JP5531419B2 - 化合物および該化合物を含む光学フィルム - Google Patents
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Description
本発明は、化合物および該化合物を含む光学フィルムに関する。
液晶表示装置には、偏光板、位相差板などの光学フィルムが含まれている。ディスコティック液晶性化合物、特に、ディスコティックネマティック相（以下、Ｎｄ相という）を発現する液晶性化合物は光学フィルムの材料として非常に重要な化合物であることが知られている（非特許文献１）。
光学フィルムの材料である液晶化合物としては、下記に示す化合物が知られている（特許文献１）。
光学フィルムの材料である液晶化合物としては、下記に示す化合物が知られている（特許文献１）。
液晶の化学、社団法人日本化学会 編集、１９９４年初版、６０〜７２頁
しかしながら、Ｎｄ相を発現する液晶性化合物は、トリフェニレン誘導体やトルキセン誘導体など、その分子中心の芳香環あるいは脂肪族環母骨格が回転対称な円盤状で、置換アルキル基や置換アルコキシ基、置換ベンゾイルオキシ基などの側鎖が放射状に伸びている液晶性化合物がほとんどで、これらは製造が容易ではなかった。
また、特許文献１に記載された上記化合物は、製造は容易であるが、Ｎｄ相を発現しなかった。
また、特許文献１に記載された上記化合物は、製造は容易であるが、Ｎｄ相を発現しなかった。
本発明は、式（１）で表される化合物である。
［式（１）中、Ｘは、−Ｓ−、−Ｏ−、−ＣＨ２−、−ＮＨ−、−ＣＯ−、−Ｓ（Ｏ）−または−ＣＳ−を表す。
Ｙは、−Ｃ（Ｒ）＝または−Ｎ＝を表す。Ｒは、水素原子、ニトリル基、水酸基、メルカプト基、メトキシ基、メルカプトメチル基、ハロゲン原子、−Ｃ≡ＣＨまたは−Ｃ≡Ｃ−ＣＨ３を表す。
Ｚは、炭素数５〜１５の芳香族炭化水素基または炭素数２〜１５の芳香族複素環基を表す。該芳香族炭化水素基および該芳香族複素環基に含まれる水素原子は、ニトロ基、ニトリル基、水酸基、メルカプト基、メトキシ基、メルカプトメチル基、アミノ基、ジメチルアミノ基またはハロゲン原子で置換されていてもよい。
Ａ１およびＡ２は、それぞれ独立に、−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｎ＝Ｎ−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−、−ＣＳ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＳ−、−ＣＨ＝Ｎ−、−Ｎ＝ＣＨ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯ−Ｏ−または−Ｏ−ＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−を表す。
Ｂ１、Ｂ２、Ｅ１およびＥ２は、それぞれ独立に、−ＣＲ１Ｒ２−、−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＳ−、−ＣＳ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＳ−、−Ｏ−ＣＳ−Ｏ−、−ＣＲ１＝Ｎ−、−Ｎ＝ＣＲ１−、−ＣＯ−ＮＲ１−、−ＮＲ１−ＣＯ−、−Ｓ−ＣＨ２−、−Ｏ−ＣＦ２−、−Ｏ−ＣＨ２−、−ＮＲ１−、−ＣＨ２−Ｏ−、−ＣＦ２−Ｏ−、−ＣＨ２−Ｓ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、または単結合を表す。Ｒ１およびＲ２は、それぞれ独立に、水素原子または炭素数１〜６のアルキル基を表す。
Ｄ１およびＤ２は、それぞれ独立に、炭素数１〜１２のアルキレン基を表し、Ｄ１およびＤ２に含まれる水素原子は、炭素数１〜４のアルキル基、炭素数１〜４のアルコキシ基又はハロゲン原子で置換されていてもよい。
Ｇ１、Ｇ２、Ｇ３、Ｇ４、Ｇ５、Ｇ６、Ｇ７、Ｇ８、Ｇ９、およびＧ１０はそれぞれ独立に、水素原子、ニトロ基、ニトリル基、水酸基、メルカプト基、メトキシ基、メルカプトメチル基、アミノ基、ジメチルアミノ基またはハロゲン原子を表す。
Ｑ１およびＱ２は、それぞれ独立に、水素原子または式（Ｑ−１）〜式（Ｑ−５）で表される基からなる群から選ばれる基である。
（式（Ｑ−１）〜式（Ｑ−５）中、Ｒ３〜Ｒ７はそれぞれ独立に、水素原子または炭素数１〜４のアルキル基を表す。）］
Ｙは、−Ｃ（Ｒ）＝または−Ｎ＝を表す。Ｒは、水素原子、ニトリル基、水酸基、メルカプト基、メトキシ基、メルカプトメチル基、ハロゲン原子、−Ｃ≡ＣＨまたは−Ｃ≡Ｃ−ＣＨ３を表す。
Ｚは、炭素数５〜１５の芳香族炭化水素基または炭素数２〜１５の芳香族複素環基を表す。該芳香族炭化水素基および該芳香族複素環基に含まれる水素原子は、ニトロ基、ニトリル基、水酸基、メルカプト基、メトキシ基、メルカプトメチル基、アミノ基、ジメチルアミノ基またはハロゲン原子で置換されていてもよい。
Ａ１およびＡ２は、それぞれ独立に、−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｎ＝Ｎ−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−、−ＣＳ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＳ−、−ＣＨ＝Ｎ−、−Ｎ＝ＣＨ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯ−Ｏ−または−Ｏ−ＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−を表す。
Ｂ１、Ｂ２、Ｅ１およびＥ２は、それぞれ独立に、−ＣＲ１Ｒ２−、−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＳ−、−ＣＳ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＳ−、−Ｏ−ＣＳ−Ｏ−、−ＣＲ１＝Ｎ−、−Ｎ＝ＣＲ１−、−ＣＯ−ＮＲ１−、−ＮＲ１−ＣＯ−、−Ｓ−ＣＨ２−、−Ｏ−ＣＦ２−、−Ｏ−ＣＨ２−、−ＮＲ１−、−ＣＨ２−Ｏ−、−ＣＦ２−Ｏ−、−ＣＨ２−Ｓ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、または単結合を表す。Ｒ１およびＲ２は、それぞれ独立に、水素原子または炭素数１〜６のアルキル基を表す。
Ｄ１およびＤ２は、それぞれ独立に、炭素数１〜１２のアルキレン基を表し、Ｄ１およびＤ２に含まれる水素原子は、炭素数１〜４のアルキル基、炭素数１〜４のアルコキシ基又はハロゲン原子で置換されていてもよい。
Ｇ１、Ｇ２、Ｇ３、Ｇ４、Ｇ５、Ｇ６、Ｇ７、Ｇ８、Ｇ９、およびＧ１０はそれぞれ独立に、水素原子、ニトロ基、ニトリル基、水酸基、メルカプト基、メトキシ基、メルカプトメチル基、アミノ基、ジメチルアミノ基またはハロゲン原子を表す。
Ｑ１およびＱ２は、それぞれ独立に、水素原子または式（Ｑ−１）〜式（Ｑ−５）で表される基からなる群から選ばれる基である。
また本発明は、Ｘが、−Ｓ−または−Ｏ−であり、Ｙが、−Ｎ＝または−ＣＨ＝である上記化合物である。
また本発明は、Ｘが、−Ｓ−であり、Ｙが、−Ｎ＝である上記化合物である。
また本発明は、Ｑ１およびＱ２の少なくとも一方が、式（Ｑ−１）〜式（Ｑ−５）で表される基からなる群から選ばれる基である上記化合物である。
また本発明は、−Ｅ１−Ｑ１および−Ｅ２−Ｑ２が、それぞれ独立に、アクリロイルオキシ基またはメタクリロイルオキシ基である上記化合物である。
また本発明は、上記化合物と、該化合物以外の式（２）で表される化合物（２）とを含む組成物である。
Ｐ１１−Ｅ１１−（Ｂ１１−Ａ１１）ｔ−Ｂ１２−Ｇ （２）
［式（２）中、Ａ１１は、芳香族炭化水素基、脂環式炭化水素基又は複素環基を表し、該芳香族炭化水素基、脂環式炭化水素基及び複素環基に含まれる水素原子は、ハロゲン原子、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基、炭素数１〜６のアルキルアミノ基、ニトロ基、ニトリル基又はメルカプト基で置換されていてもよい。
Ｂ１１及びＢ１２は、それぞれ独立に、−ＣＲ１４Ｒ１５−、−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＨ２−ＣＨ２−、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−Ｃ（＝Ｓ）−、−Ｃ（＝Ｓ）−Ｏ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｓ）−、−ＣＨ＝Ｎ−、−Ｎ＝ＣＨ−、−Ｎ＝Ｎ−、−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＲ１４−、−ＮＲ１４−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＯＣＨ２−、−ＯＣＦ２−、−ＮＲ１４−、−ＣＨ２Ｏ−、−ＣＦ２Ｏ−、−ＣＨ＝ＣＨ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−ＣＨ＝ＣＨ−又は単結合を表す。Ｒ１４及びＲ１５は、それぞれ独立に、水素原子、フッ素原子又は炭素数１〜４のアルキル基を表し、Ｒ１４及びＲ１５が連結して炭素数４〜７のアルキレン基を構成してもよい。
Ｅ１１は、炭素数１〜１２のアルキレン基を表す。該アルキレン基に含まれる水素原子は、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基又はハロゲン原子で置換されていてもよい。
Ｐ１１は、重合性基を表す。
Ｇは、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜１３のアルキル基、炭素数１〜１３のアルコキシ基、炭素数１〜１３のフルオロアルキル基、炭素数１〜１３のアルキルアミノ基、ニトリル基、ニトロ基であるか、炭素数１〜１２のアルキレン基を介して結合する重合性基を表し、該アルキレン基に含まれる水素原子は、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基又はハロゲン原子で置換されていてもよい。
ｔは、１〜５の整数を表す。］
［式（２）中、Ａ１１は、芳香族炭化水素基、脂環式炭化水素基又は複素環基を表し、該芳香族炭化水素基、脂環式炭化水素基及び複素環基に含まれる水素原子は、ハロゲン原子、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基、炭素数１〜６のアルキルアミノ基、ニトロ基、ニトリル基又はメルカプト基で置換されていてもよい。
Ｂ１１及びＢ１２は、それぞれ独立に、−ＣＲ１４Ｒ１５−、−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＨ２−ＣＨ２−、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−Ｃ（＝Ｓ）−、−Ｃ（＝Ｓ）−Ｏ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｓ）−、−ＣＨ＝Ｎ−、−Ｎ＝ＣＨ−、−Ｎ＝Ｎ−、−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＲ１４−、−ＮＲ１４−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＯＣＨ２−、−ＯＣＦ２−、−ＮＲ１４−、−ＣＨ２Ｏ−、−ＣＦ２Ｏ−、−ＣＨ＝ＣＨ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−ＣＨ＝ＣＨ−又は単結合を表す。Ｒ１４及びＲ１５は、それぞれ独立に、水素原子、フッ素原子又は炭素数１〜４のアルキル基を表し、Ｒ１４及びＲ１５が連結して炭素数４〜７のアルキレン基を構成してもよい。
Ｅ１１は、炭素数１〜１２のアルキレン基を表す。該アルキレン基に含まれる水素原子は、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基又はハロゲン原子で置換されていてもよい。
Ｐ１１は、重合性基を表す。
Ｇは、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜１３のアルキル基、炭素数１〜１３のアルコキシ基、炭素数１〜１３のフルオロアルキル基、炭素数１〜１３のアルキルアミノ基、ニトリル基、ニトロ基であるか、炭素数１〜１２のアルキレン基を介して結合する重合性基を表し、該アルキレン基に含まれる水素原子は、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基又はハロゲン原子で置換されていてもよい。
ｔは、１〜５の整数を表す。］
また本発明は、上記化合物に由来する構造単位を含む光学フィルムである。
また本発明は、上記組成物を重合してなる光学フィルムである。
また本発明は、波長５５０ｎｍにおける位相差値（Ｒｅ（５５０））が１１３〜１６３ｎｍであり、λ／４板として用いられる上記光学フィルムである。
また本発明は、波長５５０ｎｍにおける位相差値（Ｒｅ（５５０））が２５０〜３００ｎｍであり、λ／２板として用いられる上記光学フィルムである。
また本発明は、上記光学フィルムおよび偏光フィルムを含む偏光板である。
また本発明は、上記偏光板と液晶パネルとを備える液晶表示装置である。
また本発明は、上記偏光板を含む有機エレクトロルミネッセンスパネルを備える有機エレクトロルミネッセンス表示装置である。
また本発明は、上記化合物を含む溶液を支持基材に塗布し、乾燥させる未重合フィルムの製造方法である。
また本発明は、上記化合物を含む溶液を、支持基材上に形成された配向膜上に塗布し、乾燥させる未重合フィルムの製造方法である。
また本発明は、上記未重合フィルムの製造方法で得られた未重合フィルムを、重合により硬化させる光学フィルムの製造方法である。
また本発明は、上記化合物の、光学フィルムを製造するための使用である。
また本発明は、上記化合物の、光学フィルムを製造するための使用である。
本発明の化合物は、Ｎｄ相を発現し、製造が容易である。
本発明の化合物は、式（１）で表される化合物（以下、「化合物（１）」という場合がある）である。
式（１）中、Ｘは、−Ｓ−、−Ｏ−、−ＣＨ２−、−ＮＨ−、−ＣＯ−、−Ｓ（Ｏ）−または−ＣＳ−を表す。
Ｙは、−Ｃ（Ｒ）＝または−Ｎ＝を表す。Ｒは、水素原子、ニトリル基、水酸基、メルカプト基、メトキシ基、メルカプトメチル基、ハロゲン原子、−Ｃ≡ＣＨまたは−Ｃ≡Ｃ−ＣＨ３を表す。
その中でも特に、Ｘが、−Ｓ−または−Ｏ−であり、Ｙが、−Ｎ＝または−ＣＨ＝であることが好ましく、Ｘが、−Ｓ−であり、Ｙが、−Ｎ＝であることが特に好ましい。
Ｙは、−Ｃ（Ｒ）＝または−Ｎ＝を表す。Ｒは、水素原子、ニトリル基、水酸基、メルカプト基、メトキシ基、メルカプトメチル基、ハロゲン原子、−Ｃ≡ＣＨまたは−Ｃ≡Ｃ−ＣＨ３を表す。
その中でも特に、Ｘが、−Ｓ−または−Ｏ−であり、Ｙが、−Ｎ＝または−ＣＨ＝であることが好ましく、Ｘが、−Ｓ−であり、Ｙが、−Ｎ＝であることが特に好ましい。
Ｚは、炭素数５〜１５の芳香族炭化水素基または炭素数２〜１５の芳香族複素環基を表す。該芳香族炭化水素基および該芳香族複素環基に含まれる水素原子は、ニトロ基、ニトリル基、水酸基、メルカプト基、メトキシ基、メルカプトメチル基、アミノ基、ジメチルアミノ基またはハロゲン原子で置換されていてもよい。
炭素数５〜１５の芳香族炭化水素基または炭素数２〜１５の芳香族複素環基としては、下記の基が挙げられる。
Ａ１およびＡ２は、それぞれ独立に、−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｎ＝Ｎ−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−、−ＣＳ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＳ−、−ＣＨ＝Ｎ−、−Ｎ＝ＣＨ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯ−Ｏ−または−Ｏ−ＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−を表す。また、Ａ１およびＡ２は、同じ種類の基であると、製造が容易なことから好ましい。
Ｂ１、Ｂ２、Ｅ１およびＥ２は、それぞれ独立に、−ＣＲ１Ｒ２−、−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＳ−、−ＣＳ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＳ−、−Ｏ−ＣＳ−Ｏ−、−ＣＲ１＝Ｎ−、−Ｎ＝ＣＲ１−、−ＣＯ−ＮＲ１−、−ＮＲ１−ＣＯ−、−Ｓ−ＣＨ２−、−Ｏ−ＣＦ２−、−Ｏ−ＣＨ２−、−ＮＲ１−、−ＣＨ２−Ｏ−、−ＣＦ２−Ｏ−、−ＣＨ２−Ｓ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、または単結合を表す。Ｒ１およびＲ２は、それぞれ独立に、水素原子または炭素数１〜６のアルキル基を表す。
炭素数１〜６のアルキル基としては、メチル基、エチル基、イソプロピル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ヘキシル基などが挙げられる。
炭素数１〜６のアルキル基としては、メチル基、エチル基、イソプロピル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ヘキシル基などが挙げられる。
Ｄ１およびＤ２は、それぞれ独立に、炭素数１〜１２のアルキレン基を表し、Ｄ１およびＤ２に含まれる水素原子は、炭素数１〜４のアルキル基、炭素数１〜４のアルコキシ基又はハロゲン原子で置換されていてもよい。
炭素数１〜１２のアルキレン基としては、メチレン基、エチレン基、プロピレン基、ブチレン基、ペンチレン基、ヘキシレン基、オクチレン基、デセン基等が挙げられる。炭素数１〜４のアルキル基としては、メチル基、エチル基、イソプロピル基、ｔｅｒｔ−ブチル基等が挙げられる。炭素数１〜４のアルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基等が挙げられる。
炭素数１〜１２のアルキレン基としては、メチレン基、エチレン基、プロピレン基、ブチレン基、ペンチレン基、ヘキシレン基、オクチレン基、デセン基等が挙げられる。炭素数１〜４のアルキル基としては、メチル基、エチル基、イソプロピル基、ｔｅｒｔ−ブチル基等が挙げられる。炭素数１〜４のアルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基等が挙げられる。
Ｇ１、Ｇ２、Ｇ３、Ｇ４、Ｇ５、Ｇ６、Ｇ７、Ｇ８、Ｇ９、およびＧ１０はそれぞれ独立に、水素原子、ニトロ基、ニトリル基、水酸基、メルカプト基、メトキシ基、メルカプトメチル基、アミノ基、ジメチルアミノ基またはハロゲン原子を表す。
Ｑ１およびＱ２は、それぞれ独立に、水素原子または式（Ｑ−１）〜式（Ｑ−５）で表される基からなる群から選ばれる基である。
（式（Ｑ−１）〜式（Ｑ−５）中、Ｒ３〜Ｒ７はそれぞれ独立に、水素原子または炭素数１〜４のアルキル基を表す。）
炭素数１〜４のアルキル基としては、メチル基、エチル基、イソプロピル基、ｔｅｒｔ−ブチル基等が挙げられる。
Ｑ１およびＱ２の少なくとも一方が、式（Ｑ−１）〜式（Ｑ−５）で表される基からなる群から選ばれる基であると、得られる光学フィルムの膜硬度が優れる傾向があることから好ましい。Ｑ１およびＱ２がいずれも式（Ｑ−１）〜式（Ｑ−５）で表される基であると、さらに好ましい。
−Ｅ１−Ｑ１および−Ｅ２−Ｑ２は、それぞれ独立に、化合物（１）を重合させることのできる置換基であり、具体的にはビニル基、ビニルオキシ基、ｐ−スチルベン基、アクリロイル基、アクリロイルオキシ基、メタクロイル基、メタクリロイルオキシ基、カルボキシル基、メチルカルボニル基、水酸基、アミド基、炭素数１〜４のアルキルアミノ基、アミノ基、エポキシ基、オキセタニル基、アルデヒド基、イソシアネート基またはチオイソシアネート基などが例示される。
中でも光重合させる際の取り扱いが容易な上、製造も容易であることからアクリロイルオキシ基またはメタクロイルオキシ基が好ましく、特にアクリロイルオキシ基が好ましい。
本発明の光学フィルムにおいて、異なる複数の種類の化合物（１）を用いてもよい。
炭素数１〜４のアルキル基としては、メチル基、エチル基、イソプロピル基、ｔｅｒｔ−ブチル基等が挙げられる。
Ｑ１およびＱ２の少なくとも一方が、式（Ｑ−１）〜式（Ｑ−５）で表される基からなる群から選ばれる基であると、得られる光学フィルムの膜硬度が優れる傾向があることから好ましい。Ｑ１およびＱ２がいずれも式（Ｑ−１）〜式（Ｑ−５）で表される基であると、さらに好ましい。
−Ｅ１−Ｑ１および−Ｅ２−Ｑ２は、それぞれ独立に、化合物（１）を重合させることのできる置換基であり、具体的にはビニル基、ビニルオキシ基、ｐ−スチルベン基、アクリロイル基、アクリロイルオキシ基、メタクロイル基、メタクリロイルオキシ基、カルボキシル基、メチルカルボニル基、水酸基、アミド基、炭素数１〜４のアルキルアミノ基、アミノ基、エポキシ基、オキセタニル基、アルデヒド基、イソシアネート基またはチオイソシアネート基などが例示される。
中でも光重合させる際の取り扱いが容易な上、製造も容易であることからアクリロイルオキシ基またはメタクロイルオキシ基が好ましく、特にアクリロイルオキシ基が好ましい。
本発明の光学フィルムにおいて、異なる複数の種類の化合物（１）を用いてもよい。
化合物（１）としては、例えば以下に示す化合物が挙げられる。
化合物（１）の製造方法について説明する。
化合物（１）は、Methoden der Organischen Chemie、Organic Reactions、Organic Syntheses、Comprehensive Organic Synthesis、新実験化学講座等に記載されている公知の有機合成反応（例えば、縮合反応、エステル化反応、ウイリアムソン反応、ウルマン反応、ウイッティヒ反応、シッフ塩基生成反応、ベンジル化反応、薗頭反応、鈴木−宮浦反応、根岸反応、熊田反応、檜山反応、ブッフバルト−ハートウィッグ反応、フリーデルクラフト反応、ヘック反応、アルドール反応など）を、その構造に応じて、適宜組み合わせることにより、製造することができる。
化合物（１）は、Methoden der Organischen Chemie、Organic Reactions、Organic Syntheses、Comprehensive Organic Synthesis、新実験化学講座等に記載されている公知の有機合成反応（例えば、縮合反応、エステル化反応、ウイリアムソン反応、ウルマン反応、ウイッティヒ反応、シッフ塩基生成反応、ベンジル化反応、薗頭反応、鈴木−宮浦反応、根岸反応、熊田反応、檜山反応、ブッフバルト−ハートウィッグ反応、フリーデルクラフト反応、ヘック反応、アルドール反応など）を、その構造に応じて、適宜組み合わせることにより、製造することができる。
例えば、Ａ１およびＡ２が−Ｏ−ＣＯ−である化合物（１）の場合には、式（１１−１）
で示される化合物と式（１１−２）
で示される化合物とを反応させることにより、式（１１−３）
（式中、Ｘ、Ｙ、Ｚ、Ｇ１、Ｇ２、Ｇ３、Ｇ４、Ｇ５、Ｇ６、Ｂ１、Ｄ１、Ｅ１及びＱ１は上記と同じ意味を表す。）
で示される化合物を得、得られた式（１１−３）で示される化合物と式（１１−４）
で示される化合物とを反応させることにより製造することができる。
式（１１−１）で示される化合物と式（１１−２）で示される化合物との反応および式（１１−３）で示される化合物と式（１１−４）で示される化合物との反応は、エステル化剤の存在下に実施することが好ましい。
エステル化剤（縮合剤）としては、１−シクロヘキシル−３−（２−モルホリノエチル）カルボジイミドメト−パラ−トルエンスルホネート、ジシクロヘキシルカルボジイミド、１−エチル−３−（３−ジメチルアミノプロピル）カルボジイミド、１−エチル−３−（３−ジメチルアミノプロピル）カルボジイミド塩酸塩（一部水溶性カルボジイミド：ＷＳＣとして市販されている）、ビス（２、６−ジイソプロピルフェニル）カルボジイミド、ビス（トリメチルシリル）カルボジイミド、ビスイソプロピルカルボジイミド、などのカルボジイミド、２−メチル−６−ニトロ安息香酸無水物、２，２’−カルボニルビス−１Ｈ−イミダゾール、１，１’−オキサリルジイミダゾール、ジフェニルホスフォリルアジド、１（４−ニトロベンゼンスルフォニル）−１Ｈ−１、２、４−トリアゾール、１Ｈ−ベンゾトリアゾール−１−イルオキシトリピロリジノホスホニウムヘキサフルオロホスフェート、１Ｈ−ベンゾトリアゾール−１−イルオキシトリス（ジメチルアミノ）ホスホニウムヘキサフルオロホスフェート、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラメチル−Ｏ−（Ｎ−スクシンイミジル）ウロニウムテトラフルオロボレート、Ｎ−（１，２，２，２−テトラクロロエトキシカルボニルオキシ）スクシンイミド、Ｎ−カルボベンゾキシスクシンイミド、Ｏ−（６−クロロベンゾトリアゾール−１−イル）−Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラメチルウロニウムテトラフルオロボレート、Ｏ−（６−クロロベンゾトリアゾール−１−イル）−Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラメチルウロニウムヘキサフルオロホスフェート、２−ブロモ−１−エチルピリジニウムテトラフルオロボレート、２−クロロ−１，３−ジメチルイミダゾリニウムクロリド、２−クロロ−１，３−ジメチルイミダゾリニウムヘキサフルオロホスフェート、２−クロロ−１−メチルピリジニウムアイオダイド、２−クロロ−１−メチルピリジニウム パラートルエンスルホネート、２−フルオロ−１−メチルピリジニウム パラートルエンスルホネート、トリクロロ酢酸ペンタクロロフェニルエステル、が挙げられる。反応性、コスト、使用できる溶媒の点から、縮合剤としてはジシクロヘキシルカルボジイミド、１−エチル−３−（３−ジメチルアミノプロピル）カルボジイミド、１−エチル−３−（３−ジメチルアミノプロピル）カルボジイミド塩酸塩、ビス（２、６−ジイソプロピルフェニル）カルボジイミド、ビス（トリメチルシリル）カルボジイミド、ビスイソプロピルカルボジイミド、２，２’−カルボニルビス−１Ｈ−イミダゾールがより好ましい。縮合剤の添加量は、化合物（１）に対して９０〜３００モル％であることが好ましい。
本発明の化合物（１）は、Ｎｄ相を示す。Ｎｄ相とは、円盤状分子の配列状態をいい、分子平面をほぼ同一方向に配向し、円盤状分子面の法線が、棒状分子のネマティック相と同様に配列している状態をいう。Ｎｄ相の組織観察は、偏光顕微鏡により行う。Ｎｄ相は棒状分子のネマティック相と同様に、特異点を含むシュリーレン組織を示す。（液晶の化学、社団法人日本化学会 編集、１９９４年初版、８〜９頁、６０〜６３頁、又は、液晶便覧、液晶便覧編集委員会 編集、２０００年発行、１３７〜１３８頁、１４２〜１４７頁参照）
図１は、Ｎｄ相を説明するための概略図である。本発明の化合物（１）については、円盤面は芳香環と平行で、法線は円盤面と垂直方向である。
図１は、Ｎｄ相を説明するための概略図である。本発明の化合物（１）については、円盤面は芳香環と平行で、法線は円盤面と垂直方向である。
化合物（１）は、汎用有機溶媒に易溶で塗工性が良好であり、アンチリフレクション（ＡＲ）フィルムなどの反射防止フィルム、偏光フィルム、位相差フィルム、楕円偏光フィルム、視野角拡大フィルムなど、優れた光学特性を有する光学フィルムを簡便な方法で与える。また本発明の光学フィルムは液晶表示装置（ＬＣＤ）や有機エレクトロルミネッセンス（ＥＬ）などのフラットパネル表示装置（ＦＰＤ）に用いることができる。
本発明の組成物は、化合物（１）と、化合物（１）とは異なる化合物であって液晶性を示す液晶化合物とを含有することが好ましい。該液晶化合物を含有すると、組成物を重合させて得られる光学フィルムの配向性が増加し、位相差値が増加する傾向があることから好ましい。
液晶化合物の具体例としては、液晶便覧（液晶便覧編集委員会編、丸善（株）平成１２年１０月３０日発行）の３章 分子構造と液晶性の、３．２ ノンキラル棒状液晶分子、３．３ キラル棒状液晶分子に記載された化合物の中で重合性基を有する化合物が挙げられる。
液晶化合物として、異なる複数の種類の化合物を併用してもよい。
液晶化合物として、異なる複数の種類の化合物を併用してもよい。
液晶化合物としては、例えば、式（２）で表される化合物（以下「化合物（２）」という場合がある）が挙げられる。
Ｐ１１−Ｅ１１−（Ｂ１１−Ａ１１）ｔ−Ｂ１２−Ｇ （２）
［式（２）中、Ａ１１は、芳香族炭化水素基、脂環式炭化水素基又は複素環基を表し、該芳香族炭化水素基、脂環式炭化水素基及び複素環基に含まれる水素原子は、ハロゲン原子、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基、炭素数１〜６のアルキルアミノ基、ニトロ基、ニトリル基又はメルカプト基で置換されていてもよい。
Ｂ１１及びＢ１２は、それぞれ独立に、−ＣＲ１４Ｒ１５−、−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＨ２−ＣＨ２−、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−Ｃ（＝Ｓ）−、−Ｃ（＝Ｓ）−Ｏ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｓ）−、−ＣＨ＝Ｎ−、−Ｎ＝ＣＨ−、−Ｎ＝Ｎ−、−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＲ１４−、−ＮＲ１４−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＯＣＨ２−、−ＯＣＦ２−、−ＮＲ１４−、−ＣＨ２Ｏ−、−ＣＦ２Ｏ−、−ＣＨ＝ＣＨ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−ＣＨ＝ＣＨ−又は単結合を表す。Ｒ１４及びＲ１５は、それぞれ独立に、水素原子、フッ素原子又は炭素数１〜４のアルキル基を表し、Ｒ１４及びＲ１５が連結して炭素数４〜７のアルキレン基を構成してもよい。
Ｅ１１は、炭素数１〜１２のアルキレン基を表す。該アルキレン基に含まれる水素原子は、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基又はハロゲン原子で置換されていてもよい。
Ｐ１１は、重合性基を表す。
Ｇは、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜１３のアルキル基、炭素数１〜１３のアルコキシ基、炭素数１〜１３のフルオロアルキル基、炭素数１〜１３のアルキルアミノ基、ニトリル基、ニトロ基であるか、炭素数１〜１２のアルキレン基を介して結合する重合性基を表し、該アルキレン基に含まれる水素原子は、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基又はハロゲン原子で置換されていてもよい。
ｔは、１〜５の整数を表す。］
［式（２）中、Ａ１１は、芳香族炭化水素基、脂環式炭化水素基又は複素環基を表し、該芳香族炭化水素基、脂環式炭化水素基及び複素環基に含まれる水素原子は、ハロゲン原子、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基、炭素数１〜６のアルキルアミノ基、ニトロ基、ニトリル基又はメルカプト基で置換されていてもよい。
Ｂ１１及びＢ１２は、それぞれ独立に、−ＣＲ１４Ｒ１５−、−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＨ２−ＣＨ２−、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−Ｃ（＝Ｓ）−、−Ｃ（＝Ｓ）−Ｏ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｓ）−、−ＣＨ＝Ｎ−、−Ｎ＝ＣＨ−、−Ｎ＝Ｎ−、−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＲ１４−、−ＮＲ１４−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＯＣＨ２−、−ＯＣＦ２−、−ＮＲ１４−、−ＣＨ２Ｏ−、−ＣＦ２Ｏ−、−ＣＨ＝ＣＨ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−ＣＨ＝ＣＨ−又は単結合を表す。Ｒ１４及びＲ１５は、それぞれ独立に、水素原子、フッ素原子又は炭素数１〜４のアルキル基を表し、Ｒ１４及びＲ１５が連結して炭素数４〜７のアルキレン基を構成してもよい。
Ｅ１１は、炭素数１〜１２のアルキレン基を表す。該アルキレン基に含まれる水素原子は、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基又はハロゲン原子で置換されていてもよい。
Ｐ１１は、重合性基を表す。
Ｇは、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜１３のアルキル基、炭素数１〜１３のアルコキシ基、炭素数１〜１３のフルオロアルキル基、炭素数１〜１３のアルキルアミノ基、ニトリル基、ニトロ基であるか、炭素数１〜１２のアルキレン基を介して結合する重合性基を表し、該アルキレン基に含まれる水素原子は、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基又はハロゲン原子で置換されていてもよい。
ｔは、１〜５の整数を表す。］
特に、Ｐ１１及びＧにおける重合性基としては、化合物（１）と重合することができる基であればよく、ビニル基、ビニルオキシ基、ｐ−スチルベン基、アクリロイル基、アクリロイルオキシ基、メタクロイル基、メタクロイルオキシ基、カルボキシル基、アセチル基、水酸基、カルバモイル基、アミノ基、炭素数１〜４のアルキルアミノ基、エポキシ基、オキセタニル基、ホルミル基、−Ｎ＝Ｃ＝Ｏまたは−Ｎ＝Ｃ＝Ｓ等が挙げられる。なかでも、光重合に適するという点で、ラジカル重合性基またはカチオン重合性基が好ましく、取り扱いが容易で、液晶化合物の製造も容易であるという点で、アクリロイルオキシ基、メタクロイルオキシ基またはビニルオキシ基が好ましい。
また、Ａ１１の芳香族炭化水素基、脂環式炭化水素基及び複素環基の炭素数は、それぞれ、例えば３〜１８であり、５〜１２であることが好ましく、５又は６であることが特に好ましい。
化合物（２）としては、例えば、式（２−１）及び式（２−２）で表される化合物が挙げられる。
P11-E11-(B11-A11)t1-B12-E12-P12 （２−１）
P11-E11-(B11-A11)t2-B12-F11 （２−２）
［式（２−１）及び式（２−２）中、Ｐ１１、Ｅ１１、Ｂ１１、Ａ１１、Ｂ１２は上記と同義である。
Ｆ１１は、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜１３のアルキル基、炭素数１〜１３のアルコキシ基、炭素数１〜１３のフルオロアルキル基、炭素数１〜１３のアルキルアミノ基、ニトリル基、ニトロ基を表す。
Ｅ１２は、Ｅ１１と同義である。
Ｐ１２は、Ｐ１１と同義である。
ｔ１及びｔ２はｔと同義である。］
P11-E11-(B11-A11)t2-B12-F11 （２−２）
［式（２−１）及び式（２−２）中、Ｐ１１、Ｅ１１、Ｂ１１、Ａ１１、Ｂ１２は上記と同義である。
Ｆ１１は、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜１３のアルキル基、炭素数１〜１３のアルコキシ基、炭素数１〜１３のフルオロアルキル基、炭素数１〜１３のアルキルアミノ基、ニトリル基、ニトロ基を表す。
Ｅ１２は、Ｅ１１と同義である。
Ｐ１２は、Ｐ１１と同義である。
ｔ１及びｔ２はｔと同義である。］
さらに、これら式（２−１）及び（２−２）で表される化合物として、式（Ｉ）、式（II）、式（III）、式（IV）又は式（Ｖ）で表される化合物が挙げられる。
P11-E11-B11-A11-B12-A12-B13-A13-B14-A14-B15-A15-B16-E12-P12 （Ｉ）
P11-E11-B11-A11-B12-A12-B13-A13-B14-A14-B15-E12-P12 （ＩＩ）
P11-E11-B11-A11-B12-A12-B13-A13-B14-E12-P12 （ＩＩＩ）
P11-E11-B11-A11-B12-A12-B13-A13-B14-F11 （ＩＶ）
P11-E11-B11-A11-B12-A12-B13-F11 （Ｖ）
［式（Ｉ）〜式（Ｖ）中、Ａ１２〜Ａ１５は、Ａ１１と同義であり、Ｂ１３〜Ｂ１６は、Ｂ１１と同義である］。
P11-E11-B11-A11-B12-A12-B13-A13-B14-A14-B15-E12-P12 （ＩＩ）
P11-E11-B11-A11-B12-A12-B13-A13-B14-E12-P12 （ＩＩＩ）
P11-E11-B11-A11-B12-A12-B13-A13-B14-F11 （ＩＶ）
P11-E11-B11-A11-B12-A12-B13-F11 （Ｖ）
［式（Ｉ）〜式（Ｖ）中、Ａ１２〜Ａ１５は、Ａ１１と同義であり、Ｂ１３〜Ｂ１６は、Ｂ１１と同義である］。
なお、式（２−１）、式（２−２）、式（Ｉ）、式（II）、式（III）、式（IV）及び式（Ｖ）で表される化合物においては、Ｐ１１とＥ１１との組み合わせを適宜選択することにより、さらにＰ１２とＥ１２との組み合わせを適宜選択することにより、両者がエーテル結合又はエステル結合を介して結合されていることが好ましい。
液晶化合物の具体例としては、たとえば以下の式（Ｉ−１）〜式（Ｉ−５）、式（ＩＩ−１）〜式（ＩＩ−６）、式（ＩＩＩ−１）〜式（ＩＩＩ−１９）、式（ＩＶ−１）〜式（ＩＶ−１４）、式（Ｖ−１）〜式（Ｖ−５）で表される化合物などが挙げられる。ただし、式中ｋは、１〜１１の整数を表す。これらの液晶化合物であれば、合成が容易であり、市販されているなど、入手が容易であることから好ましい。
本発明の光学フィルムは、化合物（１）に由来する構造単位を含有することが好ましい。化合物（１）に由来する構造単位のみを含有していてもよいが、化合物（２）に由来する構造単位をさらに含有してもよい。化合物（２）の含有量は、たとえば化合物（２）と化合物（１）との合計１００重量部に対して、９０重量部以下である。
この際、化合物（１）と化合物（２）とが共重合するように、化合物（１）に含まれる−Ｅ１−Ｑ１または−Ｅ２−Ｑ２の重合性基と、化合物（２）の重合性基とは互いに反応し得る重合性基で、特に互いにアクリロイルオキシ基であると、容易に光重合させることができることから好ましい。
また光学フィルムに含まれる化合物（１）に由来する構造単位の含有量と化合物（２）に由来する構造単位の含有量とを変えることにより、得られる光学フィルムの複屈折率Δｎをコントロールすることができる。
これらの化合物であれば、合成が容易であり、市販されているなど、入手が容易であることから好ましい。
この際、化合物（１）と化合物（２）とが共重合するように、化合物（１）に含まれる−Ｅ１−Ｑ１または−Ｅ２−Ｑ２の重合性基と、化合物（２）の重合性基とは互いに反応し得る重合性基で、特に互いにアクリロイルオキシ基であると、容易に光重合させることができることから好ましい。
また光学フィルムに含まれる化合物（１）に由来する構造単位の含有量と化合物（２）に由来する構造単位の含有量とを変えることにより、得られる光学フィルムの複屈折率Δｎをコントロールすることができる。
これらの化合物であれば、合成が容易であり、市販されているなど、入手が容易であることから好ましい。
＜光学フィルムの製造方法＞
本発明の化合物（１）に由来する構造単位を含有する光学フィルムの製造方法について、以下説明する。
本発明の光学フィルムとは、光を透過し得るフィルムであって、光学的な機能を有するフィルムをいう。光学的な機能とは、屈折、複屈折などを意味する。光学フィルムの一種である位相差フィルムは、直線偏光を円偏光や楕円偏光に変換したり、逆に円偏光または楕円偏光を直線偏光に変換したりするために用いられる。
本発明の化合物（１）に由来する構造単位を含有する光学フィルムの製造方法について、以下説明する。
本発明の光学フィルムとは、光を透過し得るフィルムであって、光学的な機能を有するフィルムをいう。光学的な機能とは、屈折、複屈折などを意味する。光学フィルムの一種である位相差フィルムは、直線偏光を円偏光や楕円偏光に変換したり、逆に円偏光または楕円偏光を直線偏光に変換したりするために用いられる。
［混合溶液調整工程］
まず化合物（１）、必要に応じて、化合物（２）および有機溶媒に、重合開始剤、重合禁止剤、光増感剤、レベリング剤または架橋剤などの添加剤を加えて、混合溶液（以下「組成物」という場合がある）を調製する。とりわけ有機溶媒は、成膜時に含んでいる方が、成膜が容易となることから好ましく、重合開始剤は、得られた光学フィルムを硬化する働きをもつことから好ましい。
まず化合物（１）、必要に応じて、化合物（２）および有機溶媒に、重合開始剤、重合禁止剤、光増感剤、レベリング剤または架橋剤などの添加剤を加えて、混合溶液（以下「組成物」という場合がある）を調製する。とりわけ有機溶媒は、成膜時に含んでいる方が、成膜が容易となることから好ましく、重合開始剤は、得られた光学フィルムを硬化する働きをもつことから好ましい。
〔重合開始剤〕
本発明における配向状態を固定化する方法としては、本発明の組成物を、一度液晶相発現温度まで加熱し、次にその配向状態を維持したまま冷却することにより、その液晶状態における配向形態を損なうことなく固定化することで形成できる。また、本発明の組成物に重合開始剤を添加した組成物を液晶相発現温度まで加熱した後、重合させ冷却することにより液晶状態の配向状態を固定化することで形成できる。本発明における配向状態の固定化は、後者の重合反応により行うことが好ましい。重合反応には、熱重合開始剤を用いる熱重合反応と、光重合開始剤を用いる光重合反応と、電子線照射による重合反応が含まれるが、熱により支持体などが変形、変質するのを防ぐためにも、光重合反応または電子線照射による重合反応が好ましい。
光重合開始剤としては、たとえばベンゾイン類、ベンゾフェノン類、ベンジルケタール類、α−ヒドロキシケトン類、α−アミノケトン類、ヨードニウム塩またはスルホニウム塩等が挙げられ、より具体的にはイルガキュア（Irgacure）９０７、イルガキュア８１９、イルガキュア１８４、イルガキュア６５１、イルガキュア２５０、イルガキュア３６９（以上、全てチバ・ジャパン株式会社製）、セイクオールＢＺ、セイクオールＺ、セイクオールＢＥＥ（以上、全て精工化学株式会社製）、カヤキュアー（kayacure）ＢＰ１００（日本化薬株式会社製）、カヤキュアーＵＶＩ−６９９２（ダウ社製）、アデカオプトマーＳＰ−１５２またはアデカオプトマーＳＰ−１７０（以上、全て株式会社ＡＤＥＫＡ）などを挙げることができる。
また重合開始剤の使用量は、たとえば化合物（１）および化合物（２）の合計１００重量部に対して、０．１重量部〜３０重量部であり、好ましくは０．５重量部〜１０重量部である。上記範囲内であれば、化合物（２）の配向性を乱すことなく、化合物（１）を重合させることができる。
本発明における配向状態を固定化する方法としては、本発明の組成物を、一度液晶相発現温度まで加熱し、次にその配向状態を維持したまま冷却することにより、その液晶状態における配向形態を損なうことなく固定化することで形成できる。また、本発明の組成物に重合開始剤を添加した組成物を液晶相発現温度まで加熱した後、重合させ冷却することにより液晶状態の配向状態を固定化することで形成できる。本発明における配向状態の固定化は、後者の重合反応により行うことが好ましい。重合反応には、熱重合開始剤を用いる熱重合反応と、光重合開始剤を用いる光重合反応と、電子線照射による重合反応が含まれるが、熱により支持体などが変形、変質するのを防ぐためにも、光重合反応または電子線照射による重合反応が好ましい。
光重合開始剤としては、たとえばベンゾイン類、ベンゾフェノン類、ベンジルケタール類、α−ヒドロキシケトン類、α−アミノケトン類、ヨードニウム塩またはスルホニウム塩等が挙げられ、より具体的にはイルガキュア（Irgacure）９０７、イルガキュア８１９、イルガキュア１８４、イルガキュア６５１、イルガキュア２５０、イルガキュア３６９（以上、全てチバ・ジャパン株式会社製）、セイクオールＢＺ、セイクオールＺ、セイクオールＢＥＥ（以上、全て精工化学株式会社製）、カヤキュアー（kayacure）ＢＰ１００（日本化薬株式会社製）、カヤキュアーＵＶＩ−６９９２（ダウ社製）、アデカオプトマーＳＰ−１５２またはアデカオプトマーＳＰ−１７０（以上、全て株式会社ＡＤＥＫＡ）などを挙げることができる。
また重合開始剤の使用量は、たとえば化合物（１）および化合物（２）の合計１００重量部に対して、０．１重量部〜３０重量部であり、好ましくは０．５重量部〜１０重量部である。上記範囲内であれば、化合物（２）の配向性を乱すことなく、化合物（１）を重合させることができる。
〔重合禁止剤〕
本発明の光学フィルムを調製する際に、重合禁止剤を使用してもよい。重合禁止剤としては、たとえばハイドロキノンまたはアルキルエーテル等の置換基を有するハイドロキノン類、ブチルカテコール等のアルキルエーテル等の置換基を有するカテコール類、ピロガロール類、２，２，６，６−テトラメチル−１−ピペリジニルオキシラジカル等のラジカル補足剤、チオフェノール類、β−ナフチルアミン類、およびβ−ナフトール類等を挙げることができる。
重合禁止剤を用いることにより、化合物（１）および化合物（２）の重合を制御することができ、得られる光学フィルムの安定性を向上させることができる。また重合禁止剤の使用量は、たとえば化合物（１）および化合物（２）の合計１００重量部に対して、０．１重量部〜３０重量部であり、好ましくは０．５重量部〜１０重量部である。上記範囲内であれば、化合物（２）の配向性を乱すことなく、化合物（１）を重合させることができる。
本発明の光学フィルムを調製する際に、重合禁止剤を使用してもよい。重合禁止剤としては、たとえばハイドロキノンまたはアルキルエーテル等の置換基を有するハイドロキノン類、ブチルカテコール等のアルキルエーテル等の置換基を有するカテコール類、ピロガロール類、２，２，６，６−テトラメチル−１−ピペリジニルオキシラジカル等のラジカル補足剤、チオフェノール類、β−ナフチルアミン類、およびβ−ナフトール類等を挙げることができる。
重合禁止剤を用いることにより、化合物（１）および化合物（２）の重合を制御することができ、得られる光学フィルムの安定性を向上させることができる。また重合禁止剤の使用量は、たとえば化合物（１）および化合物（２）の合計１００重量部に対して、０．１重量部〜３０重量部であり、好ましくは０．５重量部〜１０重量部である。上記範囲内であれば、化合物（２）の配向性を乱すことなく、化合物（１）を重合させることができる。
〔光増感剤〕
また本発明の光学フィルムを調製する際に、光増感剤を使用してもよい。光増感剤としては、たとえばキサントンまたはチオキサントン等のキサントン類、アントラセンまたはアルキルエーテルなどの置換基を有するアントラセン類、フェノチアジンあるいはルブレンを挙げることができる。
光増感剤を用いることにより、化合物（１）および化合物（２）の重合を高感度化することができる。また光増感剤の使用量としては、化合物（１）および化合物（２）の合計１００重量部に対して、たとえば０．１重量部〜３０重量部であり、好ましくは０．５重量部〜１０重量部である。上記範囲内であれば、化合物（２）の配向性を乱すことなく、化合物（１）を重合させることができる。
また本発明の光学フィルムを調製する際に、光増感剤を使用してもよい。光増感剤としては、たとえばキサントンまたはチオキサントン等のキサントン類、アントラセンまたはアルキルエーテルなどの置換基を有するアントラセン類、フェノチアジンあるいはルブレンを挙げることができる。
光増感剤を用いることにより、化合物（１）および化合物（２）の重合を高感度化することができる。また光増感剤の使用量としては、化合物（１）および化合物（２）の合計１００重量部に対して、たとえば０．１重量部〜３０重量部であり、好ましくは０．５重量部〜１０重量部である。上記範囲内であれば、化合物（２）の配向性を乱すことなく、化合物（１）を重合させることができる。
〔レベリング剤〕
さらに本発明の光学フィルムを調製する際に、レベリング剤を使用してもよい。レベリング剤としては、シリコーン系、フッ素系、ポリエーテル系、アクリル酸共重合物系またはチタネート系等の種々の化合物を用いることができ、たとえば放射線硬化塗料用添加剤（ビックケミージャパン製：ＢＹＫ−３５２，ＢＹＫ−３５３，ＢＹＫ−３６１Ｎ）、塗料添加剤（東レ・ダウコーニング株式会社製：ＳＨ２８ＰＡ、ＤＣ１１ＰＡ、ＳＴ８０ＰＡ）、または塗料添加剤（信越化学工業株式会社製：ＫＰ３２１、ＫＰ３２３、Ｘ２２−１６１Ａ、ＫＦ６００１）などを挙げることができる。
レベリング剤を用いることにより、光学フィルムを平滑化することができる。さらに光学フィルムの製造過程で、化合物（１）を含有する混合溶液の流動性を制御したり、化合物（１）および化合物（２）を重合して得られる光学フィルムの架橋密度を調整することができる。またレベリング剤の使用量の具体的な数値は、たとえば化合物（１）および化合物（２）の合計１００重量部に対して、０．１重量部〜３０重量部であり、好ましくは０．５重量部〜１０重量部である。上記範囲内であれば、化合物（２）の配向性を乱すことなく、化合物（１）を重合させることができる。
さらに本発明の光学フィルムを調製する際に、レベリング剤を使用してもよい。レベリング剤としては、シリコーン系、フッ素系、ポリエーテル系、アクリル酸共重合物系またはチタネート系等の種々の化合物を用いることができ、たとえば放射線硬化塗料用添加剤（ビックケミージャパン製：ＢＹＫ−３５２，ＢＹＫ−３５３，ＢＹＫ−３６１Ｎ）、塗料添加剤（東レ・ダウコーニング株式会社製：ＳＨ２８ＰＡ、ＤＣ１１ＰＡ、ＳＴ８０ＰＡ）、または塗料添加剤（信越化学工業株式会社製：ＫＰ３２１、ＫＰ３２３、Ｘ２２−１６１Ａ、ＫＦ６００１）などを挙げることができる。
レベリング剤を用いることにより、光学フィルムを平滑化することができる。さらに光学フィルムの製造過程で、化合物（１）を含有する混合溶液の流動性を制御したり、化合物（１）および化合物（２）を重合して得られる光学フィルムの架橋密度を調整することができる。またレベリング剤の使用量の具体的な数値は、たとえば化合物（１）および化合物（２）の合計１００重量部に対して、０．１重量部〜３０重量部であり、好ましくは０．５重量部〜１０重量部である。上記範囲内であれば、化合物（２）の配向性を乱すことなく、化合物（１）を重合させることができる。
〔有機溶媒〕
化合物（１）および化合物（２）などを含有する混合溶液の調製に用いる有機溶媒としては、化合物（１）および化合物（２）などを溶解し得る有機溶媒であり、具体的にはメタノール、エタノール、エチレングリコール、イソプロピルアルコール、プロピレングリコール、メチルセロソルブ、ブチルセロソルブまたはプロピレングリコールモノメチルエーテルなどのアルコール；酢酸エチル、酢酸ブチル、エチレングリコールメチルエーテルアセテート、ガンマーブチロラクトン、プロピレングリコールメチルエーテルアセテートまたは乳酸エチルなどのエステル系溶媒；アセトン、メチルエチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、メチルアミルケトンまたはメチルイソブチルケトンなどのケトン系溶媒；ペンタン、ヘキサンまたはヘプタンなどの非塩素系脂肪族炭化水素溶媒；トルエン、キシレン、メトキシベンゼン、１，２−ジメトキシベンゼンまたはフェノールなどの非塩素系芳香族溶媒；テトラヒドロフラン、１，４−ジオキサンまたはジメトキシエタンなどのエーテル系溶媒；アセトニトリルまたはブチロニトリルなどのニトリル系溶媒；Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミドまたはＮ−メチル−２−ピロリドンなどのアミド系溶媒；あるいはクロロホルムまたはクロロベンゼンなどの塩素系溶媒；などが挙げられる。これら有機溶媒は、単独で用いてもよいし、複数を組み合わせて用いてもよい。中でも本発明の組成物は相溶性に優れ、アルコール、エステル系溶媒、ケトン系溶媒、非塩素系脂肪族炭化水素溶媒および非塩素系芳香族溶媒などにも溶解し得ることから、クロロホルムなどの塩素系溶媒を用いなくとも、溶解して塗工させることができる。
化合物（１）および化合物（２）などを含有する混合溶液の調製に用いる有機溶媒としては、化合物（１）および化合物（２）などを溶解し得る有機溶媒であり、具体的にはメタノール、エタノール、エチレングリコール、イソプロピルアルコール、プロピレングリコール、メチルセロソルブ、ブチルセロソルブまたはプロピレングリコールモノメチルエーテルなどのアルコール；酢酸エチル、酢酸ブチル、エチレングリコールメチルエーテルアセテート、ガンマーブチロラクトン、プロピレングリコールメチルエーテルアセテートまたは乳酸エチルなどのエステル系溶媒；アセトン、メチルエチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、メチルアミルケトンまたはメチルイソブチルケトンなどのケトン系溶媒；ペンタン、ヘキサンまたはヘプタンなどの非塩素系脂肪族炭化水素溶媒；トルエン、キシレン、メトキシベンゼン、１，２−ジメトキシベンゼンまたはフェノールなどの非塩素系芳香族溶媒；テトラヒドロフラン、１，４−ジオキサンまたはジメトキシエタンなどのエーテル系溶媒；アセトニトリルまたはブチロニトリルなどのニトリル系溶媒；Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミドまたはＮ−メチル−２−ピロリドンなどのアミド系溶媒；あるいはクロロホルムまたはクロロベンゼンなどの塩素系溶媒；などが挙げられる。これら有機溶媒は、単独で用いてもよいし、複数を組み合わせて用いてもよい。中でも本発明の組成物は相溶性に優れ、アルコール、エステル系溶媒、ケトン系溶媒、非塩素系脂肪族炭化水素溶媒および非塩素系芳香族溶媒などにも溶解し得ることから、クロロホルムなどの塩素系溶媒を用いなくとも、溶解して塗工させることができる。
化合物（１）および化合物（２）を含有する混合溶液の粘度は、塗布しやすいように、たとえば１０Ｐａ・ｓ以下、好ましくは０．１〜７Ｐａ・ｓ程度に調整される。
また上記混合溶液における固形分の濃度は、たとえば５〜５０重量％である。固形分の濃度が５％以上であると、光学フィルムが薄くなりすぎず、液晶パネルの光学補償に必要な光学異方性が与えられる傾向がある。また５０％以下であると、上記混合溶液の粘度が低いことから、光学フィルムの膜厚にムラが生じにくくなる傾向があることから好ましい。
また上記混合溶液における固形分の濃度は、たとえば５〜５０重量％である。固形分の濃度が５％以上であると、光学フィルムが薄くなりすぎず、液晶パネルの光学補償に必要な光学異方性が与えられる傾向がある。また５０％以下であると、上記混合溶液の粘度が低いことから、光学フィルムの膜厚にムラが生じにくくなる傾向があることから好ましい。
［配向膜形成工程］
支持基材は、該支持基材上に配向膜を形成できるものであればよい。たとえばガラス、プラスチックシート、プラスチックフィルムまたは透光性フィルムを挙げることができる。なお上記透光性フィルムとしては、たとえばポリエチレン、ポリプロピレン、ノルボルネン系ポリマーなどのポリオレフィンフィルム、ポリビニルアルコールフィルム、ポリエチレンテレフタレートフィルム、ポリメタクリル酸エステルフィルム、ポリアクリル酸エステルフィルム、セルロースエステルフィルム、ポリエチレンナフタレートフィルム、ポリカーボネートフィルム、ポリスルフォンフィルム、ポリエーテルスルホンフィルム、ポリエーテルケトンフィルム、ポリフェニレンスルフィドフィルムまたはポリフェニレンオキシドフィルムなどが挙げられる。
一般に化合物（１）および化合物（２）から得られる光学フィルムは、薄膜であり、たとえば本発明のフィルムを用いる貼合工程、フィルムを運搬、保管などを実施する工程など、フィルムの強度が必要な工程でも、支持基材を用いることにより、破れなどなく容易に取り扱うことができる。
支持基材は、該支持基材上に配向膜を形成できるものであればよい。たとえばガラス、プラスチックシート、プラスチックフィルムまたは透光性フィルムを挙げることができる。なお上記透光性フィルムとしては、たとえばポリエチレン、ポリプロピレン、ノルボルネン系ポリマーなどのポリオレフィンフィルム、ポリビニルアルコールフィルム、ポリエチレンテレフタレートフィルム、ポリメタクリル酸エステルフィルム、ポリアクリル酸エステルフィルム、セルロースエステルフィルム、ポリエチレンナフタレートフィルム、ポリカーボネートフィルム、ポリスルフォンフィルム、ポリエーテルスルホンフィルム、ポリエーテルケトンフィルム、ポリフェニレンスルフィドフィルムまたはポリフェニレンオキシドフィルムなどが挙げられる。
一般に化合物（１）および化合物（２）から得られる光学フィルムは、薄膜であり、たとえば本発明のフィルムを用いる貼合工程、フィルムを運搬、保管などを実施する工程など、フィルムの強度が必要な工程でも、支持基材を用いることにより、破れなどなく容易に取り扱うことができる。
本発明の光学フィルムの製造方法では、好ましくは支持基材上に配向膜を形成させた後、混合溶液を塗工する。配向膜は、化合物（１）などを含有する混合溶液の塗工等により溶解しない溶媒耐性を持つこと、溶媒の除去や液晶の配向の加熱処理による耐熱性をもつこと、ラビングによる摩擦などによる剥がれなどが起きないこと等が必要であり、ポリマー、またはポリマーを含有する組成物である。
上記ポリマーとしては、たとえば分子内にアミド結合を有するポリアミドやゼラチン類、分子内にイミド結合を有するポリイミドおよびその加水分解物であるポリアミック酸、ポリビニルアルコール、アルキル変性ポリビニルアルコール、ポリアクリルアミド、ポリオキサゾール、ポリエチレンイミン、ポリアクリル酸またはポリアクリル酸エステル類等のポリマーを挙げることができる。これらのポリマーは、単独で用いてもよいし、２種類以上混ぜて用いてもよいし、共重合して用いてもよい。これらのポリマーは、脱水や脱アミンなどによる重縮合や、ラジカル重合、アニオン重合、カチオン重合等の連鎖重合、配位重合や開環重合等で容易に得ることができる。
上記ポリマーとしては、たとえば分子内にアミド結合を有するポリアミドやゼラチン類、分子内にイミド結合を有するポリイミドおよびその加水分解物であるポリアミック酸、ポリビニルアルコール、アルキル変性ポリビニルアルコール、ポリアクリルアミド、ポリオキサゾール、ポリエチレンイミン、ポリアクリル酸またはポリアクリル酸エステル類等のポリマーを挙げることができる。これらのポリマーは、単独で用いてもよいし、２種類以上混ぜて用いてもよいし、共重合して用いてもよい。これらのポリマーは、脱水や脱アミンなどによる重縮合や、ラジカル重合、アニオン重合、カチオン重合等の連鎖重合、配位重合や開環重合等で容易に得ることができる。
またこれらの配向膜材料は、溶媒に溶解して、塗布することができる。溶媒は、特に制限はないが、具体的には、水；メタノール、エタノール、エチレングリコール、イソプロピルアルコール、プロピレングリコール、メチルセロソルブ、ブチルセロソルブまたはプロピレングリコールモノメチルエーテルなどのアルコール；酢酸エチル、酢酸ブチル、エチレングリコールメチルエーテルアセテート、ガンマーブチロラクトン、プロピレングリコールメチルエーテルアセテートまたは乳酸エチルなどのエステル系溶媒；アセトン、メチルエチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、メチルアミルケトンまたはメチルイソブチルケトンなどのケトン系溶媒；ペンタン、ヘキサンまたはヘプタンなどの脂肪族炭化水素溶媒；トルエンまたはキシレンなどの芳香族溶媒、アセトニトリルなどのニトリル系溶媒；テトラヒドロフランまたはジメトキシエタンなどのエーテル系溶媒；あるいはクロロホルムまたはクロロベンゼンなどの塩素系溶媒；などが挙げられる。これら有機溶媒は、単独で用いてもよいし、複数を組み合わせて用いてもよい。
配向膜として、市販の配向膜をそのまま使用してもよい。市販の配向膜としては、感光性ポリイミドに偏光ＵＶ処理を施したものとして、サンエバー（登録商標、日産化学工業株式会社製）またはオプトマー（登録商標、ＪＳＲ株式会社製）などが挙げられ、変性ポリビニルアルコールとして、ポバール（登録商標、株式会社クラレ製）などが挙げられる。
このような配向膜を用いれば、延伸による屈折率制御を行う必要がないため、複屈折の面内ばらつきが小さくなる。それゆえ支持基材上にＦＰＤの大型化にも対応可能な大きな光学フィルムを提供できるという効果を奏する。
このような配向膜を用いれば、延伸による屈折率制御を行う必要がないため、複屈折の面内ばらつきが小さくなる。それゆえ支持基材上にＦＰＤの大型化にも対応可能な大きな光学フィルムを提供できるという効果を奏する。
上記支持基材上に配向膜を形成する方法としては、たとえば上記支持基材上に、配向膜の材料を塗布し、その後アニールすることにより、上記支持基材上に配向膜を形成することができる。
このようにして得られる配向膜の厚さは、たとえば１０ｎｍ〜１００００ｎｍであり、好ましくは１０ｎｍ〜１０００ｎｍである。上記範囲とすれば、化合物（１）および化合物（２）等を当該配向膜上で所望の角度に配向させることができる。
またこれら配向膜は、必要に応じてラビングもしくは偏光ＵＶ照射を行なうことができる。これらにより化合物（１）および化合物（２）等を所望の方向に配向させることができる。
配向膜をラビングする方法としては、たとえばラビング布が巻きつけられ、回転しているラビングロールを、ステージに載せられ、搬送されている配向膜に接触させる方法を用いることができる。
またこれら配向膜は、必要に応じてラビングもしくは偏光ＵＶ照射を行なうことができる。これらにより化合物（１）および化合物（２）等を所望の方向に配向させることができる。
配向膜をラビングする方法としては、たとえばラビング布が巻きつけられ、回転しているラビングロールを、ステージに載せられ、搬送されている配向膜に接触させる方法を用いることができる。
［未重合フィルム調製工程］
支持基材の上に配向膜が形成されていれば、化合物（１）および化合物（２）を含有する混合溶液を配向膜上に塗工し、乾燥すると、未重合フィルムが得られる。支持基材への塗布方法としては、例えば、押し出しコーティング法、ダイレクトグラビアコーティング法、リバースグラビアコーティング法、ＣＡＰコーティング法、ダイコーティング法などが挙げられる。また、ディップコーター、バーコーター、スピンコーターなどのコーターを用いて塗布する方法などが挙げられる。この未重合フィルムにネマチック相などの液晶相を示した場合、モノドメイン配向による複屈折性を有する。この未重合フィルムは０〜１２０℃程度、好ましくは２５〜８０℃の低温で配向することから、配向膜として上記に例示したような耐熱性に関して必ずしも十分ではない支持基材を用いることができ、配向後、さらに３０〜１０℃程度に冷却しても結晶化することがない。
支持基材の上に配向膜が形成されていれば、化合物（１）および化合物（２）を含有する混合溶液を配向膜上に塗工し、乾燥すると、未重合フィルムが得られる。支持基材への塗布方法としては、例えば、押し出しコーティング法、ダイレクトグラビアコーティング法、リバースグラビアコーティング法、ＣＡＰコーティング法、ダイコーティング法などが挙げられる。また、ディップコーター、バーコーター、スピンコーターなどのコーターを用いて塗布する方法などが挙げられる。この未重合フィルムにネマチック相などの液晶相を示した場合、モノドメイン配向による複屈折性を有する。この未重合フィルムは０〜１２０℃程度、好ましくは２５〜８０℃の低温で配向することから、配向膜として上記に例示したような耐熱性に関して必ずしも十分ではない支持基材を用いることができ、配向後、さらに３０〜１０℃程度に冷却しても結晶化することがない。
［未重合フィルム乾燥工程］
光重合の場合には、成膜性を向上させるために、光重合前に溶媒を乾燥させて、未重合フィルムを得ることが好ましい。また熱重合の場合には、乾燥とともに重合を進行させてもよいが、重合前に溶媒を乾燥させて、未重合フィルムを得る方法が、成膜性に優れる傾向があることから好ましい。
溶媒の乾燥方法としては、たとえば自然乾燥、通風乾燥または減圧乾燥などの方法が挙げられる。具体的な加熱温度としては、１０〜１２０℃であることが好ましく、２５〜８０℃であることがさらに好ましい。また加熱時間としては、１０秒間〜６０分間であることが好ましく、３０秒間〜３０分間であることがより好ましい。加熱温度および加熱時間が、上記範囲内であれば、上記支持基材として、耐熱性が必ずしも十分ではない支持基材を用いることができる。
光重合の場合には、成膜性を向上させるために、光重合前に溶媒を乾燥させて、未重合フィルムを得ることが好ましい。また熱重合の場合には、乾燥とともに重合を進行させてもよいが、重合前に溶媒を乾燥させて、未重合フィルムを得る方法が、成膜性に優れる傾向があることから好ましい。
溶媒の乾燥方法としては、たとえば自然乾燥、通風乾燥または減圧乾燥などの方法が挙げられる。具体的な加熱温度としては、１０〜１２０℃であることが好ましく、２５〜８０℃であることがさらに好ましい。また加熱時間としては、１０秒間〜６０分間であることが好ましく、３０秒間〜３０分間であることがより好ましい。加熱温度および加熱時間が、上記範囲内であれば、上記支持基材として、耐熱性が必ずしも十分ではない支持基材を用いることができる。
［未重合フィルム重合工程］
未重合フィルム重合工程では、上記未重合フィルム調製工程で得られた未重合フィルムを重合し、硬化させる。これにより化合物（１）および化合物（２）の配向性が固定化されたフィルム、すなわち重合フィルムとなる。
未重合フィルムを重合させる方法は、化合物（１）および化合物（２）に含まれる重合性基が光重合性であれば、可視光、紫外光またはレーザー光などの光を照射して硬化させ、該重合性基が熱重合性であれば、加熱によって重合させる。本発明では、特に光重合により未重合フィルムを重合させることが好ましい。これによれば低温で未重合フィルムを重合させることができるので、支持基材の耐熱性の選択幅が広がる。また工業的にも製造が容易となる。取り扱い性の観点から、紫外光による重合が特に好ましい。
かくして得られた光学フィルムは、液晶ポリマーを用いることなく製造することができる。
未重合フィルム重合工程では、上記未重合フィルム調製工程で得られた未重合フィルムを重合し、硬化させる。これにより化合物（１）および化合物（２）の配向性が固定化されたフィルム、すなわち重合フィルムとなる。
未重合フィルムを重合させる方法は、化合物（１）および化合物（２）に含まれる重合性基が光重合性であれば、可視光、紫外光またはレーザー光などの光を照射して硬化させ、該重合性基が熱重合性であれば、加熱によって重合させる。本発明では、特に光重合により未重合フィルムを重合させることが好ましい。これによれば低温で未重合フィルムを重合させることができるので、支持基材の耐熱性の選択幅が広がる。また工業的にも製造が容易となる。取り扱い性の観点から、紫外光による重合が特に好ましい。
かくして得られた光学フィルムは、液晶ポリマーを用いることなく製造することができる。
未重合フィルム重合工程において、化合物（１）および化合物（２）を光重合により架橋することができる。それゆえ、熱による複屈折の変化の影響を受けにくいという効果を奏する。
また得られる光学フィルムに、界面活性剤などの表面処理剤を用いなくてよい。つまり本発明の光学フィルムに用いる配向膜は、支持基材と配向膜との密着性および配向膜と光学フィルムとの密着性が良好であるから、光学フィルムの製造が容易である。
さらに本発明の光学フィルムは、延伸フィルムで同等の位相差値を有するフィルムと比較して、薄膜である。
また得られる光学フィルムに、界面活性剤などの表面処理剤を用いなくてよい。つまり本発明の光学フィルムに用いる配向膜は、支持基材と配向膜との密着性および配向膜と光学フィルムとの密着性が良好であるから、光学フィルムの製造が容易である。
さらに本発明の光学フィルムは、延伸フィルムで同等の位相差値を有するフィルムと比較して、薄膜である。
本発明の光学フィルムの製造方法において、上記工程に続いて支持基材を剥離する工程を含んでいてもよい。このような構成とすることにより、得られるフィルムは、配向膜と光学異方性層とからなるフィルムとなる。また上記支持基材を剥離する工程に加えて、配向膜を剥離する工程をさらに含んでいてもよい。このような構成とすることにより、得られるフィルムは、光学異方性層のみからなるフィルムとなる。
なお混合溶液の塗布液の量や塗布液の濃度を適宜調整することにより、所望の位相差を与えるように膜厚を調製することができる。化合物（１）が一定である混合溶液の場合、得られる光学フィルムの位相差値（リタデーション値、Ｒｅ（λ））は、下記式（３）のように決定されることから、所望のＲｅ（λ）を得るためには、膜厚ｄを調整すればよい。
Ｒｅ（λ）＝ｄ×Δｎ（λ） （３）
（式（３）中、Ｒｅ（λ）は、波長λｎｍにおける位相差値を表し、ｄは膜厚を表し、Δｎ（λ）は波長λｎｍにおける屈折率異方性を表す。）
Ｒｅ（λ）＝ｄ×Δｎ（λ） （３）
（式（３）中、Ｒｅ（λ）は、波長λｎｍにおける位相差値を表し、ｄは膜厚を表し、Δｎ（λ）は波長λｎｍにおける屈折率異方性を表す。）
かくして得られた光学フィルムは、透明性に優れ、様々なディスプレイ用フィルムとして使用される。形成される層の厚みは、上記のとおり、得られるフィルムの位相差値によって、異なるものである。本発明では、上記厚みは、０．１〜１０μｍであることが好ましく、光弾性を小さくする点で０．５〜５μｍであることがさらに好ましい。
上記の通り、未重合フィルム調製工程では、任意の支持基材の上に積層した配向膜上に未重合フィルム（液晶層）を積層する。それゆえ液晶セルを作製し、当該液晶セルに液晶化合物を注入する方法に比べて、生産コストを低減することができる。さらにロールフィルムでのフィルムの生産が可能である。
このような光学特性を有するフィルムを用いることにより、すべての液晶パネルや有機ＥＬなどのＦＰＤを薄膜にて光学補償をすることができる。
上記の通り、未重合フィルム調製工程では、任意の支持基材の上に積層した配向膜上に未重合フィルム（液晶層）を積層する。それゆえ液晶セルを作製し、当該液晶セルに液晶化合物を注入する方法に比べて、生産コストを低減することができる。さらにロールフィルムでのフィルムの生産が可能である。
このような光学特性を有するフィルムを用いることにより、すべての液晶パネルや有機ＥＬなどのＦＰＤを薄膜にて光学補償をすることができる。
本発明の光学フィルムを広帯域λ／４板またはλ／２板として使用するためには、化合物（１）に由来する構造単位の含有量を適宜選択することにより、式（３）に従い、位相差値が、λ／４板の場合には、得られる光学フィルムのＲｅ（５５０）を１１３〜１６３ｎｍ、好ましくは１３５〜１４０ｎｍ、特に好ましくは約１３７．５ｎｍ程度に膜厚を調整すればよく、λ／２板の場合には得られる光学フィルムのＲｅ（５５０）を２５０〜３００ｎｍ、好ましくは２７３〜２７７ｎｍ、特に好ましくは約２７５ｎｍ程度となるように、膜厚を調整すればよい。
本発明の光学フィルムをＶＡ（Ｖｅｒｔｉｃａｌ Ａｌｉｎｇｍｅｎｔ）モード用光学フィルムとして使用するためには、化合物（１）に由来する構造単位の含有量を適宜選択することにより、式（３）に従い、得られる光学フィルムの位相差値が、Ｒｅ（５５０）を好ましくは４０〜１００ｎｍ、より好ましくは６０〜８０ｎｍ程度となるように膜厚を調整すればよい。
化合物（１）は、配向状態によって様々に光学特性を変化させることができることができる。その結果、例えば、液晶パネル用の位相差フィルムとして使用される場合、ＶＡ（Vertical Alignment）モード、ＩＰＳ（In-Plane Switching）モード、ＯＣＢ（Optically Compensated Bend）モード、ＴＮ(Twisted Nematic)モードおよびＳＴＮ（SuperTwisted Nematic)モード等に使用できるように、光学特性を変化させることができる。
具体的には、位相差フィルムの面内の遅相軸方向の屈折率をｎx、面内の遅相軸と直交する方向（進相軸方向）の屈折率をｎy、厚み方向の屈折率をｎzと定義した場合、ｎx≒ｎy≒ｎzの位相差のないフィルム、ｎx≒ｎz＞ｎyのネガティブＡプレート、ｎx≒ｎy＞ｎzのネガティブＣプレート、ｎx≒ｎy＜ｎzのポジティブＣプレート、ｎx≠ｎy≠ｎzのポジティブＯプレートおよびネガティブＯプレートが作成できる。
具体的には、位相差フィルムの面内の遅相軸方向の屈折率をｎx、面内の遅相軸と直交する方向（進相軸方向）の屈折率をｎy、厚み方向の屈折率をｎzと定義した場合、ｎx≒ｎy≒ｎzの位相差のないフィルム、ｎx≒ｎz＞ｎyのネガティブＡプレート、ｎx≒ｎy＞ｎzのネガティブＣプレート、ｎx≒ｎy＜ｎzのポジティブＣプレート、ｎx≠ｎy≠ｎzのポジティブＯプレートおよびネガティブＯプレートが作成できる。
位相差フィルムにおける、上記の屈折率ｎx、ｎyおよびｎzは、面内の位相差値Ｒ0、フィルム面内の遅相軸を傾斜軸として４０度傾斜させて測定される位相差値Ｒ40、フィルムの厚みｄ、及びフィルムの平均屈折率ｎ０を用いて、以下の式（４）、（５）および（６）から算出することができる。
Ｒ0＝（ｎx−ｎy）×ｄ （４）
Ｒ40＝（ｎx−ｎy'）×ｄ／cos(φ) （５）
(ｎx＋ｎy＋ｎz)／３＝ｎ0 （６）
（φ＝sin-1〔sin(４０°)／ｎ0〕
ｎy'＝ｎy×ｎz／〔ｎy 2×sin2(φ)＋ｎz 2×cos2(φ)〕1/2）
Ｒ0＝（ｎx−ｎy）×ｄ （４）
Ｒ40＝（ｎx−ｎy'）×ｄ／cos(φ) （５）
(ｎx＋ｎy＋ｎz)／３＝ｎ0 （６）
（φ＝sin-1〔sin(４０°)／ｎ0〕
ｎy'＝ｎy×ｎz／〔ｎy 2×sin2(φ)＋ｎz 2×cos2(φ)〕1/2）
ネガティブＡプレートは、ラビングや偏光ＵＶ照射などの配向処理を施した配向膜上に、化合物（１）を塗布することによって作成することができる。ネガティブＡプレートにおいて、化合物（１）は、遅相軸がラビング方向に平行に沿い、円盤面と配向膜面とが垂直に配向している。ネガティブＡプレートによれば、偏光板の視野角補償や、ＴＮモード等ＬＣＤの視野角改善に効果が得られる。
ネガティブＣプレートは、ラビングや偏光ＵＶ照射などの配向処理を施さない配向膜間に、化合物（１）を液晶状態を保ったまま挟み込み、ＵＶ照射等によって重合し配向を固定することによって作成することができる。ネガティブＣプレートにおいて、化合物（１）はホメオトロピック配向し、円盤面と配向膜面とが水平に配向している。ネガティブＣプレートによれば、ＶＡモードＬＣＤの視野角改善に効果が得られる。
ポジティブＣプレートは、ラビングや偏光ＵＶ照射などの配向処理を施さない配向膜や、市販の高プレチルト用配向膜上に化合物（１）を塗布することによって作成することができる。ポジティブＣプレートにおいて、化合物（１）はホモジーニアス配向しているが、遅相軸が一定方向に定まらない配向をとっている。ポジティブＣプレートによれば、ＩＰＳモード等の光学補償に効果が得られる。
ネガティブＯプレートは、一方をラビングや偏光ＵＶ照射などの配向処理を施さない配向膜、他方を配向処理した配向膜として、それらの膜間に化合物（１）を液晶状態で保ったまま挟みこみ、ＵＶ照射等によって重合し配向を固定することによって作成することができる。ネガティブＯプレートにおいて、化合物（１）は、配向処理をしない基盤側では円盤面が配向膜面と平行なホメオトロピック配向をし、配向処理を施した基板側では円盤面と配向膜面が垂直に位置したホモジーニアス配向をしている。ネガティブＯプレートによれば、ＴＮモード、ＳＴＮモード及びＯＣＢモード等の視野角改善に効果が得られる。
本発明の光学フィルムは、優れた光学特性を有する光学フィルムと広く用いることができる。上記光学フィルムとしては、アンチリフレクション（ＡＲ）フィルムなどの反射防止フィルム、偏光フィルム、位相差フィルム、楕円偏光フィルム、視野角拡大フィルム、または透過型液晶ディスプレイの視野角補償用光学補償フィルムなどを挙げることができる。また発明の光学フィルムは１枚でも優れた光学特性を示すが、複数枚を積層させてもよい。
また他のフィルムと組み合わせてもよい。具体的には偏光フィルムに本発明の光学フィルムを貼合させた楕円偏光板、該楕円偏光板にさらに本発明の光学フィルムを広帯域λ／４板として貼合させた広帯域円偏光板などが挙げられる。
さらに本発明にかかるフィルムは、反射型液晶ディスプレイおよび有機ＥＬディスプレイの位相差板ならびに当該位相差板や上記光学フィルムを備えるＦＰＤにも利用することができる。上記ＦＰＤは、特に限定されるものではなく、たとえば液晶表示装置（ＬＣＤ）や有機ＥＬを挙げることができる。
また他のフィルムと組み合わせてもよい。具体的には偏光フィルムに本発明の光学フィルムを貼合させた楕円偏光板、該楕円偏光板にさらに本発明の光学フィルムを広帯域λ／４板として貼合させた広帯域円偏光板などが挙げられる。
さらに本発明にかかるフィルムは、反射型液晶ディスプレイおよび有機ＥＬディスプレイの位相差板ならびに当該位相差板や上記光学フィルムを備えるＦＰＤにも利用することができる。上記ＦＰＤは、特に限定されるものではなく、たとえば液晶表示装置（ＬＣＤ）や有機ＥＬを挙げることができる。
このように本発明に係るフィルムは、広範囲な用途が考えられる。たとえばこのうち本発明に係る光学フィルムおよび偏光フィルムを積層してなる偏光板ならびに該偏光板を備えるフラットパネル表示装置について、以下説明する。
本発明に係る偏光板は、偏光機能を有するフィルム、すなわち偏光フィルムの片面もしくは両面に直接、または接着剤もしくは粘着剤を用いて前記光学フィルムを張り合わせることにより得られるものである。なお以下の図２〜図４の説明では、接着剤および粘着剤を総称して接着剤と呼ぶ場合がある。
本発明に係る偏光板は、偏光機能を有するフィルム、すなわち偏光フィルムの片面もしくは両面に直接、または接着剤もしくは粘着剤を用いて前記光学フィルムを張り合わせることにより得られるものである。なお以下の図２〜図４の説明では、接着剤および粘着剤を総称して接着剤と呼ぶ場合がある。
図２（ａ）〜図２（ｅ）は、本発明に係る偏光板１を示す概略図である。
図２（ａ）に示す偏光板１ａは、積層体２と、偏光フィルム３とが直接貼り合わされており、積層体２は、支持基材４、配向膜５及び光学フィルム６からなる。偏光板１ａは、支持基材４、配向膜５、光学フィルム６、偏光フィルム３の順に積層されている。
図２（ａ）に示す偏光板１ａは、積層体２と、偏光フィルム３とが直接貼り合わされており、積層体２は、支持基材４、配向膜５及び光学フィルム６からなる。偏光板１ａは、支持基材４、配向膜５、光学フィルム６、偏光フィルム３の順に積層されている。
図２（ｂ）に示す偏光板１ｂは、積層体２と偏光フィルム３とが、接着剤層７を介して貼り合わされている。
図２（ｃ）に示す偏光板１ｃは、積層体２と積層体２’とが直接貼り合わされ、さらに積層体２’と偏光フィルム３とが直接貼り合わされている。
図２（ｄ）に示す偏光板１ｄは、積層体２と積層体２’とが接着剤層７を介して貼り合わされ、さらに積層体２’上に偏光フィルム３が直接貼り合わされている。
図２（ｅ）に示す偏光板１ｅは、積層体２と積層体２’とが接着剤層７を介して貼り合わされ、さらに積層体２’と偏光フィルム３とが接着剤層７’を介して貼り合わされている。
本発明の偏光板とは、偏光フィルムと本発明の光学フィルムを含む積層体とが張り合わされたものである。積層体２及び積層体２’の代わりに、積層体２から支持基材４及び配向膜５を剥離した、光学フィルム６を用いてもよいし、積層体２から支持基材４を剥離した、配向膜５及び光学フィルム６からなるフィルムを用いてもよい。
本発明の偏光板は、積層体を複数積層してもよく、その複数の積層体は、全て同一であっても、異なっていてもよい。
偏光フィルム３は、偏光機能を有するフィルムであればよく、たとえばポリビニルアルコール系フィルムにヨウ素や二色性色素を吸着させて延伸したフィルム、ポリビニルアルコール系フィルムを延伸してヨウ素や二色性色素を吸着させたフィルムなどが挙げられる。
接着剤層７及び接着剤層７’に用いられる接着剤は、透明性が高く耐熱性に優れた接着剤であることが好ましい。そのような接着剤としては、たとえばアクリル系、エポキシ系又はウレタン系接着剤などが用いられる。
本発明のフラットパネル表示装置は、本発明の光学フィルムを備えるものであり、たとえば本発明の偏光フィルムと液晶パネルとが貼り合わされた貼合品を備える液晶表示装置や、本発明の偏光フィルムと、発光層とが貼り合わされた有機ＥＬパネルを備える有機ＥＬ表示装置を挙げることができる。
本発明にかかるフラットパネル表示装置の実施形態として、液晶表示装置と、有機ＥＬ表示装置とについて、以下詳細に述べる。
〔液晶表示装置〕
図３は、本発明に係る液晶表示装置の液晶パネル１１と偏光板１との貼合品１０を示す概略図である。
図３は、本発明に係る液晶表示装置の液晶パネル１１と偏光板１との貼合品１０を示す概略図である。
液晶表示装置としては、たとえば図２に示すような液晶パネル１１と偏光板１との貼合品１０を備える液晶表示装置などが挙げられる。貼合品１０は、本発明の偏光板１と液晶パネル１１とが、接着層１２を介して貼り合わされてなるものである。図示しない電極を用いて、液晶パネル１１に電圧を印加することにより、液晶分子が駆動し、光シャッター効果を奏する。
〔有機ＥＬ表示装置〕
図４は、本発明に係る有機ＥＬ表示装置の有機ＥＬパネル１３を示す概略図である。
図４は、本発明に係る有機ＥＬ表示装置の有機ＥＬパネル１３を示す概略図である。
有機ＥＬ表示装置としては、図４に示す有機ＥＬパネル１３を備える有機ＥＬ表示装置などが挙げられる。有機ＥＬパネル１３は、本発明の偏光フィルム１と、発光層１４とが、接着層１５を介して貼り合わされてなるものである。
上記有機ＥＬパネルにおいて、偏光フィルム１は、広帯域円偏光板として機能する。また上記発光層１４は、導電性有機化合物からなる少なくとも１層の層である。
以下、実施例により本発明をさらに詳細に説明する。例中の「％」および「部」は、特記ない限り、重量％および重量部である。
（実施例１）
＜化合物（Ｘ−０１）の合成＞
下記スキームに従って合成した。化合物（Ｔ−０１）の原料である４，７−ジメトキシ−２−フェニルベンゾチアゾールは、Ｊ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．，Ｐｅｒｋｉｎ Ｔｒａｎｓ．１誌、２０５−２１０頁（２０００年）に記載の方法に準じて得た。
（実施例１）
＜化合物（Ｘ−０１）の合成＞
下記スキームに従って合成した。化合物（Ｔ−０１）の原料である４，７−ジメトキシ−２−フェニルベンゾチアゾールは、Ｊ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．，Ｐｅｒｋｉｎ Ｔｒａｎｓ．１誌、２０５−２１０頁（２０００年）に記載の方法に準じて得た。
（４−（６−ヒドロキシヘキシルオキシ）安息香酸エチル（ＭＧ−ａ）の合成例）
４−ヒドロキシ安息香酸エチル１５０ｇ（０．９０ｍｏｌ）、炭酸カリウム１８６ｇ（１．３５ｍｏｌ）、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド７５０ｇを加え、８０℃に昇温した。続いて６−ブロモヘキサノール２４４ｇ（１．２４ｍｏｌ）を滴下し、その後８０℃で攪拌した。冷却後、酢酸エチルを加え、水洗、溶媒を留去することにより、化合物（ＭＧ−ａ）を主成分とする固体３１２ｇを得た。
４−ヒドロキシ安息香酸エチル１５０ｇ（０．９０ｍｏｌ）、炭酸カリウム１８６ｇ（１．３５ｍｏｌ）、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド７５０ｇを加え、８０℃に昇温した。続いて６−ブロモヘキサノール２４４ｇ（１．２４ｍｏｌ）を滴下し、その後８０℃で攪拌した。冷却後、酢酸エチルを加え、水洗、溶媒を留去することにより、化合物（ＭＧ−ａ）を主成分とする固体３１２ｇを得た。
（４−（６−ヒドロキシヘキシルオキシ）安息香酸（ＭＧ−ｂ）の合成例）
前項で得られた化合物（ＭＧ−ａ）を主成分とする固体３１２ｇをメタノールに溶解させた。次いで水酸化カリウムを含有するメタノール溶液（水酸化カリウム３２８ｇ（５．８５ｍｏｌ））を滴下し、約７０℃で攪拌した。冷却後、塩酸を加え、析出した固体を水洗、濾別して、５０℃減圧下、乾燥させることにより化合物（ＭＧ−ｂ）を主成分とする固体１９５ｇ（０．８２ｍｏｌ）を得た。収率は化合物（ＭＧ−ａ）基準で９１％であった。
前項で得られた化合物（ＭＧ−ａ）を主成分とする固体３１２ｇをメタノールに溶解させた。次いで水酸化カリウムを含有するメタノール溶液（水酸化カリウム３２８ｇ（５．８５ｍｏｌ））を滴下し、約７０℃で攪拌した。冷却後、塩酸を加え、析出した固体を水洗、濾別して、５０℃減圧下、乾燥させることにより化合物（ＭＧ−ｂ）を主成分とする固体１９５ｇ（０．８２ｍｏｌ）を得た。収率は化合物（ＭＧ−ａ）基準で９１％であった。
（４−（６−アクリルオキシヘキシルオキシ）安息香酸（ＭＧ−ｃ）の合成例）
前項で得られた化合物（ＭＧ−ｂ）を主成分とする固体１９５ｇ（化合物（ＭＧ−ｂ）として０．８２ｍｏｌ）とＮ，Ｎ−ジメチルアニリン２０８ｇとを格納した容器内を窒素置換した後、１，４−ジオキサンで溶解させた。反応溶液を７０℃に昇温し、アクリル酸クロリド１４８ｇ（１．６４ｍｏｌ）を滴下し、攪拌した。冷却後、酢酸エチルを加え、水洗、溶媒を留去させることにより、化合物（ＭＧ−ｃ）を主成分とする固体１２０ｇ（０．４１ｍｏｌ）を得た。収率は化合物（ＭＧ−ｂ）基準で５０％であった。
前項で得られた化合物（ＭＧ−ｂ）を主成分とする固体１９５ｇ（化合物（ＭＧ−ｂ）として０．８２ｍｏｌ）とＮ，Ｎ−ジメチルアニリン２０８ｇとを格納した容器内を窒素置換した後、１，４−ジオキサンで溶解させた。反応溶液を７０℃に昇温し、アクリル酸クロリド１４８ｇ（１．６４ｍｏｌ）を滴下し、攪拌した。冷却後、酢酸エチルを加え、水洗、溶媒を留去させることにより、化合物（ＭＧ−ｃ）を主成分とする固体１２０ｇ（０．４１ｍｏｌ）を得た。収率は化合物（ＭＧ−ｂ）基準で５０％であった。
（４，７−ジヒドロキシ−２−フェニルベンゾチアゾール（Ｔ−０１）の合成例）
４，７−ジメトキシ−２−フェニルベンゾチアゾール１０．８ｇ（３９．８ｍｍｏｌ）と塩化ピリジニウム５４．０ｇ（５倍質量）とを容器に入れ、２２０℃に昇温して固体を溶融させ攪拌した。冷却後、水を２１６ｇ加え、得られた沈殿を濾別し、水およびヘキサンでよく洗浄して、化合物（Ｔ−０１）を主成分とする固体８．７ｇを得た。収率は４，７−ジメトキシ−２−フェニルベンゾチアゾール基準で８９％であった。
４，７−ジメトキシ−２−フェニルベンゾチアゾール１０．８ｇ（３９．８ｍｍｏｌ）と塩化ピリジニウム５４．０ｇ（５倍質量）とを容器に入れ、２２０℃に昇温して固体を溶融させ攪拌した。冷却後、水を２１６ｇ加え、得られた沈殿を濾別し、水およびヘキサンでよく洗浄して、化合物（Ｔ−０１）を主成分とする固体８．７ｇを得た。収率は４，７−ジメトキシ−２−フェニルベンゾチアゾール基準で８９％であった。
（化合物（Ｘ−０１）の合成例）
容器に、化合物（Ｔ−０１）を５．４ｇ（２２．０ｍｍｏｌ）、化合物（ＭＧ−ｃ）を１３．２ｇ（４５．１ｍｍｏｌ）、４−ジメチルアミノピリジン０．５５ｇ（４．５ｍｍｏｌ）、およびクロロホルム１０５ｇを混合し、続いてＮ，Ｎ’−ジシクロヘキシルカルボジイミド（ＤＣＣ）１０．２ｇ（４９．６ｍｍｏｌ）をクロロホルム２６ｇに溶解させ、滴下し、室温で攪拌した。析出した固体を濾別した後、クロロホルム溶液を２Ｎ塩酸１３２ｇで２回分液洗浄し、有機層を取り出した。有機層を減圧下、溶媒を留去し、メタノールを添加し、固形物を取得した。取得した固形物は、メタノールで洗浄し、化合物（Ｘ−０１）１２．４ｇを得た。収率は化合物（Ｔ−０１）基準で７１％であった。
容器に、化合物（Ｔ−０１）を５．４ｇ（２２．０ｍｍｏｌ）、化合物（ＭＧ−ｃ）を１３．２ｇ（４５．１ｍｍｏｌ）、４−ジメチルアミノピリジン０．５５ｇ（４．５ｍｍｏｌ）、およびクロロホルム１０５ｇを混合し、続いてＮ，Ｎ’−ジシクロヘキシルカルボジイミド（ＤＣＣ）１０．２ｇ（４９．６ｍｍｏｌ）をクロロホルム２６ｇに溶解させ、滴下し、室温で攪拌した。析出した固体を濾別した後、クロロホルム溶液を２Ｎ塩酸１３２ｇで２回分液洗浄し、有機層を取り出した。有機層を減圧下、溶媒を留去し、メタノールを添加し、固形物を取得した。取得した固形物は、メタノールで洗浄し、化合物（Ｘ−０１）１２．４ｇを得た。収率は化合物（Ｔ−０１）基準で７１％であった。
得られた化合物（Ｘ−０１）の相転移温度を偏光顕微鏡によるテクスチャー観察によって行った。温度を上げていくと６８℃付近で結晶相から等方性液体相に変わり、等方性液体相から温度を下げていくと６６℃付近でディスコティックネマティック相（Ｎｄ相）に変わり、さらに４５℃付近まで温度を下げても結晶相には戻らなかった。すなわち、化合物（Ｘ−０１）は、降温時において、６６℃から４５℃までＮｄ相を呈することが分かった。
（実施例２）
＜化合物（Ｘ−０２）の合成＞
下記スキームに従って合成した。
＜化合物（Ｘ−０２）の合成＞
下記スキームに従って合成した。
（（Ｔ−０２ａ）の合成例）
容器に、２，５−ジメトキシアニリン４３．０ｇ（２８１ｍｍｏｌ）、トリエチルアミン５９．７ｇ（５９０ｍｍｏｌ）、脱水クロロホルム４９９．７ｇを入れ、室温で良く攪拌した。この容器へ、イソニコチノイル クロリド塩酸塩５０．０ｇ（２８１ｍｍｏｌ）を１５分以上かけて少量ずつ加えた。その後、６０℃に昇温して攪拌した。反応溶液を室温まで冷却し、５００ｇの水中に投入した。分液して有機層を取り、水層にクロロホルムを３３３ｇ加え、分液洗浄して有機層を取った。これら２つの有機層を合わせ、さらに水で洗浄した。得られた有機層を、減圧下、溶媒を留去し、化合物（Ｔ−０２ａ）を主成分とする固体７１．５ｇを得た。収率は２，５−ジメトキシアニリン基準で９９％であった。
容器に、２，５−ジメトキシアニリン４３．０ｇ（２８１ｍｍｏｌ）、トリエチルアミン５９．７ｇ（５９０ｍｍｏｌ）、脱水クロロホルム４９９．７ｇを入れ、室温で良く攪拌した。この容器へ、イソニコチノイル クロリド塩酸塩５０．０ｇ（２８１ｍｍｏｌ）を１５分以上かけて少量ずつ加えた。その後、６０℃に昇温して攪拌した。反応溶液を室温まで冷却し、５００ｇの水中に投入した。分液して有機層を取り、水層にクロロホルムを３３３ｇ加え、分液洗浄して有機層を取った。これら２つの有機層を合わせ、さらに水で洗浄した。得られた有機層を、減圧下、溶媒を留去し、化合物（Ｔ−０２ａ）を主成分とする固体７１．５ｇを得た。収率は２，５−ジメトキシアニリン基準で９９％であった。
（化合物（Ｔ−０２ｂ）の合成例）
容器に、化合物（Ｔ−０２ａ）を７０．０ｇ（２７２．０ｍｍｏｌ）、２，４−ビス（４−メトキシフェニル）−１，３−ジチアー２，４−ジホスフェタンー２，４−ジスルフィド（ローソン試薬）６５．８ｇ（１６２．０ｍｍｏｌ）、トルエン２４３６ｇを加え、８０℃に昇温して攪拌した。反応溶液を、冷却後、濃縮し、化合物（Ｔ−０２ｂ）を主成分とする固体を得た。化合物（Ｔ−０２ｂ）は精製せずに、そのまま全量を次工程へ用いた。
容器に、化合物（Ｔ−０２ａ）を７０．０ｇ（２７２．０ｍｍｏｌ）、２，４−ビス（４−メトキシフェニル）−１，３−ジチアー２，４−ジホスフェタンー２，４−ジスルフィド（ローソン試薬）６５．８ｇ（１６２．０ｍｍｏｌ）、トルエン２４３６ｇを加え、８０℃に昇温して攪拌した。反応溶液を、冷却後、濃縮し、化合物（Ｔ−０２ｂ）を主成分とする固体を得た。化合物（Ｔ−０２ｂ）は精製せずに、そのまま全量を次工程へ用いた。
（化合物（Ｔ−０２ｃ）の合成例）
容器に、化合物（Ｔ−０２ｂ）を主成分とする固体、水酸化ナトリウム３３３ｇ（８３２５ｍｍｏｌ）、水５５５０ｇを混合し、氷冷下で良く攪拌した。続いてフェリシアン化カリウム１８４．３ｇ（５６０ｍｍｏｌ）を水８８８ｇに溶解させた溶液を、氷冷下で加え、攪拌した。析出した固体を濾別した後、冷水とヘキサンで良く洗浄し、化合物（Ｔ−０２ｃ）を主成分とする固体２５．９ｇを得た。前工程と合わせた２工程分の収率は化合物（Ｔ−０２ａ）基準で３５％であった。
容器に、化合物（Ｔ−０２ｂ）を主成分とする固体、水酸化ナトリウム３３３ｇ（８３２５ｍｍｏｌ）、水５５５０ｇを混合し、氷冷下で良く攪拌した。続いてフェリシアン化カリウム１８４．３ｇ（５６０ｍｍｏｌ）を水８８８ｇに溶解させた溶液を、氷冷下で加え、攪拌した。析出した固体を濾別した後、冷水とヘキサンで良く洗浄し、化合物（Ｔ−０２ｃ）を主成分とする固体２５．９ｇを得た。前工程と合わせた２工程分の収率は化合物（Ｔ−０２ａ）基準で３５％であった。
（化合物（Ｔ−０２）の合成例）
化合物（Ｔ−０２ｃ）を５．６ｇ（２１．０ｍｍｏｌ）と塩化ピリジニウム２８．０ｇ（５倍質量）を容器に入れ、１８０℃に昇温して固体を溶融させ攪拌した。冷却後、水を２２４ｇ加え、得られた沈殿を濾別し、水およびクロロホルムでよく洗浄して、化合物（Ｔ−０２）を主成分とする固体３．４ｇを得た。収率は化合物（Ｔ−０２ｃ）基準で６８％であった。
化合物（Ｔ−０２ｃ）を５．６ｇ（２１．０ｍｍｏｌ）と塩化ピリジニウム２８．０ｇ（５倍質量）を容器に入れ、１８０℃に昇温して固体を溶融させ攪拌した。冷却後、水を２２４ｇ加え、得られた沈殿を濾別し、水およびクロロホルムでよく洗浄して、化合物（Ｔ−０２）を主成分とする固体３．４ｇを得た。収率は化合物（Ｔ−０２ｃ）基準で６８％であった。
（化合物（Ｘ−０２）の合成例）
化合物（Ｘ−０１）の合成例における、原料の化合物（Ｔ−０１）を化合物（Ｔ−０２）に変える以外は同様の方法にて、化合物（Ｘ−０２）を得た。収率は化合物（Ｔ−０２）基準で７％であった。
化合物（Ｘ−０１）の合成例における、原料の化合物（Ｔ−０１）を化合物（Ｔ−０２）に変える以外は同様の方法にて、化合物（Ｘ−０２）を得た。収率は化合物（Ｔ−０２）基準で７％であった。
得られた化合物（Ｘ−０２）の相転移温度を偏光顕微鏡によるテクスチャー観察によって行った。温度を上げていくと８５℃付近で結晶相から等方性液体相に変わり、等方性液体相から温度を下げていくと７６℃付近でディスコティックネマティック相（Ｎｄ相）に変わり、さらに４０℃付近まで温度を下げても結晶相には戻らなかった。すなわち、化合物（Ｘ−０２）は、降温時において、７６℃から４０℃までＮｄ相を呈することが分かった。
（実施例３）
＜化合物（Ｘ−０３）の合成＞
下記スキームに従って合成した。
＜化合物（Ｘ−０３）の合成＞
下記スキームに従って合成した。
（化合物（Ｔ−０３ａ）の合成例）
化合物（Ｔ−０２ａ）の合成例における、原料のイソニコチノイル クロリド塩酸塩を４−ニトロベンゾイル クロリドに変える以外は同様の方法にて化合物（Ｔ−０３ａ）を主成分とする固体を得た。収率は２，５−ジメトキシアニリン基準で９８％であった。
化合物（Ｔ−０２ａ）の合成例における、原料のイソニコチノイル クロリド塩酸塩を４−ニトロベンゾイル クロリドに変える以外は同様の方法にて化合物（Ｔ−０３ａ）を主成分とする固体を得た。収率は２，５−ジメトキシアニリン基準で９８％であった。
（化合物（Ｔ−０３ｂ）の合成例）
化合物（Ｔ−０２ｂ）の合成例における、原料の化合物（Ｔ−０２ａ）を化合物（Ｔ−０３ａ）に変える以外は同様の方法にて化合物（Ｔ−０３ｂ）を主成分とする固体を得た。収率は化合物（Ｔ−０３ａ）基準で８９％であった。
化合物（Ｔ−０２ｂ）の合成例における、原料の化合物（Ｔ−０２ａ）を化合物（Ｔ−０３ａ）に変える以外は同様の方法にて化合物（Ｔ−０３ｂ）を主成分とする固体を得た。収率は化合物（Ｔ−０３ａ）基準で８９％であった。
（化合物（Ｔ−０３ｃ）の合成例）
化合物（Ｔ−０２ｃ）の合成例における、原料の化合物（Ｔ−０２ｂ）を化合物（Ｔ−０３ｂ）に変える以外は同様の方法にて化合物（Ｔ−０３ｃ）を主成分とする固体を得た。収率は化合物（Ｔ−０３ｂ）基準で５２％であった。
化合物（Ｔ−０２ｃ）の合成例における、原料の化合物（Ｔ−０２ｂ）を化合物（Ｔ−０３ｂ）に変える以外は同様の方法にて化合物（Ｔ−０３ｃ）を主成分とする固体を得た。収率は化合物（Ｔ−０３ｂ）基準で５２％であった。
（化合物（Ｔ−０３）の合成例）
化合物（Ｔ−０３ｃ）を２１．０ｇ（６６．０ｍｍｏｌ）と脱水トルエン４４１ｇを容器に入れ、よく攪拌した。容器を氷冷し、三臭化ホウ素１００ｇ（３９８ｍｍｏｌ）をゆっくりと加えた。７０℃まで昇温し、攪拌した。室温まで冷却した後、さらに氷冷し、水をゆっくり１５８８ｇ加え、得られた沈殿を濾別し、水、およびクロロホルムでよく洗浄して、化合物（Ｔ−０３）を主成分とする固体１６．５ｇを得た。収率は化合物（Ｔ−０３ｃ）基準で８６％であった。
化合物（Ｔ−０３ｃ）を２１．０ｇ（６６．０ｍｍｏｌ）と脱水トルエン４４１ｇを容器に入れ、よく攪拌した。容器を氷冷し、三臭化ホウ素１００ｇ（３９８ｍｍｏｌ）をゆっくりと加えた。７０℃まで昇温し、攪拌した。室温まで冷却した後、さらに氷冷し、水をゆっくり１５８８ｇ加え、得られた沈殿を濾別し、水、およびクロロホルムでよく洗浄して、化合物（Ｔ−０３）を主成分とする固体１６．５ｇを得た。収率は化合物（Ｔ−０３ｃ）基準で８６％であった。
（化合物（Ｘ−０３）の合成例）
化合物（Ｘ−０１）の合成例における、原料の化合物（Ｔ−０１）を化合物（Ｔ−０３）に変える以外は同様の方法にて、化合物（Ｘ−０３）を得た。収率は化合物（Ｔ−０３）基準で５５％であった。
化合物（Ｘ−０１）の合成例における、原料の化合物（Ｔ−０１）を化合物（Ｔ−０３）に変える以外は同様の方法にて、化合物（Ｘ−０３）を得た。収率は化合物（Ｔ−０３）基準で５５％であった。
得られた化合物（Ｘ−０３）の相転移温度を偏光顕微鏡によるテクスチャー観察によって行った。温度を上げていくと８５℃付近で結晶相から等方性液体相に変わり、等方性液体相から温度を下げていくと６２℃付近でディスコティックネマティック相（Ｎｄ相）に変わり、さらに５５℃付近まで温度を下げると結晶相に戻った。すなわち、化合物（Ｘ−０３）は、降温時において、６２℃から５５℃までＮｄ相を呈することが分かった。
（比較例１）
＜化合物（Ｙ−０２）の合成＞
下記スキームに従って合成した。
＜化合物（Ｙ−０２）の合成＞
下記スキームに従って合成した。
（４−（４−アセチルオキシブチルオキシ）安息香酸エチル（化合物（ＭＧ−ｄ））の合成例）
４−ヒドロキシ安息香酸エチル８４．５ｇ（５０９ｍｍｏｌ）、酢酸４−クロロブチル８４．２ｇ（５５９ｍｍｏｌ）、炭酸カリウム１０５ｇ（７６３ｍｍｏｌ）、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド２５４ｇを加え、１００℃に昇温し、攪拌した。冷却後、メチルイソブチルケトンを加え、水洗、溶媒を留去することにより、化合物（ＭＧ−ｄ）を主成分とする油状物質１２６ｇを得た。収率は４−ヒドロキシ安息香酸エチル基準で８８％であった。
４−ヒドロキシ安息香酸エチル８４．５ｇ（５０９ｍｍｏｌ）、酢酸４−クロロブチル８４．２ｇ（５５９ｍｍｏｌ）、炭酸カリウム１０５ｇ（７６３ｍｍｏｌ）、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド２５４ｇを加え、１００℃に昇温し、攪拌した。冷却後、メチルイソブチルケトンを加え、水洗、溶媒を留去することにより、化合物（ＭＧ−ｄ）を主成分とする油状物質１２６ｇを得た。収率は４−ヒドロキシ安息香酸エチル基準で８８％であった。
（４−（４−ヒドロキシブチルオキシ）安息香酸（化合物（ＭＧ−ｅ））の合成例）
化合物（ＭＧ−ｄ）を主成分とする油状物質１２６ｇ、メタノール３７８ｇ、水２５２ｇ、水酸化ナトリウム５４ｇ（１３４８ｍｍｏｌ）を混合し、約６５℃で攪拌した。冷却後、反応溶液を氷７５６ｇに注ぎ込み、塩酸を加え、析出した固体を濾別して、水およびヘプタンで洗浄し、乾燥させることにより化合物（ＭＧ−ｅ）を主成分とする固体９１ｇを得た。収率は化合物（ＭＧ−ｄ）基準で９７％であった。
化合物（ＭＧ−ｄ）を主成分とする油状物質１２６ｇ、メタノール３７８ｇ、水２５２ｇ、水酸化ナトリウム５４ｇ（１３４８ｍｍｏｌ）を混合し、約６５℃で攪拌した。冷却後、反応溶液を氷７５６ｇに注ぎ込み、塩酸を加え、析出した固体を濾別して、水およびヘプタンで洗浄し、乾燥させることにより化合物（ＭＧ−ｅ）を主成分とする固体９１ｇを得た。収率は化合物（ＭＧ−ｄ）基準で９７％であった。
（４−（４−アクリルオキシブチルオキシ）安息香酸（化合物（ＭＧ−ｆ））の合成例）
化合物（ＭＧ−ｅ）を主成分とする固体９０．０ｇ（４２８ｍｍｏｌ）とＮ，Ｎ−ジメチルアニリン７７．８ｇ（６４２ｍｍｏｌ）を格納した容器内を窒素置換した後、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド７２０ｇで溶解させた。反応溶液を０℃に氷冷し、アクリル酸クロリド５８．１ｇ（６４２ｍｍｏｌ）を滴下し、室温で攪拌した。１Ｎ塩酸を加え、析出した固体を濾別した。得られた固体を酢酸エチルに溶解させ、水洗、溶媒を留去させることにより、化合物（ＭＧ−ｆ）を主成分とする固体１０２ｇを得た。収率は化合物（ＭＧ−ｅ）基準で９０％であった。
化合物（ＭＧ−ｅ）を主成分とする固体９０．０ｇ（４２８ｍｍｏｌ）とＮ，Ｎ−ジメチルアニリン７７．８ｇ（６４２ｍｍｏｌ）を格納した容器内を窒素置換した後、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド７２０ｇで溶解させた。反応溶液を０℃に氷冷し、アクリル酸クロリド５８．１ｇ（６４２ｍｍｏｌ）を滴下し、室温で攪拌した。１Ｎ塩酸を加え、析出した固体を濾別した。得られた固体を酢酸エチルに溶解させ、水洗、溶媒を留去させることにより、化合物（ＭＧ−ｆ）を主成分とする固体１０２ｇを得た。収率は化合物（ＭＧ−ｅ）基準で９０％であった。
（化合物（Ｙ−０２）の合成例）
化合物（Ｘ−０１）の合成例における、原料の化合物（Ｔ−０１）を１，４−ジヒドロキシナフタレンに、化合物（ＭＧ−ｃ）を化合物（ＭＧ−ｆ）に変える以外は同様の方法にて、化合物（Ｙ−０２）を得た。収率は１，４−ジヒドロキシナフタレン基準で６６％であった。
化合物（Ｘ−０１）の合成例における、原料の化合物（Ｔ−０１）を１，４−ジヒドロキシナフタレンに、化合物（ＭＧ−ｃ）を化合物（ＭＧ−ｆ）に変える以外は同様の方法にて、化合物（Ｙ−０２）を得た。収率は１，４−ジヒドロキシナフタレン基準で６６％であった。
得られた化合物（Ｙ−０２）の相転移温度を偏光顕微鏡によるテクスチャー観察によって行った。温度を上げていくと１１２℃付近で結晶相からネマティック相に変わり、さらに１２４℃付近で等方性液体相に変わった。等方性液体相から温度を下げていくと１２４℃付近でネマティック相に変わり、さらに１０１℃付近まで温度を下げると結晶相に戻った。すなわち、化合物（Ｙ−０２）は、昇温時においては１１２℃から１２４℃の間で、降温時においては１２４℃から１０１℃の間で、ネマティック相を呈するのみで、Ｎｄ相を示さないことが分かった。
（実施例４）
＜光学フィルムの製造例＞
ガラス基板にポリビニルアルコール（ポリビニルアルコール１０００完全ケン化型、和光純薬工業株式会社製）の２重量％水溶液を塗布したのち、加熱乾燥後、厚さ８９ｎｍ膜を得た。続いて、表面にラビング処理を施したのち、ラビング処理を施した面に、表１に示す組成の塗布液（混合溶液）をスピンコート法により塗布した。続いて、１００℃ホットプレート上で１分乾燥した後、室温下で１２００ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射して、膜厚１．００μｍの光学フィルムを作成した。
表１中、光重合開始剤は、イルガキュア９０７(チバ・ジャパン株式会社製)、レベリング剤には、ＢＹＫ３６１Ｎ（ビックケミージャパン株式会社製）、溶媒はシクロペンタノンを用いた。また、溶媒以外の表中の重量％は、塗布液を１００重量％とした固形分の重量％を意味する。
＜光学フィルムの製造例＞
ガラス基板にポリビニルアルコール（ポリビニルアルコール１０００完全ケン化型、和光純薬工業株式会社製）の２重量％水溶液を塗布したのち、加熱乾燥後、厚さ８９ｎｍ膜を得た。続いて、表面にラビング処理を施したのち、ラビング処理を施した面に、表１に示す組成の塗布液（混合溶液）をスピンコート法により塗布した。続いて、１００℃ホットプレート上で１分乾燥した後、室温下で１２００ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射して、膜厚１．００μｍの光学フィルムを作成した。
表１中、光重合開始剤は、イルガキュア９０７(チバ・ジャパン株式会社製)、レベリング剤には、ＢＹＫ３６１Ｎ（ビックケミージャパン株式会社製）、溶媒はシクロペンタノンを用いた。また、溶媒以外の表中の重量％は、塗布液を１００重量％とした固形分の重量％を意味する。
＜光学特性の測定＞
作成した光学フィルムの正面位相差値およびチルト角を測定機（ＫＯＢＲＡ−ＷＲ、王子計測機器社製）を用いて測定した。また、光学フィルムの化合物に由来する膜厚をレーザー顕微鏡（ＬＥＸＴ、オリンパス社製）を用いて測定した。以上の測定を行ったところ、正面位相差値は１０７．８ｎｍ、チルト角は２．９度、Δｎは０．１０９であることがわかった。結果を表２に示す。
作成した光学フィルムの正面位相差値およびチルト角を測定機（ＫＯＢＲＡ−ＷＲ、王子計測機器社製）を用いて測定した。また、光学フィルムの化合物に由来する膜厚をレーザー顕微鏡（ＬＥＸＴ、オリンパス社製）を用いて測定した。以上の測定を行ったところ、正面位相差値は１０７．８ｎｍ、チルト角は２．９度、Δｎは０．１０９であることがわかった。結果を表２に示す。
（実施例５）
＜ネガティブＡプレートの製造例＞
実施例４と同様にして、膜厚０．８１μｍの光学フィルムを作成した。
＜光学特性の測定＞
作製した光学フィルムのフィルム面の法線方向を０°とし、測定機（エリプソメーター、Ｍ−２２０、日本分光社製）を用いて、５５０ｎｍの光を０°から入射して、入射光の相差値を測定した。その後、進相軸および遅相軸を中心にして、５°刻みでサンプルを傾斜させて、−６０°から６０°の範囲で位相差値を測定した。得られた面内の位相差値Ｒ0、遅相軸を傾斜軸として４０度傾斜させて測定した位相差値Ｒ40、フィルムの厚みｄ、及びフィルムの平均屈折率ｎ0を１．６と仮定した値を用い、前述の式(４)、（５）および（６）から数値計算によりｎx、ｎy及びｎzを求めた。結果を表３に示す。ｎx、ｎy及びｎzの値がｎx≒ｎz＞ｎyを満たしていることから、実施例５の光学フィルムはネガティブＡプレートとなっていることがわかった。
＜ネガティブＡプレートの製造例＞
実施例４と同様にして、膜厚０．８１μｍの光学フィルムを作成した。
＜光学特性の測定＞
作製した光学フィルムのフィルム面の法線方向を０°とし、測定機（エリプソメーター、Ｍ−２２０、日本分光社製）を用いて、５５０ｎｍの光を０°から入射して、入射光の相差値を測定した。その後、進相軸および遅相軸を中心にして、５°刻みでサンプルを傾斜させて、−６０°から６０°の範囲で位相差値を測定した。得られた面内の位相差値Ｒ0、遅相軸を傾斜軸として４０度傾斜させて測定した位相差値Ｒ40、フィルムの厚みｄ、及びフィルムの平均屈折率ｎ0を１．６と仮定した値を用い、前述の式(４)、（５）および（６）から数値計算によりｎx、ｎy及びｎzを求めた。結果を表３に示す。ｎx、ｎy及びｎzの値がｎx≒ｎz＞ｎyを満たしていることから、実施例５の光学フィルムはネガティブＡプレートとなっていることがわかった。
（実施例６）
＜ネガティブＣプレートの製造例＞
ガラス基板にポリビニルアルコール（ポリビニルアルコール１０００完全ケン化型、和光純薬工業株式会社製）の２重量％水溶液を塗布したのち、加熱乾燥後、厚さ８９ｎｍ膜を２枚作成した。続いて、一方の基板にアクリル樹脂微粒子（早川ゴム製ハヤビーズL−11R、径４．０μｍ）をスピンコーターで塗布した。これらの２枚の基板を、配向膜を塗工した面が向かい合うように重ね合わせ、この基板間に、１００℃ホットプレート上で表１の組成の塗布液（混合溶液）を流し込んだ。続いて、５０℃で２４００ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射して、膜厚４μｍの光学フィルムを作成した。
＜光学特性の測定＞
作製した光学フィルムの光学特性を、実施例５と同様に測定した。結果を表３に示す。ｎx、ｎy及びｎzの値がｎx≒ｎy＞ｎz満たしていることから、実施例６の光学フィルムはネガティブＣプレートとなっていることがわかった。
＜ネガティブＣプレートの製造例＞
ガラス基板にポリビニルアルコール（ポリビニルアルコール１０００完全ケン化型、和光純薬工業株式会社製）の２重量％水溶液を塗布したのち、加熱乾燥後、厚さ８９ｎｍ膜を２枚作成した。続いて、一方の基板にアクリル樹脂微粒子（早川ゴム製ハヤビーズL−11R、径４．０μｍ）をスピンコーターで塗布した。これらの２枚の基板を、配向膜を塗工した面が向かい合うように重ね合わせ、この基板間に、１００℃ホットプレート上で表１の組成の塗布液（混合溶液）を流し込んだ。続いて、５０℃で２４００ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射して、膜厚４μｍの光学フィルムを作成した。
＜光学特性の測定＞
作製した光学フィルムの光学特性を、実施例５と同様に測定した。結果を表３に示す。ｎx、ｎy及びｎzの値がｎx≒ｎy＞ｎz満たしていることから、実施例６の光学フィルムはネガティブＣプレートとなっていることがわかった。
（実施例７）
＜ポジティブＣプレートの製造例＞
ガラス基板にサンエバー５２９１（日産化学工業株式会社製）を塗布したのち、加熱乾燥後、厚さ１３０ｎｍ膜を得た。続いて、塗布した膜上に、表１の組成の塗布液（混合溶液）をスピンコート法により塗布した。続いて、１００℃ホットプレート上で１分乾燥した後、５０℃で２４００ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射して、膜厚０．９４μｍの光学フィルムを作成した。
＜光学特性の測定＞
作製した光学フィルムの光学特性を、実施例５と同様に測定した。結果を表３に示す。ｎx、ｎy及びｎzの値がｎx≒ｎy＜ｎz満たしていることから、実施例７の光学フィルムはポジティブＣプレートとなっていることがわかった。
＜ポジティブＣプレートの製造例＞
ガラス基板にサンエバー５２９１（日産化学工業株式会社製）を塗布したのち、加熱乾燥後、厚さ１３０ｎｍ膜を得た。続いて、塗布した膜上に、表１の組成の塗布液（混合溶液）をスピンコート法により塗布した。続いて、１００℃ホットプレート上で１分乾燥した後、５０℃で２４００ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射して、膜厚０．９４μｍの光学フィルムを作成した。
＜光学特性の測定＞
作製した光学フィルムの光学特性を、実施例５と同様に測定した。結果を表３に示す。ｎx、ｎy及びｎzの値がｎx≒ｎy＜ｎz満たしていることから、実施例７の光学フィルムはポジティブＣプレートとなっていることがわかった。
（実施例８）
＜ネガティブＯプレートの製造例＞
ガラス基板にポリビニルアルコール(ポリビニルアルコール１０００完全ケン化型、和光純薬工業株式会社製)の２重量％水溶液を塗布したのち、加熱乾燥後、厚さ８９ｎｍ膜を２枚作成した。続いて、一方の基板にアクリル樹脂微粒子（早川ゴム製ハヤビーズＬ−１１Ｒ、径４．０μｍ）をスピンコーターで塗布した。また、他方の基板は、配向膜表面にラビング処理を施した。これらの２枚の基板を、配向膜を塗工した面が向かい合うように重ね合わせ、この基板間に、１００℃ホットプレート上で表１の組成の塗布液（混合溶液）を流し込んだ。続いて、５０℃で２４００ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射して、膜厚４μｍの光学フィルムを作成した。
＜光学特性の測定＞
作製した光学フィルムの光学特性を、実施例５と同様に測定した。結果を表３に示す。ｎx、ｎy及びｎzの値がｎx＞ｎy＞ｎzを満たしていることから、実施例８の光学フィルムはネガティブＯプレートとなっていることがわかった。
＜ネガティブＯプレートの製造例＞
ガラス基板にポリビニルアルコール(ポリビニルアルコール１０００完全ケン化型、和光純薬工業株式会社製)の２重量％水溶液を塗布したのち、加熱乾燥後、厚さ８９ｎｍ膜を２枚作成した。続いて、一方の基板にアクリル樹脂微粒子（早川ゴム製ハヤビーズＬ−１１Ｒ、径４．０μｍ）をスピンコーターで塗布した。また、他方の基板は、配向膜表面にラビング処理を施した。これらの２枚の基板を、配向膜を塗工した面が向かい合うように重ね合わせ、この基板間に、１００℃ホットプレート上で表１の組成の塗布液（混合溶液）を流し込んだ。続いて、５０℃で２４００ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射して、膜厚４μｍの光学フィルムを作成した。
＜光学特性の測定＞
作製した光学フィルムの光学特性を、実施例５と同様に測定した。結果を表３に示す。ｎx、ｎy及びｎzの値がｎx＞ｎy＞ｎzを満たしていることから、実施例８の光学フィルムはネガティブＯプレートとなっていることがわかった。
本発明の化合物は、Ｎｄ相を発現し、製造が容易である。
１，１ａ，１ｂ，１ｃ，１ｄ，１ｅ 偏光板
２，２’ 積層体
３ 偏光フィルム
４，４’ 支持基材
５，５’ 配向膜
６，６’ 光学フィルム
７，７’，１２，１５ 接着剤層
１０ 貼合品
１１ 液晶パネル
１３ 有機ＥＬパネル
１４ 発光層
２，２’ 積層体
３ 偏光フィルム
４，４’ 支持基材
５，５’ 配向膜
６，６’ 光学フィルム
７，７’，１２，１５ 接着剤層
１０ 貼合品
１１ 液晶パネル
１３ 有機ＥＬパネル
１４ 発光層
Claims (14)
- 式（１）で表される化合物。
［式（１）中、Ｘは、−Ｓ−を表す。
Ｙは、−Ｎ＝を表す。
Ｚは、炭素数５〜１５の芳香族炭化水素基または炭素数２〜１５の芳香族複素環基を表す。該芳香族炭化水素基および該芳香族複素環基に含まれる水素原子は、ニトロ基、ニトリル基、水酸基、メルカプト基、メトキシ基、メルカプトメチル基、アミノ基、ジメチルアミノ基またはハロゲン原子で置換されていてもよい。
Ａ １ は、−Ｏ−ＣＯ−を表す。Ａ ２ は、−ＣＯ−Ｏ−を表す。
Ｂ１ およびＢ ２ は、それぞれ独立に、−Ｏ−を表す。Ｅ １ は、−Ｏ−ＣＯ−を表す。Ｅ ２ は、−ＣＯ−Ｏ−を表す。
Ｄ１およびＤ２は、それぞれ独立に、炭素数１〜１２のアルキレン基を表し、Ｄ１およびＤ２に含まれる水素原子は、炭素数１〜４のアルキル基、炭素数１〜４のアルコキシ基又はハロゲン原子で置換されていてもよい。
Ｇ１、Ｇ２、Ｇ３、Ｇ４、Ｇ５、Ｇ６、Ｇ７、Ｇ８、Ｇ９、およびＧ１０はそれぞれ独立に、水素原子、ニトロ基、ニトリル基、水酸基、メルカプト基、メトキシ基、メルカプトメチル基、アミノ基、ジメチルアミノ基またはハロゲン原子を表す。
Ｑ１およびＱ２は、それぞれ独立に、式（Ｑ−１）〜式（Ｑ−４）で表される基からなる群から選ばれる基である。
（式（Ｑ−１）〜式（Ｑ−４）中、Ｒ３〜Ｒ７はそれぞれ独立に、水素原子または炭素数１〜４のアルキル基を表す。）］ - −Ｅ１−Ｑ１および−Ｅ２−Ｑ２が、それぞれ独立に、アクリロイルオキシ基またはメタクリロイルオキシ基である請求項１記載の化合物。
- 請求項１又は２記載の化合物と、該化合物とは異なる式（２）で表される化合物（２）とを含む組成物。
Ｐ１１−Ｅ１１−（Ｂ１１−Ａ１１）ｔ−Ｂ１２−Ｇ （２）
［式（２）中、Ａ１１は、芳香族炭化水素基、脂環式炭化水素基又は複素環基を表し、該芳香族炭化水素基、脂環式炭化水素基及び複素環基に含まれる水素原子は、ハロゲン原子、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基、炭素数１〜６のアルキルアミノ基、ニトロ基、ニトリル基又はメルカプト基で置換されていてもよい。
Ｂ１１及びＢ１２は、それぞれ独立に、−ＣＲ１４Ｒ１５−、−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＨ２−ＣＨ２−、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−Ｃ（＝Ｓ）−、−Ｃ（＝Ｓ）−Ｏ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｓ）−、−ＣＨ＝Ｎ−、−Ｎ＝ＣＨ−、−Ｎ＝Ｎ−、−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＲ１４−、−ＮＲ１４−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＯＣＨ２−、−ＯＣＦ２−、−ＮＲ１４−、−ＣＨ２Ｏ−、−ＣＦ２Ｏ−、−ＣＨ＝ＣＨ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−ＣＨ＝ＣＨ−又は単結合を表す。Ｒ１４及びＲ１５は、それぞれ独立に、水素原子、フッ素原子又は炭素数１〜４のアルキル基を表し、Ｒ１４及びＲ１５が連結して炭素数４〜７のアルキレン基を構成してもよい。
Ｅ１１は、炭素数１〜１２のアルキレン基を表す。該アルキレン基に含まれる水素原子は、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基又はハロゲン原子で置換されていてもよい。
Ｐ１１は、重合性基を表す。
Ｇは、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜１３のアルキル基、炭素数１〜１３のアルコキシ基、炭素数１〜１３のフルオロアルキル基、炭素数１〜１３のアルキルアミノ基、ニトリル基、ニトロ基であるか、炭素数１〜１２のアルキレン基を介して結合する重合性基を表し、該アルキレン基に含まれる水素原子は、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基又はハロゲン原子で置換されていてもよい。
ｔは、１〜５の整数を表す。］ - 請求項１又は２記載の化合物に由来する構造単位を含む光学フィルム。
- 請求項３記載の組成物を重合してなる光学フィルム。
- 波長５５０ｎｍにおける位相差値（Ｒｅ（５５０））が１１３〜１６３ｎｍであり、λ／４板として用いられる請求項４または５記載の光学フィルム。
- 波長５５０ｎｍにおける位相差値（Ｒｅ（５５０））が２５０〜３００ｎｍであり、λ／２板として用いられる請求項４または５記載の光学フィルム。
- 請求項４〜７のいずれか記載の光学フィルムおよび偏光フィルムを含む偏光板。
- 請求項８記載の偏光板と液晶パネルとを備える液晶表示装置。
- 請求項８記載の偏光板を含む有機エレクトロルミネッセンスパネルを備える有機エレクトロルミネッセンス表示装置。
- 請求項１又は２記載の化合物を含む溶液を支持基材に塗布し、乾燥させる未重合フィルムの製造方法。
- 請求項１又は２記載の化合物を含む溶液を、支持基材上に形成された配向膜上に塗布し、乾燥させる未重合フィルムの製造方法。
- 請求項１１または１２記載の未重合フィルムの製造方法で得られた未重合フィルムを、重合により硬化させる光学フィルムの製造方法。
- 請求項１又は２記載の化合物の、光学フィルムを製造するための使用。
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Cited By (2)
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| JP2011246381A (ja) * | 2010-05-26 | 2011-12-08 | Sumitomo Chemical Co Ltd | 化合物、光学フィルム及び光学フィルムの製造方法 |
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