CN115064300B - 一种片式电阻免镀镍用银导体浆料 - Google Patents
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Abstract
本发明公开了一种片式电阻免镀镍用银导体浆料,所述银导体浆料的重量百分比组成为:银粉60%~80%、预处理钼粉1%~5%、钙系玻璃粉0.5%~5%、有机载体18%~38%,其中预处理钼粉是将钼粉通过无水乙醇超声处理后,在氢气气氛下300~500℃焙烧2~5h获得。本发明通过在银导体浆料中加入预处理的钼粉作为添加剂,烧结后在银层表面形成一层保护层,替代片式电阻原有工艺中的镀镍层,保护银层在电镀锡时不形成锡银合金,从而在保证片式电阻原有性能的前提下,达到免电镀镍,大大减少片式电阻工艺对环境的影响。
Description
技术领域
本发明属于导体浆料技术领域,具体涉及一种用于片式电阻器电极的导体浆料,可广泛应用于片式电阻产品中。
背景技术
电子浆料是现代电子工业基础的关键材料之一,是组成电子器件的核心功能材料。电子浆料被广泛应用于各大类电子元件,包括片式电阻器、片式电容器、片式电感器、厚膜集成电路、半导体封装等,被广泛应用于移动通讯、物联网、航空航天、太阳能光伏、汽车电器、LED照明、柔性电子等领域。电子浆料按分类主要分为导体浆料、电阻浆料、介质浆料。其中导体浆料是最为广泛使用的电子功能材料,主要分为高温烧结导体浆料和低温固化导体浆料,高温烧结导体浆料通常是以导电粉末(金、银、钯、铂、铜、铝、钨、钼等及其合金)、玻璃粉(Pb系、Bi系、Ca系等微晶玻璃粉)、氧化物(Cu、Mg、Zr、Zn、Ni、稀土等的氧化物)、有机树脂(纤维素、丙烯酸、聚乙烯醇缩丁醛等)、有机溶剂(松油醇、丁基卡必醇、丁基卡必醇酯、二价酸酯、醇酯十二等)、表面活性剂、触变剂等组成的膏状物,其通过采用丝网印刷技术制作电路图形,经高温烧结形成功能性导电电路。
随着电子产品技术的飞速发展,电子元件特别是被动片式元件正在朝着微型化、精密化的方向发展,片式电阻器是三大无源片式器件的重要组成部分,其主要由三氧化二铝基板、正面银电极、背面银电极、电阻浆料、一次包封玻璃、二次包封树脂浆料、字码浆料经过多次丝网印刷和烧结,再经过镀镍、镀锡工艺制作而成的功能器件。由于片式电阻中电镀工艺产生大量的废水、废气,带来很大的环境问题。
发明内容
本发明的目的是提供一种片式电阻免镀镍用银导体浆料,以减少片式电阻工艺中原有的镀镍工序,实现免电镀镍,从而减少电镀镍工序对环境的影响,也大大降低片式电阻的生产成本。
针对上述目的,本发明采用的片式电阻免镀镍用银导体浆料的重量百分比组成为:银粉60%~80%、预处理钼粉1%~5%、钙系玻璃粉0.5%~5%、有机载体18%~38%。
上述银粉为亚微米级球状银粉,其平均粒径 1.0~2.5μm。
上述预处理钼粉是将平均粒径为0.5~2.0μm的钼粉先在无水乙醇中30~50℃超声60~120min,然后在氢气气氛中300~500℃焙烧2~5h获得。具体制备方法为:将平均粒径为0.5~2.0μm的钼粉与无水乙醇按重量比为1:1~1.5混合,在功率为0.5~1kW下30~50℃超声60~120min,使用250~400目筛网过筛,然后放入通氢气的石英管中,在300~500℃下焙烧2~5h,再使用325~400目筛网过筛,即得到预处理钼粉。
上述钙系玻璃粉的软化点为600~650℃,其重量百分比组成为:CaO 30%~50%、Al2O3 10%~30%、MgO 5%~15%、ZnO 3%~8%、B2O3 5%~15%、SiO2 20%~40%,制备方法为:将各种氧化物按照重量百分比混合均匀后,将混合物置于陶瓷坩埚中,放入熔炼炉中进行熔炼,熔炼温度为1200~1350℃,保温时间为1~4h,将得到的玻璃液倒入去离子水中,进行水淬后得到玻璃,将玻璃破碎成玻璃渣,并将玻璃渣球磨成平均粒径为1.5~3.5μm。
上述有机载体是高分子树脂和溶剂的混合物,其重量百分比组成为:高分子树脂5%~20%、溶剂80%~95%,所述高分子树脂为乙基纤维素、硝基纤维素、聚氨酯树脂、丙烯酸树脂、大豆卵磷脂中任意一种或多种,所述溶剂为松油醇、乙酸乙酯、乙二醇丁醚、丁基卡比醇醋酸酯中任意一种或多种。
与现有技术相比,本发明的有益效果如下:
1.本发明银导体浆料采用了预处理钼粉作为添加剂,烧结后在银层表面形成一层保护层,替代片式电阻原有工艺中的镀镍层,保护银层在电镀锡时不形成锡银合金,从而在保证片式电阻原有性能的前提下,达到免电镀镍工艺,大大减少片式电阻电镀镍工序对环境的影响,也大大降低了片式电阻的生产成本;
2.本发明银导体浆料的制备工艺简单,工艺适应性强;所得导体浆料在不造成其他性能下降的前提下,达到免电镀镍的效果。
附图说明
图1是导体浆料基本性能测试制作的印刷网版图形,其中位置1是拉力测试图形,位置2是可焊性测试图形。
图2是导体浆料电镀性能测试制作的印刷网版图形。
图3是电镀原理图。
具体实施方式
下面结合附图和实施例对本发明进行详细的说明,其并不对本发明的保护范围起到限定作用。本发明的保护范围仅由权利要求限定,本领域技术人员在本发明公开的实施例的基础上所做的任何省略、替换或修改都将落入本发明的保护范围。
1、制备预处理钼粉
将平均粒径为0.5~2.0μm的钼粉与无水乙醇按重量比为1:1.2混合,在功率为0.7kW下35℃超声100min后,使用250目筛网过筛,然后放入通氢气的石英管中,分别在300℃、400℃、500℃下焙烧3h,再使用325目筛网过筛,依次得到预处理钼粉-1、预处理钼粉-2、预处理钼粉-3。
2、制备钙系玻璃粉
按照重量百分比,将CaO 35%、Al2O3 15%、MgO 10%、ZnO 5%、B2O3 12%、SiO2 23%充分混合均匀,所得混合物置于熔炼炉中进行熔炼,熔炼温度为1250℃、保温时间为2.5h;将得到的玻璃液倒入去离子水中,进行水淬后得到玻璃,将玻璃破碎成玻璃渣,并将玻璃渣球磨32h,过400目筛网获得粒度为 1.5~3.5μm的钙系玻璃粉。
3、制备有机载体
按照重量百分比,将88%松油醇在烧杯中加热到60℃后,加入10%乙基纤维素、2%大豆卵磷脂,充分搅拌完全溶解后得到有机载体。
4、制备银导体浆料
按照表1中实施例1~5及对比例1和2的重量百分比,将平均粒径为1.0~2.5μm的球状银粉、预处理钼粉、平均粒径为1.5~3.5μm的钙系玻璃粉、有机载体用搅拌分散机混合均匀后,用三辊轧机辊轧成具有一定流动性的膏状物,分别制成细度≤8μm的银导体浆料。
同时,按照表1中对比例1的重量百分比,以不添加预处理的钼粉制成100g细度≤8μm的导体浆料;按照表1中对比例2的重量百分比,以添加未处理的钼粉(平均粒径为0.5~2.0μm)制成100g细度≤8μm的银导体浆料。
表1 银导体浆料配方
将上述实施例1~5及对比例1、对比例2的银导体料按照图1的网版图形,通过丝网印刷工艺印刷在氧化铝陶瓷基板上(25.4mm长×25.4mm宽×1mm厚),经过150℃干燥10min,在850±5℃的带式烧结炉中进行烧结,烧结周期60min,峰值保温10min,制成测试样品。按下述方法对测试样品进行性能测试:
烧结表面形貌:通过显微镜放大20倍,观察测试样品烧结膜表面状态;
方阻:按照 SJ/T11512-2015集成电路用电子浆料性能试验方法中,方法105电子浆料方阻测试方法进行方阻测试;
初始附着力测试:将ф0.8mm的导线平面焊接在2mm×2mm的测试样品上,导线进行90°弯曲后,用拉力机进行初始拉力测试;
耐焊性测试:按照 SJ/T11512-2015集成电路用电子浆料性能试验方法中,方法203电子浆料抗焊料侵蚀测试方法进行耐焊性测试;
耐酸性测试:将测试样品放入质量浓度为5%的硫酸水溶液中,浸泡1h,水洗、擦干,然后用3M胶带进行撕拉,胶带撕拉无脱落,即为合格。
上述各种测试结果见表2,并将测试结果与商用5421E厚膜导体浆料(由美国杜邦公司提供)进行比较。
表2 不同银导体浆料性能测试结果
由表2可见,本发明实施例1~5制备的银导体浆料的基本性能相对于商用片式电阻银导体浆料产品,具有更低的方阻值,更好耐焊性;将实施例1~5与对比例1、对比例2进行对比,银导体浆料中加入预处理钼粉后,基本性能没有劣化,加入未处理钼粉方阻升高、耐焊性下降;将实施例1~5与商用品进行对比,添加预处理钼粉后,实施例1~5银导体浆料基本性能没有劣化。
按照表3中的工序,进一步对银导体浆料进行电镀后性能测试。具体方法为:将银导体浆料按照图2的网版图形,通过丝网印刷工艺印刷在氧化铝陶瓷基板上(25.4mm长×25.4mm宽×1mm厚),经过150℃干燥10min,在850±5℃的带式烧结炉中进行烧结,烧结周期60min,峰值保温10min。将烧结后的样片分别经过镀镍、镀锡工序,其中镀镍工序的电镀镍液为pH=4.5的氨基磺酸镍水溶液,具体过程为:将图2样片经过除油、水洗、活化后放入图3的待镀件位置,然后通1.5V的直流电,持续4min,取出样片,水洗、烘干;镀锡工序的电镀锡液为pH=4.0的甲基磺酸锡水溶液,具体过程为:将待镀锡的样片经过除油、水洗、活化后,加热到35℃,将图2的样片放入图3的待镀件位置,然后通1.0V的直流电,持续9min,取出样片,水洗、烘干。镀后附着力测试:将ф0.8mm的导线平面焊接2mm×2mm的样片上,导线进行90°弯曲后,用拉力机进行拉力测试,测试结果见表3,并将测试结果与商用5421E厚膜导体浆料(由美国杜邦公司提供)进行比较。
表3 不同导体浆料镀后附着力测试数据对比
由表3可见,本发明实施例1~5制备的银导体浆料相对于商用片式电阻银导体浆料产品,具有更低的方阻值,在免镀镍工序的情况下,电镀后的镀后附着力可以达到同样的水平;将实施例1~5与对比例1、对比例2进行对比,实施例1~5的银导体浆料中加入预处理钼粉后,可显著提高镀后附着力,对比例1按照正常片式电阻工艺镀镍、镀锡后,镀后附着力正常,按照不镀镍直接镀锡的工艺,表面孔洞多、镀后附着力大大降低,添加未处理钼粉的对比例2,不镀镍直接镀锡,表面孔洞多、镀后附着力大大降低;将实施例1~5与商用品5421E进行对比,银导体浆料,实施例1~5银导体浆料中添加预处理钼粉后,可以免电镀镍工序,从而实现片式电阻工艺的改进,大大减少电镀带来的环境污染,而商用品免电镀镍后,镀后附着力不能满足片式电阻要求,无法实现免电镀镍工序。
Claims (6)
1.一种片式电阻免镀镍用银导体浆料,其特征在于,所述银导体浆料的重量百分比组成为:银粉60%~80%、预处理钼粉1%~5%、钙系玻璃粉0.5%~5%、有机载体18%~38%;
所述预处理钼粉是将平均粒径为0.5~2.0μm的钼粉先在无水乙醇中30~50℃超声60~120min,然后在氢气气氛中300~500℃焙烧2~5h获得;
所述预处理钼粉烧结后在银粉表面形成一层保护层。
2.根据权利要求1所述的片式电阻免镀镍用银导体浆料,其特征在于,所述预处理钼粉是:将平均粒径为0.5~2.0μm的钼粉与无水乙醇按重量比为1:1~1.5混合,在功率为0.5~1kW下30~50℃超声60~120min,使用250~400目筛网过筛,然后放入通氢气的石英管中,在300~500℃下焙烧2~5h,再使用325~400目筛网过筛,即得到预处理钼粉。
3.根据权利要求1所述的片式电阻免镀镍用银导体浆料,其特征在于,所述银粉为平均粒径为1.0~2.5μm的球状银粉。
4.根据权利要求1所述的片式电阻免镀镍用银导体浆料,其特征在于,所述钙系玻璃粉的软化点为600~650℃,其重量百分比组成为:CaO 30%~50%、Al2O3 10%~30%、MgO 5%~15%、ZnO 3%~8%、B2O3 5%~15%、SiO2 20%~40%。
5.根据权利要求4所述的片式电阻免镀镍用银导体浆料,其特征在于,所述钙系玻璃粉是将各种氧化物按照重量百分比混合均匀后,将混合物置于陶瓷坩埚中,放入熔炼炉中进行熔炼,熔炼温度为1200~1350℃,保温时间为1~4h,将得到的玻璃液倒入去离子水中,进行水淬后得到玻璃,将玻璃破碎成玻璃渣,并将玻璃渣球磨成平均粒径为1.5~3.5μm。
6.根据权利要求1所述的片式电阻免镀镍用银导体浆料,其特征在于,所述有机载体的重量百分比组成为:高分子树脂5%~20%、溶剂80%~95%,所述高分子树脂为乙基纤维素、硝基纤维素、聚氨酯树脂、丙烯酸树脂、大豆卵磷脂中任意一种或多种,所述溶剂为松油醇、乙酸乙酯、乙二醇丁醚、丁基卡比醇醋酸酯中任意一种或多种。
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