CN115074743B - 一种用于OLED掩膜版表面阴极材料LiF清洗的组合物 - Google Patents
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- 238000004140 cleaning Methods 0.000 title claims abstract description 17
- 239000010406 cathode material Substances 0.000 title claims abstract description 16
- 239000000203 mixture Substances 0.000 title claims description 27
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 67
- MTNDZQHUAFNZQY-UHFFFAOYSA-N imidazoline Chemical compound C1CN=CN1 MTNDZQHUAFNZQY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 34
- 239000002736 nonionic surfactant Substances 0.000 claims abstract description 25
- WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N hydroxyacetaldehyde Natural products OCC=O WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 17
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 claims abstract description 16
- 230000000149 penetrating effect Effects 0.000 claims abstract description 16
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims abstract description 15
- 239000002738 chelating agent Substances 0.000 claims abstract description 12
- 239000012752 auxiliary agent Substances 0.000 claims abstract description 9
- 239000012498 ultrapure water Substances 0.000 claims abstract description 9
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 claims abstract description 8
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 27
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 16
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 12
- 239000002904 solvent Substances 0.000 claims description 12
- 229940093476 ethylene glycol Drugs 0.000 claims description 11
- GYZLOYUZLJXAJU-UHFFFAOYSA-N diglycidyl ether Chemical compound C1OC1COCC1CO1 GYZLOYUZLJXAJU-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- 238000003756 stirring Methods 0.000 claims description 10
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- WMFOQBRAJBCJND-UHFFFAOYSA-M Lithium hydroxide Chemical compound [Li+].[OH-] WMFOQBRAJBCJND-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 9
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 9
- DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N Propylene glycol Chemical compound CC(O)CO DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 claims description 9
- KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N citric acid Chemical compound OC(=O)CC(O)(C(O)=O)CC(O)=O KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- 229920001223 polyethylene glycol Polymers 0.000 claims description 9
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 claims description 9
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- 239000002202 Polyethylene glycol Substances 0.000 claims description 6
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims description 6
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- KDYFGRWQOYBRFD-UHFFFAOYSA-N succinic acid Chemical compound OC(=O)CCC(O)=O KDYFGRWQOYBRFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- KCXVZYZYPLLWCC-UHFFFAOYSA-N EDTA Chemical compound OC(=O)CN(CC(O)=O)CCN(CC(O)=O)CC(O)=O KCXVZYZYPLLWCC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 238000002156 mixing Methods 0.000 claims description 5
- 239000000047 product Substances 0.000 claims description 5
- RWNUSVWFHDHRCJ-UHFFFAOYSA-N 1-butoxypropan-2-ol Chemical compound CCCCOCC(C)O RWNUSVWFHDHRCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- JOLQKTGDSGKSKJ-UHFFFAOYSA-N 1-ethoxypropan-2-ol Chemical compound CCOCC(C)O JOLQKTGDSGKSKJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 1-methoxypropan-2-ol Chemical compound COCC(C)O ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- XEZNGIUYQVAUSS-UHFFFAOYSA-N 18-crown-6 Chemical compound C1COCCOCCOCCOCCOCCO1 XEZNGIUYQVAUSS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- AEQDJSLRWYMAQI-UHFFFAOYSA-N 2,3,9,10-tetramethoxy-6,8,13,13a-tetrahydro-5H-isoquinolino[2,1-b]isoquinoline Chemical compound C1CN2CC(C(=C(OC)C=C3)OC)=C3CC2C2=C1C=C(OC)C(OC)=C2 AEQDJSLRWYMAQI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- SBASXUCJHJRPEV-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxyethoxy)ethanol Chemical compound COCCOCCO SBASXUCJHJRPEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 2-METHOXYETHANOL Chemical compound COCCO XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- KFDNQUWMBLVQNB-UHFFFAOYSA-N 2-[2-[bis(carboxymethyl)amino]ethyl-(carboxymethyl)amino]acetic acid;sodium Chemical compound [Na].[Na].[Na].[Na].OC(=O)CN(CC(O)=O)CCN(CC(O)=O)CC(O)=O KFDNQUWMBLVQNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- POAOYUHQDCAZBD-UHFFFAOYSA-N 2-butoxyethanol Chemical compound CCCCOCCO POAOYUHQDCAZBD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxyethanol Chemical compound CCOCCO ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- RPNUMPOLZDHAAY-UHFFFAOYSA-N Diethylenetriamine Chemical compound NCCNCCN RPNUMPOLZDHAAY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- BRLQWZUYTZBJKN-UHFFFAOYSA-N Epichlorohydrin Chemical compound ClCC1CO1 BRLQWZUYTZBJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- WQZGKKKJIJFFOK-GASJEMHNSA-N Glucose Natural products OC[C@H]1OC(O)[C@H](O)[C@@H](O)[C@@H]1O WQZGKKKJIJFFOK-GASJEMHNSA-N 0.000 claims description 3
- RQPZNWPYLFFXCP-UHFFFAOYSA-L barium dihydroxide Chemical compound [OH-].[OH-].[Ba+2] RQPZNWPYLFFXCP-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims description 3
- 229910001863 barium hydroxide Inorganic materials 0.000 claims description 3
- WQZGKKKJIJFFOK-VFUOTHLCSA-N beta-D-glucose Chemical compound OC[C@H]1O[C@@H](O)[C@H](O)[C@@H](O)[C@@H]1O WQZGKKKJIJFFOK-VFUOTHLCSA-N 0.000 claims description 3
- AXCZMVOFGPJBDE-UHFFFAOYSA-L calcium dihydroxide Chemical compound [OH-].[OH-].[Ca+2] AXCZMVOFGPJBDE-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims description 3
- 239000000920 calcium hydroxide Substances 0.000 claims description 3
- 229910001861 calcium hydroxide Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 235000015165 citric acid Nutrition 0.000 claims description 3
- 229940028356 diethylene glycol monobutyl ether Drugs 0.000 claims description 3
- XXJWXESWEXIICW-UHFFFAOYSA-N diethylene glycol monoethyl ether Chemical compound CCOCCOCCO XXJWXESWEXIICW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229940075557 diethylene glycol monoethyl ether Drugs 0.000 claims description 3
- 238000001035 drying Methods 0.000 claims description 3
- 239000000706 filtrate Substances 0.000 claims description 3
- 239000012467 final product Substances 0.000 claims description 3
- 239000006260 foam Substances 0.000 claims description 3
- 239000008103 glucose Substances 0.000 claims description 3
- 235000001727 glucose Nutrition 0.000 claims description 3
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 3
- NIQQIJXGUZVEBB-UHFFFAOYSA-N methanol;propan-2-one Chemical compound OC.CC(C)=O NIQQIJXGUZVEBB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 239000012046 mixed solvent Substances 0.000 claims description 3
- JCGNDDUYTRNOFT-UHFFFAOYSA-N oxolane-2,4-dione Chemical compound O=C1COC(=O)C1 JCGNDDUYTRNOFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 238000010791 quenching Methods 0.000 claims description 3
- 230000000171 quenching effect Effects 0.000 claims description 3
- 239000000376 reactant Substances 0.000 claims description 3
- 238000010992 reflux Methods 0.000 claims description 3
- 239000001509 sodium citrate Substances 0.000 claims description 3
- NLJMYIDDQXHKNR-UHFFFAOYSA-K sodium citrate Chemical compound O.O.[Na+].[Na+].[Na+].[O-]C(=O)CC(O)(CC([O-])=O)C([O-])=O NLJMYIDDQXHKNR-UHFFFAOYSA-K 0.000 claims description 3
- 235000011083 sodium citrates Nutrition 0.000 claims description 3
- 239000000176 sodium gluconate Substances 0.000 claims description 3
- 235000012207 sodium gluconate Nutrition 0.000 claims description 3
- 229940005574 sodium gluconate Drugs 0.000 claims description 3
- 235000019832 sodium triphosphate Nutrition 0.000 claims description 3
- 239000007787 solid Substances 0.000 claims description 3
- UUCCCPNEFXQJEL-UHFFFAOYSA-L strontium dihydroxide Chemical compound [OH-].[OH-].[Sr+2] UUCCCPNEFXQJEL-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims description 3
- 229910001866 strontium hydroxide Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000001384 succinic acid Substances 0.000 claims description 3
- ZGTMUACCHSMWAC-UHFFFAOYSA-L EDTA disodium salt (anhydrous) Chemical compound [Na+].[Na+].OC(=O)CN(CC([O-])=O)CCN(CC(O)=O)CC([O-])=O ZGTMUACCHSMWAC-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 claims 1
- 150000002462 imidazolines Chemical class 0.000 claims 1
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 claims 1
- 238000000967 suction filtration Methods 0.000 claims 1
- 238000005292 vacuum distillation Methods 0.000 claims 1
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 abstract description 15
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 abstract description 15
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 abstract description 11
- 229910003002 lithium salt Inorganic materials 0.000 abstract description 7
- 159000000002 lithium salts Chemical class 0.000 abstract description 7
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 abstract description 6
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 abstract description 6
- 238000000034 method Methods 0.000 abstract description 6
- 230000003670 easy-to-clean Effects 0.000 abstract description 2
- PQXKHYXIUOZZFA-UHFFFAOYSA-M lithium fluoride Chemical compound [Li+].[F-] PQXKHYXIUOZZFA-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 56
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 12
- 239000012459 cleaning agent Substances 0.000 description 8
- 239000007772 electrode material Substances 0.000 description 8
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 8
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 8
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 8
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 7
- 230000002209 hydrophobic effect Effects 0.000 description 6
- 238000001179 sorption measurement Methods 0.000 description 6
- 125000004433 nitrogen atom Chemical group N* 0.000 description 5
- IAZDPXIOMUYVGZ-WFGJKAKNSA-N Dimethyl sulfoxide Chemical compound [2H]C([2H])([2H])S(=O)C([2H])([2H])[2H] IAZDPXIOMUYVGZ-WFGJKAKNSA-N 0.000 description 4
- 238000004090 dissolution Methods 0.000 description 4
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 3
- 239000008367 deionised water Substances 0.000 description 3
- 229910021641 deionized water Inorganic materials 0.000 description 3
- 125000003827 glycol group Chemical group 0.000 description 3
- 230000003993 interaction Effects 0.000 description 3
- 230000007928 solubilization Effects 0.000 description 3
- 238000005063 solubilization Methods 0.000 description 3
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 3
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N Hydrogen peroxide Chemical compound OO MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 2
- 238000004821 distillation Methods 0.000 description 2
- 239000003814 drug Substances 0.000 description 2
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 2
- 229910017053 inorganic salt Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N Ammonium hydroxide Chemical compound [NH4+].[OH-] VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001111 Fine metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910001374 Invar Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 1
- 235000011114 ammonium hydroxide Nutrition 0.000 description 1
- 239000002585 base Substances 0.000 description 1
- 238000012512 characterization method Methods 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- 238000009472 formulation Methods 0.000 description 1
- 238000007654 immersion Methods 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- 238000006467 substitution reaction Methods 0.000 description 1
- 238000009210 therapy by ultrasound Methods 0.000 description 1
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 1
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23G—CLEANING OR DE-GREASING OF METALLIC MATERIAL BY CHEMICAL METHODS OTHER THAN ELECTROLYSIS
- C23G1/00—Cleaning or pickling metallic material with solutions or molten salts
- C23G1/14—Cleaning or pickling metallic material with solutions or molten salts with alkaline solutions
- C23G1/16—Cleaning or pickling metallic material with solutions or molten salts with alkaline solutions using inhibitors
- C23G1/18—Organic inhibitors
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/04—Coating on selected surface areas, e.g. using masks
- C23C14/042—Coating on selected surface areas, e.g. using masks using masks
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/56—Apparatus specially adapted for continuous coating; Arrangements for maintaining the vacuum, e.g. vacuum locks
- C23C14/564—Means for minimising impurities in the coating chamber such as dust, moisture, residual gases
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23G—CLEANING OR DE-GREASING OF METALLIC MATERIAL BY CHEMICAL METHODS OTHER THAN ELECTROLYSIS
- C23G1/00—Cleaning or pickling metallic material with solutions or molten salts
- C23G1/14—Cleaning or pickling metallic material with solutions or molten salts with alkaline solutions
- C23G1/19—Iron or steel
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Abstract
本发明属于表面活性剂技术领域,具体涉及一种用于OLED领域的化学品制剂,用于OLED掩膜版表面阴极材料LiF的清洗。包括0.5‑5%的乙二醇基咪唑啉Gemini型非离子表面活性剂,0.5‑2%的高效渗透剂,5‑20%无机强碱性物质,0.5‑20%有机助剂,0.1‑5%螯合剂,余量为高纯水。本发明通过乙二醇基咪唑啉Gemini型非离子表面活性剂与无机强碱混配,可以快速去除蒸镀工艺中掩膜版表面附着的阴极材料LiF,提高锂盐的溶解度,解决市面上产品存在的对掩膜版腐蚀的问题,易清洗无残留。
Description
技术领域
本发明属于表面活性剂技术领域,具体涉及一种用于OLED领域的化学品制剂组合物,用于OLED掩膜版表面阴极材料LiF的清洗。
背景技术
在OLED显示器制造工艺中比较成熟的是OLED蒸镀技术。蒸镀技术需要精密的蒸镀设备,以及用于蒸镀的精细金属掩膜版(FMM)。FMM决定了OLED显示屏幕像素高低和尺寸大小,其通常由30-50微米厚的invar合金刻蚀出图案后绑定到金属掩膜版框架上。在重复的蒸镀过程中,阴极材料氟化锂会在FMM上沉积,造成堵塞与污染,严重影响后续蒸镀的效果。在生产时,FMM都需要定期进行清洗,来确保其后续效能。
目前市面上大多采用碱洗的方式,专利申请公布号CN 112676243 A公开了一种OLED掩膜版Open Mask表面LiF材料清洗方法,其中按1:1-3:2-4的体积比将电子级氨水、电子级双氧水和10MΩ以上的纯水混合得到混合药水,放入超声槽中进行超声波处理而达到清洗LiF的效果。掩膜版的特殊结构——掩膜版搭载在金属框架上,产生的缝隙,由于长时间浸泡在碱液中,体系不流动,产生了缝隙腐蚀的问题。本发明在清洗剂中添加了一种乙二醇基咪唑啉Gemini型非离子表面活性剂,可以有效解决掩膜版的缝隙腐蚀问题,并提高清洗剂对锂盐的溶解度,提高清洗效率。
发明内容
本发明主要解决的技术问题是提供了一种用于OLED掩膜版表面阴极材料LiF清洗的组合物,通过添加乙二醇基咪唑啉Gemini型非离子表面活性剂,可以快速去除蒸镀工艺中掩膜版表面附着的阴极材料LiF,提高锂盐的溶解度,解决市面上产品存在的对掩膜版腐蚀的问题,易清洗无残留。
为解决上述问题,本发明采用以下技术方案来实现。
一种用于OLED掩膜版表面阴极材料LiF清洗的组合物,按质量百分数之和为100%计,所述组合物中各组分及其含量为:包括0.5-5%的乙二醇基咪唑啉Gemini型非离子表面活性剂,0.5-2%的高效渗透剂,5-20%无机强碱性物质,0.5-20%有机助剂,0.1-5%螯合剂,余量为高纯水。
所述的乙二醇基咪唑啉Gemini型非离子表面活性剂选自结构为:
表面活性剂中的至少一种,其中,n为2-10之间的整数。
所述的乙二醇基咪唑啉Gemini型非离子表面活性剂的制备方法,包括如下步骤:
1)缩水甘油醚3的合成:将聚乙二醇1,环氧氯丙烷2,氢氧化钠按照摩尔比1:1.2:1加入到三口瓶中,加入50mL乙醇作为溶剂,40oC下反应10h,反应结束后,用水淬灭体系,用乙酸乙酯萃取,旋干溶剂后,用正己烷重结晶,得到白色固体缩水甘油醚3;其中所述聚乙二醇的结构式为:,所得到的产物3的结构为:/>,n为2-10之间的整数;
;
2)双咪唑啉6的合成:
丁二酸4(0.02mol)和二甲苯(20mL)置于干燥的250mL三口圆底烧瓶中,配备磁力搅拌器、冷凝器和加料漏斗。将溶有二乙烯三胺5(0.04mol)的二甲苯(20mL)溶液滴加到250mL三口烧瓶中并搅拌。将混合物在140°C下反应2-3小时,冷却至室温,然后减压蒸馏除去二甲苯后,将反应体系溶于40mL二甲苯中,在240℃下反应6-8小时。溶剂通过减压蒸馏的方式除去,获得咪唑啉6,产率为90.2%;
;
3)乙二醇基咪唑啉A的合成
将缩水甘油醚3和双咪唑啉6按照摩尔比2:1加入到含有10%氢氧化钠的乙醇溶液中,搅拌混合均匀并加热回流20h,待反应物冷却后,先抽滤除去无机盐,滤液减压蒸馏以脱除溶剂,再用丙酮-甲醇混合溶剂重结晶,得到最终产物A,其结构式为:
,
其中,n为2-10之间的整数。
所述的乙二醇基咪唑啉Gemini型非离子表面活性剂,通过与强效渗透剂的相互作用,可以深入到掩膜版狭缝中,咪唑啉分子的特殊结构,其亲水基团含有带孤对电子的N原子,易与金属原子形成配位键,从而发生化学吸附减缓腐蚀,其憎水支链可在远离金属的表面形成疏水膜,有效阻止腐蚀介质的进一步侵蚀;其中的乙二醇基会和表面的电极材料形成多点吸附,PEG链可以将氟化锂包裹起来,达到对氟化锂的增溶效果,加速对电极材料的溶解,大大提高了对锂盐的溶解度;Gemini型表面活性的使用可以大大降低表面活性剂的用量,提高表面活性。
所述强效渗透剂为JFC,JFC-1,JFC-2,JFC-E,JFC-M,快T,OEP-70,AEP,低泡渗透剂SF的至少一种。
所述无机强碱性物质为氢氧化锂、氢氧化钠、氢氧化钾、氢氧化锶、氢氧化钙、氢氧化钡中的至少一种。
所述有机助剂为乙二醇甲醚、乙二醇乙醚、乙二醇丁醚、乙二醇、丙二醇、二乙二醇单甲醚、二乙二醇单乙醚、二乙二醇单丁醚、丙二醇单甲醚、丙二醇单乙醚、丙二醇单丁醚中的任意一种或多种。
所述螯合剂为乙二胺四乙酸、乙二胺四乙酸二钠、乙二胺四乙酸四钠、柠檬酸、柠檬酸钠、葡萄糖、葡萄糖酸钠、三聚磷酸钠、18-冠醚-6中的任意一种或多种。
所述高纯水为去离子水,其在25℃时的电阻率不低于18MΩ·cm。
所述组合物的制备方法为:往水中先添加无机强碱性物质,添加有机助剂,然后加入乙二醇基咪唑啉Gemini型非离子表面活性剂,添加渗透剂,在200rpm的搅拌速度下使其形成均一体系,再一边搅拌一边加入螯合剂,以最终得到均一稳定澄清透明的溶液。
本发明的显著优点在于:
通过添加乙二醇基咪唑啉Gemini型非离子表面活性剂与强效渗透剂的相互作用,可以深入到掩膜版狭缝中,咪唑啉分子的特殊结构,其亲水基团含有带孤对电子的N原子,易与金属原子形成配位键,从而发生化学吸附减缓腐蚀,其憎水支链可在远离金属的表面形成疏水膜,有效阻止腐蚀介质的进一步侵蚀;其中的乙二醇基会和表面的电极材料形成多点吸附,PEG链可以将氟化锂包裹起来,达到对氟化锂的增溶效果,加速对电极材料的溶解,大大提高了对锂盐的溶解度;Gemini型表面活性的使用可以大大降低表面活性剂的用量,提高表面活性。本发明组合物中的各个成分相互配合,可以快速去除蒸镀工艺中掩膜版表面的阴极材料LiF,大大提高了锂盐的溶解度,解决了市面上产品存在的腐蚀问题,易清洗无残留,可有效提高掩膜版的清洗效率。
具体实施方式
一种用于OLED掩膜版表面阴极材料LiF清洗的组合物,其特征在于:按质量百分数之和为100%计,所述组合物中各组分及其含量为:包括0.5-5%的乙二醇基咪唑啉Gemini型非离子表面活性剂,0.5-2%的高效渗透剂,5-20%无机强碱性物质,0.5-20%有机助剂,0.1-5%螯合剂,余量为高纯水。
所述的乙二醇基咪唑啉Gemini型非离子表面活性剂选自结构为:
表面活性剂中的至少一种,其中,n为2-10之间的整数。
所述的乙二醇基咪唑啉Gemini型非离子表面活性剂的制备方法,包括如下步骤:
1)缩水甘油醚3的合成:将聚乙二醇1,环氧氯丙烷2,氢氧化钠按照摩尔比1:1.2:1加入到三口瓶中,加入50mL乙醇作为溶剂,40oC下反应10h,反应结束后,用水淬灭体系,用乙酸乙酯萃取,旋干溶剂后,用正己烷重结晶,得到白色固体缩水甘油醚3;其中所述聚乙二醇的结构式为:,所得到的产物3的结构为:/>,n为2-10之间的整数;
;
2)双咪唑啉6的合成:
丁二酸4(0.02mol)和二甲苯(20mL)置于干燥的250mL三口圆底烧瓶中,配备磁力搅拌器、冷凝器和加料漏斗。将溶有二乙烯三胺5(0.04mol)的二甲苯(20mL)溶液滴加到250mL三口烧瓶中并搅拌。将混合物在140°C下反应2-3小时,冷却至室温,然后减压蒸馏除去二甲苯后,将反应体系溶于40mL二甲苯中,在240℃下反应6-8小时。溶剂通过减压蒸馏的方式除去,获得咪唑啉6,产率为90.2%;
;
3)乙二醇基咪唑啉A的合成
将缩水甘油醚3和双咪唑啉6按照摩尔比2:1加入到含有10%氢氧化钠的乙醇溶液中,搅拌混合均匀并加热回流20h,待反应物冷却后,先抽滤除去无机盐,滤液减压蒸馏以脱除溶剂,再用丙酮-甲醇混合溶剂重结晶,得到最终产物A,其结构式为:
,
其中,n为2-10之间的整数。
所用乙二醇基咪唑啉Gemini型非离子表面活性剂当n=2时,化合物A的表征数据如下:
1H NMR(300MHz,DMSO-d6),δ: 2.56-2.81(m, 8H, CH2), 3.23 (t, 4H, CH2),3.38-3.63 (m, 24H, CH2), 3.63 (t, 4H, CH2), 3.7 (m, 2H, NH), 3.75(t,4H, CH2),3.85(t, 2H, CH), 5.37(s, 2H, OH), 5.4(s, 2H, OH).
13C NMR(125MHz,DMSO-d6),δ:24.4, 47.5, 49.0, 51.2, 52.1, 54.1, 61.3,69.4, 70.3, 70.4, 70.7, 71.8, 166.0.
HRMS计算值C26H53N6O 8(M+H)+:577.47,实测值577.38.
所述的乙二醇基咪唑啉Gemini型非离子表面活性剂,通过与强效渗透剂的相互作用,可以深入到掩膜版狭缝中,咪唑啉分子的特殊结构,其亲水基团含有带孤对电子的N原子,易与金属原子形成配位键,从而发生化学吸附减缓腐蚀,其憎水支链可在远离金属的表面形成疏水膜,有效阻止腐蚀介质的进一步侵蚀;其中的乙二醇基会和表面的电极材料形成多点吸附,PEG链可以将氟化锂包裹起来,达到对氟化锂的增溶效果,加速对电极材料的溶解,大大提高了对锂盐的溶解度;Gemini型表面活性的使用可以大大降低表面活性剂的用量,提高表面活性。
所述强效渗透剂为JFC,JFC-1,JFC-2,JFC-E,JFC-M,快T,OEP-70,AEP,低泡渗透剂SF的至少一种。
所述无机强碱性物质为氢氧化锂、氢氧化钠、氢氧化钾、氢氧化锶、氢氧化钙、氢氧化钡中的至少一种。
所述有机助剂为乙二醇甲醚、乙二醇乙醚、乙二醇丁醚、乙二醇、丙二醇、二乙二醇单甲醚、二乙二醇单乙醚、二乙二醇单丁醚、丙二醇单甲醚、丙二醇单乙醚、丙二醇单丁醚中的任意一种或多种。
所述螯合剂为乙二胺四乙酸、乙二胺四乙酸二钠、乙二胺四乙酸四钠、柠檬酸、柠檬酸钠、葡萄糖、葡萄糖酸钠、三聚磷酸钠、18-冠醚-6中的任意一种或多种。
所述高纯水为去离子水,其在25℃时的电阻率不低于18MΩ·cm。
所述组合物的制备方法为:往水中先添加无机强碱性物质,添加有机助剂,然后加入乙二醇基咪唑啉Gemini型非离子表面活性剂,添加渗透剂,在200rpm的搅拌速度下使其形成均一体系,再一边搅拌一边加入螯合剂,以最终得到均一稳定澄清透明的溶液。
为了使本发明所述的内容更加便于理解,下面结合具体实施方式对本发明所述的技术方案做进一步的说明,但是本发明不仅限于此。
按表1配方配制不同组成的清洗剂组合物。
表1 不同清洗剂组合物中各组分及其含量
将有蒸镀电极材料氟化锂的掩膜版浸泡在实施例1-4,对比例1-5的清洗剂组合物中,在设定的操作温度下设定操作时间,取出后用去离子水清洗,并用氮气吹干。利用光学显微镜和电子显微镜进行观察,以确认清洗效果。其操作条件及结果分别见表2。
表2 不同清洗剂组合物对掩膜版的清洗效果
结合表1-2可以看出,在设定的温度和时间内,本发明清洗剂组合可以将掩膜版上的蒸镀阴极材料氟化锂有效清除,掩膜版不腐蚀,得到溶解均一的溶液,且易漂洗,无残留,可以重复使用。
与实施例1相比,对比例1不含无机强碱,在操作温度下,无法将氟化锂剥离溶解,未观察到对掩膜版有腐蚀。
与实施例1相比,对比例2不含有机助剂,在操作温度下,可以将氟化锂完全剥离并溶解,但漂洗时间长,未观察到对掩膜版有腐蚀。
与实施例1相比,对比例3不含螯合剂,在操作温度下可以将氟化锂完全剥离,部分溶解,但在掩膜版表面极易吸附颗粒,未观察到对掩膜版有腐蚀。
与实施例1相比,对比例4不含表面活性剂A,在操作温度下,其体系均一稳定,可以将氟化锂剥离完全,但剥离下的氟化锂很难完全溶解,对掩膜版有腐蚀。
与实施例1相比,对比例5不含渗透剂,在操作温度下,体系均一稳定,可以将氟化锂剥离完全,但剥离下的氟化锂很难完全溶解,对掩膜版有腐蚀。
由上述实施例1和对比例1-5可以说明,无机强碱对阴极材料氟化锂的剥离起关键性作用,有机助剂有提高漂洗的作用,螯合剂具有抗静电,防止污垢回粘,包裹氟化锂材料使其加快溶解的作用,乙二醇基咪唑啉Gemini型非离子表面活性剂和渗透剂的相互作用下,可以深入到掩膜版狭缝中,起到抗腐蚀的效果,同时增加对电极材料氟化锂的溶解度,各成分缺一不可。
上述实施例对本发明进行了详细描述,但其只是作为范例,并非因此限制本发明的专利范围。凡是利用本发明说明书对本发明进行的等同任何修改和替代也都在本发明的范畴之中,均包括在本发明的专利保护范围内。
Claims (3)
1.一种用于OLED掩膜版表面阴极材料LiF清洗的组合物,其特征在于:各组分按质量百分数计为为:0.5-5%的乙二醇基咪唑啉Gemini型非离子表面活性剂,0.5-2%的高效渗透剂,5-20%无机强碱性物质,0.5-20%有机助剂,0.1-5%螯合剂,余量为高纯水;
所述乙二醇基咪唑啉Gemini型非离子表面活性剂的结构式为:
,其中,n为2-10之间的整数;
所述高效渗透剂为JFC,JFC-1,JFC-2,JFC-E,JFC-M,快T,OEP-70,AEP,低泡渗透剂SF中的至少一种;
所述无机强碱性物质为氢氧化锂、氢氧化钠、氢氧化钾、氢氧化锶、氢氧化钙、氢氧化钡中的至少一种;
所述有机助剂为乙二醇甲醚、乙二醇乙醚、乙二醇丁醚、乙二醇、丙二醇、二乙二醇单甲醚、二乙二醇单乙醚、二乙二醇单丁醚、丙二醇单甲醚、丙二醇单乙醚、丙二醇单丁醚中的至少一种;
所述螯合剂为乙二胺四乙酸、乙二胺四乙酸二钠、乙二胺四乙酸四钠、柠檬酸、柠檬酸钠、葡萄糖、葡萄糖酸钠、三聚磷酸钠、18-冠醚-6中的至少一种。
2.根据权利要求1所述的用于OLED掩膜版表面阴极材料LiF清洗的组合物,其特征在于:所述的乙二醇基咪唑啉Gemini型非离子表面活性剂的制备方法,包括如下步骤:
1)缩水甘油醚的合成:将聚乙二醇,环氧氯丙烷,氢氧化钠按照摩尔比1:1.2:1混合,加入乙醇作为溶剂,40 oC下反应10h,反应结束后,用水淬灭体系,用乙酸乙酯萃取,旋干溶剂后,用正己烷重结晶,得到白色固体缩水甘油醚;其中所述聚乙二醇的结构式为:,所得到的产物缩水甘油醚的结构式为:/>,n为2-10之间的整数;
2)双咪唑啉的合成:
丁二酸和二甲苯混合,再滴加溶有二乙烯三胺的二甲苯溶液并搅拌,将得到的混合物在140℃下反应2-3h,冷却至室温,然后减压蒸馏除去二甲苯后,将反应体系溶于二甲苯中,在240℃下反应6-8h,除去溶剂即获得咪唑啉,其结构式如下:;
3)乙二醇基咪唑啉的合成
将步骤(1)得到的缩水甘油醚和步骤(2)得到的双咪唑啉按照摩尔比2:1加入到含有10wt%氢氧化钠的乙醇溶液中,搅拌混合均匀并加热回流20h,待反应物冷却后,先抽滤除去无机盐,滤液减压蒸馏以脱除溶剂,再用丙酮-甲醇混合溶剂重结晶,得到最终产物乙二醇基咪唑啉,其结构式为:,n为2-10之间的整数。
3.根据权利要求1所述的用于OLED掩膜版表面阴极材料LiF清洗的组合物,其特征在于:所述组合物的制备方法为:往高纯水中先添加无机强碱性物质,添加有机助剂,然后加入乙二醇基咪唑啉Gemini型非离子表面活性剂,添加渗透剂,在200rpm的搅拌速度下使其形成均一体系,再一边搅拌一边加入螯合剂,以最终得到均一稳定澄清透明的溶液。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN202210759071.4A CN115074743B (zh) | 2022-06-30 | 2022-06-30 | 一种用于OLED掩膜版表面阴极材料LiF清洗的组合物 |
Applications Claiming Priority (1)
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---|---|---|---|
CN202210759071.4A CN115074743B (zh) | 2022-06-30 | 2022-06-30 | 一种用于OLED掩膜版表面阴极材料LiF清洗的组合物 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN115074743A CN115074743A (zh) | 2022-09-20 |
CN115074743B true CN115074743B (zh) | 2024-01-23 |
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Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN202210759071.4A Active CN115074743B (zh) | 2022-06-30 | 2022-06-30 | 一种用于OLED掩膜版表面阴极材料LiF清洗的组合物 |
Country Status (1)
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CN (1) | CN115074743B (zh) |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN115710707A (zh) * | 2022-11-16 | 2023-02-24 | 福建省佑达环保材料有限公司 | 一种镁银合金和镱金属清洗剂及清洗方法 |
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KR20080032843A (ko) * | 2006-10-11 | 2008-04-16 | 에스케이에너지 주식회사 | 유리세정 조성물 |
CN106756970A (zh) * | 2016-11-30 | 2017-05-31 | 马鞍山德鸿生物技术有限公司 | 一种用于钢铁保护的水性防锈剂、制备方法及其应用 |
CN112041970A (zh) * | 2018-04-27 | 2020-12-04 | 三菱瓦斯化学株式会社 | 水性组合物和使用其的清洗方法 |
CN113004980A (zh) * | 2021-03-10 | 2021-06-22 | 福建省佑达环保材料有限公司 | 一种用于oled掩膜版及坩埚清洗的组合物 |
CN113528253A (zh) * | 2021-07-08 | 2021-10-22 | 福建省佑达环保材料有限公司 | 一种用于OLED掩膜版及坩埚表面LiF材料清洗的组合物 |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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CN106756970A (zh) * | 2016-11-30 | 2017-05-31 | 马鞍山德鸿生物技术有限公司 | 一种用于钢铁保护的水性防锈剂、制备方法及其应用 |
CN112041970A (zh) * | 2018-04-27 | 2020-12-04 | 三菱瓦斯化学株式会社 | 水性组合物和使用其的清洗方法 |
CN113004980A (zh) * | 2021-03-10 | 2021-06-22 | 福建省佑达环保材料有限公司 | 一种用于oled掩膜版及坩埚清洗的组合物 |
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