CN115052911A - 化合物、液晶组合物、液晶膜 - Google Patents
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Classifications
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Abstract
本发明提供一种在与液晶化合物同时使用而形成液晶层时能够形成液晶化合物的取向性优异的液晶层的化合物、液晶组合物及液晶膜。本发明的化合物具有光取向性基团和式(A)～(D)所表示的基团中的至少1个。
Description
技术领域
本发明涉及一种化合物、液晶组合物及液晶膜。
背景技术
使用液晶化合物而形成的液晶层用于显示器领域中所使用的光学膜的用途中。
作为液晶层的形成方法，已知有使用包含光取向性成分的光取向层的方法(文献1)。具体而言，已知有在形成具有取向限制力的光取向层之后，在其上涂布液晶层形成用组合物而形成液晶层的方法。
以往技术文献
专利文献
专利文献1：国际公开第2015/178447号
发明内容
发明要解决的技术课题
另一方面，近年来，从工业方面考虑，要求通过更简单的方法来制作液晶层。在专利文献1中所记载的方法中，实施在涂布光取向层形成用组合物而形成光取向层之后，在光取向层上涂布包含液晶化合物的组合物的方法，并且至少实施了2次涂布操作。如果能够通过1次涂布操作来形成液晶层，则从工业方面考虑，较为优选。
本发明人等将包含专利文献1中所记载的光取向化合物和液晶化合物的液晶组合物涂布于基材上，并尝试通过1次涂布操作来形成液晶层的结果，发现了液晶化合物的取向性不充分，存在改善的余地。
鉴于上述情况，本发明的课题在于提供一种在与液晶化合物同时使用而形成液晶层时能够形成液晶化合物的取向性优异的液晶层的化合物。
并且，本发明的课题还在于提供一种液晶组合物及液晶膜。
用于解决技术课题的手段
本发明人等为了解决上述课题而反复进行了深入研究的结果，完成了以下结构的本发明。
(1)一种化合物，其具有光取向性基团和后述式(A)～(D)所表示的基团中的至少1个。
(2)根据(1)所述的化合物，其包含具有光取向性基团的重复单元A及具有式(A)～(D)所表示的基团中的至少1个的重复单元B。
(3)根据(2)所述的化合物，其中，重复单元B包含后述式(1)～(4)所表示的重复单元中的至少1个。
(4)根据(3)所述的化合物，其中，在重复单元B包含式(1)所表示的重复单元或式(2)所表示的重复单元的情况下，重复单元B的含量相对于重复单元A及重复单元B的合计量为5～30质量％，
在重复单元B包含式(3)所表示的重复单元的情况下，重复单元B的含量相对于重复单元A及重复单元B的合计量为15～40质量％，
在重复单元B包含式(4)所表示的重复单元的情况下，重复单元B的含量相对于重复单元A及重复单元B的合计量为40～80质量％。
(5)根据(2)至(4)中任一项所述的化合物，其中，重复单元B包含后述式(5)～(7)所表示的重复单元中的至少1个。
(6)一种液晶组合物，其包含(1)至(5)中任一项所述的化合物和液晶化合物。
(7)一种液晶膜，其使用(6)所述的液晶组合物而形成。
发明效果
根据本发明，也能够提供一种在与液晶化合物同时使用而形成液晶层时能够形成液晶化合物的取向性优异的液晶层的化合物。
并且，根据本发明，也能够提供一种液晶组合物及液晶膜。
具体实施方式
以下，对本发明进行详细说明。
以下所记载的构成要件的说明是根据本发明的代表性实施方式而完成的，但是本发明并不限定于这种实施方式。
另外，在本说明书中，使用“～”表示的数值范围表示将记载于“～”前后的数值作为下限值及上限值而包含的范围。
在本说明书中，“(甲基)丙烯酸”以“丙烯酸及甲基丙烯酸中的任一个或两个”的含义而使用。
在本发明中，Re(λ)及Rth(λ)分别表示波长λ下的面内的延迟及厚度方向的延迟。除非另有特别说明，则波长λ设为550nm。
在本发明中，Re(λ)及Rth(λ)为利用AxoScan(Axometrics公司制)在波长λ下进行测量而获得的值。通过在AxoScan中输入平均折射率((nx+ny+nz)/3)和膜厚(d(μm))来计算
慢轴方向(°)
Re(λ)＝R0(λ)
Rth(λ)＝((nx+ny)/2-nz)×d。
另外，R0(λ)显示为用AxoScan计算的数值，但是表示Re(λ)。
在本说明书中，关于折射率nx、ny及nz，使用阿贝折射仪(NAR-4T、ATA GO CO.,LTD.制)，并使用钠灯(λ＝589nm)作为光源进行测量。并且，在测量波长依赖性的情况下，能够用多波长阿贝折射仪DR-M2(ATAGO CO.,LTD.制)与干涉滤光器组合而进行测量。
并且，能够使用聚合物手册(JOHN WILEY&SONS,INC)及各种光学膜的目录的值。将主要光学膜的平均折射率的值例示于以下：纤维素酰化物(1.48)、环烯烃聚合物(1.52)、聚碳酸酯(1.59)、聚甲基丙烯酸甲酯(1.49)及聚苯乙烯(1.59)。
本说明书中的“光”表示活化光线或放射线，例如表示汞灯的明线光谱、以准分子激光为代表的远紫外线、极紫外线(EUV光：Extreme Ultraviole t)、X射线、紫外线及电子束(EB：Electron Beam)等。其中，优选为紫外线。
并且，在本说明书中所表述的2价的基团(例如，-O-CO-)的键合方向并无特别限定，例如在“L1-L2-L3”的键合中，在L2为-O-CO-的情况下，若将与L1侧键合的位置设为*1且将与L3侧键合的位置设为*2，则L2可以为*1-O-CO-*2，也可以为*1-CO-O-*2。
作为本发明的化合物(以下，也称为“特定化合物”。)的特征点，可以举出具有后述式(A)～(D)所表示的基团中的至少1个这一点。式(A)～(D)所表示的基团容易与基材相互作用，容易使化合物偏置于基材侧。另外，以下，将式(A)～(D)所表示的基团也统称为相互作用性基团。
因此，若使用包含特定化合物及液晶化合物的液晶组合物在基材上形成涂膜，则涂膜中的特定化合物容易偏置于基材侧。若向这种涂膜照射偏振光，则在涂膜中的基材侧的区域中容易形成能够作为取向限制力高的光取向层而发挥作用的区域。因此，涂膜中的液晶化合物的取向性变高，其结果，形成液晶化合物的取向性优异的液晶膜。
本发明的化合物具有光取向性基团和式(A)～(D)所表示的基团中的至少1个。
另外，如后述，化合物可以为聚合物。在化合物为聚合物的情况下，聚合物可以在相同的重复单元中具有光取向性基团和式(A)～(D)所表示的基团中的至少1个，也可以在不同的重复单元中具有光取向性基团和式(A)～(D)所表示的基团中的至少1个。即，聚合物可以包含具有光取向性基团及式(A)～(D)所表示的基团中的至少1个的重复单元，也可以包含具有光取向性基团的重复单元和具有式(A)～(D)所表示的基团中的至少1个的重复单元这2种重复单元。
以下，对特定化合物进行详细叙述。
＜光取向性基团＞
光取向性基团是指具有通过具有各向异性的光(例如，平面偏振光等)的照射而诱发重组或各向异性的化学反应的光取向功能的基团，从取向的均匀性优异且热稳定性或化学稳定性也变得良好的观点考虑，优选为通过光的作用而产生二聚化及异构化中的至少一种的光取向性基团。
作为通过光的作用而二聚化的光取向性基团，例如可以举出具有选自包括肉桂酸衍生物(M.Schadt et al.,J.Appl.Phys.,vol.31,No.7,2155页(1992))、香豆素衍生物(M.Schadt et al.,Nature.,vol.381,212页(1996))、查耳酮衍生物(小川俊博等，液晶讨论会演讲论文集，2AB03(1997))、马来酰亚胺衍生物及二苯甲酮衍生物(Y.K.Jang et al.,SID Int.Sym posium Digest,P-53(1997))的组中的至少一种衍生物的骨架的基团。
另一方面，作为通过光的作用而异构化的光取向性基团，例如可以举出具有选自包括偶氮苯化合物(K.Ichimura et al.,Mol.Cryst.Liq.Cryst.,298,221(1997))、芪化合物(J.G.Victor and J.M.Torkelson,Macromolecules,20,2241(1987))、螺吡喃化合物(K.Ichimura et al.,Chemistry Letters,1063页(1992)；K.Ichimura et al.,ThinSolid Films,vol.235,101页(1993))、肉桂酸化合物(K.Ichimura et al.,Macromolecules,30,903(1997))及亚肼基-β-酮酯化合物(S.Yamamura et al.,LiquidCrystals,vol.13,No.2,189页(1993))的组中的至少1种化合物的骨架的基团。
这些之中，优选光取向性基团选自包括肉桂酰基、偶氮苯基、查耳酮基及香豆素基的组中。
从可以获得液晶化合物的取向性更加优异的液晶层的观点(以下，也简称为“本发明的效果更加优异的观点”。)考虑，特定化合物优选为聚合物。
特定化合物优选包含具有光取向性基团的重复单元A。
重复单元A的主链的结构并无特别限定，可以举出公知的结构，优选为选自包括(甲基)丙烯酸系、苯乙烯系、硅氧烷系、环烯烃系、甲基戊烯系、酰胺系及芳香族酯系的组中的骨架。
这些之中，更优选为选自包括(甲基)丙烯酸系、硅氧烷系及环烯烃系的组中的骨架，进一步优选为(甲基)丙烯酸系骨架。
作为重复单元A，优选为式(W)所表示的重复单元。
[化学式1]
RW1表示氢原子或甲基。
LW表示单键或2价的连接基团。2价的连接基团的优选方式与后述L1所表示的2价的连接基团的优选方式相同。
RW2、RW3、RW4、RW5及RW6分别独立地表示氢原子或取代基。RW2、RW3、RW4、RW5及RW6中的相邻的2个基团可以键合而形成环。
上述取代基的种类并无特别限制，可以举出后述Ra及Rb所表示的基团可以具有的取代基中所例示的基团。其中，优选为碳原子数1～20的烷氧基。
特定化合物中的重复单元A的含量并无特别限制，但是从本发明的效果更加优异的观点考虑，相对于特定化合物中的所有重复单元优选为15～98质量％，更优选为30～95质量％。
＜式(A)～(D)所表示的基团(相互作用性基团)＞
特定化合物具有式(A)～(D)所表示的基团中的至少1个。如上所述，这些基团容易与基材相互作用，容易使特定化合物偏置于基材侧。
式中，*表示键合位置。
[化学式2]
X+表示有机阳离子基团。有机阳离子基团为具有正电荷的有机基团。有机阳离子基团并无特别限制，可以举出季铵基及吡啶鎓基。其中，优选为季铵基。
Y-表示阴离子，阴离子的种类并无特别限制，可以举出公知的阴离子。例如，可以举出卤离子(F-、Cl-、Br-、I-)、NO3 -、CIO4 -、BF4 -、CO3 2-及SO4 2-等无机阴离子、CH3OSO3 -、C2H5OSO3 -、进一步由乙酸、丙二酸、琥珀酸、马来酸、富马酸、对甲苯磺酸及三氟乙酸等有机酸残基形成的有机阴离子。其中，从本发明的效果更加优异的观点考虑，优选为卤离子(卤素阴离子)。
D-表示阴离子基团，阴离子基团为具有负电荷的基团。阴离子基团并无特别限制，可以举出-COO-及-SO3 -。
E+表示有机阳离子。有机阳离子并无特别限制，可以举出有机铵阳离子、有机锍阳离子、有机碘鎓阳离子及有机鏻阳离子。其中，优选为有机铵阳离子。
有机铵阳离子为N+(R)4所表示的阳离子。R分别独立地表示氢原子或可以具有取代基的烷基。烷基的碳原子数并无特别限制，但是优选为1～20，更优选为1～10，进一步优选为1～5。
烷基可以为直链状，也可以为支链状，也可以为环状，也可以为将这些组合而成的结构。
Ra及Rb分别独立地表示氢原子、可以具有取代基的烷基、可以具有取代基的芳基或可以具有取代基的杂芳基，Ra及Rb中的任一个为氢原子。
烷基的碳原子数并无特别限制，优选为1～10，更优选为1～5。
烷基可以为直链状，也可以为支链状，也可以为环状，也可以为将这些组合而成的结构。
作为芳基，可以为单环结构，也可以为多环结构。
杂芳基中所包含的杂原子并无特别限制，可以举出氮原子、氧原子及硫原子。
Ra及Rb所表示的基团(烷基、芳基、杂芳基)可以具有的取代基的种类并无特别限制，可以举出公知的取代基。作为取代基，例如可以举出烷基、链烯基、炔基、芳基、氨基、烷氧基、芳氧基、芳香族杂环氧基、酰基、烷氧基羰基、芳氧基羰基、酰氧基、酰氨基、烷氧基羰基氨基、芳氧基羰基氨基、磺酰氨基、氨磺酰基、氨基甲酰基、烷硫基、芳硫基、芳香族杂环硫基、磺酰基、亚硫酰基、脲基、磷酸酰胺基、羟基、巯基、卤原子、氰基、磺基、羧基、硝基、羟肟酸基、亚磺基、肼基、亚氨基、杂环基(例如，杂芳基)、甲硅烷基及将这些组合而成的基团等。另外，上述取代基可以进一步经取代基取代。
Rc表示碳原子数1～20的烷基。
烷基的碳原子数优选为1～10，更优选为1～5。
烷基可以为直链状，也可以为支链状，也可以为环状，也可以为将这些组合而成的结构。
另外，在Rc为碳原子数2～20的烷基的情况下，构成烷基的-CH2-的1个以上可以被-O-、-S-、-N(Q)-、-CO-O-、-O-CO-或-CO-取代。
Q表示取代基。取代基的种类并无特别限制，可以举出公知的取代基，并且可以举出Ra及Rb所表示的基团可以具有的取代基中所例示的基团。
*表示键合位置。
如上所述，特定化合物优选为聚合物。
特定化合物优选包含具有式(A)～(D)所表示的基团中的至少1个的重复单元B。
重复单元B优选包含式(1)～(4)所表示的重复单元中的至少1个。其中，从本发明的效果更加优异的观点考虑，特定化合物优选包含式(1)所表示的重复单元、式(2)所表示的重复单元或式(4)所表示的重复单元。并且，特定化合物可以具有多个式(1)～(4)所表示的重复单元。例如，也能够包含式(1)所表示的重复单元、式(2)所表示的重复单元或式(4)所表示的单元和式(3)所表示的重复单元。
[化学式3]
R1、R2、R3及R4分别独立地表示氢原子或可以具有取代基的碳原子数1～20的烷基。
烷基的碳原子数优选为1～10，更优选为1～5。
烷基可以为直链状，也可以为支链状，也可以为环状，也可以为将这些组合而成的结构。
烷基可以具有的取代基的种类并无特别限制，可以举出公知的取代基，并且可以举出Ra及Rb所表示的基团可以具有的取代基中所例示的基团。
L1、L2、L3及L4分别独立地表示单键或2价的连接基团。2价的连接基团并无特别限制，例如可以举出可以具有取代基的2价的烃基(例如，碳原子数1～10的亚烷基、碳原子数1～10的亚烯基及碳原子数1～10的亚炔基等2价的脂肪族烃基以及亚芳基等2价的芳香族烃基)、可以具有取代基的2价的杂环基、-O-、-S-、-NH-、-N(Rd)-、-CO-或将这些组合而成的基团(例如，-CO-O-、-O-2价的烃基-、-(O-2价的烃基)m-O-(m表示1以上的整数)及-2价的烃基-O-CO-等)。Rd表示氢原子或烷基。
2价的烃基及2价的杂环基可以具有的取代基的种类并无特别限制，可以举出公知的取代基，并且可以举出Ra及Rb所表示的基团可以具有的取代基中所例示的基团。
X+、Y-、D-、E+、Ra、Rb及Rc的定义如上所述。
其中，从本发明的效果更加优异的观点考虑，重复单元B优选包含式(5)～(7)所表示的重复单元中的至少1个。
[化学式4]
R5、R6及R7分别独立地表示氢原子或可以具有取代基的碳原子数1～20的烷基。
上述烷基的碳原子数优选为1～10，更优选为1～5。
烷基可以为直链状，也可以为支链状，也可以为环状，也可以为将这些组合而成的结构。
烷基可以具有的取代基的种类并无特别限制，可以举出公知的取代基，并且可以举出Ra及Rb所表示的基团可以具有的取代基中所例示的基团。
L5、L6及L7分别独立地表示2价的连接基团。作为2价的连接基团，可以举出上述L1、L2、L3及L4所表示的2价的连接基团中所例示的基团。
Y-表示阴离子，式(5)中的Y-与式(1)中的Y-的含义相同。
E+表示有机阳离子。式(6)中的E+与式(2)中的E+的含义相同。
R8、R9及R10分别独立地表示氢原子或可以具有取代基的碳原子数1～20的烷基。
上述烷基的碳原子数优选为1～10，更优选为1～5。
烷基可以为直链状，也可以为支链状，也可以为环状，也可以为将这些组合而成的结构。
烷基可以具有的取代基的种类并无特别限制，可以举出公知的取代基，并且可以举出Ra及Rb所表示的烷基可以具有的取代基中所例示的基团。
特定化合物中的重复单元B的含量并无特别限制。
其中，从本发明的效果更加优异的观点考虑，在重复单元B包含式(1)所表示的重复单元或式(2)所表示的重复单元的情况下，重复单元B的含量相对于重复单元A及重复单元B的合计量优选为5～30质量％。
并且，在重复单元B包含式(3)所表示的重复单元的情况下，重复单元B的含量相对于重复单元A及重复单元B的合计量优选为15～40质量％。
并且，在重复单元B包含式(4)所表示的重复单元的情况下，重复单元B的含量相对于重复单元A及重复单元B的合计量优选为40～80质量％。
特定化合物优选包含上述重复单元A及重复单元B。
特定化合物可以包含除了重复单元A及重复单元B以外的其他重复单元。
特定化合物可以包含具有交联性基团的重复单元。
具有交联性基团的重复单元的主链的结构并无特别限定，可以举出公知的结构，优选为选自包括(甲基)丙烯酸系、苯乙烯系、硅氧烷系、环烯烃系、甲基戊烯系、酰胺系及芳香族酯系的组中的骨架。
这些之中，更优选为选自包括(甲基)丙烯酸系、硅氧烷系及环烯烃系的组中的骨架，进一步优选为(甲基)丙烯酸系骨架。
作为具有交联性基团的重复单元，优选为式(Z)所表示的重复单元。
[化学式5]
R11表示氢原子或甲基。
L8表示单键或2价的连接基团。作为2价的连接基团，可以举出上述L1、L2、L3及L4所表示的2价的连接基团中所例示的基团。
Z表示交联性基团。交联性基团的种类并无特别限制，可以举出公知的交联性基团，例如可以举出自由基聚合性基团及阳离子聚合性基团。
作为交联性基团，优选为式(Z1)～(Z4)所表示的基团中的任一个。
[化学式6]
Re表示氢原子、甲基或乙基。
Rf表示氢原子或甲基。
*表示键合位置。
在特定化合物包含具有交联性基团的重复单元的情况下，特定化合物中的具有交联性基团的重复单元的含量并无特别限制，但是从本发明的效果更加优异的观点考虑，相对于特定化合物中的所有重复单元优选为20～80质量％，更优选为30～70质量％。
作为其他重复单元，可以举出与重复单元A、重复单元B及具有交联性基团的重复单元不同的具有烷基的重复单元。
烷基的碳原子数并无特别限制，优选为1～20，更优选为1～15。
烷基可以为直链状，也可以为支链状，也可以为环状，也可以为将这些组合而成的结构。从能够抑制由热引起的特定化合物的取向松弛的观点考虑，优选为环状的烷基。作为环状的烷基，可以举出金刚烷等。
在特定化合物包含上述具有烷基的重复单元的情况下，特定化合物中的具有烷基的重复单元的含量并无特别限制，但是从本发明的效果更加优异的观点考虑，相对于特定化合物中的所有重复单元优选为20～80质量％，更优选为30～70质量％。
在特定化合物为聚合物的情况下，特定化合物的重均分子量(Mw)并无特别限制，但是从本发明的效果更加优异的观点考虑，优选为10000～500000，更优选为20000～300000。
本发明中的重均分子量及数均分子量为通过凝胶渗透色谱(GPC)法在以下所示的条件下进行测定而获得的值。
·溶剂(洗脱液)：THF(四氢呋喃)
·装置名称：TOSOH HLC-8320GPC
·管柱：连接3根TOSOH TSKgel Super HZM-H(4.6mm×15cm)而使用
·管柱温度：40℃
·试样浓度：0.1质量％
·流速：1.0ml/min
·校准曲线：使用基于直至TOSOH制TSK标准聚苯乙烯Mw＝2800000～1050(Mw/Mn＝1.03～1.06)的7个样品的校准曲线
关于光取向化合物，能够通过公知的方法来合成。
＜液晶组合物＞
本发明的液晶化合物包含上述特定化合物及液晶化合物。
特定化合物如上所述，并省略说明。
(液晶化合物)
液晶化合物的种类并无特别限定，例如可以举出能够进行垂直取向、均匀取向、混合取向及胆甾醇取向中的任一个取向的化合物。
其中，通常，液晶化合物根据其形状而分类为棒状类型和圆盘状类型。而且，分别有低分子和高分子类型。高分子通常是指聚合度为100以上的化合物(高分子物理/相变动力学，土井正男著，2页，岩波书店，1992)。在本发明中，也能够使用任意的液晶化合物，但是优选为棒状液晶化合物或盘状液晶化合物(圆盘状液晶化合物)。并且，优选为单体或者聚合度小于100的相对低分子量的液晶化合物。
液晶化合物优选具有聚合性基团。即，液晶化合物优选为聚合性液晶化合物。作为聚合性液晶化合物所具有的聚合性基团，例如可以举出丙烯酰基、甲基丙烯酰基、环氧基及乙烯基。
通过使这种聚合性液晶化合物聚合，能够固定液晶化合物的取向。另外，液晶化合物通过聚合而固定之后，已不需要显示液晶性。
作为棒状液晶化合物，例如优选日本特表平11-513019号公报的权利要求1或日本特开2005-289980号公报的[0026]～[0098]段中所记载的化合物，作为盘状液晶化合物，例如优选日本特开2007-108732号公报的[0020]～[0067]段或日本特开2010-244038号公报的[0013]～[0108]段中所记载的化合物。
作为上述聚合性液晶化合物，能够使用逆波长分散性的液晶化合物。
其中，在本说明书中，“逆波长分散性”的液晶性化合物是指在测定使用该化合物进行制作的相位差膜的特定波长(可见光范围)下的面内的延迟(Re)值时，随着测定波长变大而Re值变得相等或变高。
逆波长分散性的液晶化合物只要为如上所述能够形成逆波长分散性的薄膜的化合物，则并无特别限定，例如可以举出日本特开2008-297210号公报中所记载的通式(I)所表示的化合物(尤其是[0034]～[0039]段中所记载的化合物)、日本特开2010-084032号公报中所记载的通式(1)所表示的化合物(尤其是[0067]～[0073]段中所记载的化合物)及日本特开2016-081035号公报中所记载的通式(1)所表示的化合物(尤其是[0043]～[0055]段中所记载的化合物)等。
而且，可以举出日本特开2011-006360号公报的[0027]～[0100]段、日本特开2011-006361号公报的[0028]～[0125]段、日本特开2012-207765号公报的[0034]～[0298]段、日本特开2012-077055号公报的[0016]～[0345]段、WO12/141245号公报的[0017]～[0072]段、WO12/147904号公报的[0021]～[0088]段、WO14/147904号公报的[0028]～[0115]段中所记载的化合物。
液晶组合物中的光取向化合物的含量并无特别限制，但是从本发明的效果更加优异的观点考虑，相对于液晶化合物的含量优选为0.01～30质量％，更优选为0.1～10质量％。
液晶组合物中的液晶化合物的含量并无特别限制，但是从本发明的效果更加优异的观点考虑，相对于组合物中的总固体成分优选为50质量％以上，更优选为70质量％以上，进一步优选为90质量％以上。上限并无特别限制，但是99质量％以下的情况较多。
另外，液晶组合物中的总固体成分是指构成液晶层的成分，并且不包含溶剂。
(其他成分)
液晶组合物可以包含除了上述液晶化合物及光取向化合物以外的其他化合物。
液晶组合物可以包含流平剂。
流平剂优选具有氟原子或硅原子。即，作为流平剂，优选为氟系流平剂或硅系流平剂，更优选为氟系流平剂。
作为流平剂的具体例，可以举出日本特开2007-069471号公报的[0079]～[0102]段中所记载的化合物、日本特开2013-047204号公报中所记载的通式(I)所表示的化合物、日本特开2012-211306号公报中所记载的通式(I)所表示的化合物、日本特开2002-129162号公报中所记载的通式(I)所表示的液晶取向促进剂、日本特开2005-099248号公报中所记载的通式(I)、(II)或(III)所表示的化合物。
液晶组合物中的流平剂的含量相对于液晶组合物中的总固体成分优选为0.01～5质量％，更优选为0.05～1质量％。
液晶组合物可以包含聚合引发剂。关于所使用的聚合引发剂，根据聚合反应的形式进行选择，例如可以举出热聚合引发剂及光聚合引发剂。例如，作为光聚合引发剂，可以举出α-羰基化合物、偶姻醚、α-烃取代芳香族偶姻化合物、多核醌化合物及三芳基咪唑二聚物与对氨基苯基酮的组合等。
液晶组合物中的聚合引发剂的含量相对于液晶组合物的总固体成分优选为0.01～20质量％，更优选为0.3～10质量％。
液晶组合物可以包含热产酸剂。尤其，在特定化合物具有阳离子聚合性基团的情况下，在形成液晶膜时使用热产酸剂使阳离子聚合性基团聚合，从而可以获得耐热性优异的液晶膜。
液晶组合物中的热产酸剂的含量相对于液晶组合物的总固体成分优选为0.01～20质量％，更优选为0.3～10质量％。
并且，液晶组合物可以包含聚合性单体。
作为聚合性单体，可以举出自由基聚合性化合物或阳离子聚合性化合物。其中，优选为多官能自由基聚合性单体。并且，作为聚合性单体，优选为上述具有聚合性基团的液晶化合物和共聚单体。例如，可以举出日本特开2002-296423号公报中的[0018]～[0020]段中所记载的聚合性单体。
液晶组合物中的聚合性单体的含量相对于液晶化合物的总质量优选为1～50质量％，更优选为2～30质量％。
并且，液晶组合物可以包含溶剂。作为溶剂，优选为有机溶剂。作为有机溶剂，可以举出胺(例如：二异丙基乙胺)、酰胺(例如：N,N-二甲基甲酰胺)、亚砜(例如：二甲基亚砜)、杂环化合物(例如：吡啶、1,3-二氧戊环)、烃(例如：苯、己烷、甲苯)、卤代烷(例如：氯仿、二氯甲烷)、酯(例如：乙酸甲酯、乙酸乙酯、乙酸丁酯)、酮(例如：丙酮、甲基乙基酮、环戊酮)及醚(例如：四氢呋喃、1,2-二甲氧基乙烷)。另外，可以同时使用2种以上的有机溶剂。
并且，液晶组合物可以包含垂直取向剂及水平取向剂等各种取向控制剂。这些取向控制剂为能够控制液晶化合物在界面侧水平或垂直取向的化合物。
而且，液晶组合物除了上述成分以外，还可以包含聚合抑制剂、密合改良剂及增塑剂。
尤其，为了在后述工序2中抑制液晶化合物的聚合，液晶组合物可以包含聚合抑制剂。
＜液晶膜及其形成方法＞
本发明的液晶膜使用上述液晶组合物而形成。
本发明的液晶膜的制造方法并无特别限制，只要为使用上述液晶组合物的方法即可，优选具有以下工序1～3。
更具体而言，优选为具有以下工序1～3的制造方法。
工序1：将包含特定化合物及聚合性液晶化合物的液晶组合物涂布于基材上而形成涂膜的工序
工序2：向所形成的涂膜照射偏振光的工序
工序3：使在工序2中所获得的涂膜中的聚合性液晶化合物取向之后，实施固化处理而形成液晶膜的工序
以下，对工序1～3的步骤进行详细叙述。
(工序1)
工序1为将包含特定化合物及聚合性液晶化合物的液晶组合物涂布于基材上而形成涂膜的工序。通过实施本工序，在特定化合物中的相互作用性基团与基材之间产生相互作用，从而在涂膜中特定化合物容易偏置于基材侧。
所使用的液晶组合物如上所述。
基材可以为有机基材(由有机材料构成的基材)，也可以为无机基材(由无机材料构成的基材)，优选为有机基材。
作为有机基材，优选为树脂基材。
作为树脂基材的材料，可以举出纤维素系聚合物；聚甲基丙烯酸甲酯及作为含有内酯环的聚合物的丙烯酸酯聚合物等丙烯酸系聚合物；热塑性降冰片烯系聚合物；聚碳酸酯系聚合物；聚对苯二甲酸乙二酯及聚萘二甲酸乙二醇酯等聚酯系聚合物；聚苯乙烯及丙烯腈-苯乙烯共聚物等苯乙烯系聚合物；聚乙烯、聚丙烯及乙烯-丙烯共聚物等聚烯烃系聚合物；氯乙烯系聚合物；尼龙及芳香族聚酰胺等酰胺系聚合物；酰亚胺系聚合物；砜系聚合物；聚醚砜系聚合物；聚醚醚酮系聚合物；聚苯硫醚系聚合物；偏二氯乙烯系聚合物；乙烯醇系聚合物；乙烯醇缩丁醛系聚合物；芳酯系聚合物；聚甲醛系聚合物；环氧系聚合物；或将它们的聚合物混合而成的聚合物。
作为无机基材，可以举出玻璃基材。
基材优选为透明。即，作为基材，优选为透明基材。
另外，透明基材是指可见光的透射率为60％以上的基材，其透射率优选为80％以上，更优选为90％以上。
基材优选在其表面上具有氢键性基团。
作为氢键性基团，可以举出羟基、硫醇基、羧基、氨基、酰胺基、脲基及氨基甲酸酯基，从本发明的效果更加优异的观点考虑，优选为羟基或羧基。
在基材的表面上导入氢键性基团的方法并无特别限制，可以举出电晕处理及紫外线照射处理等公知的表面处理方法。
并且，构成基材的材料(例如，聚合物)本身可以具有氢键性基团。
并且，基材除了构成基材的主成分以外，还可以包含具有氢键性基团的添加剂。
而且，基材包含通过热或光等进行分解而产生氢键性基团的化合物，通过实施规定的处理(例如，光照射处理或加热处理)，可以在基材的表面上导入氢键性基团。
基材的表面的水接触角并无特别限制，但是从本发明的效果更加优异的观点考虑，优选为80°以下，更优选为70°以下。下限并无特别限制，但是1°以上的情况较多。
作为基材的表面的水接触角的测量方法，如下。
首先，使用接触角仪[“CA-X”型接触角仪、Kyowa Interface Science Co.,Ltd.制]，在干燥状态(20℃/65％RH)下，使用纯水作为液体在针尖上制作3μL的液滴，使其与基材表面接触而在基材上制作液滴。以滴加后15秒后的基材与液体接触的点处的、相对于液体表面的切线与基材表面所形成的角，测量包含液体的一侧的角度，并设为水接触角。
基材可以为单层结构，也可以为多层结构。
在基材为多层结构的情况下，基材可以具有支承体及配置于支承体上的光学各向异性层。
作为光学各向异性层，可以举出在面内方向上具有相位差的光学各向异性层及在厚度方向上具有相位差的光学各向异性层。
基材的厚度并无特别限定，优选为5～200μm，更优选为10～100μm，进一步优选为20～90μm。
将液晶组合物涂布于基材上的方法并无特别限制，可以举出帘涂法、浸涂法、旋涂法、印刷涂布法、喷涂法、狭缝涂布法、辊涂法、滑动涂布法、刮刀涂布法、凹版涂布法及线棒法。
另外，可以在形成涂膜之后且在后述工序2之前，对涂膜实施加热处理。通过实施加热处理，特定化合物更容易偏置于基材侧。
关于加热处理时的加热温度，从本发明的效果更加优异的观点考虑，作为加热温度，优选为50～250℃，更优选为50～150℃，作为加热时间，优选为10秒钟～10分钟。
(工序2)
工序2为向所形成的涂膜照射偏振光的工序。通过照射偏振光，偏置于涂膜中的特定化合物向规定的方向取向，涂膜中的一部分的区域容易作为光取向膜而发挥作用。
向涂膜照射的偏振光并无特别限制，例如可以举出直线偏振光、圆偏振光及椭圆偏振光，优选为直线偏振光。
偏振光中的波长并无特别限制，但是例如可以举出紫外线、近紫外线及可见光线。其中，优选为250～450nm的近紫外线。
并且，作为用于照射偏振光的光源，例如可以举出氙气灯、高压汞灯、超高压汞灯及金属卤化物灯。针对从这种光源获得的紫外线或可见光线，通过使用干涉滤光器或滤色器等，能够限制照射的波长范围。并且，针对来自这些光源的光，通过使用偏振滤光器或偏振棱镜，能够获得直线偏振光。
偏振光的照射方向并无特别限制，可以从涂膜侧照射，也可以从基材侧照射。从本发明的效果更加优异的观点考虑，优选从基材侧照射。
偏振光的累计光量并无特别限制，但是优选为1～300mJ/cm2，更优选为2～100mJ/cm2。
(工序3)
工序3为使在工序2中所获得的涂膜中的聚合性液晶化合物取向之后，实施固化处理而形成液晶膜的工序。通过实施本工序，使聚合性液晶化合物根据在工序2中所获得的向规定的方向取向的特定化合物的取向限制力取向，并对该取向的聚合性液晶化合物实施固化处理，从而形成将所取向的液晶化合物固定而成的液晶膜。
作为使聚合性液晶化合物取向的方法，可以举出加热处理。
加热涂膜时的条件并无特别限制，但是作为加热温度，优选为50～250℃，更优选为50～150℃，作为加热时间，优选为10秒钟～10分钟。
并且，可以在加热涂膜之后，并且在后述固化处理之前，根据需要冷却涂膜。作为冷却温度，优选为20～200℃，更优选为30～150℃。
接着，对聚合性液晶化合物取向的涂膜实施固化处理。
对聚合性液晶化合物取向的涂膜实施固化处理的方法并无特别限制，例如可以举出光照射处理及加热处理。其中，从制造适用性的观点考虑，优选为光照射处理，更优选为紫外线照射处理。
光照射处理的照射条件并无特别限制，但是优选为50～1000mJ/cm2的照射量。
光照射处理时的环境并无特别限制，但是优选为氮气环境。
通过实施上述工序1～3的步骤，可以在基材上获得液晶膜。
另外，在上述工序1中所使用的液晶组合物包含流平剂的情况下，流平剂偏置于所形成的液晶膜的与基材侧相反的一侧。
即，在液晶组合物包含流平剂的情况下所形成的液晶膜为使用包含液晶化合物、特定化合物及流平剂的液晶组合物而形成且具有2个主表面的液晶膜，并且与如下液晶膜对应：在液晶膜中，流平剂偏置于一个面主表面侧，特定化合物偏置于另一个主表面侧。
液晶膜的厚度并无特别限制，但是优选为0.1～10μm，更优选为0.5～5μm。
液晶膜的面内延迟并无特别限制，但是例如在用于反射防止膜用途中的情况下，液晶膜的波长550nm下的面内延迟优选为110～160nm。
＜用途＞
上述液晶膜能够适用于各种用途中。例如，可以举出包括显示元件和液晶膜的图像显示装置。
本发明的图像显示装置中所使用的显示元件并无特别限制，例如可以举出液晶单元、有机电致发光(以下，简称为“EL”。)显示面板及等离子显示面板，优选为液晶单元或有机EL显示面板。即，作为本发明的图像显示装置，优选为使用液晶单元作为显示元件的液晶显示装置或使用有机EL显示面板作为显示元件的有机EL显示装置。
作为液晶显示装置中所利用的液晶单元，优选为VA(Vertical Alignment：垂直取向)模式、OCB(Optically Compensated Bend：光学补偿弯曲)模式、IPS(In-Plane-Switching：面内切换)模式或TN(Twisted Nematic：扭曲向列)模式。
关于作为本发明的图像显示装置的一例的有机EL显示装置，例如优选为从视觉辨认侧依次具有起偏器、液晶膜及有机EL显示面板的方式。
上述起偏器只要为具有将光转换成特定的直线偏振光的功能的部件，则并无特别限制，能够利用以往公知的吸收型起偏器及反射型起偏器。
作为吸收型起偏器，使用碘系起偏器、利用了二色性染料的染料系起偏器及多烯系起偏器等。碘系起偏器及染料系起偏器有涂布型起偏器及拉伸型起偏器，并且均能够适用。
并且，作为在基材上形成聚乙烯醇层的层叠膜的状态下实施拉伸及染色而获得起偏器的方法，可以举出日本专利第5048120号公报、日本专利第5143918号公报、日本专利第4691205号公报、日本专利第4751481号公报及日本专利第4751486号公报中所记载的方法，并且能够优选利用与这些起偏器相关的公知的技术。
作为反射型起偏器，例如可以举出层叠双折射的不同的薄膜而成的起偏器、线栅起偏器及组合具有选择反射区域的胆甾型液晶与1/4波长板而成的起偏器。
这些之中，从密合性更加优异的观点考虑，优选为包含聚乙烯醇系树脂(包含-CH2-CHOH-作为重复单元的聚合物。尤其，选自包括聚乙烯醇及乙烯-乙烯醇共聚物的组中的至少1个)的起偏器。
起偏器的厚度并无特别限制，优选为3～60μm，更优选为5～30μm。
有机EL显示面板为在阳极及阴极这一对电极之间形成了发光层或包括发光层的多个有机化合物薄膜的部件。有机EL显示面板除了发光层以外，还可以具有空穴注入层、空穴传输层、电子注入层、电子传输层及保护层等，并且这些各层可以分别具备其他功能。
实施例
以下，根据实施例对本发明进一步进行详细说明。以下实施例所示的材料、使用量、比例、处理内容及处理步骤等，只要不脱离本发明的宗旨，则能够适当变更。因此，本发明的范围不应被以下所示的实施例做限定性解释。
＜单体mA-1的合成＞
向具备搅拌叶片、温度计、滴液漏斗及回流管的2L三口烧瓶中加入反式-1,4-环己二醇(50.0g)、三乙基胺(48.3g)及N,N-二甲基乙酰胺(800g)，并在冰冷下搅拌了所获得的混合液。
接着，使用滴液漏斗，将甲基丙烯酰氯(47.5g)经40分钟滴加到上述烧瓶内，滴加结束之后，将反应液在40℃下搅拌了2小时。
将反应液冷却至室温(23℃)之后，抽滤反应液，并去除了所析出的盐。将所获得的滤液转移到具备搅拌叶片、温度计、滴液漏斗及回流管的2L三口烧瓶中，并在水冷下进行了搅拌。
接着，向烧瓶内添加N,N-二甲基氨基吡啶(10.6g)及三乙基胺(65.9g)，使用滴液漏斗，将预先溶解于四氢呋喃(125g)中的4-甲氧基肉桂酸氯(127.9g)经30分钟滴加到上述烧瓶内。滴加结束之后，将反应液在50℃下搅拌了6小时。将反应液冷却至室温之后，用水进行分液清洗，并用无水硫酸镁干燥了所获得的有机相。将硫酸镁进行过滤，并浓缩所获得的溶液，从而获得了黄白色固体。
使所获得的黄白色固体加热溶解于甲基乙基酮(400g)中，并进行重结晶，从而获得了76g的以下所示的单体mA-1作为白色固体(产率40％)。另外，Me表示甲基。
[化学式7]
＜聚合物P-1的合成＞
向具备冷却管、温度计及搅拌机的烧瓶中添加二甲基乙酰胺(35g)、单体mA-1(13.8g)及甲基丙烯酰氧乙基三甲基氯化铵(Methacroylcholine Chloride)(80％水溶液、Tokyo Chemical Industry Co.,Ltd.制)(1.7g)，一边使氮气以5mL/min流动，一边将所获得的溶液加热至80℃，并进行了搅拌。
接着，将V-601(FUJIFILM Wako Pure Chemical Corporation制)(0.13g)及二甲基乙酰胺(35g)混合而成的溶液经2小时滴加到烧瓶内，在进一步维持5小时的加热状态的状态下，搅拌了反应液。反应结束之后，将反应液自然冷却至室温，向反应液中加入二甲基乙酰胺(60g)并进行稀释，从而获得了聚合物浓度为约20质量％的聚合物溶液。
将所获得的聚合物溶液投入到大量过剩的甲醇中以使聚合物沉淀，将沉淀物进行过滤，并用大量的甲醇清洗所获得的固体成分之后，在室温下进行24小时的送风干燥，从而获得了聚合物P-1。Me表示甲基。
另外，以下结构式中的各重复单元中所记载的数值表示各重复单元相对于所有重复单元的含量(质量％)，以下从左侧的重复单元为91质量％、9质量％。
并且，通过上述方法进行测量而获得的聚合物P-1的重均分子量为58,000。
[化学式8]
＜聚合物P-2的合成＞
使用单体mA-1(11.9g)、甲基丙烯酰氧乙基三甲基氯化铵(80％水溶液、TokyoChemical Industry Co.,Ltd.制)(3.9g)来代替单体mA-1(13.8g)及甲基丙烯酰氧乙基三甲基氯化铵(80％水溶液、Tokyo Chemical Industry Co.,Ltd.制)(1.7g)，除此以外，按照与＜聚合物P-1的合成＞相同的步骤合成了聚合物P-1。
另外，以下结构式中的各重复单元中所记载的数值表示各重复单元相对于所有重复单元的含量(质量％)，以下从左侧的重复单元为79质量％、21质量％。
[化学式9]
＜聚合物P-3的合成＞
使用单体mA-1(9.8g)、甲基丙烯酰氧乙基三甲基氯化铵(80％水溶液、TokyoChemical Industry Co.,Ltd.制)(6.6g)来代替单体mA-1(13.8g)及甲基丙烯酰氧乙基三甲基氯化铵(80％水溶液、Tokyo Chemical Industry Co.,Ltd.制)(1.7g)，除此以外，按照与＜聚合物P-1的合成＞相同的步骤合成了聚合物P-3。
另外，以下结构式中的各重复单元中所记载的数值表示各重复单元相对于所有重复单元的含量(质量％)，以下从左侧的重复单元为65质量％、35质量％。
[化学式10]
＜聚合物P-4的合成＞
向具备冷却管、温度计及搅拌机的烧瓶中添加环己酮(35g)、单体mA-1(12.0g)及甲基丙烯酸(3.0g)，一边使氮气以5mL/min流动，一边将所获得的溶液加热至80℃，并进行了搅拌。
接着，将V-601(FUJIFILM Wako Pure Chemical Corporation制)(0.21g)及环己酮(10g)混合而成的溶液经2小时滴加到烧瓶内，在进一步维持7小时的加热状态的状态下，搅拌了反应液。反应结束之后，将反应液自然冷却至室温，向反应液中加入环己酮(30g)并进行稀释，从而获得了聚合物浓度为约20质量％的聚合物溶液。
将所获得的聚合物溶液投入到大量过剩的甲醇中以使聚合物沉淀，将沉淀物进行过滤，并用大量的甲醇清洗所获得的固体成分之后，在室温下进行24小时的送风干燥，从而获得了单体mA-1与甲基丙烯酸的聚合物。
而且，将所获得的单体mA-1和甲基丙烯酸的聚合物(1.0g)添加到环己酮/异丙醇(2/1)的混合溶剂(4.0g)中，并在50℃下使其溶解。之后，向所获得的溶液中添加二异丙基乙胺(418μL)，并在50℃下搅拌30分钟，从而获得了聚合物P-4(固体成分浓度20％)。
另外，以下结构式中的各重复单元中所记载的数值表示各重复单元相对于所有重复单元的含量(质量％)，以下从左侧的重复单元为79质量％、21质量％。
[化学式11]
＜聚合物P-5的合成＞
使用单体mA-1(12.0g)及4-(4-丙烯酰氧基丁氧基)苯甲酰氧基苯硼酸(3.0g)来代替单体mA-1(13.8g)及甲基丙烯酰氧乙基三甲基氯化铵(80％水溶液、Tokyo ChemicalIndustry Co.,Ltd.制)(1.7g)，除此以外，按照与＜聚合物P-1的合成＞相同的步骤合成了聚合物P-5。
另外，以下结构式中的各重复单元中所记载的数值表示各重复单元相对于所有重复单元的含量(质量％)，以下从左侧的重复单元为81质量％、19质量％。
[化学式12]
＜聚合物P-6的合成＞
使用单体mA-1(6.0g)及2-(甲基丙烯酰氧基)乙酰乙酸乙酯(FUJIFILM Wako PureChemical Corporation制)(9.0g)来代替单体mA-1(13.8g)及甲基丙烯酰氧乙基三甲基氯化铵(80％水溶液、Tokyo Chemical Industry Co.,Ltd.制)(1.7g)，除此以外，按照与＜聚合物P-1的合成＞相同的步骤合成了聚合物P-5。
另外，以下结构式中的各重复单元中所记载的数值表示各重复单元相对于所有重复单元的含量(质量％)，以下从左侧的重复单元为40质量％、60质量％。
[化学式13]
＜聚合物P-7的合成＞
使用单体mA-1(9.75g)及2-(甲基丙烯酰氧基)乙酰乙酸乙酯(FUJIFILM WakoPure Chemical Corporation制)(5.25g)来代替单体mA-1(13.8g)及甲基丙烯酰氧乙基三甲基氯化铵(80％水溶液、Tokyo Chemical Industry Co.,Ltd.制)(1.7g)，除此以外，按照与＜聚合物P-1的合成＞相同的步骤合成了聚合物P-7。
另外，以下结构式中的各重复单元中所记载的数值表示各重复单元相对于所有重复单元的含量(质量％)，以下从左侧的重复单元为65质量％、35质量％。
[化学式14]
＜聚合物P-8的合成＞
使用单体mA-1(6.0g)、Cyclomer M-100(Daicel Corporation.制)(7.7g)及甲基丙烯酰氧乙基三甲基氯化铵(80％水溶液、Tokyo Chemical Industry Co.,Ltd.制)(1.7g)来代替单体mA-1(13.8g)及甲基丙烯酰氧乙基三甲基氯化铵(80％水溶液、Tokyo ChemicalIndustry Co.,Ltd.制)(1.7g)，除此以外，通过与聚合物P-1相同的合成方法合成了聚合物P-8。
另外，以下结构式中的各重复单元中所记载的数值表示各重复单元相对于所有重复单元的含量(质量％)，以下从左侧的重复单元为40质量％、9质量％、51质量％。
[化学式15]
＜聚合物P-9的合成＞
参考专利文献1合成了以下聚合物P-9。
[化学式16]
＜特定基材的制作＞
使用电晕处理装置，在输出0.3kW及处理速度7.6m/分钟的条件下对环烯烃聚合物薄膜(ZF-14、Zeon Corporation制)的单侧的表面进行1次电晕处理，从而获得了特定基材。
特定基材在经电晕处理的表面上具有羟基等氢键性基团。并且，电晕处理面的水接触角为63°。
水接触角的测量方法如上所述。
＜实施例1＞
使用棒涂布机在特定基材的电晕处理侧的表面上涂布了下述液晶层形成用组合物1。将形成于特定基材上的涂膜在室温下干燥30秒钟，接着使用高压汞灯，经由波长313nm的带通滤光片(BPF313、Asahi Spectra Co.,Ltd.制)及线栅起偏器，从特定基材的与形成有涂膜的表面相反的一侧的表面侧(与涂膜形成面相反的一侧)照射了偏振光紫外线(在波长313nm下50mJ/cm2)。之后，将所获得的薄膜用暖风在120℃下加热1分钟，接着冷却至60℃之后，在氮气环境下，使用高压汞灯，从涂膜侧照射在波长365nm下80mJ/cm2的紫外线，接着一边加热至120℃一边从涂膜侧照射了300mJ/cm2的紫外线。通过上述步骤，制作了具有特定基材和液晶膜1(膜厚2.7μm)的光学膜1。
聚合性液晶化合物L-1
[化学式17]
聚合性液晶化合物L-2
[化学式18]
聚合性液晶化合物L-3
[化学式19]
聚合性液晶化合物L-4
[化学式20]
聚合性液晶化合物L-5
[化学式21]
聚合性液晶化合物L-6
[化学式22]
聚合性化合物A-1
[化学式23]
聚合性化合物A-2
[化学式24]
流平剂T-1
[化学式25]
＜实施例2＞
使用聚合物P-2来代替聚合物P-1，除此以外，按照与实施例1相同的步骤制作了具有液晶膜2的光学膜2。
＜实施例3＞
使用聚合物P-4来代替聚合物P-1，除此以外，按照与实施例1相同的步骤制作了具有液晶膜3的光学膜3。
＜实施例4＞
使用聚合物P-5来代替聚合物P-1，除此以外，按照与实施例1相同的步骤制作了具有液晶膜4的光学膜4。
＜实施例5＞
使用聚合物P-6来代替聚合物P-1，除此以外，按照与实施例1相同的步骤制作了具有液晶膜5的光学膜5。
＜实施例6＞
使用聚合物P-7来代替聚合物P-1，除此以外，按照与实施例1相同的步骤制作了具有液晶膜6的光学膜6。
＜实施例7＞
使用聚合物P-3来代替聚合物P-1，除此以外，按照与实施例1相同的步骤制作了具有液晶膜7的光学膜7。
＜实施例8＞
使用聚合物P-8来代替聚合物P-1，除此以外，按照与实施例1相同的步骤制作了具有液晶膜8的光学膜8。
＜比较例1＞
使用聚合物P-9来代替聚合物P-1，除此以外，按照与实施例1相同的步骤制作了具有液晶膜9的光学膜9。
＜液晶取向性评价＞
从在各实施例及比较例中所获得的光学膜切出宽度40mm、长度40mm的薄膜。用正交尼科耳下的偏振光显微镜(使用10倍的物镜)观察试样，并以下述基准评价了液晶膜的液晶取向性。
A：有光学各向异性，在观察视野内没有漏光。
B：有光学各向异性，在观察视野内有轻微的漏光。
C：没有光学各向异性。
在表1中，“相互作用性基团”表示具有式(1)～(4)所表示的基团中的哪一个基团。
在表1中，“单元含量(质量％)”表示相对于特定化合物中的重复单元A及重复单元B的合计量的重复单元B的含量。
[表1]
如表1所示，通过使用本发明的化合物，获得了所希望的效果。
其中，根据实施例2～实施例5的比较，确认到在特定化合物包含式(1)所表示的重复单元、式(2)所表示的重复单元或式(4)所表示的单元的情况下(在特定化合物具有式(5)～(7)所表示的重复单元中的任一个的情况下)，可以获得更加优异的效果。
根据实施例1、实施例2、实施例7及实施例8的比较，确认到在特定化合物包含式(1)所表示的重复单元的情况下，在重复单元B的含量相对于特定化合物中的重复单元A及重复单元B的合计量为30质量％以下(优选为5～30质量％)时，可以获得更加优异的效果。
根据实施例5及实施例6的比较，确认到在特定化合物包含式(4)所表示的重复单元的情况下，在重复单元B的含量相对于特定化合物中的重复单元A及重复单元B的合计量为40质量％以上(优选为40～80质量％)时，可以获得更加优异的效果。
Claims (7)
1.一种化合物，其具有光取向性基团和式(A)～(D)所表示的基团中的至少1个，
X+表示有机阳离子基团，Y-表示阴离子，
D-表示阴离子基团，E+表示有机阳离子，
Ra及Rb分别独立地表示氢原子、可以具有取代基的烷基、可以具有取代基的芳基、或可以具有取代基的杂芳基，Ra及Rb中的任一个为氢原子，
Rc表示碳原子数1～20的烷基，其中，在Rc为碳原子数2～20的烷基的情况下，构成烷基的-CH2-的1个以上可以被-O-、-S-、-N(Q)-、-CO-O-或-CO-取代，Q表示取代基，
*表示键合位置。
2.根据权利要求1所述的化合物，其中，包含具有所述光取向性基团的重复单元A、及具有所述式(A)～(D)所表示的基团中的至少1个的重复单元B。
3.根据权利要求2所述的化合物，其中，
所述重复单元B包含式(1)～(4)所表示的重复单元中的至少1个，
R1、R2、R3及R4分别独立地表示氢原子或可以具有取代基的碳原子数1～20的烷基，
L1、L2、L3及L4分别独立地表示单键或2价的连接基团，
X+表示有机阳离子基团，Y-表示阴离子，
D-表示阴离子基团，E+表示有机阳离子，
Ra及Rb分别独立地表示氢原子、可以具有取代基的烷基、可以具有取代基的芳基、或可以具有取代基的杂芳基，Ra及Rb中的任一个为氢原子，
Rc表示碳原子数1～20的烷基，其中，在Rc为碳原子数2～20的烷基的情况下，构成烷基的-CH2-的1个以上可以被-O-、-S-、-N(Q)-、-CO-O-或-CO-取代，Q表示取代基。
4.根据权利要求3所述的化合物，其中，
在所述重复单元B包含所述式(1)所表示的重复单元或所述式(2)所表示的重复单元的情况下，所述重复单元B的含量相对于所述重复单元A及所述重复单元B的合计量为5～30质量％，
在所述重复单元B包含所述式(3)所表示的重复单元的情况下，所述重复单元B的含量相对于所述重复单元A及所述重复单元B的合计量为15～40质量％，
在所述重复单元B包含所述式(4)所表示的重复单元的情况下，所述重复单元B的含量相对于所述重复单元A及所述重复单元B的合计量为40～80质量％。
5.根据权利要求2至4中任一项所述的化合物，其中，
所述重复单元B包含式(5)～(7)所表示的重复单元中的至少1个，
R5、R6及R7分别独立地表示氢原子或可以具有取代基的碳原子数1～20的烷基，
L5、L6及L7分别独立地表示单键或2价的连接基团，
Y-表示阴离子，
E+表示有机阳离子，
R8、R9及R10分别独立地表示氢原子或可以具有取代基的碳原子数1～20的烷基。
6.一种液晶组合物，其包含权利要求1至5中任一项所述的化合物、和液晶化合物。
7.一种液晶膜，其使用权利要求6所述的液晶组合物而形成。
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