和第四平面，所述第三平面、所述第四平面关于所述第四曲面的中心对称设置；

所述第四曲面中心位于所述第四应力集中区。

5.根据权利要求1所述的盖板制备方法，其特征在于，在对贴附所述离子交换膜的所述待加工的盖板本体进行化学强化的步骤中，包括：

对贴附所述离子交换膜的所述待加工盖板进行单次化学强化，使得位于所述应力集中区的部分所述待加工的盖板本体的弹性模量等于位于所述应力平缓区的部分所述待加工的盖板本体的弹性模量的30％～80％。

6.根据权利要求1所述的盖板制备方法，其特征在于，

覆盖所述待加工的盖板本体应力平缓区的所述离子交换膜的离子交换通道密度大于覆盖所述待加工的盖板本体应力集中区的所述离子交换膜的离子交换通道密度。

7.根据权利要求1所述的盖板制备方法，其特征在于，在所述提供待加工的盖板本体的步骤中包括：

提供厚度为30μm～100μm的所述待加工的盖板本体。

8.根据权利要求1所述的盖板制备方法，其特征在于，在所述提供待加工的盖板本体的步骤中包括：

提供材料包括铝硅玻璃的所述待加工的盖板本体。

9.一种盖板，其特征在于，由权利要求1至8任一项所述的盖板制备方法制成，所述盖板包括：

盖板本体，所述盖板本体具有交错相连的应力平缓区和应力集中区，位于所述应力集中区的部分所述盖板本体的弹性模量等于位于所述应力平缓区的部分所述盖板本体的弹性模量的30％～80％。

10.一种显示装置，其特征在于，包括：

显示面板；

盖板，设于所述显示面板的出光侧，所述盖板为权利要求7所述的盖板。

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