CN115135996A - 光透射性积层体的检查方法 - Google Patents

Abstract

本发明提供一种可检测出与以往相比格外微小的异物的光透射性积层体的检查方法。本发明光透射性积层体的检查方法是在将光透射性积层体逐片固定在半空中的状态下进行透射检查，检测光透射性积层体中的8μm～50μm尺寸的缺陷。例如，缺陷的检测包含以下步骤：将规定倍率的光学系统的焦点对准光透射性积层体的第一主面的表面，并以光学系统扫描光透射性积层体，而制作出缺陷的XY坐标图；使光学系统的焦点从光透射性积层体的第一主面的表面向厚度方向内侧偏移规定距离，并以光学系统扫描光透射性积层体，而制作出另一缺陷的XY坐标图；及，整合制作出的缺陷的XY坐标图。

Description

光透射性积层体的检查方法

技术领域

本发明涉及一种光透射性积层体的检查方法。

背景技术

应用于影像显示装置的光透射性积层体(例如光学构件、光学积层体、光学薄膜、光透射性黏着片)为了防止影像显示缺陷等，必须排除该积层体内部的异物。因此，所述光透射性积层体代表上会用于异物检查。异物检查代表上是一边输送光透射性积层体的长条状带材一边进行的透射检查，在该透射检查中异物及/或缺陷可被辨识为暗点。近年来，对于影像显示装置所要求的显示性能变得格外地高，结果对于光透射性积层体的异物检查精度的要求亦变得格外地高。具体而言，以往只要检测出50μm左右的异物及/或缺陷即可容许，但现已产生检测出10μm左右的异物及/或缺陷的需求。但是，就所述的一边输送长条状带材一边进行的异物检查而言，要检测出如此小的异物及/或缺陷极为困难。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：特开2005-062165号公报

发明内容

发明将要解决的技术问题

本发明为了解决所述课题，其主要目的在于提供一种可检测出与以往相比格外微小的异物及/或缺陷的光透射性积层体的检查方法。

用于解决技术问题的手段

本发明实施方式的光透射性积层体的检查方法是在将光透射性积层体逐片固定在半空中的状态下进行透射检查，并检测该光透射性积层体中的8μm～50μm尺寸的缺陷。

在一实施方式中，所述缺陷的检测包含以下步骤：将规定倍率的光学系统的焦点对准所述光透射性积层体的第一主面的表面，并利用该光学系统扫描该光透射性积层体，而制作出缺陷的XY坐标图；使该光学系统的焦点从该光透射性积层体的第一主面的表面向厚度方向内侧偏移规定距离，并利用该光学系统扫描该光透射性积层体，而制作出另一缺陷的XY坐标图；及，整合该制作出的缺陷的XY坐标图。

在一实施方式中，所述缺陷的检测包含以下步骤：使所述光学系统的焦点向所述光透射性积层体的厚度方向内侧偏移该规定距离并利用该光学系统扫描该光透射性积层体，反复进行所述操作规定次数，而制作出规定数量的缺陷的XY坐标图。

在一实施方式中，所述缺陷的检测包含以下步骤：仅针对所述经整合的缺陷的XY坐标图中发生缺陷的坐标，使用比所述规定倍率更高倍率的光学系统来测定该缺陷的厚度方向的位置。

在一实施方式中，所述缺陷的厚度方向的位置的测定包含以下步骤：将所述高倍率的光学系统的焦点对准所述光透射性积层体的第一主面的表面；及，使该焦点向该光透射性积层体的厚度方向内侧移动，测定从该第一主面的表面到该缺陷为止的距离。

在一实施方式中，所述规定距离为10μm～100μm。

在一实施方式中，所述规定倍率为5倍以下。在一实施方式中，所述高倍率为10倍以上。

在一实施方式中，所述光透射性积层体选自光学薄膜、黏着剂片及该等的组合之中。在一实施方式中，所述光学薄膜选自偏光板、相位差板及包含该等的积层体之中。

在一实施方式中，所述光透射性积层体的厚度为300μm以下。

在一实施方式中，所述检查方法是在以下区域中进行所述缺陷的检测：以所述规定倍率的光学系统进行扫描时，扫描距离每1000μm的所述光透射性积层体的第一主面的厚度方向的变动量成为±10μm以内的区域。

在一实施方式中，所述检查方法是在所述光透射性积层体的挠曲角度相对于水平方向呈±0.57°以内的区域中进行所述缺陷的检测。

在一实施方式中，所述检查方法是在将所述光透射性积层体横向架设的状态下进行所述缺陷的检测。

在一实施方式中，所述检查方法是在将所述光透射性积层体中属于非制品区域的相对向的端部固定在一对可相对地靠近或远离的支持构件上的状态下，进行所述缺陷的检测。

在一实施方式中，所述一对支持构件可滑动，且以朝互相远离的方向被赋予势能。

在一实施方式中，所述光透射性积层体包含黏着剂层，且该光透射性积层体透过该黏着剂层固定于所述一对支持构件上。在一实施方式中，所述光透射性积层体透过所述黏着剂层所进行的固定包含以下步骤：将该光透射性积层体的一端部的分离件剥离去除，并透过所露出的该黏着剂层贴合于其中一支持构件上；接着，将另一端部的分离件剥离去除，并透过所露出的该黏着剂层贴合于另一支持构件上。

在一实施方式中，所述光透射性积层体包含以可剥离的方式暂时黏附于至少一表面的表面保护薄膜，且所述检查方法包含以下步骤：在将该光透射性积层体固定于所述一对支持构件后，暂时剥离该表面保护薄膜。在一实施方式中，所述检查方法包含以下步骤：在所述缺陷的检测后，于所述光透射性积层体的至少一表面，以可剥离的方式暂时黏附所述已暂时剥离的所述表面保护薄膜或与该表面保护薄膜不同的另一表面保护薄膜。

根据本发明另一面向是提供一种用于所述光透射性积层体的检查方法的光透射性积层体。该光透射性积层体进一步包含至少1片以可剥离的方式暂时黏附于所述第一主面侧的反射性保护薄膜。该反射性保护薄膜具有在将所述规定倍率的光学系统的焦点对准该第一主面的表面时反射照射光且透射检查光的功能。

在一实施方式中，所述反射性保护薄膜满足以下关系：

y≥0.0181x-11.142

在此，x是在650nm～800nm的波长区域中的检测波长的绝对值，y是反射率的绝对值。

在一实施方式中，所述光透射性积层体进一步包含以可剥离的方式暂时黏附于所述反射性保护薄膜的表面的表面保护薄膜。

在一实施方式中，所述光透射性积层体进一步包含形成于所述反射性保护薄膜的表面的硬涂层。

在一实施方式中，所述光透射性积层体设有可在检查后辨识检查完毕区域的辨识机构。

发明效果

根据本发明实施方式的光透射性积层体的检查方法，通过在将光透射性积层体逐片固定在半空中的状态下进行透射检查，可检测出与以往相比格外微小的(例如8μm尺寸左右的)异物及/或缺陷。

附图说明

图1是说明本发明一实施方式的透射检查的一例的概略侧视图。

图2(a)～(d)是说明在透射检查的缺陷的检测中，将光透射性积层体固定至支持构件的方法的程序的一例的概略侧视图。

图3是说明透射检查的缺陷的检测中拍摄组件的焦点对准的概略图。

图4是说明透射检查的缺陷的检测中，利用拍摄组件进行的光透射性积层体的XY平面的扫描的概略立体图。

图5是说明透射检查的缺陷的检测中缺陷的XY坐标图的一例的概念图。

图6是说明透射检查的缺陷的检测中规定数量的缺陷的XY坐标图的整合的一例的概念图。

图7(a)～(c)是说明可设于光透射性积层体的辨识机构的概略俯视图。

具体实施方式

以下参照图示针对本发明实施方式进行说明，本发明不受该等实施方式所限。又，附图皆为示意性展示，并非正确描绘实际状态的图示。

A.光透射性积层体的检查方法的概略

本发明实施方式的光透射性积层体的检查方法是在将光透射性积层体逐片固定在半空中的状态下进行透射检查。图1是说明透射检查的一例的概略侧视图。透射检查例如包含以下步骤：使用光学系统来获得横向架设于一对支持构件20、20上的光透射性积层体10的影像。光学系统例如包含：拍摄组件30，其配置于光透射性积层体10的一侧(在图示例中为上方)，且可获得光透射性积层体的影像；及，光源40，其配置于光透射性积层体10的另一侧(在图示例中为下方)，且发出照射光透射性积层体10的照射光。另外，亦可将拍摄组件30配置于光透射性积层体10的下方且将光源40配置于光透射性积层体10的上方。拍摄组件30是拍摄透射光(检查光)影像，而在该已拍摄的影像中，异物及/或缺陷(以下有因应文章脉络而仅称为异物或缺陷的情形)可被辨识为暗点。关于透射检查的更具体的实施方式将在后面叙述。通过在将光透射性积层体逐片固定在半空中的状态下进行透射检查，可在光透射性积层体中检测出8μm～50μm尺寸的缺陷，且优选为8μm～30μm尺寸，较优选为8μm～20μm尺寸，更优选为8μm～15μm尺寸，尤优选为约10μm尺寸。以往，像光学薄膜这类光透射性积层体的异物检查是一边输送长条状带材一边进行。根据这种异物检查，实质上无法检测出较小的(代表上为50μm以下的尺寸的)异物。另外，以往只要检测出50μm尺寸左右的异物即可容许，因此在通过带材输送进行的异物检查中并未发生特别的问题，但随着影像显示装置的高精度化，现已产生检测出10μm尺寸左右的异物的新需求。本发明人等针对所述问题进行了积极研讨，结果发现可能是输送时带材的颤动及/或输送装置的振动造成无法利用拍摄组件获得正确影像所致。并且，试错结果发现通过将光透射性积层体裁断成单片状，并在将该单片状的光透射性积层体固定在半空中的状态下(亦即在不载置之下)进行透射检查，不仅可排除输送时带材的颤动及/或输送装置的振动造成的不良影响，还排除了载置面的异物等的不良影响。结果可实现极高精度的异物检查，而可检测出10μm尺寸左右的异物及/或缺陷。因此，本发明可解决以往所未有的新课题。

B.光透射性积层体

光透射性积层体可举需要异物检查的任意适当的光透射性积层体。具体例可举光学薄膜、黏着剂片及该等的组合(例如附黏着剂层的光学薄膜)。光学薄膜可举例如偏光板、相位差板、触控面板用导电性薄膜、表面处理薄膜及因应目的将该等适当积层而成的积层体(例如抗反射用圆偏光板、触控面板用附导电层的偏光板)。黏着剂片代表上包含黏着剂与暂时黏附于其至少一侧的脱模薄膜。光透射性积层体代表上可为附黏着剂层的光学薄膜。光透射性积层体的厚度优选为300μm以下，且较优选为280μm以下，更优选为250μm以下。根据本发明实施方式，即使是在所述薄型光透射性积层体中，仍可良好地检测出微小异物。光透射性积层体的厚度下限可为例如30μm。

光透射性积层体例如可通过所谓卷对卷(roll to roll)来积层构成光透射性积层体的各层，从而制作出。光透射性积层体具有第一主面与第二主面。第一主面代表上为与可贴合光透射性积层体的影像显示单元相反的侧的表面；第二主面代表上为影像显示单元侧的表面，更详细而言可为黏着剂层的表面。所制作出的长条状光透射性积层体是裁断成规定尺寸后用于异物检查。该尺寸代表上可为可获得多片最终制品的尺寸。检查结束后，光透射性积层体代表上可裁断成最终制品尺寸并出货。

在一实施方式中，光透射性积层体在用于异物检查时，亦可在第一主面上以可剥离的方式暂时黏附有反射性保护薄膜。视光透射性积层体的种类、构成而定，有拍摄组件(例如在光透射性积层体包含低反射层(AR层)时)无法对光透射性积层体的第一主面发挥自动对焦的功能，但通过暂时黏附反射性保护薄膜，即使是在所述情况下，仍可使拍摄组件对光透射性积层体的第一主面良好地发挥自动对焦的功能。反射性保护薄膜代表上具有在将规定倍率的光学系统的焦点对准光透射性积层体的第一主面表面时反射照射光反射且透射检查光的功能。在一实施方式中，反射性保护薄膜满足以下关系：

y≥0.0181x-11.142

在此，x是在650nm～800nm的波长区域中的检测波长的绝对值，y是反射率的绝对值。只要为所述构成，便能更良好地发挥拍摄组件的自动对焦功能。反射性保护薄膜只要具有所述功能即可采用任意适当的构成。具体而言，反射性保护薄膜可以例如日本专利特开2019-099751号公报中的[0031]中记载的环状烯烃类树脂来构成。环状烯烃类树脂可举例如聚降莰烯。环状烯烃类树脂亦可使用市售品。市售品的具体例可举日本ZEON制的Zeonor及ZEONEX、JSR制的ARTON、三井化学制的APEL、TOPAS ADVANCED POLYMERS制的TOPAS等。环状烯烃类树脂薄膜优选为含有50重量％以上的环状烯烃类树脂。在一实施方式中，亦可在反射性保护薄膜的表面形成有硬涂层。通过形成硬涂层，可防止反射性保护薄膜发生伤痕、异物附着于反射性保护薄膜等，因此可以更高精度进行异物检查，而可正确地检测出微小异物及/或缺陷。

反射性保护薄膜亦可因应规定的检查次数暂时黏附多片。例如，规定2次异物检查时，通过贴合2片反射性保护薄膜，而只要在第二次异物检查前剥离1片外侧的反射性保护薄膜，便可防止内侧的反射性保护薄膜发生伤痕、异物附着于内侧的反射性保护薄膜等，因此可以更高精度进行多次异物检查。另外，即使是在规定进行多次检查时，仍可仅暂时黏附1片反射性保护薄膜。

在一实施方式中，亦可在反射性保护薄膜的表面(当有多片反射性保护薄膜存在时，为最表面的反射性保护薄膜表面)上以可剥离的方式暂时黏附表面保护薄膜。通过暂时黏附表面保护薄膜，可防止反射性保护薄膜发生伤痕、异物附着于反射性保护薄膜等，因此可以更高精度进行异物检查。表面保护薄膜代表上是在检查时被剥离去除。检查结束后，可将检查时被剥离的表面保护薄膜再次暂时黏附于光透射性积层体的表面，亦可将另一表面保护薄膜以可剥离的方式暂时黏附。

反射性保护薄膜及表面保护薄膜可通过卷对卷(亦即在裁断前)暂时黏附于光透射性积层体，亦可在裁断后暂时黏附。

C.光透射性积层体的检查方法的具体实施方式

C-1.在半空中的固定

以下将更具体说明透射检查中的缺陷的检测。在缺陷的检测中，如上所述，光透射性积层体逐片被固定在半空中。光透射性积层体例如可如同所述图1所示，通过横向架设于一对支持构件上来固定在半空中。光透射性积层体中，属于非制品区域的相对向的端部可固定于支持构件上。代表上，光透射性积层体包含黏着剂层，且光透射性积层体可透过该黏着剂层固定于支持构件上。图2(a)～图2(d)是说明光透射性积层体固定至支持构件的方法的程序的一例的概略侧视图。一连串的程序中，理想上光透射性积层体是在第一主面10a上以可剥离的方式暂时黏附有反射性保护薄膜50及表面保护薄膜60。首先，如图2(a)所示，光透射性积层体的属于非制品区域的一端部10c的分离件被剥离去除，而露出黏着剂层。端部10c透过该黏着剂层而贴合于支持构件20上。接着，如图2(b)所示，属于非制品区域的与端部10c相对向的端部10d的分离件被剥离去除，而露出黏着剂层，端部10d透过该黏着剂层而贴合于支持构件20上。通过利用黏着剂层将光透射性积层体(的端部)贴合于支持构件，可在不另外使用固定治具下简便地固定。当贴合端部10c及10d，则如图2(c)所示，分离件会全部被去除。在此，反射性保护薄膜50及表面保护薄膜60不仅可防止光透射性积层体发生伤痕及/或异物附着于光透射性积层体，亦可作为去除分离件及贴合端部时的补强材发挥功能。依所述进行后，光透射性积层体是横向架设于支持构件上。接着，如图2(d)所示，剥离表面保护薄膜60后，暂时黏附有反射性保护薄膜50的光透射性积层体10便用于异物检查。通过在将光透射性积层体固定于支持构件后再剥离表面保护薄膜(亦即通过在暂时黏附有表面保护薄膜的状态下将光透射性积层体固定于支持构件)，在剥离分离件后仍可保持光透射性积层体的刚性(韧性)，而容易处理。结果，由于能防止皱褶等，因此可以高精度实施异物检查，而可正确地检测出微小的异物及/或缺陷。并且，通过在将光透射性积层体逐片横向架设的状态下进行异物检查，可排除因输送造成的颤动及/或输送装置的振动的影响，因此即使是在剥离表面保护薄膜后仍可以高精度实施异物检查，而可正确地检测出微小异物及/或缺陷。并且，通过剥离表面保护薄膜，便不会检测出表面保护薄膜的异物，因此利用与所述效果的加乘效果，可以更高精度实施异物检查。在一实施方式中，如所述B项所说明，亦可暂时黏附有多片反射性保护薄膜。此时，在第一次异物检查时会将表面保护薄膜剥离去除，而反射性保护薄膜可在其后每次异物检查时各剥离1片。

代表上，一对支持构件20、20以可相对地靠近或远离的方式构成。在一实施方式中，支持构件以可滑动的方式构成，且以朝互相远离的方向被赋予势能。具体而言，如图2(b)～图2(d)所示，支持构件一边(在图示例中为图示的右侧)被固定，而另一边(在图示例中为图示的左侧)以可滑动的方式构成，并且该另一边利用弹性构件(例如弹簧)朝远离的方向被赋予势能。只要为所述构成，便可赋予光透射性积层体适当的张力(拉力)，而使光透射性积层体成为伸展架设的状态。结果光透射性积层体的皱褶及应变会被显着抑制，因此可以更高精度进行异物检查，而可正确地检测出微小异物及/或缺陷。张力可通过调整弹簧本身的强度、弹簧的固定螺丝的锁紧状态来控制。另外，亦可将两边支持构件都以可滑动的方式构成，并利用弹性构件对两边朝远离的方向赋予势能。

C-2.缺陷的检测

缺陷的检测如上所述，代表上是使用如图1所示的光学系统(包含拍摄组件30及光源40)来进行。以下进行具体说明。首先，如图3的左侧所示，将规定倍率(以下有时称为低倍率)的光学系统(实质上为拍摄组件30)的焦点对准光透射性积层体10的第一主面10a的表面。在此状态下，依图4所示以拍摄组件30扫描光透射性积层体10的平面(XY平面)整体，而制作出缺陷的XY坐标图(第一XY坐标图)。如所述A项所记载，缺陷被辨识为暗点，因此在第一XY坐标图中，光透射性积层体10的第一主面10a附近(从第一主面到厚度方向内侧的规定距离为止)的缺陷例如会被辨识为如图5所示的影像上的暗点。另外，有时仅靠第一XY坐标图无法检测出厚度方向的较深位置(靠近第二主面的位置)的微小缺陷。对此，根据本发明实施方式，则如后述，通过从第一主面表面向厚度方向内侧偏移规定距离P来进行缺陷的检测，可涵盖光透射性积层体的厚度方向整体正确地检测出微小缺陷。

接着，如图5的中央部所示，使拍摄组件30的焦点从光透射性积层体10的第一主面10a的表面向厚度方向(Z方向)内侧偏移规定距离P，将焦点对准光透射性积层体10的厚度方向内侧的规定位置。在该状态下，依与所述同样方式如图4所示以拍摄组件30扫描光透射性积层体10的XY平面整体，而制作出缺陷的XY坐标图(第二XY坐标图)。在第二XY坐标图中，光透射性积层体10的厚度方向内侧的规定位置附近(从该规定位置到规定距离为止)的缺陷，是被辨识为例如位于与图5实质上不同位置的影像上的起点。另外，在本说明书中，有时会将规定距离P称为拍摄间距。拍摄组件的焦点对准可使用任意适当的手段来实现。例如，可使拍摄组件本身在Z方向上移动，亦可通过镜头等变更拍摄组件的焦点距离，而亦可组合该等手段。图示例是展示通过镜头等来变更拍摄组件的焦点距离的形态。

视需求如图3的右侧所示，使拍摄组件30的焦点向厚度方向(Z方向)再偏移规定距离P，将焦点对准光透射性积层体10的厚度方向内侧的下一个规定位置。在该状态下，依与所述同样方式如图4所示以拍摄组件30扫描光透射性积层体10的XY平面整体，而制作出缺陷的XY坐标图(第三XY坐标图)。视需求将此操作重复规定次数，而制作出规定数量的缺陷的XY坐标图。拍摄间距及要制作的缺陷的XY坐标图的数量，可因应光透射性积层体的整体厚度、构成光透射性积层体的层数、各层厚度等来适当设定。拍摄间距P可为例如10μm～100μm，且优选为20μm～80μm，较优选为40μm～60μm。利用所述构成，可在不以拍摄组件扫描厚度方向整体下，检测出实质上存在于厚度方向上的所有缺陷(由此为光透射性积层体中的实质上的所有缺陷)及其大致位置。图3中展示了制作3个缺陷的XY坐标图的形态，惟要制作的缺陷的XY坐标图数量不受此限，优选为2～10，且较优选为3～8，更优选为4～6。

接着，整合依所述所制作出的规定数量的缺陷的XY坐标图。例如图6所展示的是整合5个缺陷的XY坐标图而制作出缺陷的XY坐标图(整合XY坐标图)的一例。通过如图6所示整合各影像资料，可将存在于各个XY坐标图的缺陷表示于共通的XY坐标上。如此即可制作出整合XY坐标图。在整合XY坐标图中，光透射性积层体中的实质上的所有缺陷皆表示成XY坐标(二维坐标)。

如所述的整合XY坐标图的制作中，拍摄组件的规定倍率(低倍率)宜小于10倍，且较优选为5倍以下。该倍率的下限可为例如1.5倍。该倍率只要为所述范围，便可有效率地拍摄光透射性积层体的广范围，结果可有效率地制作出整合XY坐标图。

接着测定缺陷的深度(在光透射性积层体的厚度方向上的位置)。在此，要涵盖光透射性积层体的平面整面且涵盖厚度方向整体来检测出缺陷是困难的，即使可实现，若考虑到成本、时间及效率性，仍不实用。因此，在本实施方式中，仅针对整合XY坐标图中的缺陷发生坐标测定缺陷的厚度方向的位置。如上所述，在整合XY坐标图中，由于光透射性积层体中的实质上的所有缺陷皆表示成二维坐标，因此通过仅针对缺陷发生坐标测定缺陷的厚度方向的位置，可检测出光透射性积层体中的实质上的所有缺陷的厚度方向的位置。

缺陷深度的测定包含以下步骤：将拍摄组件的焦点对准光透射性积层体的第一主面的表面；及，使该焦点向光透射性积层体的厚度方向内侧移动，并测定从第一主面的表面到缺陷为止的距离。具体而言，可使拍摄组件的焦点沿厚度方向移动，将对比高的位置认定为对焦位置，并将从第一主面的表面到该对焦位置为止的距离作为缺陷在厚度方向上的位置。通过检测出缺陷在厚度方向上的正确位置，可格外提升制品的检查效率及出货效率。

如所述的缺陷深度的测定中，拍摄组件的倍率(高倍率)优选为10倍以上，且较优选为20倍以上。该倍率的上限可为例如50倍。只要该倍率为所述范围，便可确实地检测出微小缺陷在厚度方向上的位置。

缺陷深度的测定已记载于例如日本专利特开2001-124660号公报、日本专利特开2004-077261号公报、日本专利特开2009-250893号公报中。本说明书即援用该等公报的记载作为参考。

在一实施方式中，所述缺陷的检测可适宜在所述缺陷的XY坐标图中，在以拍摄组件进行扫描时，扫描距离每1000μm的光透射性积层体的第一主面的厚度方向(Z方向)的变动量成为±10μm以内的区域中进行，且较宜在成为±8μm以内的区域中进行。在另一实施方式中，所述缺陷的检测可适宜在光透射性积层体的挠曲角度相对于水平方向呈±0.57°以内的区域中进行，且较宜在呈±0.50°以内的区域中进行。亦即，在任一实施方式中，皆可在光透射性积层体的挠曲非常小的区域中进行缺陷的检测。只要为所述构成，便可极正确地进行将拍摄组件的焦点对准光透射性积层体的第一主面(就结果而言，为其后的将焦点对准厚度方向内侧的规定位置)一事。结果，可正确地检测出微小缺陷在厚度方向上的位置。所述光透射性积层体的挠曲非常小的区域可通过所述C-1项记载的光透射性积层体的固定方法来实现。另外，当变动量及/或挠曲角度超出所述范围时，有无法实施正确的透射检查的情形，结果造成光透射性积层体中发生无法透射检查的区域的情形。在所述情况下，通过如后述在光透射性积层体设置辨识检查完毕区域的手段，可防止将非检查区域当作制品而出货的事态。

依以上方式便可进行透射检查(缺陷的检测)。检查结束后，光透射性积层体是如上所述，代表上可裁断成最终制品尺寸并出货。同样如上所述，亦可在检查结束后视需求将经剥离的表面保护薄膜再次以可剥离的方式暂时黏附于光透射性积层体。

在一实施方式中，检查后的光透射性积层体(实质上为残留在光透射性积层体的第一主面侧的表面保护薄膜或反射性保护薄膜)上设有可辨识检查完毕区域的辨识机构。例如当光透射性积层体的挠曲角度相对于水平方向非常大时，可能会在光透射性积层体中发生无法透射检查的区域。或者，依光透射性积层体利用所述支持构件所进行的固定状态，有检查区域会偏离设定的情形。通过设置辨识检查完毕区域的手段，即使是在如所述的情况下，仍可防止将非检查区域当作制品而出货的事态。辨识机构例如可通过利用与拍摄组件连动移动的例如绘图机，在光透射性积层体上标记来形成。辨识机构的具体样式可举例如包围检查完毕区域的直线或虚线、交叉标记、一定间隔的点。

参照图7(a)～图7(c)针对辨识机构进行具体说明。例如如图7(a)所示，当光透射性积层体10利用支持构件20所进行的固定已偏离时，拍摄组件的扫描在XY方向(已正确地固定光透射性积层体10时的长边方向及短边方向)上进行，因此如图7(b)所示，检查完毕区域70a会偏离制品区域80。若未标记辨识机构，则会有将图7(c)中以「×」所示的非检查区域当作制品而出货的可能性，但通过标记辨识机构70b可特定非检查区域，结果可防止将非检查区域当作制品而出货的事态。

产业上的可利用性

本发明实施方式的光透射性积层体的检查方法可适宜在影像显示装置的制造过程中用于检测光学薄膜、黏着剂片等的异物。

附图标记说明

10:光透射性积层体

20:支持构件

30:拍摄组件

40:光源

50:反射性保护薄膜

60:表面保护薄膜

Claims (25)

1.一种光透射性积层体的检查方法，在将光透射性积层体逐片固定在半空中的状态下进行透射检查，并检测该光透射性积层体中的8μm～50μm尺寸的缺陷。

2.如权利要求1所述的光透射性积层体的检查方法，其中所述缺陷的检测包含以下步骤：

将规定倍率的光学系统的焦点对准所述光透射性积层体的第一主面的表面，并利用该光学系统扫描该光透射性积层体，而制作出缺陷的XY坐标图；

使该光学系统的焦点从该光透射性积层体的第一主面的表面向厚度方向内侧偏移规定距离，并利用该光学系统扫描该光透射性积层体，而制作出另一缺陷的XY坐标图；及

整合该制作出的缺陷的XY坐标图。

3.如权利要求2所述的光透射性积层体的检查方法，其中所述缺陷的检测包含以下步骤：使所述光学系统的焦点向所述光透射性积层体的厚度方向内侧偏移所述规定距离并利用该光学系统扫描该光透射性积层体，反复进行所述操作规定次数，而制作出规定数量的缺陷的XY坐标图。

4.如权利要求2或3所述的光透射性积层体的检查方法，其中所述缺陷的检测包含以下步骤：仅针对所述经整合的缺陷的XY坐标图中的缺陷发生坐标，使用比所述规定倍率更高倍率的光学系统来测定该缺陷的厚度方向的位置。

5.如权利要求4所述的光透射性积层体的检查方法，其中所述缺陷的厚度方向的位置的测定包含以下步骤：将所述高倍率的光学系统的焦点对准所述光透射性积层体的第一主面的表面；及，使该焦点向该光透射性积层体的厚度方向内侧移动，并测定从该第一主面的表面到该缺陷为止的距离。

6.如权利要求2至5中任一项所述的光透射性积层体的检查方法，其中所述规定距离为10μm～100μm。

7.如权利要求2至6中任一项所述的光透射性积层体的检查方法，其中所述规定倍率为5倍以下。

8.如权利要求4至7中任一项所述的光透射性积层体的检查方法，其中所述高倍率为10倍以上。

9.如权利要求1至8中任一项所述的光透射性积层体的检查方法，其中所述光透射性积层体选自光学薄膜、黏着剂片及该等的组合之中。

10.如权利要求9所述的光透射性积层体的检查方法，其中所述光学薄膜选自偏光板、相位差板及包含该等的积层体之中。

11.如权利要求1至10中任一项所述的光透射性积层体的检查方法，其中所述光透射性积层体的厚度为300μm以下。

12.如权利要求2至11中任一项所述的光透射性积层体的检查方法，在以下区域中进行所述缺陷的检测：以所述规定倍率的光学系统进行扫描时，每1000μm扫描距离的所述光透射性积层体的第一主面的厚度方向的变动量在±10μm以内的区域。

13.如权利要求1至12中任一项所述的光透射性积层体的检查方法，在所述光透射性积层体的挠曲角度相对于水平方向呈±0.57°以内的区域中进行所述缺陷的检测。

14.如权利要求1至13中任一项所述的光透射性积层体的检查方法，在将所述光透射性积层体横向架设的状态下进行所述缺陷的检测。

15.如权利要求14所述的光透射性积层体的检查方法，在将所述光透射性积层体中属于非制品区域的相对向的端部固定在一对可相对地靠近或远离的支持构件上的状态下，进行所述缺陷的检测。

16.如权利要求15所述的光透射性积层体的检查方法，其中所述一对支持构件可滑动，且以朝互相远离的方向被赋予势能。

17.如权利要求15或16所述的光透射性积层体的检查方法，其中所述光透射性积层体包含黏着剂层，且该光透射性积层体透过该黏着剂层固定于所述一对支持构件上。

18.如权利要求17所述的光透射性积层体的检查方法，其中所述光透射性积层体透过所述黏着剂层所进行的固定包含以下步骤：将该光透射性积层体的一端部的分离件剥离去除，并透过所露出的该黏着剂层贴合于其中一支持构件上；接着，将另一端部的分离件剥离去除，并透过所露出的该黏着剂层贴合于另一支持构件上。

19.如权利要求15至18中任一项所述的光透射性积层体的检查方法，其中所述光透射性积层体包含以可剥离的方式暂时黏附于至少一表面的表面保护薄膜，且该光透射性积层体的检查方法包含以下步骤：在将该光透射性积层体固定于所述一对支持构件后，暂时剥离该表面保护薄膜。

20.如权利要求19所述的光透射性积层体的检查方法，其包含以下步骤：在所述缺陷的检测后，在所述光透射性积层体的至少一表面，以可剥离的方式暂时黏附所述已暂时剥离的所述表面保护薄膜或与该表面保护薄膜不同的另一表面保护薄膜。

21.一种光透射性积层体，用于权利要求1至20中任一项的光透射性积层体的检查方法，

且其进一步包含至少1片以可剥离的方式暂时黏附于所述第一主面侧的反射性保护薄膜，

该反射性保护薄膜具有在将所述规定倍率的光学系统的焦点对准该第一主面的表面时反射照射光且透射检查光的功能。

22.如权利要求21所述的光透射性积层体，其中所述反射性保护薄膜满足以下关系：

y≥0.0181x-11.142

在此，x是650nm～800nm的波长区域下的检测波长的绝对值，y是反射率的绝对值。

23.如权利要求21或22所述的光透射性积层体，其进一步包含以可剥离的方式暂时黏附于所述反射性保护薄膜的表面的表面保护薄膜。

24.如权利要求21或22所述的光透射性积层体，其进一步包含形成于所述反射性保护薄膜的表面的硬涂层。

25.如权利要求21至24中任一项所述的光透射性积层体，其设有可在检查后辨识检查完毕区域的辨识机构。

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