CN115141304A - 一种含三苯基甲醇酯类结构的高折射成膜树脂及光刻胶组合物 - Google Patents

一种含三苯基甲醇酯类结构的高折射成膜树脂及光刻胶组合物 Download PDF

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Abstract

本发明涉及一种含三苯基甲醇酯类结构的高折射成膜树脂，所述成膜树脂具有如下结构式：
Figure DDA0003684996210000011
其中A为氧原子或硫原子；R1和R2独立地选自苯基、萘基、蒽基、咔唑基团、邻苯亚胺基团、苯基马来酰亚胺基团、双酚芴基团、硫砜基团、噻吩基团、噻唑基团、叔碳基团中的一种或多种基团的组合；R3为氮原子或氧原子，当R3为氧原子时则不存在R4，当R3为氮原子时则R4为苯基；R5和R6独立地选自氢原子或烷基；形成所述成膜树脂的各单体化合物按照摩尔百分数100％计：20％≤x≤60％、0％≤(z+n)＜30％、10％≤y≤80％。本发明的成膜树脂折射率在1.62以上，具有高折射、无色、透光性好的优势。

Description

一种含三苯基甲醇酯类结构的高折射成膜树脂及光刻胶组 合物
技术领域
本发明涉及高折射光刻胶技术领域，具体涉及一种含三苯基甲醇酯类结构的高折射成膜树脂及光刻胶组合物。
背景技术
高折射率是光学材料的一个重要的性能指标。传统的有机光学材料如PMMA、PET、PC、CR－39等，虽然加工技术成熟且广泛使用，但因其折射率偏低，无法满足一些光学元器件发展的要求。因此，高折射率树脂的研发，已成为在光学树脂领域研究的一个热点和重点。而且，随着光学系统的发展，对高折射光学材料提出了图案化的要求，即要求高折射树脂具有可曝光显影的性能。
光刻胶按成型工艺可分为负胶和正胶。在IC半导体领域，高端的IC光刻胶普遍采用正胶工艺。正胶工艺要求光刻胶树脂在光产酸剂产生的强酸作用下使树脂发生解离，从而可以在碱性溶液中溶解显影，未曝光部分不能溶解，从而实现图案化。
现有的高折射树脂形成涂层一般有两种形式，一是通过传统光聚合形成涂层，这种涂层可以通过局部曝光，形成图案。但是负胶工艺，图形最小尺寸较大，且光聚合工艺引入大量光引发剂，在后续使用过程中光引发剂迁移到涂层表面，涂层雾化，从而影响涂层的光学性能；二是合成高折射树脂，将其溶解在有机溶剂中，涂敷后溶剂挥发，形成涂层，该成型工艺不可图案化。
现有的正胶显影工艺的光刻胶树脂，提供可显影功能(即可酸解离)的是(甲基)丙烯酸酯化合物(一般为丙烯酸与叔醇的酯化物)，与其他不可显影的单体共聚形成高分子。而为了达到可显影性，可显影功能的(甲基)丙烯酸酯化合物需要占比20％以上(摩尔分数)，有些应用场景需要达到接近50％(摩尔分数)。由于对单体丙烯酸酯化合物要求具有可酸解离性能，而丙烯酸酯类化合物普遍折射率低(一般＜1.5)，且为了保证显影性能，其所占摩尔分数较大，从而降低了树脂的折射率，而目前高端应用的光学材料要求光刻胶树脂折射率在1.6以上。因此，设计并合成一种具有正胶显影工艺的高折射光刻胶树脂意义重大。
发明内容
为了解决现有光刻胶树脂折射率不高的技术问题，而提供一种含三苯基甲醇酯类结构的高折射成膜树脂及光刻胶组合物。本发明的成膜树脂折射率在1.62以上，具有高折射、无色、透光性好的优势。
为了达到以上目的，本发明通过以下技术方案实现：
一种含三苯基甲醇酯类结构的高折射成膜树脂，所述成膜树脂含有丙烯酸三苯基甲醇酯类结构，具有如下结构式：
Figure BDA0003684996190000021
其中A为氧原子或硫原子；R1和R2均选自苯基、萘基、蒽基、咔唑基团、邻苯亚胺基团、苯基马来酰亚胺基团、双酚芴基团、硫砜基团、噻吩基团、噻唑基团中的一种或多种基团的组合；
R3为氮原子或氧原子，当R3为氧原子时则不存在R4，当R3为氮原子时则R4为苯基；
R5和R6独立地选自氢原子或烷基；
形成所述成膜树脂的各单体化合物按照摩尔百分数100％计：20％≤x≤60％、0％≤(z+n)＜30％、10％≤y≤80％。
进一步地，所述成膜树脂中R5为氢原子或甲基，即所述成膜树脂中具有所述丙烯酸三苯基甲醇酯类结构的单体化合物为：
Figure BDA0003684996190000022
进一步地，形成所述成膜树脂的各单体化合物按照摩尔百分数100％计：20％≤x≤60％、0％≤(z+n)≤25％、20％≤y≤80％。
更优选地，形成所述成膜树脂的各单体化合物按照摩尔百分数100％计：20％≤x≤60％、0％≤(z+n)≤10％、40％≤y≤80％。
以上所述成膜树脂的合成上述结构的四种单体按照配比加入到有机溶剂中形成混合溶液，加入自由基引发剂进行共聚反应即可得到所述成膜树脂，通常单体在所述混合溶液中的质量百分数为20-60％，优选为40wt％；所述自由基引发剂的加入量为单体总质量的2-10％。通常所述有机溶剂的可选择范围包括但不限于丙二醇单甲基醚乙酸酯(PGMEA)、丙二醇单甲基醚、γ-内丁酯、环己酮以及乳酸乙酯等；通常所述自由基引发剂为偶氮二异丁腈(AIBN)，也可以是其他类型的引发剂；通常共聚反应的反应温度为70-100℃、反应的时间为3-8h。
本发明另一方面提供一种光刻胶组合物，所述光刻胶组合物包括上述含三苯基甲醇酯类结构的高折射成膜树脂，所述光刻胶组合物作为正胶。通常光刻胶组合物中还包括光产酸剂、有机溶剂以及其他辅助添加剂等。通常光产酸剂包括但不限于硫鎓盐类光产酸剂、碘鎓盐类光产酸剂、肟酯类光产酸剂等；通常有机溶剂包括但不限于丙二醇单甲基醚乙酸酯(PGMEA)、丙二醇单甲基醚、γ-内丁酯、环己酮以及乳酸乙酯等。光刻胶组合物中本发明的所述高折射成膜树脂占至少5wt％。
有益技术效果：
本发明以(甲基)丙烯酸三苯甲酯与其他高折射单体共聚，制备成可曝光可碱显影的高折射光刻胶树脂，具有如下优点：
(1)(甲基)丙烯酸三苯甲醇酯相较于一般丙烯酸叔醇酯类化合具有更高的折射率，约为1.59；
(2)(甲基)丙烯酸三苯甲醇酯虽然结构上有三个苯环，但由于三个苯环不共轭，作为正胶，同样可以实现碱显影图案化，本发明结构的成膜树脂具有高折射、无色、高透光的优势；
(3)由于未曝光部分最终保留在光学涂层中，而本发明的含(甲基)丙烯酸三苯甲醇酯的共聚物本身具有高的玻璃化转变温度(大于120℃)，所形成的本发明的成膜树脂(甲基)丙烯酸三苯甲醇酯类共聚物在保证高折射的同时，还为涂层提供了良好的耐热性。
附图说明
图1为实施例3的高折射成膜树脂制得的高折射光刻胶的光刻图案SEM图。
图2为实施例4的高折射成膜树脂制得的高折射光刻胶的光刻图案SEM图。
图3为实施例5的高折射成膜树脂制得的高折射光刻胶的光刻图案SEM图。
图4为实施例6的高折射成膜树脂制得的高折射光刻胶的光刻图案SEM图。
图5为实施例8的高折射成膜树脂制得的高折射光刻胶的光刻图案SEM图。
图6为实施例9的高折射成膜树脂制得的高折射光刻胶的光刻图案SEM图。
具体实施方式
下面将结合本发明的实施例和附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。以下对至少一个示例性实施例的描述实际上仅仅是说明性的，决不作为对本发明及其应用或使用的任何限制。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。
除非另外具体说明，否则在这些实施例中阐述的数值不限制本发明的范围。对于相关领域普通技术人员已知的技术、方法可能不作详细讨论，但在适当情况下，所述技术、方法应当被视为说明书的一部分。在这里示出和讨论的所有示例中，任何具体值应被解释为仅仅是示例性的，而不是作为限制。因此，示例性实施例的其它示例可以具有不同的值。
以下实施例中未注明具体条件的实验方法，通常按照国家标准测定；若没有相应的国家标准，则按照通用的国际标准、或相关企业提出的标准要求进行。除非另有说明，否则所有的份数为重量份，所有的百分比为重量百分比。
本发明的一种含三苯基酯类结构的高折射成膜树脂，所述成膜树脂含有丙烯酸三苯基甲醇酯类结构，具有如下结构式：
Figure BDA0003684996190000041
其中A为氧原子或硫原子；其中R1和R2均选自苯基、萘基、蒽基、咔唑基团、邻苯亚胺基团、苯基马来酰亚胺基团、双酚芴基团、硫砜基团、噻吩基团、噻唑基团中的一种或多种基团的组合；
R3为氮原子或氧原子，当R3为氧原子时则不存在R4，当R3为氮原子时则R4为苯基；
R5和R6独立地选自氢原子或烷基；优选地，R5是氢原子或甲基。
形成所述成膜树脂的各单体化合物从左至右依次包括丙烯酸三苯基甲醇酯类单体化合物、乙烯类单体化合物和/或丙烯酸类单体化合物、丙烯酸酯类单体化合物、马来酸酐类化合物，各单体按照摩尔百分数100％计：20％≤x≤60％、0％≤(z+n)＜30％、20％≤y≤80％；优选地，20％≤x≤60％、0％≤(z+n)≤25％、20％≤y≤80％；更优选地，20％≤x≤60％、0％≤(z+n)≤10％、40％≤y≤80％。乙烯类单体化合物和/或丙烯酸类单体化合物占绝大部分(即y的占比较大)，丙烯酸酯类单体化合物和马来酸酐类化合物占较少量(即z和n的占比较小)，丙烯酸酯类单体化合物和马来酸酐类化合物的量如果占比超过30％摩尔百分数后虽然可进一步增加显影性但是会降低整体成膜树脂的折射率；
其中丙烯酸三苯基甲醇酯类单体化合物为甲基丙烯酸三苯甲酯或丙烯酸三苯甲酯。
实施例1
甲基丙烯酸三苯甲酯的化学结构：
Figure BDA0003684996190000051
折射率为1.5921。
甲基丙烯酸三苯甲酯的合成过程：将20g三苯基氯甲烷和12.5g三乙胺加入到200mL四氢呋喃中，搅拌，在冰水浴下冷却30min；在0℃下滴加9.8g甲基丙烯酸，滴加完后反应体系在室温下反应12h；反应完成后采用真空蒸馏去除四氢呋喃，剩余物用乙酸乙酯溶解，然后用碳酸氢钠溶液和盐水洗涤，经过硫酸镁干燥，正己烷重结晶，真空干燥后制得白色固体产物甲基丙烯酸三苯甲酯。
实施例2
丙烯酸三苯甲酯的化学结构：
Figure BDA0003684996190000052
折射率为1.6010。
本实施例丙烯酸三苯甲酯的合成过程与实施例1相同，不同之处在于，将实施例1的甲基丙烯酸替换成等摩尔量的丙烯酸进行反应即可获得。
实施例3
本实施例合成的高折射成膜树脂的结构见表1，成膜树脂中各单体摩尔百分数配比见下①、②、③种方案。
①上述结构的高折射成膜树脂合成过程：将实施例1的甲基丙烯酸三苯甲酯、2-萘乙烯按照摩尔百分数30％:70％配置后加入到PGMEA溶剂中形成混合溶液，单体总重量占所述混合溶液总重量的30％，然后加入单体总重量6％的AIBN，搅拌下加热至80℃进行自由基共聚反应5h，得到分子量为16570g/mol的成膜树脂(化学结构见表1)，测得本实施例结构的成膜树脂的分子量分布为1.65。测得本实施例成膜树脂的折射率为1.6350。
高折射光刻胶组合物：将上述合成得到的本实施例结构高折射成膜树脂、光产酸剂三苯基硫鎓盐、PGMEA溶剂按照质量比1:0.05:8.95置于机械振动器上，于室温下振荡10～24小时使混合物充分溶解，用0.2μm过滤器过滤一遍，再用0.05μm过滤器过滤两遍，得到液态高折射光刻胶组合物。将上述液态高折射光刻胶组合物置于硅片上，以1500转/分钟的速度旋涂成1.5μm厚的膜，在100℃热板上烘烤150s后，用I线曝光机进行曝光。曝光后在110℃的热板上烘烤90s，最后在2.38％的四甲基氢氧化铵显影液中显影60s，烘干后得到光刻图案，光刻图案的SEM图见图1，由图1可见曝光显影后的图案边缘清晰。
②按照本实施例成膜树脂的合成过程，将实施例1的甲基丙烯酸三苯甲酯、2-萘乙烯按照摩尔百分数20％:80％进行合成成膜树脂，得到分子量为15670g/mol的成膜树脂(化学结构见表1)，测得本实施例结构的成膜树脂的分子量分布为1.64，测得该配比的成膜树脂的折射率为1.6455。
③按照本实施例成膜树脂的合成过程，将实施例1的甲基丙烯酸三苯甲酯、2-萘乙烯按照摩尔百分数60％:40％进行合成成膜树脂，得到分子量为16980g/mol的成膜树脂(化学结构见表1)，测得本实施例结构的成膜树脂的分子量分布为1.66，测得该配比的成膜树脂的折射率为1.6285。
实施例4
本实施例合成的高折射成膜树脂的结构见表1。
上述结构的高折射成膜树脂合成过程：将实施例1的甲基丙烯酸三苯甲酯、N-乙烯基邻苯亚胺和苯乙烯按照摩尔百分数30％:60％:10％配置后加入到PGMEA溶剂中形成混合溶液，单体总重量占所述混合溶液总重量的40％，然后加入单体总重量8％的AIBN，搅拌下加热至80℃进行自由基共聚反应5h，得到分子量为16361g/mol的成膜树脂(化学结构见表1)，测得本实施例结构的成膜树脂的分子量分布为1.67。测得本实施例成膜树脂的折射率为1.6571。
高折射光刻胶组合物：将上述合成得到的本实施例结构高折射成膜树脂、光产酸剂三苯基硫鎓盐、PGMEA溶剂按照质量比1:0.05:8.95置于机械振动器上，于室温下振荡10～24小时使混合物充分溶解，用0.2μm过滤器过滤一遍，再用0.05μm过滤器过滤两遍，得到液态高折射光刻胶组合物。将上述光刻胶组合物置于硅片上，以3000转/分钟的速度旋涂成0.5μm厚的膜，在100℃热板上烘烤150s后，用248nm曝光机进行曝光。曝光后在110℃的热板上烘烤90s，最后在2.38％的四甲基氢氧化铵显影液中显影60s，烘干后得到光刻图案，光刻图案的SEM图见图2，由图2可见，图案具有良好的分辨率，边缘清晰。
实施例5
本实施例合成的高折射成膜树脂的结构见表1。
上述结构的高折射成膜树脂合成过程：将实施例1的甲基丙烯酸三苯甲酯、、N-乙烯基邻苯亚胺、苯乙烯、马来酸酐按照摩尔百分数20％:60％:10％:10％配置后加入到PGMEA溶剂中形成混合溶液，单体总重量占所述混合溶液总重量的25％，然后加入单体总重量7％的AIBN，搅拌下加热至85℃进行自由基共聚反应6h，得到分子量为14300g/mol的成膜树脂，测得本实施例结构的成膜树脂的分子量分布为1.61。测得本实施例成膜树脂的折射率为1.6501。
高折射光刻胶组合物：将上述合成得到的本实施例结构高折射成膜树脂、光产酸剂三苯基硫鎓盐、PGMEA溶剂按照质量比1:0.05:8.95置于机械振动器上，于室温下振荡10～24小时使混合物充分溶解，用0.2μm过滤器过滤一遍，再用0.05μm过滤器过滤两遍，得到液态高折射光刻胶组合物。将上述光刻胶组合物置于硅片上，以1000转/分钟的速度旋涂成3μm的膜，在100℃热板上烘烤150s后，用248nm曝光机进行曝光。曝光后在110℃的热板上烘烤90s，最后在2.38％的四甲基氢氧化铵显影液中显影60s，烘干后得到光刻图案，光刻图案的SEM图见图3，由图3可知，图案具有较好的光刻分辨率，边缘清晰。
实施例6
本实施例合成的高折射成膜树脂的结构见表1。
上述结构的高折射成膜树脂合成过程：将实施例1的甲基丙烯酸三苯甲酯、2-乙烯-苯并噻唑(CAS No.2544-92-5)、N-苯基马来酰亚胺按照摩尔百分数30％:60％:10％配置后加入到PGMEA溶剂中形成混合溶液，单体总重量占所述混合溶液总重量的30％，然后加入单体总重量8％的AIBN，搅拌下加热至90℃进行自由基共聚反应6h，得到分子量为11050g/mol的成膜树脂，测得本实施例结构的成膜树脂的分子量分布为1.58。测得本实施例成膜树脂的折射率为1.6450。
高折射光刻胶组合物：将上述合成得到的本实施例结构高折射成膜树脂、光产酸剂三苯基硫鎓盐、PGMEA溶剂按照质量比1:0.05:8.95置于机械振动器上，于室温下振荡10～24小时使混合物充分溶解，用0.2μm过滤器过滤一遍，再用0.05μm过滤器过滤两遍，得到液态高折射光刻胶组合物。将上述光刻胶组合物置于硅片上，以1000转/分钟的速度旋涂成3μm厚的膜，在100℃热板上烘烤150s后，用248nm曝光机进行曝光。曝光后在110℃的热板上烘烤90s，最后在2.38％的四甲基氢氧化铵显影液中显影60s，烘干后得到光刻图案，光刻图案的SEM图见图4，由图4可知，图案具有良好的光刻分辨率，边缘清晰。
实施例7
本实施例的高折射成膜树脂结构与实施例6相同，不同之处在于实施例1的甲基丙烯酸三苯甲酯、2-乙烯-苯并噻唑、N-苯基马来酰亚胺的摩尔百分数为30％:45％:25％。本实施例成膜树脂的折射率为1.6300。
对比例1
本实施例的成膜树脂结构与实施例6相同，不同之处在于实施例1的甲基丙烯酸三苯甲酯、2-乙烯-苯并噻唑、N-苯基马来酰亚胺的摩尔百分数为30％:25％:45％。本对比例成膜树脂的折射率为1.6105。
实施例8
本实施例合成的高折射成膜树脂的结构见表1。
上述结构的高折射成膜树脂合成过程：将实施例2的丙烯酸三苯甲酯、N-乙烯基咔唑、丙烯酸双酚芴(该单体结构见表1中成膜树脂结构的最右侧部分)按照摩尔百分数30％:60％:10％配置后加入到PGMEA溶剂中形成混合溶液，单体总重量占所述混合溶液总重量的20％，然后加入单体总重量8％的AIBN，搅拌下加热至90℃进行自由基共聚反应6h，得到分子量为9088g/mol的成膜树脂，测得本实施例成膜树脂的折射率为1.6461。
高折射光刻胶组合物：将上述合成得到的本实施例结构高折射成膜树脂、光产酸剂三苯基硫鎓盐、PGMEA溶剂按照质量比1:0.05:8.95置于机械振动器上，于室温下振荡10～24小时使混合物充分溶解，用0.2μm过滤器过滤一遍，再用0.05μm过滤器过滤两遍，得到液态I线光刻胶组合物。将上述光刻胶组合物置于硅片上，以1000转/分钟的速度旋涂成1.5μm厚的膜，在100℃热板上烘烤150s后，用I线曝光机进行曝光。曝光后在110℃的热板上烘烤90s，最后在2.38％的四甲基氢氧化铵显影液中显影60s，烘干后得到光刻图案，光刻图案的SEM图见图5，由图5可知，图案具有良好的光刻分辨率，边缘清晰。
本实施例中丙烯酸双酚芴的合成方法参考韩国专利(公开号10-2016-0128725)，按照说明书0180-0183段记载的方法，将双酚芴(化合物1)与三乙胺(TEA)加入到二氯甲烷溶剂中，冷却至0℃下滴加丙烯酰氯(化合物2)进行反应，反应完全后，经柱层析分离，可得到目标产物，反应方程如下：
Figure BDA0003684996190000091
实施例9
本实施例合成的高折射成膜树脂的结构见表1。
上述结构的高折射成膜树脂合成过程：将实施例2的丙烯酸三苯甲酯、N-乙烯基咔唑、甲基丙烯酸巯基噻吩(单体结构见表1中成膜树脂结构的最右侧部分)按照摩尔百分数30％:60％:10％配置后加入到PGMEA溶剂中形成混合溶液，单体总重量占所述混合溶液总重量的20％，然后加入单体总重量8％的AIBN，搅拌下加热至80℃进行自由基共聚反应6h，得到分子量为12088g/mol的成膜树脂，测得本实施例结构的成膜树脂的分子量分布为1.61。测得本实施例成膜树脂的折射率为1.6201。
高折射光刻胶组合物：将上述合成得到的本实施例结构高折射成膜树脂、光产酸剂三苯基硫鎓盐、PGMEA溶剂按照质量比1:0.05:8.95置于机械振动器上，于室温下振荡10～24小时使混合物充分溶解，用0.2μm过滤器过滤一遍，再用0.05μm过滤器过滤两遍，得到液态I线光刻胶组合物。将上述光刻胶组合物置于硅片上，以1500转/分钟的速度旋涂成1μm厚的膜，在100℃热板上烘烤150s后，用I线曝光机进行曝光。曝光后在110℃的热板上烘烤90s，最后在2.38％的四甲基氢氧化铵显影液中显影60s，烘干后得到光刻图案，光刻图案的SEM图见图6，由图6可知，图案具有良好的光刻分辨率，边缘清晰。
本实施例中甲基丙烯酸巯基噻吩的获得：通过采用甲基丙烯酰氯与2-巯基噻吩在室温以下温度、加入缚酸剂直接反应即可制得。
对比例2
商业化PHS树脂由苯乙烯、甲基丙烯酸叔丁酯和对羟基苯乙烯按照20％:20％:60％摩尔比聚合而成的成膜树脂，其折射率为1.5112。
表1实施例及对比例的成膜树脂结构及其折射率数据
Figure BDA0003684996190000092
Figure BDA0003684996190000101
Figure BDA0003684996190000111
由表1可知，现有技术中要实现正胶机理图案化的机理是基于叔碳结构的解离，例如具有对比例2中结构的成膜树脂，虽然其可实现正胶显影，但是其折射率较低。而本发明的包含(甲基)丙烯酸三苯基甲醇酯类结构的成膜树脂一方面基于三苯甲醇酯基团可实现快速解离出羧酸并溶解在碱显影液中快速显影，实现正胶曝光-显影功能，另一方面成膜树脂具有大于1.62以上的高折射率。
对比例1与实施例6、实施例7相比，增加n的摩尔百分数至大于30％后，成膜树脂的折射率下降至1.61。因此为了获得高折射率的成膜树脂尽量选择具有较高折射率的相应单体，并需要控制z和n的总用量在本发明范围内。
本发明的包含(甲基)丙烯酸三苯基甲醇酯类结构的成膜树脂不仅能够实现正胶显影功能，而且具有较高的折射率，折射率均在1.62以上，具有高折射、无色、透光性好的优势。
以上所述，仅为本发明较佳的具体实施方式，但本发明的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本发明揭露的技术范围内，根据本发明的技术方案及其发明构思加以等同替换或改变，都应涵盖在本发明的保护范围之内。

Claims (6)

1.一种含三苯基甲醇酯类结构的高折射成膜树脂，其特征在于，所述成膜树脂含有丙烯酸三苯基甲醇酯类结构，具有如下结构式：
Figure FDA0003684996180000011
其中A为氧原子或硫原子；R1和R2独立地选自苯基、萘基、蒽基、咔唑基团、邻苯亚胺基团、苯基马来酰亚胺基团、双酚芴基团、硫砜基团、噻吩基团、噻唑基团、叔碳基团中的一种或多种基团的组合；
R3为氮原子或氧原子，当R3为氧原子时则不存在R4，当R3为氮原子时则R4为苯基；
R5和R6独立地选自氢原子或烷基；
形成所述成膜树脂的各单体化合物按照摩尔百分数100％计：20％≤x≤60％、0％≤(z+n)＜30％、10％≤y≤80％。
2.根据权利要求1所述的一种含三苯基甲醇酯类结构的高折射成膜树脂，其特征在于，所述成膜树脂中具有所述丙烯酸三苯基甲醇酯类结构的单体化合物为：
Figure FDA0003684996180000012
3.根据权利要求1或2所述的一种含三苯基甲醇酯类结构的高折射成膜树脂，其特征在于，形成所述成膜树脂的各单体化合物按照摩尔百分数100％计：20％≤x≤60％、0％≤(z+n)≤25％、20％≤y≤80％。
4.根据权利要求3所述的一种含三苯基甲醇酯类结构的高折射成膜树脂，其特征在于，形成所述成膜树脂的各单体化合物按照摩尔百分数100％计：20％≤x≤60％、0％≤(z+n)≤10％、40％≤y≤80％。
5.一种光刻胶组合物，其特征在于，所述光刻胶组合物包括权利要求1-4任一项所述的含三苯基甲醇酯类结构的高折射成膜树脂，所述光刻胶组合物作为正胶。
6.根据权利要求5所述的一种光刻胶组合物，其特征在于，所述的含三苯基甲醇酯类结构的高折射成膜树脂在所述光刻胶组合物中占比至少5wt％。
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