CN115132611A - 配管构造和处理装置 - Google Patents

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Abstract

本公开提供一种能够将多个配管的传导性设为一定并且改善占地面积效率性的配管构造和处理装置。一种配管构造，其将在第1室相邻配置的多个处理组件和在位于所述第1室的下层的第2室配置、并与所述多个处理组件对应地设置的多个真空泵连接，其中，该配管构造具有多个配管，该多个配管将所述多个处理组件和与所述多个处理组件对应设置的所述多个真空泵分别连接，所述多个配管在高度方向上分割成多个模块，在相同高度的模块中使用的所述多个配管具有相同形状。

Description

配管构造和处理装置
技术领域
本发明涉及配管构造和处理装置。
背景技术
以往，公知有一种处理装置，该处理装置包括：处理部，其包含相连地配置于第1室的多个处理组件和配置于第1室并收容载体的装载组件，该载体收纳有利用多个处理组件进行处理的基板；以及多个泵单元，其与多个处理组件分别对应地配置于与第1室相邻的第2室，将对应的多个处理组件和多个泵单元连接的连接配管的长度相同(例如，参照专利文献1)。
现有技术文献
专利文献
专利文献1：日本特开2020-113629号公报
发明内容
发明要解决的问题
本公开提供一种能够使多个配管的传导性一定并且改善占地面积效率性的配管构造和处理装置。
用于解决问题的方案
为了达成上述目的，本公开的一技术方案的配管构造将在第1室相邻配置的多个处理组件和在位于所述第1室的下层的第2室配置、并与所述多个处理组件对应地设置的多个真空泵连接，其中，
该配管构造具有多个配管，该多个配管将所述多个处理组件和与所述多个处理组件对应地设置的所述多个真空泵分别连接，
所述多个配管在高度方向上分割成多个模块，在相同高度的模块中使用的所述多个配管具有相同形状。
发明的效果
根据本公开，能够使多个配管的传导性相同。
附图说明
图1是表示本公开的第1实施方式的处理装置的配置的一个例子的图。
图2是表示本实施方式的配管构造的一个例子立体图。
图3是本实施方式的配管构造的主视图。
图4是本实施方式的配管构造的侧视图。
图5是分解地表示本公开的实施方式的配管构造中的一个配管的分解图。
图6是表示凸缘的结构的一个例子的图。
图7是表示本公开的第2实施方式的配管构造的部分配管的一个例子的图。
图8是表示洁净室设施构造物的开口的一个例子的图。
图9是用于说明配管的偏离幅度的图。
图10是表示路径的设定的想法的图。
图11是表示将偏离幅度设定得较小的配管的形状的一个例子的图。
图12是表示将偏离幅度设定得较大的配管的形状的一个例子的图。
具体实施方式
以下，参照附图，说明用于实施本发明的方式。
[第1实施方式]
图1是表示本公开的第1实施方式的处理装置的配置的一个例子的图。本实施方式的处理装置具有处理组件40、真空泵50和配管构造60。处理组件40设置于第1室10，真空泵50设于第1室10的下层的第2室20。在第1室10与第2室20之间设有洁净室设施构造物30。
处理组件40是用于处理基板(未图示)的组件，是用于对基板实施成膜、退火、蚀刻等加工处理或制造处理的组件。处理组件40并列地设有多个，以提高处理效率。在图1中，设置有四个处理组件40。除了设有处理组件40以外，还设有用于将基板向各处理组件40送入的装载机41。处理组件40能够根据用途对各种基板进行处理，列举使用硅晶圆(以下，称作“晶圆”)作为基板的例子进行说明。
处理组件40能够使用进行各种处理的组件，在本实施方式中，说明使用纵型热处理装置作为处理组件的情况。在处理组件40收纳有能够堆叠多个基板的基板保持工具。例如，各处理组件40构成为能够一次处理50～200张基板的组件。将这样的处理组件40并列地配置多台，并同时执行处理，从而能够提高处理张数。因而，能够将多个处理组件40相邻地配置，并列地进行基板处理。
此外，装载机41是用于收取并保管多个FOUP(前开式晶圆传送盒)的装置，使一台装载机41对应于多个处理组件40，从而能够提高每单位面积的生产性。因而，对于多个处理组件40，也谋求构成为相邻地配置而尽可能在整体上成为较小的占地面积。
另外，处理组件40是实施真空处理的组件，因此，谋求在各处理组件40连接真空泵50，并对处理组件40内进行真空排气。因而，与各处理组件40对应地以一对一的方式设置真空泵50，与四台处理组件40对应地设置四个真空泵50。
真空泵50是对处理组件40的处理室内进行真空排气的排气部件，能够根据处理而使用干式泵、涡轮分子泵、低温泵等真空泵50。
如图1所示，经常在第1室10设置处理组件40，在下层的第2室20设置真空泵50。在该情况下，与各对处理组件40和真空泵50相对应地设置配管61～64，将各处理组件40与各真空泵50连接。因而，在图1中，与处理组件40和真空泵50对应地设有四个配管61～64。
在此，在利用配管60将位于第1室10的处理组件40与位于下层的第2室20的真空泵50连接时，有时在第1室10与第2室20之间设有洁净室设施构造物30。
在洁净室设施构造物30设有开口31，需要穿过开口31设置配管61～64。即，需要在洁净室设施构造物30的开口31的位置这样的限制条件下连接处理组件40和真空泵50。
在图1中，列举了在处理组件40的正下方相邻地配置有真空泵50的例子，但也会存在由于柱、壁这样的限制而真空泵50并未对齐地配置的情况。在这样的情况下，若基于处理组件40与真空泵50之间的配置关系来选择最易使用的配管而进行连接，则对每个处理组件40而言，配管的形状、长度不同，会产生如下这样的状况：由于排气条件变化，而无法确保由各处理组件进行的成膜处理、蚀刻处理等的均匀性。
于是，在本实施方式的配管构造中，在多个配管61～64中，采用以传导性相同的方式使多个配管61～64的形状和长度统一的结构。以下，详细地说明这点。
图2是表示本实施方式的配管构造60的一个例子的立体图。如图2所示，配管构造60包含四个配管61～64，但配管61～64的倾斜的部分的朝向不同。
图3是本实施方式的配管构造的主视图。如图3所示，配管构造60具有配管61～64，各配管61～64在高度方向上分割成A～C这3个区域。该A～C是各配管61～64的分割配管，是利用凸缘连接的断开部分。也就是说，是作为一个部件构成配管的单位。
在此，着眼于A区域，四个配管61～64分别具有分割配管611～641。而且，分割配管611～641所配置的朝向不同，但全部具有相同的形状。更详细而言，部分配管611～641分别具有倾斜部611a～641a和直线部611b～641b，倾斜部611a～641a彼此全部为相同的形状，直线部611b～641b彼此也为相同的形状。
具体而言，倾斜部611a～641a的倾斜的朝向分别不同，倾斜部611a略向右倾斜，倾斜部621a略向左倾斜，倾斜部631a以比倾斜部621a略大的角度向左倾斜，倾斜部641a向正面倾斜。
另一方面，直线部611b～641b全部沿铅垂方向延伸，直线部611b～641b彼此虽然配置不同，但形状相同。
因而，部分配管611～641虽然朝向、位置不同，但形状全部相同。若具有相同的形状，则作为气体的流通路径的条件相同，因此它们的传导性全部相同。
同样地，在区域B中，配管61～64分别具有部分配管612～642。而且，部分配管612～642分别具有倾斜部612a～642a和直线部612b～642b。在区域B中也是，倾斜部612a～642a所倾斜的朝向不同，倾斜部612a朝向左侧，倾斜部622a略朝向左侧。倾斜部632a朝向正面，倾斜部642a以比倾斜部612a小且比倾斜部622a大的角度朝向左侧，然而，倾斜部612a～642a的形状全部相同，因此，排气时的气体的传导性相同。
对于直线部612b～642b，所配置的位置不同，但全部沿铅垂方向延伸,是长度、粗细也相同的相同形状。因而，部分配管612～642彼此的传导性全部相同。
倾斜部612a～642a彼此的形状全部相同，直线部612b～642b彼此的形状也全部相同，因此部分配管612～642彼此的传导性也相同。
对于区域C，部分配管613～643分别具有直线部613a～643a、倾斜部613b～643b和直线部613c～643c。区域A中的部分配管611～641是倾斜部611a～641a和直线部611b～641b的组合，区域B中的部分配管612～642是倾斜部612a～642a和直线部612b～642b的组合，也就是一个倾斜部与一个直线部的组合，但部分配管613～643是两个直线部613a～643a、613c～643c与一个倾斜部613b～643b的组合，在这方面与区域A、B的部分配管611～641和部分配管612～642不同。
如此，部分配管613～643中的直线部613a～643a、613c～643c与倾斜部613b～643b的组合，能够根据用途而设为各种组合。
在部分配管613～643中也是，直线部613a～643a彼此的形状相同，倾斜部613b～643b彼此的形状也相同，直线部613c～643c彼此的形状也相同，因此部分配管613～643彼此的传导性也相同。
另外，直线部613a～643a的相对的位置、倾斜部613b～643b的倾斜的朝向分别不同，但与真空泵50连接的直线部613c～643c的相对于真空泵50的相对位置相同。
如此，本实施方式的配管构造60能够从处理组件30的连接位置开始并在最终到达真空泵50时设为与真空泵50的配置相对应的位置，并且中途路径能够设为各种不同的配置。而且，即使经由这样的不同的中途路径，也能够将所有区域A～C中的形状设为相同，能够将传导性保持为一定。
如此，在高度方向上的所有区域A、B、C中，部分配管611～641彼此、部分配管612～642彼此以及部分配管613～643彼此具有相同的形状，因此传导性相同。因而，配管61～64彼此的传导性也相同。如此，根据本实施方式的配管构造60，对于多个配管61～64，即使穿过路径、位置各不相同，也能够将传导性设为相同，能够兼顾自由度较高的配置和传导性的一定化。
图4是本实施方式的配管构造的侧视图。如图4所示，可知，本实施方式的配管构造60的配管61～64构成为穿过各种路径的形状。由此，能够进行自由度较高的配置。
图5是分解地表示本公开的实施方式的配管构造中的一个配管的分解图。在图5中，举例示出配管61，但配管62～64也具有同样的结构。
在图5中，在左侧示出了处理组件连接侧的部分配管611，在右侧示出了真空泵连接侧的部分配管613，在中央示出了正中的部分配管612。
部分配管611具有倾斜部611a和直线部611b，在倾斜部611a的最上部设有凸缘6111，在直线部611b的最下部设有凸缘6112。与处理组件40连接的凸缘6111和与下方的部分配管612连接的凸缘6112具有不同的构造。如此，凸缘6111、6112也能够与所连接的对象相对应地使用适当类型的凸缘。
如此，通过组合倾斜部611a和直线部611b，从而能够利用倾斜部611a在水平方向上使配管的位置偏移。另外，通过具备直线部611b，从而能够防止部分配管611的传导性的下降。也就是说，具有如下这样的构造：利用倾斜部611a使部分配管61的位置偏移，对于不需要使位置偏移的部位，使用笔直的配管避免传导性的下降。
此外，倾斜部611a的倾斜角度能够根据用途而设为各种设定，例如，也可以相对于铅垂方向设为20～70度，也可以设为30～60度，作为一个例子，也可以设为45度。在图5中，列举了将倾斜部611a相对于铅垂方向设为45度的倾斜角度的例子。
正中的部分配管612也具有倾斜部612a和直线部612b，利用倾斜部612a使配管61的位置偏移，除此以外的部位设为不易使传导性下降的直线。
在部分配管612中，上下均连接部分配管611、613，因而在上端和下端使用相同类型的凸缘6121、6122。
此外，倾斜部612a的倾斜角度例如也设定为45度。对于可以根据用途而使倾斜角度变化这方面，如在部分配管611中说明了的那样。
与真空泵50连接的部分配管613具有直线部613a、倾斜部613b和直线部613c。最后的直线部613c是与真空泵50连接的部分，以构造简单的方式构成为直线部613c。
倾斜部613b和直线部613a在主旨上与部分配管611、612中的倾斜部611a、612a和直线部611b、612b同样，但上下的顺序不同。
另外，对于部分配管613，其上端与部分配管612的下端连接，其下端与真空泵50连接，因此设于上端的凸缘6131与设于下端的凸缘6132成为不同的结构。
如此，将使倾斜部611a、612a、613b和直线部611b、612b、613a、613c组合而成的部分配管611～613彼此连接而构成配管61。由此，能够将配管61构成为各种形状。
另外，该结构对其他的配管62～64而言也同样，因此，能够将配管61～64彼此的传导性设为相同，能够将传导性保持为一定，并且根据洁净室设施构造物30、柱、壁的条件而设为各种配管构造60。
图6是表示凸缘6111的结构的一个例子的图。凸缘6111具有凸缘部61111、中心环61112和爪夹具61113。凸缘6111相对于配管中心在旋转方向上具有自由度，成为能够将配管彼此旋转地连接的结构。如此，通过使用能够旋转的凸缘6111，从而能够变为各种角度地连接部分配管611～613，而构成本实施方式的配管构造60。
此外，凸缘6132的构造也可以与凸缘6111相同，凸缘6112、6121、6122、6131能够使用适合于配管彼此的连接的能够旋转的凸缘。
[第2实施方式]
图7是表示本公开的第2实施方式的配管构造60a的部分配管61a的一个例子的图。第2实施方式的配管构造60a的配管61a的部分配管611、612具有与第1实施方式的部分配管61同样的构造，但在部分配管614的直线部614a为一个且倾斜部614b为一个这方面，与具备两个直线部和一个倾斜部的部分配管613不同。
如此，所有部分配管611、612、614也可以设为直线部611b、612b、614a和倾斜部611a、612a、614b各具备一个的构造。在该情况下也是，使位置偏移的是倾斜部611a、612a、614b，倾斜部611a、612a、614b的数量合计为三个，未发生变化，因此，能够与第1实施方式的配管构造60的配管61相同地改变配管61a的位置。此外，其他的配管62～64也能够设为具有同样的结构的配管62a～64a。
图8是表示洁净室设施构造物30的开口31的例子的图。以能够穿过该开口31的方式确定配管61a～64a的形状。
图9是用于说明配管61a的偏离幅度的图。图9的(a)是从上方观察配管61a的俯视图。图9的(b)是从横向观察配管61a的侧视图。
如图9的(a)所示，倾斜部611a、612a、614b的横向上突出的长度决定配管61a的偏离幅度。
图9的(b)示出了倾斜部611a、612a、614b的偏离幅度的设定方法的一个例子。在图9的(b)中，列举了将部分配管611的倾斜部611a的水平方向上的正投影的长度设定为400mm、将部分配管612的倾斜部612a的水平方向上的正投影的长度设定为650mm、将部分配管614的倾斜部614b的水平方向上的正投影的长度设定为650mm的例子。此外，准确地说，倾斜部的偏离幅度是水平方向上的正投影的长度，但之后也可以省略地称作“偏离幅度”。
配管61a的最上方的部分配管611是穿过图8所示的洁净室设施构造物30的开口31的部分，偏离幅度也存在开口31的大小的限制。因而，设定为400mm这样的较小的偏离幅度。
另一方面，在部分配管612、614中，不存在这样的偏离幅度的限制，因而，设定为650mm这样的较大的偏离幅度。
利用这样的设定，对于最初的部分配管611，若仅考虑穿过洁净室设施构造物30的开口31而认为偏离幅度为零，则能够在650mm×2＝1300mm的范围内自由地设定配管61a的路径。
如此，在存在室的环境的限制的情况下，将存在限制的部位设定为较小的偏离幅度，将不存在限制的部位设定为较大的偏离幅度，而能够在整体上确保充分的偏离幅度。
此外，在将倾斜部611a、612a、614b的倾斜角度设定为一定的情况下，偏离幅度由倾斜部611a、612a、614b的长度来决定，因此，将部分配管612、614的倾斜部612a、614b的长度设定为长于部分配管611的倾斜部611a。
如此，能够根据用途对部分配管的偏离幅度进行各种设定。例如，如图9所示，在存在洁净室设施构造物30的开口31的限制的情况下，将穿过该开口31的最上方的部分配管611的倾斜部611a的偏离幅度设为较小，将第二个部分配管612的倾斜部612a和第三个部分配管614的倾斜部614b的偏离幅度设为相同且较大，并且，若将部分配管612、614的整体设为相同的形状，则还能够降低加工成本。在图9中，示出了这样的结构。
另外，在不存在这样的限制的情况下，也能够将三个部分配管611、612、614的倾斜部611a、612a、614b的偏离幅度设定为全部相同。如此，能够根据用途自由地进行偏离幅度的设定。
图10是表示路径的设定的想法的图。如图10所示，在穿过了洁净室设施构造物30的开口31之后的部分配管612、614的合计偏离幅度的圆内，能够遵循任意的路径。因而，能够在该圆内以空间效率最佳的方式设置配管61a～64a。
图11是表示将偏离幅度设定得较小的配管61a的形状的一个例子的图。如图11所示，配管61a成为如下这样的形状：利用部分配管612进行了移动，并利用部分配管614返回该移动的量。若将配管61a设定为这样的形状，则能够设为偏离幅度较小的配管构造60a。
图12是表示将偏离幅度设定得较大的配管61a的形状的一个例子的图。如图12所示，配管61a成为如下这样的形状：利用部分配管612向右方移动了之后，利用部分配管614进一步向右方移动。若将配管61a设定为这样的形状，则能够设为偏离幅度较大的配管构造60a。
如此，利用部分配管611、612、614的连接的方式，能够对配管61a的偏离幅度进行各种设定，能够应对各种限制，并且将配管构造60a的各配管61a～64a的传导性设为一定。
此外，在本实施方式中，列举部分配管为三个的例子进行了说明，但根据所要求的布局，有时部分配管也可以为两个。另外，也能够将部分配管设为四个。但是，若考虑连接的容易度和构造的自由度、传导性的下降程度，则可以说在大多情况下期望部分配管为三个的情况。
另外，本申请的实施方式中的处理装置能够应用于一边进行真空排气一边进行加工的各种处理组件，能够应用于各种成膜装置、退火装置、蚀刻装置等。
以上，详细说明了本公开的优选的实施方式，但本公开并不限定于上述的实施方式，能够在不脱离本公开的范围内对上述的实施方式施加各种变形和置换。

Claims (15)

1.一种配管构造，其将在第1室相邻配置的多个处理组件和在位于所述第1室的下层的第2室配置、并与所述多个处理组件对应地设置的多个真空泵连接，其中，
该配管构造具有多个配管，该多个配管将所述多个处理组件和与所述多个处理组件对应地设置的所述多个真空泵分别连接，
所述多个配管在高度方向上分割成多个模块，在相同高度的模块中使用的所述多个配管具有相同形状。
2.根据权利要求1所述的配管构造，其中，
所述多个配管的各配管针对所述高度方向上的所述多个模块中的每个模块具有由一个配管构成的部分配管，通过将所述部分配管彼此连接，从而分别构成所述多个配管。
3.根据权利要求2所述的配管构造，其中，
多个所述部分配管的各部分配管包含倾斜地设置的倾斜部和沿铅垂方向延伸的直线部。
4.根据权利要求3所述的配管构造，其中，
所述倾斜部的朝向针对所述多个配管中的每个配管而不同。
5.根据权利要求4所述的配管构造，其中，
所述多个配管的各配管包含三个所述部分配管。
6.根据权利要求5所述的配管构造，其中，
对于所述三个所述部分配管，与最上方的所述部分配管的所述倾斜部的长度相比，第二个和第三个所述部分配管的所述倾斜部的长度较大。
7.根据权利要求6所述的配管构造，其中，
第二个所述部分配管和第三个部分配管是相同形状的部分配管。
8.一种处理装置，其中，
该处理装置具有：
多个处理组件，其在第1室相邻配置；
多个真空泵，其在位于所述第1室的下层的第2室配置，并与所述多个处理组件对应地设置，以及
多个配管，其将所述多个处理组件和与所述多个处理组件对应地设置的所述多个真空泵分别连接，
所述多个配管在高度方向上分割成多个模块，在相同高度的模块中使用的所述多个配管具有相同形状。
9.根据权利要求8所述的处理装置，其中，
所述多个处理组件由相同的处理装置构成。
10.根据权利要求8或9所述的处理装置，其中，
所述多个配管的各配管针对所述高度方向上的所述多个模块中的每个模块具有由一个配管构成的部分配管，通过将所述部分配管彼此连接，从而分别构成所述多个配管。
11.根据权利要求10所述的处理装置，其中，
多个所述部分配管的各部分配管包含倾斜地设置的倾斜部和沿铅垂方向延伸的直线部。
12.根据权利要求11所述的处理装置，其中，
所述倾斜部的朝向针对所述多个配管中的每个配管而不同。
13.根据权利要求12所述的处理装置，其中，
所述多个配管的各配管包含三个所述部分配管。
14.根据权利要求13所述的处理装置，其中，
对于所述三个所述部分配管，与最上方的所述部分配管的所述倾斜部的长度相比，第二个和第三个所述部分配管的所述倾斜部的长度较大。
15.根据权利要求14所述的处理装置，其中，
第二个所述部分配管和第三个部分配管是相同形状的部分配管。
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