CN115142049A - 具有叠加升降装置的cvd镀膜机 - Google Patents
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Abstract
本发明公开了具有叠加升降装置的CVD镀膜机，包括：机架，所述机架具有一控制室、一加工室，并通过电连接；烘箱升降机构，设置于所述加工室内，所述烘箱升降机构位于所述加工室内做上下运动，并通过钟罩升降机构限制运动行程；钟罩升降机构，位于所述烘箱升降机构的下方，所述钟罩升降机构的运动行程最高点低于所述烘箱升降机构的最高点，且当所述钟罩升降机构提升高度高于所述烘箱升降机构运动行程最低点时，抵接所述烘箱升降机构；加工机构，设置于所述钟罩升降机构的内部，且所述加工机构的控制组件与工作组件通过隔离件分隔；真空泵机构，位于所述机架的外侧，并连接于所述加工机构的工作组件。
Description
技术领域
本发明涉及镀膜机技术领域，尤其是涉及具有叠加升降装置的CVD镀膜机。
背景技术
现有的真空离子镀膜机主要利用电子枪将坩埚内的蒸镀材料进行加热，并将蒸镀材料蒸发到光学元件表面形成光学膜。而现有的镀膜机构通常是直接将材料放置在加热箱内，关上箱体开始加热，自动化程度低，并且针对加热效果难以设计得均匀，烘箱与工件的契合性较差。如果需要多加工方式，则需要利用两个设备，而且每次镀膜都需要在两个设备间进行操作，由此将导致制作流程的加长，不利于提高产品的生产效率，即整个镀膜机构集成化差，功能分散且单一。
发明内容
本发明的目的在于提供具有叠加升降装置的CVD镀膜机。
为实现上述目的，本发明采用以下内容：
具有叠加升降装置的CVD镀膜机，包括：机架，所述机架具有一控制室、一加工室，并通过电连接；
烘箱升降机构，设置于所述加工室内，所述烘箱升降机构位于所述加工室内做上下运动，并通过钟罩升降机构限制运动行程；
钟罩升降机构，位于所述烘箱升降机构的下方，所述钟罩升降机构的运动行程最高点低于所述烘箱升降机构的最高点，且当所述钟罩升降机构提升高度高于所述烘箱升降机构运动行程最低点时，抵接所述烘箱升降机构；
加工机构，设置于所述钟罩升降机构的内部，且所述加工机构的控制组件与工作组件通过隔离件分隔；
真空泵机构，位于所述机架的外侧，并连接于所述加工机构的工作组件。
优选的是，所述控制室包括控制面板、测量控制器和控制中心；所述控制面板和所述测量控制器固设于所述控制室的正面，并与所述控制中心通过信号线连接；所述控制中心连接于所述烘箱升降机构、所述钟罩升降机构、所述加工机构和所述真空泵机构。
优选的是，所述加工室通过一底板、一隔板分隔出第一工作腔、第二工作腔和第三工作腔；所述第一工作腔和所述第二工作腔处于同一竖直线上；所述第三工作腔位于所述第一工作腔和所述第二工作腔的一侧。
优选的是，设置于所述第一工作腔内的所述烘箱升降机构包括：两个相平行的直线导轨、固设于所述直线导轨上的第一滑动板、设置于机架顶部的动力件和连接于动力件的丝杆；所述丝杆平行于所述直线导轨，并连接于所述第一滑动板上，使所述动力件通过丝杆带动第一滑动板位于所述直线导轨上上下运动；所述第一滑动板上固设有烘箱。
优选的是，设置于所述烘箱升降机构下方的钟罩升降机构包括：滑道、通过滑块连接于所述滑道上的托板；所述滑道固设于所述机架的内部后侧面上，且所述滑道的内部设置有螺杆，并位于螺杆的外侧覆盖有盖板；所述盖板穿过于所述滑块，且所述滑块连接于所述螺杆上，当所述螺杆旋转时，滑块位于所述盖板上滑动；所述托板的中心设置有环形支撑件，并通过设置垫板抱紧所述环形支撑件；所述环形支撑件上设置有钟罩。
优选的是，所述加工机构包括固设于所述底板上的钟罩底板、设置于所述钟罩底板上方的支撑部、位于所述支撑部上方的料架、设置于所述支撑部一侧的热偶组件和处理管件；所述支撑部、热偶组件、处理管件相互平行，且所述支撑部上设置有若干层保温片；所述保温片的两侧设置有用于嵌合热偶组件和处理管件的缺口；位于所述钟罩底板上支撑部的周围均匀分布有接气孔；所述钟罩底板的下方中心设置有竖管。
优选的是，所述料架固设于所述支撑部上，且呈矩形框架结构，所述料架的高度与所述热偶管件高度相同。
优选的是，所述加工机构还包括：控制组件，所述控制组件分为质量控制器和阀门；多个所述质量控制器并联，并均连接于阀门组。
本发明具有以下优点：
1、本申请设计了全新的加工箱体以及加工逻辑，外侧烘箱、内部钟罩均可以自有上下运动，并且通过钟罩限制烘箱的运动行程，能够有效的保证加工效果。烘箱能够覆盖加工件的任意高度，钟罩能够较为契合工件，距离短，加热速度快且均匀。
2、本申请设计了一种全新的加工件，通过支撑部保证待加工件位于烘箱的几何中心处，从而使待加工件的加热均匀度大幅度提高，料架能够有效的保证待加工件的安全，并对代加工件的顶部进行一定程度的支撑，防止待加工件因为加热产生的形变影响最终加工效果。
附图说明
下面结合附图对本发明的具体实施方式作进一步详细的说明。
图1是本发明的具有叠加升降装置的CVD镀膜机结构示意图。
图2是本发明的具有叠加升降装置的CVD镀膜机去除箱门的内部结构示意图。
图3是本发明的具有叠加升降装置的CVD镀膜机烘箱升降机构的结构示意图。
图4是本发明的具有叠加升降装置的CVD镀膜机钟罩升降机构的结构示意图。
图5是本发明的具有叠加升降装置的CVD镀膜机真空泵机构的结构示意图。
图6是本发明的具有叠加升降装置的CVD镀膜机烘箱升降机构去除烘箱最外壳的结构示意图。
图7是本发明的具有叠加升降装置的CVD镀膜机加工机构的结构示意图。
图8是本发明的具有叠加升降装置的CVD镀膜机加工机构的放大结构示意图。
图9是本发明的具有叠加升降装置的CVD镀膜机气路安装的原理结构示意图。
图中，各附图标记为：
1-机架，101-控制室，1011-控制面板，1012-测量控制器，1013-控制中心，102-加工室，1021-底板，1022-隔板，1023-第一工作腔，1024-第二工作腔，1025-第三工作腔，
2-烘箱升降机构，201-直线导轨，202-第一滑动板，203-动力件，204-丝杆，205-烘箱，
3-钟罩升降机构，301-滑道，302-托板，304-盖板，305-滑块，306-环形支撑件，307-垫板，308-钟罩，
4-加工机构，401-钟罩底板，402-支撑部，4021-保温片，403-料架，404-热偶组件，405-处理管件，406-接气孔，407-竖管，
5-真空泵机构，
6-控制组件，601-质量控制器组，602-阀门组。
具体实施方式
为了更清楚地说明本发明，下面结合优选实施例对本发明做进一步的说明。本领域技术人员应当理解，下面所具体描述的内容是说明性的而非限制性的，不应以此限制本发明的保护范围。
在本发明的描述中，需要说明的是，术语“中心”、“上”、“下”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“前”、“后”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本发明和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本发明的限制。此外，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性。
在本发明的描述中，需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“设置”应做广义理解，例如，可以是固定相连、设置，也可以是可拆卸连接、设置，或一体地连接、设置。对于本领域的普通技术人员而言，可以具体情况理解上述术语在本发明中的具体含义。
如图1至9所示，具有叠加升降装置的CVD镀膜机包括：机架1，所述机架1具有一控制室101、一加工室102，并通过电连接；
所述控制室101包括控制面板1011、测量控制器1012和控制中心1013；所述控制面板1011和所述测量控制器1012固设于所述控制室101的正面，并与所述控制中心1013通过信号线连接；所述控制中心1013连接于所述烘箱升降机构2、所述钟罩升降机构3、所述加工机构4和所述真空泵机构5；
控制中心采用的现有技术中的单片机，机架为铝合金型材框架，拉丝门板全封闭式结构简单、占地面积小。
所述加工室102通过一底板1021、一隔板1022分隔出第一工作腔1023、第二工作腔1024和第三工作腔1025；所述第一工作腔1023和所述第二工作腔1024处于同一竖直线上；所述第三工作腔1025位于所述第一工作腔1023和所述第二工作腔1024的一侧；
烘箱升降机构2，设置于所述加工室102内，所述烘箱升降机构2位于所述加工室102内做上下运动，并通过钟罩升降机构3限制运动行程；设置于所述第一工作腔1023内的所述烘箱升降机构2包括：两个相平行的直线导轨201、固设于所述直线导轨上的第一滑动板202、设置于机架顶部的动力件203和连接于动力件的丝杆204；所述丝杆204平行于所述直线导轨201，并连接于所述第一滑动板202上，使所述动力件203通过丝杆204带动第一滑动板202位于所述直线导轨上上下运动；所述第一滑动板上固设有烘箱205。
烘箱为inconel 600无缝管铠装加热器，三段加热独立控温，烘箱壁为SUS304、SUS310材质，硅酸铝纤维棉、轻质莫来石保温砖复合隔热屏，保证温度均匀性的同时也有较好的保温效果，而且烘箱表面温度低，避免对操作人员造成不必要的伤害；
升降系统行程950mm,采用变频电机加蜗轮蜗杆减速机，升降速度无极调速，采用欧姆龙接近开关，实现定点定位启、停功能。
钟罩升降机构3，位于所述烘箱升降机构2的下方，所述钟罩升降机构3的运动行程最高点低于所述烘箱升降机构的最高点，且当所述钟罩升降机构提升高度高于所述烘箱升降机构运动行程最低点时，抵接所述烘箱升降机构；
石英IDφ302xH950采用真空水冷密封装置，保证真空度；钟罩升降机构配备标准线性模组、安川伺服电机等，升降行程900mm。
设置于所述烘箱升降机构2下方的钟罩升降机构3包括：滑道301、通过滑块305连接于所述滑道301上的托板302；所述滑道301固设于所述机架1的内部后侧面上，且所述滑道的内部设置有螺杆，并位于螺杆的外侧覆盖有盖板304；所述盖板304穿过于所述滑块305，且所述滑块305连接于所述螺杆上，当所述螺杆旋转时，滑块位于所述盖板上滑动；所述托板的中心设置有环形支撑件306，并通过设置垫板307抱紧所述环形支撑件；所述环形支撑件上设置有钟罩308。
加工机构4，设置于所述钟罩升降机构3的内部，且所述加工机构4的控制组件6与工作组件通过隔离件分隔；
所述加工机构4包括固设于所述底板1021上的钟罩底板401、设置于所述钟罩底板上方的支撑部402、位于所述支撑部402上方的料架403、设置于所述支撑部402一侧的热偶组件404和处理管件405；所述支撑部402、热偶组件404、处理管件405相互平行，且所述支撑部402上设置有若干层保温片4021；所述保温片4021的两侧设置有用于嵌合热偶组件404和处理管件405的缺口；位于所述钟罩底板401上支撑部402的周围均匀分布有接气孔406；所述钟罩底板401的下方中心设置有竖管407。
如图所示，保温片为5层，能够有效的隔绝温度，当钟罩生气时，因为内外的温差过大，通常会对待加工件产生一定程度的损害，因此当设计了保温层后，钟罩升起后，温度会从保温层与钟罩之间缓慢平衡，尽可能的减小温差影响。
所述料架403固设于所述支撑部402上，且呈矩形框架结构，所述料架403的高度与所述热偶管件404高度相同。所述加工机构4还包括：控制组件6，所述控制组件6分为质量控制器601和阀门602；多个所述质量控制器并联，并均连接于阀门组。
真空泵机构5，位于所述机架1的外侧，并连接于所述加工机构4的工作组件。
本装置的工作原理：
将烘箱和钟罩通过直线导轨和滑道向上提升，并将待加工件放置在料架上，将钟罩和烘箱落下，并开始加热，需要多次冷却后又加热的处理时，冷却时，缓慢的将烘箱逐步提升，能够控制降温的速率，钟罩慢一步烘箱进行提升，减少空气中的影响。
显然，本发明的上述实施例仅仅是为清楚地说明本发明所作的举例，而并非是对本发明的实施方式的限定，对于所属领域的普通技术人员来说，在上述说明的基础上还可以做出其它不同形式的变化或变动，这里无法对所有的实施方式予以穷举，凡是属于本发明的技术方案所引伸出的显而易见的变化或变动仍处于本发明的保护范围之列。
Claims (8)
1.具有叠加升降装置的CVD镀膜机，其特征在于，包括：
机架，所述机架具有一控制室、一加工室，并通过电连接；
烘箱升降机构，设置于所述加工室内，所述烘箱升降机构位于所述加工室内做上下运动，并通过钟罩升降机构限制运动行程；
钟罩升降机构，位于所述烘箱升降机构的下方，所述钟罩升降机构的运动行程最高点低于所述烘箱升降机构的最高点，且当所述钟罩升降机构提升高度高于所述烘箱升降机构运动行程最低点时，抵接所述烘箱升降机构；
加工机构，设置于所述钟罩升降机构的内部，且所述加工机构的控制组件与工作组件通过隔离件分隔；
真空泵机构，位于所述机架的外侧，并连接于所述加工机构的工作组件。
2.根据权利要求1所述的具有叠加升降装置的CVD镀膜机，其特征在于，所述控制室包括控制面板、测量控制器和控制中心；所述控制面板和所述测量控制器固设于所述控制室的正面，并与所述控制中心通过信号线连接；所述控制中心连接于所述烘箱升降机构、所述钟罩升降机构、所述加工机构和所述真空泵机构。
3.根据权利要求1所述的具有叠加升降装置的CVD镀膜机，其特征在于，所述加工室通过一底板、一隔板分隔出第一工作腔、第二工作腔和第三工作腔；所述第一工作腔和所述第二工作腔处于同一竖直线上；所述第三工作腔位于所述第一工作腔和所述第二工作腔的一侧。
4.根据权利要求3所述的具有叠加升降装置的CVD镀膜机，其特征在于，设置于所述第一工作腔内的所述烘箱升降机构包括：两个相平行的直线导轨、固设于所述直线导轨上的第一滑动板、设置于机架顶部的动力件和连接于动力件的丝杆；所述丝杆平行于所述直线导轨，并连接于所述第一滑动板上，使所述动力件通过丝杆带动第一滑动板位于所述直线导轨上上下运动；所述第一滑动板上固设有烘箱。
5.根据权利要求4所述的具有叠加升降装置的CVD镀膜机，其特征在于，设置于所述烘箱升降机构下方的钟罩升降机构包括：滑道、通过滑块连接于所述滑道上的托板；所述滑道固设于所述机架的内部后侧面上，且所述滑道的内部设置有螺杆，并位于螺杆的外侧覆盖有盖板；所述盖板穿过于所述滑块，且所述滑块连接于所述螺杆上，当所述螺杆旋转时，滑块位于所述盖板上滑动；所述托板的中心设置有环形支撑件，并通过设置垫板抱紧所述环形支撑件；所述环形支撑件上设置有钟罩。
6.根据权利要求5所述的具有叠加升降装置的CVD镀膜机，其特征在于，所述加工机构包括固设于所述底板上的钟罩底板、设置于所述钟罩底板上方的支撑部、位于所述支撑部上方的料架、设置于所述支撑部一侧的热偶组件和处理管件；所述支撑部、热偶组件、处理管件相互平行，且所述支撑部上设置有若干层保温片；所述保温片的两侧设置有用于嵌合热偶组件和处理管件的缺口；位于所述钟罩底板上支撑部的周围均匀分布有接气孔；所述钟罩底板的下方中心设置有竖管。
7.根据权利要求6所述的具有叠加升降装置的CVD镀膜机，其特征在于，所述料架固设于所述支撑部上，且呈矩形框架结构，所述料架的高度与所述热偶管件高度相同。
8.根据权利要求6所述的具有叠加升降装置的CVD镀膜机，其特征在于，所述加工机构还包括：控制组件，所述控制组件分为质量控制器和阀门；多个所述质量控制器并联，并均连接于阀门组。
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Citations (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5273586A (en) * | 1991-02-18 | 1993-12-28 | Samsung Electronics, Co., Ltd. | Low pressure chemical vapor deposition apparatus, with removal system for remaining ionized gas components |
| JP3043221U (ja) * | 1997-05-09 | 1997-11-18 | 高千穂精機株式会社 | ベルジャー開閉機構 |
| KR20090112407A (ko) * | 2008-04-24 | 2009-10-28 | 김종삼 | 승하강장치를 구비한 수직형 진공로 |
| CN101764049A (zh) * | 2008-12-24 | 2010-06-30 | 株式会社日立国际电气 | 基板处理装置 |
| CN102839346A (zh) * | 2012-08-22 | 2012-12-26 | 青岛丰东热处理有限公司 | 叉车式离子渗氮炉钟罩的升降和移动装置 |
| JP2015155794A (ja) * | 2015-05-12 | 2015-08-27 | イプセン，インコーポレイテッド | 鉛直型真空炉用のワークロード昇降システム |
| CN209685912U (zh) * | 2019-01-11 | 2019-11-26 | 郑州科佳电炉有限公司 | 一种钟罩式化学气相沉积设备 |
| CN114543450A (zh) * | 2021-12-31 | 2022-05-27 | 苏州涌真光电科技有限公司 | 一种六工位真空排气台 |
| CN217650813U (zh) * | 2022-07-28 | 2022-10-25 | 苏州涌真光电科技有限公司 | 一种叠加型升降装置 |
-
2022
- 2022-07-28 CN CN202210896602.4A patent/CN115142049B/zh active Active
Patent Citations (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5273586A (en) * | 1991-02-18 | 1993-12-28 | Samsung Electronics, Co., Ltd. | Low pressure chemical vapor deposition apparatus, with removal system for remaining ionized gas components |
| JP3043221U (ja) * | 1997-05-09 | 1997-11-18 | 高千穂精機株式会社 | ベルジャー開閉機構 |
| KR20090112407A (ko) * | 2008-04-24 | 2009-10-28 | 김종삼 | 승하강장치를 구비한 수직형 진공로 |
| CN101764049A (zh) * | 2008-12-24 | 2010-06-30 | 株式会社日立国际电气 | 基板处理装置 |
| CN102839346A (zh) * | 2012-08-22 | 2012-12-26 | 青岛丰东热处理有限公司 | 叉车式离子渗氮炉钟罩的升降和移动装置 |
| JP2015155794A (ja) * | 2015-05-12 | 2015-08-27 | イプセン，インコーポレイテッド | 鉛直型真空炉用のワークロード昇降システム |
| CN209685912U (zh) * | 2019-01-11 | 2019-11-26 | 郑州科佳电炉有限公司 | 一种钟罩式化学气相沉积设备 |
| CN114543450A (zh) * | 2021-12-31 | 2022-05-27 | 苏州涌真光电科技有限公司 | 一种六工位真空排气台 |
| CN217650813U (zh) * | 2022-07-28 | 2022-10-25 | 苏州涌真光电科技有限公司 | 一种叠加型升降装置 |
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