JP5613992B2 - 組成物、フィルム及びフィルムの製造方法 - Google Patents

Description

本発明は、組成物及び該組成物を用いたフィルム等に関する。

フラットパネル表示装置（ＦＰＤ）には、偏光板、位相差板などのフィルムを用いた部材が含まれている。フィルムには、たとえば、重合性化合物を溶剤に溶かして得られる溶液を、支持基材に塗布後、重合して得られるフィルムなどが挙げられる。そして、波長λｎｍの光が与えるフィルムの位相差（Ｒｅ（λ））は、複屈折率Δｎとフィルムの厚みｄとの積で決定されることが知られている（Ｒｅ（λ）＝Δｎ×ｄ）。また波長分散特性は、通常、ある波長λにおける位相差値Ｒｅ（λ）を５５０ｎｍにおける位相差値Ｒｅ（５５０）で除した値（Ｒｅ（λ）／Ｒｅ（５５０））で表され、（Ｒｅ（λ）／Ｒｅ（５５０））が１に近い波長域や、［Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）］＜１かつ［Ｒｅ（６５０）／Ｒｅ（５５０）］＞１の逆波長分散性を示す波長域では、一様の偏光変換が可能であることが知られている。
たとえば、該重合性化合物としてＬＣ２４２（ＢＡＳＦ社製）、及びカイラル剤としてＬＣ７５６（ＢＡＳＦ社製）を溶剤に溶かして得られる溶液を、基材に塗布後、重合して得られるフィルムが開示されている（特許文献１）。

国際公開第２００８／１１７３４７号

本発明の課題は、広い波長域において一様の偏光変換が可能なフィルムを与える組成物を提供することである。

本発明は、式（１）で表される化合物及びカイラル剤を含む組成物である。

［式（１）中、Ａｒは芳香族炭化水素環および芳香族複素環からなる群から選ばれる少なくとも一つの芳香環を有する２価の基を表し、Ａｒ基中の芳香環に含まれるπ電子の数Ｎ_πは、１２以上である。
Ｄ^１及びＤ^２は、それぞれ独立に、＊−Ｏ−ＣＯ−（＊は、Ａｒに結合する位置を表す）、−Ｃ（＝Ｓ）−Ｏ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｓ）−、−ＣＲ^１Ｒ^２−、−ＣＲ^１Ｒ^２−ＣＲ^３Ｒ^４−、−Ｏ−ＣＲ^１Ｒ^２−、−ＣＲ^１Ｒ^２−Ｏ−、−ＣＲ^１Ｒ^２−Ｏ−ＣＲ^３Ｒ^４−、−ＣＲ^１Ｒ^２−Ｏ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−ＣＲ^１Ｒ^２−、−ＣＲ^１Ｒ^２−Ｏ−ＣＯ−Ｒ^３Ｒ^４−、−ＣＲ^１Ｒ^２−ＣＯ−Ｏ−ＣＲ^３Ｒ^４−、−ＮＲ^５−ＣＲ^１Ｒ^２−、−ＣＲ^１Ｒ^２−ＮＲ^５−、−ＣＯ−ＮＲ^５−、又は−ＮＲ^５−ＣＯ−を表す。Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３及びＲ^４は、それぞれ独立に、水素原子、フッ素原子又は炭素数１〜４のアルキル基を表す。Ｒ^５は、水素原子又は炭素数１〜４のアルキル基を表す。
Ｇ^１及びＧ^２は、それぞれ独立に、２価の脂環式炭化水素基を表す。該脂環式炭化水素基に含まれる水素原子は、ハロゲン原子、炭素数１〜４のアルキル基、炭素数１〜４のフルオロアルキル基、炭素数１〜４アルコキシ基、シアノ基またはニトロ基に置換されていてもよく、該脂環式炭化水素基に含まれるメチレン基は、−Ｏ−、−Ｓ−又は−ＮＨ−に置換されていてもよい。
Ｅ^１、Ｅ^２、Ｂ^１及びＢ^２は、それぞれ独立に、−ＣＲ^６Ｒ^７−、−ＣＨ_２−ＣＨ_２−、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−Ｃ（＝Ｓ）−Ｏ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｓ）−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｓ）−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＲ^８−、−ＮＲ^８−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＨ_２−、−ＣＨ_２−Ｏ−、−Ｓ−ＣＨ_２−、−ＣＨ_２−Ｓ−又は単結合を表す。Ｒ^６及びＲ^７は、それぞれ独立に、水素原子、フッ素原子又は炭素数１〜４のアルキル基を表す。Ｒ^８は、水素原子又は炭素数１〜４のアルキル基を表す。
Ａ^１及びＡ^２は、それぞれ独立に、２価の脂環式炭化水素基又は２価の芳香族炭化水素基を表す。該２価の脂環式炭化水素基及び２価の芳香族炭化水素基に含まれる水素原子は、ハロゲン原子、炭素数１〜４のアルキル基、炭素数１〜４アルコキシ基、シアノ基又はニトロ基に置換されていてもよい。該炭素数１〜４のアルキル基及び該炭素数１〜４アルコキシ基に含まれる水素原子は、フッ素原子に置換されていてもよい。
ｋ及びｌは、それぞれ独立に、０〜３の整数を表す。
Ｆ^１及びＦ^２は、それぞれ独立に、炭素数１〜１２のアルキレン基を表す。該アルキレン基に含まれる水素原子は、炭素数１〜５のアルキル基、炭素数１〜５のアルコキシ基又はハロゲン原子に置換されていてもよく、該アルキレン基に含まれるメチレン基は、−Ｏ−又は−ＣＯ−に置換されていてもよい。
Ｐ^１及びＰ^２は、それぞれ独立に、水素原子又は重合性基を表す（ただし、Ｐ^１及びＰ^２のうち少なくとも１つは、重合性基を表す）。］

本発明の組成物によれば、広い波長域において一様の偏光変換が可能なフィルムを与えることができる。

本発明に係るカラーフィルタ１を示す概略図である。 本発明に係る液晶表示装置５を示す概略図である。 本発明に係る偏光板３０を示す概略図である。 本発明に係る液晶表示装置の液晶パネル２０と偏光板３０との貼合品２１を示す概略図である。

本発明の組成物は、化合物（以下「化合物（１）」という場合がある）を含む。化合物（１）は、式（１）で表される。

［式（１）中、Ａｒは芳香族炭化水素環および芳香族複素環からなる群から選ばれる少なくとも一つの芳香環を有する２価の基を表し、Ａｒ基中の芳香環に含まれるπ電子の数Ｎ_πは、１２以上である。
Ｄ^１及びＤ^２は、それぞれ独立に、＊−Ｏ−ＣＯ−（＊は、Ａｒに結合する位置を表す）、−Ｃ（＝Ｓ）−Ｏ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｓ）−、−ＣＲ^１Ｒ^２−、−ＣＲ^１Ｒ^２−ＣＲ^３Ｒ^４−、−Ｏ−ＣＲ^１Ｒ^２−、−ＣＲ^１Ｒ^２−Ｏ−、−ＣＲ^１Ｒ^２−Ｏ−ＣＲ^３Ｒ^４−、−ＣＲ^１Ｒ^２−Ｏ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−ＣＲ^１Ｒ^２−、−ＣＲ^１Ｒ^２−Ｏ−ＣＯ−Ｒ^３Ｒ^４−、−ＣＲ^１Ｒ^２−ＣＯ−Ｏ−ＣＲ^３Ｒ^４−、−ＮＲ^５−ＣＲ^１Ｒ^２−、−ＣＲ^１Ｒ^２−ＮＲ^５−、−ＣＯ−ＮＲ^５−、又は−ＮＲ^５−ＣＯ−を表す。Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３及びＲ^４は、それぞれ独立に、水素原子、フッ素原子又は炭素数１〜４のアルキル基を表す。Ｒ^５は、水素原子又は炭素数１〜４のアルキル基を表す。
Ｇ^１及びＧ^２は、それぞれ独立に、２価の脂環式炭化水素基を表す。該脂環式炭化水素基に含まれる水素原子は、ハロゲン原子、炭素数１〜４のアルキル基、炭素数１〜４のフルオロアルキル基、炭素数１〜４アルコキシ基、シアノ基またはニトロ基に置換されていてもよく、該脂環式炭化水素基に含まれるメチレン基は、−Ｏ−、−Ｓ−又は−ＮＨ−に置換されていてもよい。
Ｅ^１、Ｅ^２、Ｂ^１及びＢ^２は、それぞれ独立に、−ＣＲ^６Ｒ^７−、−ＣＨ_２−ＣＨ_２−、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−Ｃ（＝Ｓ）−Ｏ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｓ）−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｓ）−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＲ^８−、−ＮＲ^８−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＨ_２−、−ＣＨ_２−Ｏ−、−Ｓ−ＣＨ_２−、−ＣＨ_２−Ｓ−又は単結合を表す。Ｒ^６及びＲ^７は、それぞれ独立に、水素原子、フッ素原子又は炭素数１〜４のアルキル基を表す。Ｒ^８は、水素原子又は炭素数１〜４のアルキル基を表す。
Ａ^１及びＡ^２は、それぞれ独立に、２価の脂環式炭化水素基又は２価の芳香族炭化水素基を表す。該２価の脂環式炭化水素基及び２価の芳香族炭化水素基に含まれる水素原子は、ハロゲン原子、炭素数１〜４のアルキル基、炭素数１〜４アルコキシ基、シアノ基又はニトロ基に置換されていてもよい。該炭素数１〜４のアルキル基及び該炭素数１〜４アルコキシ基に含まれる水素原子は、フッ素原子に置換されていてもよい。
ｋ及びｌは、それぞれ独立に、０〜３の整数を表す。
Ｆ^１及びＦ^２は、それぞれ独立に、炭素数１〜１２のアルキレン基を表す。該アルキレン基に含まれる水素原子は、炭素数１〜５のアルキル基、炭素数１〜５のアルコキシ基又はハロゲン原子に置換されていてもよく、該アルキレン基に含まれるメチレン基は、−Ｏ−又は−ＣＯ−に置換されていてもよい。
Ｐ^１及びＰ^２は、それぞれ独立に、水素原子又は重合性基（ただし、Ｐ^１及びＰ^２のうち少なくとも１つは、重合性基を表す）を表す。］

化合物（１）は、式（２）及び式（３）で表される要件を充足することが好ましい。
（Ｎ_π−４）／３＜ｋ＋ｌ＋４ （２）
１２≦Ｎ_π≦２２ （３）
［式（２）及び式（３）中、Ｎ_π、ｋ及びｌは上記と同じ意味を表す。］

芳香族炭化水素環としては、ベンゼン環、ナフタレン環、アントラセン環、フェナンスロリン環等が挙げられ、芳香族複素環としては、フラン環、ピロール環、チオフェン環、ピリジン環、チアゾール環、ベンゾチアゾール環等が挙げられる。なかでも、ベンゼン環、チアゾール環、ベンゾチアゾール環が好ましい。

Ａｒは、芳香族炭化水素環および芳香族複素環からなる群から選ばれる少なくとも一つの芳香環を有する２価の基であって、該２価の基中に含まれる芳香環のπ電子の合計数Ｎ_πは、１２以上であり、好ましくは１２以上、２２以下であり、より好ましくは、１３以上、２２以下である。

Ａｒとしては、式（Ａｒ−１）〜式（Ａｒ−１３）で表される２価の基が挙げられ、式（Ａｒ−６）で表される２価の基であることが好ましい。

［式（Ａｒ−１）〜式（Ａｒ−１３）中、Ｚ^１は、ハロゲン原子、炭素数１〜６のアルキル基、シアノ基、ニトロ基、炭素数１〜６のアルキルスルフィニル基、炭素数１〜６のアルキルスルホニル基、カルボキシル基、炭素数１〜６のフルオロアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基、炭素数１〜６のアルキルチオ基、炭素数１〜６のＮ−アルキルアミノ基、炭素数２〜１２のＮ，Ｎ−ジアルキルアミノ基、炭素数１〜６のＮ−アルキルスルファモイル基または炭素数２〜１２のＮ，Ｎ−ジアルキルスルファモイル基を表す。
Ｑ^１及びＱ^３は、それぞれ独立に、−ＣＲ^９Ｒ^１０−、−Ｓ−、−ＮＲ^９−、−ＣＯ−又は−Ｏ−を表す。
Ｒ^９及びＲ^１０は、それぞれ独立に、水素原子又は炭素数１〜４のアルキル基を表す。
Ｙ^１、Ｙ^２及びＹ^３は、それぞれ独立に、置換されていてもよい芳香族炭化水素基又は芳香族複素環基を表す。
Ｗ^ａ及びＷ^ｂは、それぞれ独立に、水素原子、シアノ基、メチル基又はハロゲン原子を表す。
ｍは、０〜６の整数を表す。
ｎは、０〜２の整数を表す。］

ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等が挙げられ、フッ素原子、塩素原子、臭素原子が好ましい。

炭素数１〜６のアルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基等が挙げられ、炭素数１〜４のアルキル基が好ましく、炭素数１〜２のアルキル基がより好ましく、メチル基が特に好ましい。

炭素数１〜６のアルキルスルフィニル基としては、メチルスルフィニル基、エチルスルフィニル基、プロピルスルフィニル基、イソプロピルスルフィニル基、ブチルスルフィニル基、イソブチルスルフィニル基、ｓｅｃ−ブチルスルフィニル基、ｔｅｒｔ−ブチルスルフィニル基、ペンチルスルフィニル基、ヘキシル基スルフィニル等が挙げられ、炭素数１〜４のアルキルスルフィニル基が好ましく、炭素数１〜２のアルキルスルフィニル基がより好ましく、メチルスルフィニル基が特に好ましい。

炭素数１〜６のアルキルスルホニル基としては、メチルスルホニル基、エチルスルホニル基、プロピルスルホニル基、イソプロピルスルホニル基、ブチルスルホニル基、イソブチルスルホニル基、ｓｅｃ−ブチルスルホニル基、ｔｅｒｔ−ブチルスルホニル基、ペンチルスルホニル基、ヘキシルスルホニル基等が挙げられ、炭素数１〜４のアルキルスルホニル基が好ましく、炭素数１〜２のアルキルスルホニル基がより好ましく、メチルスルホニル基が特に好ましい。

炭素数１〜６のフルオロアルキル基としては、フルオロメチル基、トリフルオロメチル基、フルオロエチル基、ペンタフルオロエチル基、ヘプタフルオロプロピル基、ノナフルオロブチル基等が挙げられ、炭素数１〜４のフルオロアルキル基が好ましく、炭素数１〜２のフルオロアルキル基がより好ましく、トリフルオロメチル基が特に好ましい。

炭素数１〜６のアルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、ブトキシ基、イソブトキシ基、ｓｅｃ−ブトキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシ基、ペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基等が挙げられ、炭素数１〜４のアルコキシ基が好ましく、炭素数１〜２のアルコキシ基がより好ましく、メトキシ基が特に好ましい。

炭素数１〜６のアルキルチオ基としては、メチルチオ基、エチルチオ基、プロピルチオ基、イソプロピルチオ基、ブチルチオ基、イソブチルチオ基、ｓｅｃ−ブチルチオ基、ｔｅｒｔ−ブチルチオ基、ペンチルチオ基、ヘキシルチオ基等が挙げられ、炭素数１〜４のアルキルチオ基が好ましく、炭素数１〜２のアルキルチオ基がより好ましく、メチルチオ基が特に好ましい。

炭素数１〜６のＮ−アルキルアミノ基としては、Ｎ−メチルアミノ基、Ｎ−エチルアミノ基、Ｎ−プロピルアミノ基、Ｎ−イソプロピルアミノ基、Ｎ−ブチルアミノ基、Ｎ−イソブチルアミノ基、Ｎ−ｓｅｃ−ブチルアミノ基、Ｎ−ｔｅｒｔ−ブチルアミノ基、Ｎ−ペンチルアミノ基、Ｎ−ヘキシルアミノ基等が挙げられ、炭素数１〜４のＮ−アルキルアミノ基が好ましく、炭素数１〜２のＮ−アルキルアミノ基がより好ましく、Ｎ−メチルアミノ基が特に好ましい。

炭素数２〜１２のＮ，Ｎ−ジアルキルアミノ基としては、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ基、Ｎ−メチル−Ｎ−エチルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジプロピルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジブチルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジイソブチルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジペンチルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジヘキシルアミノ基等が挙げられ、炭素数２〜８のＮ，Ｎ−ジアルキルアミノ基が好ましく、炭素数２〜４のＮ，Ｎ−ジアルキルアミノ基がより好ましく、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ基が特に好ましい。

炭素数１〜６のＮ−アルキルスルファモイル基としては、Ｎ−メチルスルファモイル基、Ｎ−エチルスルファモイル基、Ｎ−プロピルスルファモイル基、Ｎ−イソプロピルスルファモイル基、Ｎ−ブチルスルファモイル基、Ｎ−イソブチルスルファモイル基、Ｎ−ｓｅｃ−ブチルスルファモイル基、Ｎ−ｔｅｒｔ−ブチルスルファモイル基、Ｎ−ペンチルスルファモイル基、Ｎ−ヘキシルスルファモイル基等が挙げられ、炭素数１〜４のＮ−アルキルスルファモイル基が好ましく、炭素数１〜２のＮ−アルキルスルファモイル基がより好ましく、Ｎ−メチルスルファモイル基が特に好ましい。

炭素数２〜１２のＮ，Ｎ−ジアルキルスルファモイル基としては、Ｎ，Ｎ−ジメチルスルファモイル基、Ｎ−メチル−Ｎ−エチルスルファモイル基、Ｎ，Ｎ−ジエチルスルファモイル基、Ｎ，Ｎ−ジプロピルスルファモイル基、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルスルファモイル基、Ｎ，Ｎ−ジブチルスルファモイル基、Ｎ，Ｎ−ジイソブチルスルファモイル基、Ｎ，Ｎ−ジペンチルスルファモイル基、Ｎ，Ｎ−ジヘキシルスルファモイル基等が挙げられ、炭素数２〜８のＮ，Ｎ−ジアルキルスルファモイル基が好ましく、炭素数２〜４のＮ，Ｎ−ジアルキルスルファモイル基がより好ましく、Ｎ，Ｎ−ジメチルスルファモイル基が特に好ましい。

Ｚ^１は、ハロゲン原子、メチル基、シアノ基、ニトロ基、カルボキシル基、メチルスルホニル基、トリフルオロメチル基、メトキシ基、メチルチオ基、Ｎ−メチルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ基、Ｎ−メチルスルファモイル基またはＮ，Ｎ−ジメチルスルファモイル基であることが好ましい。

Ｒ^９およびＲ^１０における炭素数１〜４のアルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基等が挙げられ、炭素数１〜２のアルキル基が好ましく、メチル基がより好ましい。
Ｑ^１は、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＮＨ−、−Ｎ（ＣＨ_３）−であることが好ましく、Ｑ^３は、−Ｓ−、−ＣＯ−であることが好ましい。

Ｙ^１、Ｙ^２及びＹ^３の、芳香族炭化水素基又は芳香族複素環基は、単環系芳香族炭化水素基、単環系芳香族複素環基、多環系芳香族炭化水素基又は多環系芳香族複素環基を含む。
Ｙ^１、Ｙ^２およびＹ^３における芳香族炭化水素基としては、フェニル基、ナフチル基、アンスリル基、フェナンスリル基、ビフェニル基等の炭素数６〜２０の芳香族炭化水素基が挙げられ、フェニル基、ナフチル基が好ましく、フェニル基がより好ましい。芳香族複素環基としては、フリル基、ピロリル基、チエニル基、ピリジニル基、チアゾリル基、ベンゾチアゾリル基、ベンゾフリル基、ベンゾチエニル基等の窒素原子、酸素原子、硫黄原子等のヘテロ原子を少なくとも一つ含み、炭素数４〜２０の芳香族複素環基が挙げられ、フリル基、チエニル基、チアゾリル基、ベンゾチアゾリル基、ベンゾフリル基、ベンゾチエニル基が好ましい。

かかる芳香族炭化水素基および芳香族複素環基は、少なくとも一つの置換基を有していてもよく、置換基としては、ハロゲン原子、炭素数１〜６のアルキル基、シアノ基、ニトロ基、炭素数１〜６のアルキルスルフィニル基、炭素数１〜６のアルキルスルホニル基、カルボキシル基、炭素数１〜６のフルオロアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基、炭素数１〜６のアルキルチオ基、炭素数１〜６のＮ−アルキルアミノ基、炭素数２〜１２のＮ，Ｎ−ジアルキルアミノ基、炭素数１〜６のＮ−アルキルスルファモイル基、炭素数２〜１２のＮ，Ｎ−ジアルキルスルファモイル基等が挙げられ、ハロゲン原子、炭素数１〜２のアルキル基、シアノ基、ニトロ基、炭素数１〜２のアルキルスルホニル基、炭素数１〜２のフルオロアルキル基、炭素数１〜２のアルコキシ基、炭素数１〜２のアルキルチオ基、炭素数１〜２のＮ−アルキルアミノ基、炭素数２〜４のＮ，Ｎ−ジアルキルアミノ基、炭素数１〜２のアルキルスルファモイル基が好ましい。

ハロゲン原子、炭素数１〜６のアルキル基、シアノ基、ニトロ基、炭素数１〜６のアルキルスルフィニル基、炭素数１〜６のアルキルスルホニル基、カルボキシル基、炭素数１〜６のフルオロアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基、炭素数１〜６のアルキルチオ基、炭素数１〜６のＮ−アルキルアミノ基、炭素数２〜１２のＮ，Ｎ−ジアルキルアミノ基、炭素数１〜６のＮ−アルキルスルファモイル基および炭素数２〜１２のＮ，Ｎ−ジアルキルスルファモイル基としては、前記したものと同様のものが挙げられる。

単環系芳香族炭化水素基又は単環系芳香族複素環基としては、式（Ｙ−１）〜式（Ｙ−６）で表される基が挙げられる。

［式（Ｙ−１）〜式（Ｙ−６）中、Ｚ^２は、ハロゲン原子、炭素数１〜６のアルキル基、シアノ基、ニトロ基、炭素数１〜６のアルキルスルフィニル基、炭素数１〜６のアルキルスルホニル基、カルボキシル基、炭素数１〜６のフルオロアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基、炭素数１〜６のチオアルキル基、炭素数１〜６のＮ−アルキルアミノ基、炭素数２〜１２のＮ，Ｎ−ジアルキルアミノ基、炭素数１〜６のＮ−アルキルスルファモイル基または炭素数２〜１２のＮ，Ｎ−ジアルキルスルファモイル基を表す。
ａ^１は、０〜５の整数、ａ^２は、０〜４の整数、ｂ^１は、０〜３の整数、ｂ^２は、０〜２の整数、Ｒは、水素原子又はメチル基を表す。］

Ｚ^２としては、ハロゲン原子、メチル基、シアノ基、ニトロ基、スルホン基、カルボキシル基、トリフルオロメチル基、メトキシ基、チオメチル基、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ基又はＮ−メチルアミノ基が好ましい。

さらにＹ^１、Ｙ^２及びＹ^３が、それぞれ独立に、式（Ｙ−１）又は式（Ｙ−３）で表される基であることが、化合物（１）の製造工程やコストの点で特に好ましい。

多環系芳香族炭化水素基又は多環系芳香族複素環基としては、式（Ｙ^１−１）〜式（Ｙ^１−７）で表される基が挙げられる。

［式（Ｙ^１−１）〜式（Ｙ^１−７）中、＊印は連結部を表し、Ｚ^３は、それぞれ独立に、ハロゲン原子、炭素数１〜６のアルキル基、シアノ基、ニトロ基、ニトロキシキド基、スルホン基、スルホキシド基、カルボキシル基、炭素数１〜６のフルオロアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基、炭素数１〜６のチオアルキル基、炭素数２〜８のＮ，Ｎ−ジアルキルアミノ基又は炭素数１〜４のＮ−アルキルアミノ基を表す。
Ｖ^１及びＶ^２は、それぞれ独立に、−ＣＯ−、−Ｓ−、−ＮＲ^１１−、−Ｏ−、−Ｓｅ−又は−ＳＯ_２−を表す。
Ｗ^１〜Ｗ^５は、それぞれ独立に、−Ｃ＝又は−Ｎ＝を表す。
ただし、Ｖ^１、Ｖ^２及びＷ^１〜Ｗ^５のうち少なくとも１つは、Ｓ、Ｎ、Ｏ又はＳｅを含む基を表す。
Ｒ^１１は、水素原子又は炭素数１〜４のアルキル基を表す。
ａは、それぞれ独立に、０〜３の整数を表す。
ｂは、それぞれ独立に、０〜２の整数を表す。］

［式（Ｙ^３−１）〜式（Ｙ^３−６）中、Ｚ^３、ａ、ｂ、Ｖ^１、Ｖ^２及びＷ^１は、上記と同じ意味を表す。］

Ｚ^３としては、ハロゲン原子、炭素数１〜６のアルキル基、シアノ基、ニトロ基、炭素数１〜６のアルキルスルフィニル基、炭素数１〜６のアルキルスルホニル基、カルボキシル基、炭素数１〜６のフルオロアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基、炭素数１〜６のアルキルチオ基、炭素数１〜６のＮ−アルキルアミノ基、炭素数２〜１２のＮ，Ｎ−ジアルキルアミノ基、炭素数１〜６のＮ−アルキルスルファモイル基、炭素数２〜１２のＮ，Ｎ−ジアルキルスルファモイル基等が挙げられ、ハロゲン原子、メチル基、エチル基、イソプロピル基、ｓｅｃ−ブチル基、シアノ基、ニトロ基、スルホン基、ニトロキシキド基、カルボキシル基、トリフルオロメチル基、メトキシ基、チオメチル基、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ基又はＮ−メチルアミノ基が好ましく、ハロゲン原子、メチル基、エチル基、イソプロピル基、ｓｅｃ−ブチル基、シアノ基、ニトロ基、トリフルオロメチル基がより好ましく、メチル基、エチル基、イソプロピル基、ｓｅｃ−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基が特に好ましい。

ハロゲン原子、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数１〜６のアルキルスルフィニル基、炭素数１〜６のアルキルスルホニル基、炭素数１〜６のフルオロアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基、炭素数１〜６のアルキルチオ基、炭素数１〜６のＮ−アルキルアミノ基、炭素数２〜１２のＮ，Ｎ−ジアルキルアミノ基、炭素数１〜６のＮ−アルキルスルファモイル基および炭素数２〜１２のＮ，Ｎ−ジアルキルスルファモイル基としては、前記したものと同様のものが挙げられる。

Ｖ_１及びＶ_２は、それぞれ独立に、−Ｓ−、−ＮＲ^１１−又は−Ｏ−であることが好ましい。

Ｗ^１〜Ｗ^５は、それぞれ独立に、−Ｃ＝又は−Ｎ＝であることが好ましい。

Ｖ^１、Ｖ^２及びＷ^１〜Ｗ^５のうち少なくとも１つは、Ｓ、Ｎ又はＯを含む基を表すことが好ましい。

ａは０または１であることが好ましい。ｂは０であることが好ましい。

Ｗ^ａ及びＷ^ｂが、それぞれ独立に、水素原子、シアノ基又はメチル基であることが好ましく、水素原子であることが特に好ましい。
ｍは０または１であることが好ましい。ｎは０であることが好ましい。

式（Ａｒ−１）〜式（Ａｒ−４）で表される基の具体例として、式（ａｒ−１）〜式（ａｒ−２９）で表される基が挙げられる。

式（Ａｒ−５）で表される基の具体例として、式（ａｒ−３０）〜式（ａｒ−３９）で表される基が挙げられる。

式（Ａｒ−６）又は式（Ａｒ−７）で表される基の具体例として、式（ａｒ−４０）〜式（ａｒ−１１９）で表される基が挙げられる。

式（Ａｒ−８）又は式（Ａｒ−９）で表される基の具体例として、式（ａｒ−１２０）〜式（ａｒ−１２９）で表される基が挙げられる。

式（Ａｒ−１０）で表される基の具体例として、式（ａｒ−１３０）〜式（ａｒ−１４９）で表される基が挙げられる。

式（Ａｒ−１１）で示される基の具体例としては、式（ａｒ−１５０）〜式（ａｒ−１５９）で示される基が挙げられる。

式（Ａｒ−１２）で表される基の具体例として、式（ａｒ−１６０）〜式（ａｒ−１７９）で表される基が挙げられる。

式（Ａｒ−１３）で示される基の具体例としては、式（ａｒ−１８０）〜式（ａｒ−１８９）で示される基が挙げられる。

Ｄ^１およびＤ^２が、＊−Ｏ−ＣＯ−、＊−Ｏ−Ｃ（＝Ｓ）−、＊−Ｏ−ＣＲ^１Ｒ^２−、＊−ＮＲ^５−ＣＲ^１Ｒ^２−または＊−ＮＲ^５−ＣＯ−（＊はＡｒとの結合部位を表わす。）であることが好ましい。Ｄ^１およびＤ^２が、＊−Ｏ−ＣＯ−、＊−Ｏ−Ｃ（＝Ｓ）−または＊−ＮＲ^５−ＣＯ−（＊はＡｒとの結合部位を表す。）であることがより好ましい。Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３およびＲ^４は、それぞれ独立に、水素原子または炭素数１〜４のアルキル基であることが好ましく、水素原子、メチル基またはエチル基であることがより好ましい。Ｒ^５は、水素原子、メチル基またはエチル基であることが好ましい。

Ｇ^１及びＧ^２としては、式（ｇ−１）〜式（ｇ−１０）で示されるヘテロ原子を含んでもよい脂環式炭化水素基が挙げられ、５員環又は６員環の脂環式炭化水素基であることが好ましい。

上記式（ｇ−１）〜（ｇ−１０）で示される基は、前記例示された基の水素原子の一部が、メチル基、エチル基、イソプロピル基、ｔｅｒｔ−ブチル基等の炭素数１〜４のアルキル基；メトキシ基、エトキシ基等の炭素数１〜４のアルコキシ基；トリフルオロメチル基等等の炭素数１〜４のフルオロアルキル基；トリフルオロメトキシ基等の炭素数１〜４のフルオロアルコキシ基；シアノ基；ニトロ基；フッ素原子、塩素原子、臭素原子等のハロゲン原子で置換されていてもよい。

Ｇ^１及びＧ^２としては、式（ｇ−１）で表される６員環からなる脂環式炭化水素基であることが好ましく、１，４−シクロヘキシレン基であることがさらに好ましく、ｔｒａｎｓ−１，４−シクロへキシレン基であることが特に好ましい。

Ａ^１及びＡ^２における２価の脂環式炭化水素基又は芳香族炭化水素基としては、上記式（ｇ−１）〜式（ｇ−１０）で表される５員環又は６員環などからなる脂環式炭化水素基や、式（ａ−１）〜式（ａ−８）で表される炭素数６〜２０程度の２価の芳香族炭化水素基が挙げられる。

なお、Ａ^１及びＡ^２として、前記例示された基の水素原子の一部が、メチル基、エチル基、ｉ−プロピル基又はｔ−ブチル基などの炭素数１〜４程度のアルキル基；メトキシ基又はエトキシ基などの炭素数１〜４程度のアルコキシ基；トリフルオロメチル基；トリフルオロメチルオキシ基；シアノ基；ニトロ基；フッ素原子、塩素原子又は臭素原子などのハロゲン原子に置換されていてもよい。

Ａ^１及びＡ^２としては、特に、いずれも同種類の基であると、化合物（１）の製造が容易であることから好ましい。またＡ^１及びＡ^２としては、単環の１，４−フェニレン基又は１，４−シクロヘキシレン基であると好ましく、化合物（１）の製造が容易なことから、特に１，４−フェニレン基が好ましい。

Ｂ^１及びＢ^２は、同じ種類の２価の基であると、化合物（１）の製造が容易なことから好ましい。さらに化合物（１）の製造がより容易なことから、Ｂ^１及びＢ^２のうち、Ａ^１及びＡ^２のみと結合しているＢ^１及びＢ^２が、それぞれ独立に、−ＣＨ_２−ＣＨ_２−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＨ_２−、−ＣＨ_２−Ｏ−又は単結合であることが好ましく、特に高い液晶性を示すことから、−ＣＯ−Ｏ−又は−Ｏ−ＣＯ−が好ましい。Ｂ^１及びＢ^２のうち、Ｅ^１又はＥ^２と結合しているＢ^１及びＢ^２が、それぞれ独立に、−Ｏ−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−又は単結合であることがより好ましい。

ｋ及びｌは、液晶性の観点から、それぞれ独立に、０〜３の整数を表すことが好ましく、ｋ及びｌは０〜２であることがより好ましい。ｋ及びｌの合計は、５以下が好ましく、４以下がより好ましい。

Ｐ^１及びＰ^２は、それぞれ独立に、水素原子又は重合性基（ただし、Ｐ^１及びＰ^２のうち少なくとも１つは、重合性基を表す）を表す。Ｐ^１及びＰ^２が両方とも重合性基であると、得られるフィルムの膜硬度が優れる傾向があることから好ましい。
重合性基とは、本発明の化合物（１）を重合させることのできる置換基であり、具体的には、ビニル基、ｐ−スチルベン基、アクリロイル基、メタクロイル基、アクリロイルオキシ基、メタクロイルオキシ基、カルボキシル基、メチルカルボニル基、水酸基、アミド基、炭素数１〜４のアルキルアミノ基、アミノ基、エポキシ基、オキセタニル基、アルデヒド基、イソシアネート基又はチオイソシアネート基などが例示される。また重合性基には、上記例示の基とＥ^１及びＥ^２を結合するために、Ｂ^１及びＢ^２として示される基が含まれていてもよい。たとえば光重合させるのに適した、ラジカル重合性、カチオン重合性基が好ましく、特に取り扱いが容易な上、製造も容易であることからアクリロイル基又はメタクロイル基が好ましく、アクリロイル基がより好ましい。Ｐ^１及びＰ^２がいずれも重合性基であると、得られるフィルムの膜硬度が優れる傾向があることからより好ましい。

−Ｄ^１−Ｇ^１−Ｅ^１−（Ａ^１−Ｂ^１）_ｋ−Ｆ^１−Ｐ^１、−Ｄ^２−Ｇ^２−Ｅ^２−（Ａ^２−Ｂ^２）_ｌ−Ｆ^２−Ｐ^２の具体的例としては、式（Ｒ−１）〜式（Ｒ−１３４）で表される基が挙げられる。＊（アスタリスク）は、Ａｒとの結合位置を示す。また式（Ｒ−１）〜式（Ｒ−１３４）におけるｎは２〜１２の整数を表す。

さらに化合物（１）としては、化合物（ｉ）〜化合物（ｘｘｘｉｖ）が挙げられる。表中のＲ１は、−Ｄ^１−Ｇ^１−Ｅ^１−（Ａ^１−Ｂ^１）_ｋ−Ｆ^１−Ｐ^１を、Ｒ２は、−Ｄ^２−Ｇ^２−Ｅ^２−（Ａ^２−Ｂ^２）_ｌ−Ｆ^２−Ｐ^２を表す。

なお、化合物（ｘｘｘ）および化合物（ｘｘｘｉ）においては、式（１−Ａ）で示される基および式（１−Ｂ）で示される基のうちのいずれか一方は、（Ｒ−５７）〜（Ｒ−１２０）のいずれかである。
上記表１中、化合物（ｘｖｉｉ）は、Ａｒで示される基が式（ａｒ−７８）で示される基である化合物、Ａｒで示される基が式（ａｒ−７９）で示される基である化合物またはＡｒで示される基が式（ａｒ−７８）で示される基である化合物と式（ａｒ−７９）で示される基である化合物との混合物のいずれかであることを意味する。
上記表２中、化合物（ｘｘｘ）は、Ａｒで示される基が式（ａｒ−１２０）で示される基である化合物、Ａｒで示される基が式（ａｒ−１２１）で示される基である化合物またはＡｒで示される基が式（ａｒ−１２０）で示される基である化合物と式（ａｒ−１２１）で示される基である化合物との混合物のいずれかであることを意味し、化合物（ｘｘｘｉ）は、Ａｒで示される基が式（ａｒ−１２２）で示される基である化合物、Ａｒで示される基が式（ａｒ−１２３）で示される基である化合物またはＡｒで示される基が式（ａｒ−１２２）で示される基である化合物と式（ａｒ−１２３）で示される基である化合物との混合物のいずれかであることを意味する。

さらに表１の化合物（ｉ）、化合物（ｉｉ）、化合物（ｉｖ）、化合物（ｖ）、化合物（ｖｉ）、化合物（ｉｘ）、化合物（ｘ）、化合物（ｘｉ）、化合物（ｘｖｉ）、化合物（ｘｖｉｉｉ）、化合物（ｘｉｘ）、化合物（ｘｘ）、化合物（ｘｘｉ）、化合物（ｘｘｉｉｉ）、化合物（ｘｘｉｖ）、化合物（ｘｘｖ）、化合物（ｘｘｖｉ）、化合物（ｘｘｖｉｉ）、、化合物（ｘｘｖｉｉｉ）、及び、化合物（ｘｘｉｘ）の代表的な構造式を式（ｉｉ−１）、式（ｉｖ−１）、式（ｖ−１）、式（ｖ−２）、式（ｖ−３）、式（ｖ−４）、式（ｖ−５）、式（ｖｉ−１）、式（ｉｘ−１）、式（ｘ−１）、式（ｘｉ−１）、式（ｘｖｉ−１）、式（ｘｉｘ−１）、式（ｘｘ−１）、式（ｘｘｉ−１）、式（ｘｘｉｉｉ−１）、式（ｘｘｉｖ−１）、式（ｘｘｖ−１）、式（ｘｘｖｉ−１）、式（ｘｘｖｉｉ−１）、式（ｘｘｖｉｉｉ−１）、式（ｘｘｉｘ−１）、式（ｘｘｘｉｉ−１）、及び、式（ｘｘｘｉｖ−１）に例示する。本発明のフィルムにおいて、異なる複数の種類の化合物（１）を用いてもよい。

化合物（１）として、さらに、例えば以下のものが例示される。ただし、式中ｎ１及びｎ２は、それぞれ独立に２〜１２の整数を示す。

化合物（１）としては、、式（Ａ１−１）〜式（Ａ６４−８）で表される化合物が挙げられる。＊は連結部を表し、例えば式（Ａ１−１）で表される化合物は、下記のように表される化合物である。

化合物（２）の製造方法について以下説明する。
化合物（１）は、Methoden der Organischen Chemie、Organic Reactions、Organic Syntheses、Comprehensive Organic Synthesis、新実験化学講座等に記載されている公知の有機合成反応（例えば、縮合反応、エステル化反応、ウイリアムソン反応、ウルマン反応、ウイッティヒ反応、シッフ塩基生成反応、ベンジル化反応、薗頭反応、鈴木−宮浦反応、根岸反応、熊田反応、檜山反応、ブッフバルト−ハートウィッグ反応、フリーデルクラフト反応、ヘック反応、アルドール反応など）を、その構造に応じて、適宜組み合わせることにより、製造することができる。

例えば、Ｄ^１およびＤ^２が＊−Ｏ−ＣＯ−である化合物（１）の場合には、式（１−１）

（式中、Ａｒは上記と同一の意味を表わす。）
で示される化合物と式（１−２）

（式中、Ｇ^１、Ｅ^１、Ａ^１、Ｂ^１、Ｆ^１、Ｐ^１およびｋは上記と同一の意味を表わす。）
で示される化合物とを反応させることにより、式（１−３）

（式中、Ａｒ、Ｇ^１、Ｅ^１、Ａ^１、Ｂ^１、Ｆ^１、Ｐ^１およびｋは上記と同一の意味を表わす。）
で示される化合物を得、得られた式（１−３）で示される化合物と式（１−４）

（式中、Ｇ^２、Ｅ^２、Ａ^２、Ｂ^２、Ｆ^２、Ｐ^２およびｌは上記と同一の意味を表わす。）
で示される化合物とを反応させることにより製造することができる。
式（１−１）で示される化合物と式（１−２）で示される化合物との反応および式（１−３）で示される化合物と式（１−４）で示される化合物との反応は、エステル剤の存在下に実施することが好ましい。

エステル化剤（縮合剤）としては、１−シクロヘキシル−３−（２−モルホリノエチル）カルボジイミドメト−パラ−トルエンスルホネート、ジシクロヘキシルカルボジイミド、１−エチル−３−（３−ジメチルアミノプロピル）カルボジイミド、１−エチル−３−（３−ジメチルアミノプロピル）カルボジイミド 塩酸塩（一部水溶性カルボジイミド：ＷＳＣとして市販されている）、ビス（２、６−ジイソプロピルフェニル）カルボジイミド、ビス（トリメチルシリル）カルボジイミド、ビスイソプロピルカルボジイミド、などのカルボジイミド、２−メチル−６−ニトロ安息香酸無水物、２，２’−カルボニルビス−１Ｈ−イミダゾール、１，１’−オキサリルジイミダゾール、ジフェニルホスフォリルアジド、１（４−ニトロベンゼンスルフォニル）−１Ｈ−１、２、４−トリアゾール、１Ｈ−ベンゾトリアゾール−１−イルオキシトリピロリジノホスホニウムヘキサフルオロホスフェート、１Ｈ−ベンゾトリアゾール−１−イルオキシトリス（ジメチルアミノ）ホスホニウムヘキサフルオロホスフェート、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラメチル−Ｏ−（Ｎ−スクシンイミジル）ウロニウムテトラフルオロボレート、Ｎ−（１，２，２，２−テトラクロロエトキシカルボニルオキシ）スクシンイミド、Ｎ−カルボベンゾキシスクシンイミド、Ｏ−（６−クロロベンゾトリアゾール−１−イル）−Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラメチルウロニウムテトラフルオロボレート、Ｏ−（６−クロロベンゾトリアゾール−１−イル）−Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラメチルウロニウムヘキサフルオロホスフェート、２−ブロモ−１−エチルピリジニウムテトラフルオロボレート、２−クロロ−１，３−ジメチルイミダゾリニウムクロリド、２−クロロ−１，３−ジメチルイミダゾリニウムヘキサフルオロホスフェート、２−クロロ−１−メチルピリジニウムアイオダイド、２−クロロ−１−メチルピリジニウム パラートルエンスルホネート、２−フルオロ−１−メチルピリジニウム パラートルエンスルホネート、トリクロロ酢酸ペンタクロロフェニルエステル、が挙げられる。反応性、コスト、使用できる溶媒の点から、縮合剤としてはジシクロヘキシルカルボジイミド、１−エチル−３−（３−ジメチルアミノプロピル）カルボジイミド、１−エチル−３−（３−ジメチルアミノプロピル）カルボジイミド 塩酸塩、ビス（２、６−ジイソプロピルフェニル）カルボジイミド、ビス（トリメチルシリル）カルボジイミド、ビスイソプロピルカルボジイミド、２，２’−カルボニルビス−１Ｈ−イミダゾールがより好ましい。
化合物（１）とカイラル剤との合計量１００重量部に対する化合物（１）の含有量は、たとえば５０〜９９．９重量部であり、好ましくは６０〜９９重量部であり、より好ましくは７０〜９９重量部である。

本発明の組成物は、カイラル剤を含む。カイラル剤とは、組成物が液晶状態になったとき、らせんねじれを誘発するかまたはらせんねじれを増強する機能をもつ化合物である。カイラル剤としては、不斉炭素原子を含む化合物、不斉炭素原子を含まない軸性不斉化合物、又は不斉炭素原子を含まない面性不斉化合物等が挙げられ、例えば、イソソルビド骨格を有する化合物やビナフチル骨格を有する化合物が挙げられる。
カイラル剤としては、『液晶デバイスハンドブック』（第３章４−３項、ＴＮ、ＳＴＮ用カイラル剤、１９９頁、日本学術振興会第１４２委員会編、１９８９）、特開２００７−２６９６４０号公報、特開２００７−２６９６３９号公報、特開２００７−１７６８７０号公報、特開２００３−１３７８８７号公報、特表２０００−５１５４９６号公報、特開２００７−１６９１７８号公報、特表平９−５０６０８８号公報等に記載されている化合物が挙げられる。
カイラル剤は、式（Ａ）で表される化合物であることが好ましい。

［式（Ａ）中、Ｄ^３及びＤ^４は、それぞれ独立に、−Ｏ−ＣＯ−、−Ｃ（＝Ｓ）−Ｏ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｓ）−、−ＣＲ^１２Ｒ^１３−、−ＣＲ^１２Ｒ^１３−ＣＲ^１２Ｒ^１３−、−Ｏ−ＣＲ^１２Ｒ^１３−、−ＣＲ^１２Ｒ^１３−Ｏ−、−ＣＲ^１２Ｒ^１３−Ｏ−ＣＲ^１４Ｒ^１５−、−ＣＲ^１２Ｒ^１３−Ｏ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−ＣＲ^１２Ｒ^１３−、−ＣＲ^１２Ｒ^１３−Ｏ−ＣＯ−Ｒ^１４Ｒ^１５−、−ＣＲ^１２Ｒ^１３−ＣＯ−Ｏ−ＣＲ^１４Ｒ^１５−、−ＮＲ^１２−ＣＲ^１３Ｒ^１４−、−ＣＲ^１２Ｒ^１３−ＮＲ^１４−、−ＣＯ−ＮＲ^１２−、又は−ＮＲ^１２−ＣＯ−を表す。Ｒ^１２、Ｒ^１３、Ｒ^１４及びＲ^１５は、それぞれ独立に、水素原子、フッ素原子又は炭素数１〜４のアルキル基を表す。
Ｇ^３及びＧ^４は、それぞれ独立に、２価の脂環式炭化水素基又は２価の芳香族炭化水素基を表す。該２価の脂環式炭化水素基及び２価の芳香族炭化水素基に含まれる水素原子は、ハロゲン原子、炭素数１〜４のアルキル基、炭素数１〜４アルコキシ基、シアノ基又はニトロ基に置換されていてもよい。該炭素数１〜４のアルキル基及び該炭素数１〜４アルコキシ基に含まれる水素原子は、フッ素原子に置換されていてもよい。
Ｅ^３、Ｅ^４、Ｂ^３及びＢ^４は、それぞれ独立に、−ＣＲ^１２Ｒ^１３−、−ＣＨ_２−ＣＨ_２−、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−Ｃ（＝Ｓ）−Ｏ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｓ）−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｓ）−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＲ^１２−、−ＮＲ^１２−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＨ_２−、−ＣＨ_２−Ｏ−、−Ｓ−ＣＨ_２−、−ＣＨ_２−Ｓ−又は単結合を表す。
Ａ^３及びＡ^４は、それぞれ独立に、２価の脂環式炭化水素基又は２価の芳香族炭化水素基を表す。該２価の脂環式炭化水素基及び２価の芳香族炭化水素基に含まれる水素原子は、ハロゲン原子、炭素数１〜４のアルキル基、炭素数１〜４アルコキシ基、シアノ基又はニトロ基に置換されていてもよい。該炭素数１〜４のアルキル基及び該炭素数１〜４アルコキシ基に含まれる水素原子は、フッ素原子に置換されていてもよい。
ｋ及びｌは、それぞれ独立に、０〜３の整数を表す。
Ｆ^３及びＦ^４は、それぞれ独立に、単結合又は炭素数１〜１２のアルキレン基を表す。該アルキレン基に含まれる水素原子は、炭素数１〜５のアルキル基、炭素数１〜５のアルコキシ基又はハロゲン原子に置換されていてもよく、該アルキレン基に含まれるメチレン基は、−Ｏ−又は−ＣＯ−に置換されていてもよい。
Ｐ^３及びＰ^４は、それぞれ独立に、水素原子又は重合性基を表す。］

式（Ａ）で表される化合物のうち、下記式で表される化合物が、ビーエーエスエフ社製のpaliocolor ＬＣ７５６として市販されている。

化合物（１）とカイラル剤の合計量１００重量部に対するカイラル剤の含有量は、たとえば０．１〜５０重量部であり、好ましくは１．０〜４０重量部であり、より好ましくは１．０〜３０重量部である。

本発明の組成物は、さらに液晶化合物（ただし、化合物（１）及びカイラル剤とは異なる）を含有していてもよい。

液晶化合物の具体例としては、液晶便覧（液晶便覧編集委員会編、丸善（株）平成１２年１０月３０日発行）の３章 分子構造と液晶性の、３．２ ノンキラル棒状液晶分子、３．３ キラル棒状液晶分子に記載された化合物の中で重合性基を有する化合物が挙げられる。
液晶化合物として、異なる複数の化合物を併用してもよい。なかでも、重合性基を保有していて液晶性を示す化合物が好ましい。

液晶化合物としては、例えば、式（４）で表される基を含む化合物（以下「化合物（４）」という場合がある）等が挙げられる。

Ｐ^１１−Ｂ^１１−Ｅ^１１−Ｂ^１２−Ａ^１１−Ｂ^１３− （４）
（式（４）中、Ｐ^１１は、重合性基を表す。
Ａ^１１は、２価の脂環式炭化水素基又は２価の芳香族炭化水素基を表す。該２価の脂環式炭化水素基及び２価の芳香族炭化水素基に含まれる水素原子は、ハロゲン原子、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数１〜６アルコキシ基、シアノ基又はニトロ基で置換されていてもよい。該炭素数１〜６のアルキル基及び該炭素数１〜６アルコキシ基に含まれる水素原子は、フッ素原子で置換されていてもよい。
Ｂ^１１は、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＲ^１６−、−ＮＲ^１６−ＣＯ−、−ＣＯ−、−ＣＳ−又は単結合を表す。Ｒ^１６は、水素原子又は炭素数１〜６のアルキル基を表す。
Ｂ^１２及びＢ^１３は、それぞれ独立に、−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＨ_２−ＣＨ_２−、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−ＣＨ＝Ｎ−、−Ｎ＝ＣＨ−、−Ｎ＝Ｎ−、−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＲ^１６−、−ＮＲ^１６−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＯＣＨ_２−、−ＯＣＦ_２−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＣＦ_２Ｏ−、−ＣＨ＝ＣＨ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−ＣＨ＝ＣＨ−又は単結合を表す。
Ｅ^１１は、炭素数１〜１２のアルキレン基を表し、該アルキレン基に含まれる水素原子は、炭素数１〜５のアルキル基又は炭素数１〜５のアルコキシ基を表す。該アルキル基及びアルコキシ基に含まれる水素原子は、ハロゲン原子で置換されていてもよく、該アルキレン基に含まれるメチレン基は、−Ｏ−又は−ＣＯ−に置換されていてもよい。）

Ｐ^１１としては、フィルムを硬化するために、たとえば光重合を利用することもあるため、光重合させるのに適した、ラジカル重合性、カチオン重合性基が好ましく、特に取り扱いが容易な上、製造も容易であることから、重合性基として、下記の式（Ｐ−１）〜（Ｐ−５）で表すことができるものが好ましい。

［式（Ｐ−１）〜（Ｐ−５）中、Ｒ^１７〜Ｒ^２１はそれぞれ独立に、炭素数１〜６のアルキル基又は水素原子を表す。＊は、Ｂ^１１との結合位置を表す。］
Ｐ^１１は、（Ｐ−４）〜（Ｐ−１０）の基であることが好ましく、ビニル基、ｐ−スチルベン基、エポキシ基、オキセタニル基、イソシアネート基又はチオイソシアネート基などが挙げられる。

特に好ましくは、Ｐ^１１−Ｂ^１１−は、アクリロイルオキシ基又はメタアクリロイルオキシ基である。

Ａ^１１の芳香族炭化水素基及び脂環式炭化水素基の炭素数は、例えば３〜１８であり、５〜１２であることが好ましく、５又は６であることが特に好ましい。Ａ^１１としては、１，４−シクロヘキシレン基、１，４−フェニレン基が好ましい。

Ｅ^１１としては、２つ以上に分岐していない炭素数１〜１２のアルキルレン基が好ましい。該アルキレン基に含まれるメチレン基は、−Ｏ−に置換されていてもよい。
具体的には、メチレン基、エチレン基、プロピレン基、ブチレン基、ペンチレン基、ヘキシレン基、ヘプチレン基、オクチレン基、ノニレン基、デカレン基、ウンデカレン基、ドデシレン基、−ＣＨ_２−ＣＨ_２−Ｏ−ＣＨ_２−ＣＨ_２−、−ＣＨ_２−ＣＨ_２−Ｏ−ＣＨ_２−ＣＨ_２−Ｏ−ＣＨ_２−ＣＨ_２−および−ＣＨ_２−ＣＨ_２−Ｏ−ＣＨ_２−ＣＨ_２−Ｏ−ＣＨ_２−ＣＨ_２−Ｏ−ＣＨ_２−ＣＨ_２−などである。

化合物（４）としては、例えば、式（Ｉ）、式（II）、式（III）、式（IV）、式（Ｖ）又は式（ＶＩ）で表される化合物が挙げられる。
P¹¹-B¹¹-E¹¹-B¹²-A¹¹-B¹³-A¹²-B¹⁴-A¹³-B¹⁵-A¹⁴-B¹⁶-E¹²-B¹⁷-P¹² （Ｉ）
P¹¹-B¹¹-E¹¹-B¹²-A¹¹-B¹³-A¹²-B¹⁴-A¹³-B¹⁵-A¹⁴-F¹¹ （ＩＩ）
P¹¹-B¹¹-E¹¹-B¹²-A¹¹-B¹³-A¹²-B¹⁴-A¹³-B¹⁵-E¹²-B¹⁷-P¹² （ＩＩＩ）
P¹¹-B¹¹-E¹¹-B¹²-A¹¹-B¹³-A¹²-B¹⁴-A¹³-F¹¹ （ＩＶ）
P¹¹-B¹¹-E¹¹-B¹²-A¹¹-B¹³-A¹²-B¹⁴-E¹²-B¹⁷-P¹² （Ｖ）
P¹¹-B¹¹-E¹¹-B¹²-A¹¹-B¹³-A¹²-F¹¹ （ＶＩ）
（式中、Ａ^１２〜Ａ^１４は、Ａ^１１と同義であり、Ｂ^１４〜Ｂ^１６は、Ｂ^１２と同義であり、Ｂ^１７は、Ｂ^１１と同義であり、Ｅ^１２は、Ｅ^１１と同義である。
式中Ｆ^１１は、水素原子、炭素数１〜１３のアルキル基、炭素数１〜１３のアルコキシ基、ニトリル基、ニトロ基、トリフルオロメチル基、ジメチルアミノ基、水酸基、メチロール基、アルデヒド基、スルホン酸基、カルボキシル基、炭素数１〜１０のアルコールでエステル化されたカルボキシル基又はハロゲン原子を表す。該アルキル基およびアルコキシ基に含まれるメチレン基は、−Ｏ−に置換されていてもよい。）

液晶化合物の具体例としては、液晶便覧（液晶便覧編集委員会編、丸善（株）平成１２年１０月３０日発行）の３章 分子構造と液晶性の、３．２ ノンキラル棒状液晶分子、３．３ キラル棒状液晶分子に記載された化合物の中で重合性基を有する化合物が挙げられる。
化合物（３）の具体例としては、たとえば以下の式（Ｉ−１）〜式（Ｉ−４）、式（ＩＩ−１）〜式（ＩＩ−４）、式（ＩＩＩ−１）〜式（ＩＩＩ−２６）、式（ＩＶ−１）〜式（ＩＶ−１９）、式（Ｖ−１）〜式（Ｖ−２））、式（ＶＩ−１）〜式（ＶＩ−６）で表される化合物などが挙げられる。ただし、式中ｋ1およびｋ2は、２〜１２の整数を表す。これらの液晶化合物であれば、合成が容易であり、市販されているなど、入手が容易であることから好ましい。

また液晶化合物の使用量は、たとえば液晶化合物と化合物（１）とカイラル剤との合計１００重量部に対して、９０重量部以下である。

本発明の組成物は、さらに重合開始剤を含有する組成物であることが好ましい。重合開始剤は、光重合開始剤であることが好ましい。

光重合開始剤としては、たとえばベンゾイン類、ベンゾフェノン類、ベンジルケタール類、α−ヒドロキシケトン類、α−アミノケトン類、トリアジン誘導体、ヨードニウム塩又はスルホニウム塩等が挙げられ、より具体的には、イルガキュア（Irgacure）９０７、イルガキュア１８４、イルガキュア６５１、イルガキュア８１９、イルガキュア２５０、イルガキュア３６９（以上、全てチバ・ジャパン株式会社製）、セイクオールＢＺ、セイクオールＺ、セイクオールＢＥＥ（以上、全て精工化学株式会社製）、カヤキュアー（kayacure）ＢＰ１００（日本化薬株式会社製）、カヤキュアーＵＶＩ−６９９２（ダウ社製）、アデカオプトマーＳＰ−１５２、アデカオプトマーＳＰ−１７０（以上、全て株式会社ＡＤＥＫＡ製）、ＴＡＺ−Ａ、ＴＡＺ−ＰＰ（以上、日本シイベルヘグナー社製）又はＴＡＺ−１０４（三和ケミカル社製）などを挙げることができる。

また重合開始剤の使用量は、たとえば化合物（１）とカイラル剤との合計１００重量部に対して、０．１重量部〜３０重量部であり、好ましくは、０．５重量部〜１０重量部である。

本発明のフィルムとは、光を透過し得るフィルムであって、光学的な機能を有するフィルムをいう。光学的な機能とは、屈折、複屈折などを意味する。以下、本発明のフィルムを光学フィルムという場合がある。光学フィルムの一種である位相差フィルムは、直線偏光を円偏光や楕円偏光に変換したり、逆に円偏光又は楕円偏光を直線偏光に変換したりするために用いられる。

本発明の光学フィルムの波長分散特性は、光学フィルムにおける化合物（１）に由来する構造単位の含有量によって、任意に決定することができる。光学フィルムにおける構造単位の中で化合物（１）に由来する構造単位の含有量を増加させると、よりフラットな波長分散特性、さらには逆波長分散特性を示す。

具体的には、化合物（１）に由来する構造単位の含有量が異なる組成物を２〜５種類程度調製し、それぞれの組成物について後述するように、同じ膜厚の光学フィルムを製造して得られる光学フィルムの位相差値を求め、その結果から、化合物（１）に由来する構造単位の含有量と光学フィルムの位相差値との相関を求め、得られた相関関係から、上記膜厚における光学フィルムに所望の位相差値を与えるために必要な化合物（１）に由来する構造単位の含有量を決定すればよい。

本発明の光学フィルムの製造方法について、以下に説明する。
まず、化合物（１）及びカイラル剤に、必要に応じて、有機溶剤、ホストとなる上述した液晶化合物、上述した重合開始剤、重合禁止剤、光増感剤又はレベリング剤などの添加剤を加えて、混合溶液を調製する。特に成膜時に成膜が容易となること有機溶剤を含むことが好ましく、得られた光学フィルムを硬化する働きをもつことから重合開始剤を含むことが好ましい。

〔重合禁止剤〕
本発明の光学フィルムを調製する際に、重合禁止剤を使用してもよい。重合禁止剤としては、たとえばハイドロキノン又はアルキルエーテル等の置換基を有するハイドロキノン類、ブチルカテコール等のアルキルエーテル等の置換基を有するカテコール類、ピロガロール類、２，２、６，６−テトラメチル−１−ピペリジニルオキシラジカル等のラジカル補足剤、チオフェノール類、β−ナフチルアミン類或いはβ−ナフトール類等を挙げることができる。

重合禁止剤を用いることにより、化合物（１）等の重合を制御することができ、得られる光学フィルムの安定性を向上させることができる。また重合禁止剤の使用量は、たとえば化合物（１）とカイラル剤との合計１００重量部に対して、０．１重量部〜３０重量部であり、好ましくは０．５重量部〜１０重量部である。

〔光増感剤〕
また本発明の光学フィルムを調製する際に、光増感剤を使用してもよい。光増感剤としては、たとえばキサントン又はチオキサントン等のキサントン類、アントラセン又はアルキルエーテルなどの置換基を有するアントラセン類、フェノチアジン或いはルブレンを挙げることができる。

光増感剤を用いることにより、化合物（１）等の重合を高感度化することができる。また光増感剤の使用量としては、化合物（１）とカイラル剤との合計１００重量部に対して、たとえば０．１重量部〜３０重量部であり、好ましくは０．５重量部〜１０重量部である。

〔レベリング剤〕
さらに本発明の光学フィルムを調製する際に、レベリング剤を使用してもよい。レベリング剤としては、たとえば放射線硬化塗料用添加剤（ビックケミージャパン製：ＢＹＫ−３５２，ＢＹＫ−３５３，ＢＹＫ−３６１Ｎ）、塗料添加剤（東レ・ダウコーニング株式会社製：ＳＨ２８ＰＡ、ＤＣ１１ＰＡ、ＳＴ８０ＰＡ）、塗料添加剤（信越化学工業株式会社製：ＫＰ３２１、ＫＰ３２３、Ｘ２２−１６１Ａ、ＫＦ６００１）又はフッ素系添加剤（大日本インキ化学工業株式会社製：Ｆ−４４５、Ｆ−４７０、Ｆ−４７９）などを挙げることができる。

レベリング剤を用いることにより、光学フィルムを平滑化することができる。さらに光学フィルムの製造過程で、化合物（１）を含有する混合溶液の流動性を制御したり、化合物（１）等を重合して得られる光学フィルムの架橋密度を調整したりすることができる。またレベリング剤の使用量の具体的な数値は、たとえば化合物（１）とカイラル剤との合計１００重量部に対して、０．１重量部〜３０重量部であり、好ましくは０．５重量部〜１０重量部である。

〔有機溶剤〕
化合物（１）及びカイラル剤などを含有する混合溶液の調製に用いる有機溶剤としては、化合物（１）及びカイラル剤などを溶解し得る有機溶剤であり、重合反応に不活性な溶剤であればよく、具体的には、メタノール、エタノール、エチレングリコール、イソプロピルアルコール、プロピレングリコール、メチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、プロピレングリコールモノメチルエーテル又はフェノールなどのアルコール；酢酸エチル、酢酸ブチル、エチレングリコールメチルエーテルアセテート、ガンマーブチロラクトン、プロピレングリコールメチルエーテルアセテート又は乳酸エチルなどのエステル系溶剤；アセトン、メチルエチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、メチルアミルケトン又はメチルイソブチルケトンなどのケトン系溶剤；ペンタン、ヘキサン又はヘプタンなどの非塩素系脂肪族炭化水素溶剤；トルエン又はキシレンなどの非塩素系芳香族炭化水素溶剤、アセトニトリルなどのニトリル系溶剤；テトラヒドロフラン又はジメトキシエタンなどのエーテル系溶剤；クロロホルム又はクロロベンゼンなどの塩素系溶剤；などが挙げられる。これら有機溶剤は、単独で用いてもよいし、複数を組み合わせて用いてもよい。特に本発明の組成物は相溶性に優れ、アルコール、エステル系溶剤、ケトン系溶剤、非塩素系脂肪族炭化水素溶剤及び非塩素系芳香族炭化水素溶剤などにも溶解し得ることから、クロロホルムなどの塩素系溶剤を用いなくとも、溶解して塗工させることができる。

化合物（１）及びカイラル剤を含有する混合溶液の粘度は、塗布しやすいように、たとえば１０Ｐａ・ｓ以下、好ましくは０．１〜７Ｐａ・ｓ程度に調整されることが好ましい。

また上記混合溶液における固形分の濃度は、たとえば５〜５０重量％である。固形分の濃度が５％以上であると、光学フィルムが薄くなりすぎず、液晶パネルの光学補償に必要な複屈折率が与えられる傾向がある。また５０％以下であると、混合溶液の粘度が低いことから、光学フィルムの膜厚にムラが生じにくくなる傾向があることから好ましい。固形分とは、組成物全量に対する、組成物から溶剤を除いた成分の含有量である。

続いて支持基材に、混合溶液を塗布し、乾燥、重合させて、支持基材上に目的の光学フィルムを得ることができる。

［未重合フィルム調製工程］
支持基材の上に、化合物（１）及びカイラル剤を含有する混合溶液を塗布し、乾燥すると、未重合フィルムが得られる。未重合フィルムがネマチック相などの液晶相を示す場合、得られる光学フィルムは、モノドメイン配向による複屈折性を有する。未重合フィルムは０〜２５０℃程度、好ましくは、１０〜１５０℃で配向する。

なお混合溶液の塗布量や濃度を適宜調整することにより、所望の位相差を与えるように膜厚を調製することができる。化合物（１）の量が一定である混合溶液の場合、得られる光学フィルムの位相差値（リタデーション値、Ｒｅ（λ））は、式（７）のように決定されることから、所望のＲｅ（λ）を得るためには、膜厚ｄを調整すればよい。

Ｒｅ（λ）＝ｄ×Δｎ（λ） （７）
（式中、Ｒｅ（λ）は、波長λｎｍにおける位相差値を表し、ｄは膜厚を表し、Δｎ（λ）は波長λｎｍにおける複屈折率を表す。）

支持基材への塗布方法としては、たとえば押し出しコーティング法、ダイレクトグラビアコーティング法、リバースグラビアコーティング法、ＣＡＰコーティング法又はダイコーティング法などが挙げられる。またディップコーター、バーコーター又はスピンコーターなどのコーターを用いて塗布する方法などが挙げられる。

上記支持基材としては、たとえばガラス、プラスチックシート、プラスチックフィルム又は透光性フィルムを挙げることができる。なお上記透光性フィルムとしては、たとえばポリエチレン、ポリプロピレン、ノルボルネン系ポリマーなどのポリオレフィンフィルム、ポリビニルアルコールフィルム、ポリエチレンテレフタレートフィルム、ポリメタクリル酸エステルフィルム、ポリアクリル酸エステルフィルム、セルロースエステルフィルム、ポリエチレンナフタレートフィルム、ポリカーボネートフィルム、ポリスルフォンフィルム、ポリエーテルスルホンフィルム、ポリエーテルケトンフィルム、ポリフェニレンスルフィドフィルム又はポリフェニレンオキシドフィルムなどが挙げられる。

たとえば本発明の光学フィルムの貼合工程、運搬工程、保管工程など、光学フィルムの強度が必要な工程でも、支持基材を用いることにより、破れなどなく容易に取り扱うことができる。

また、支持基材上に配向膜を形成して、配向膜上に化合物（１）及びカイラル剤を含む混合溶液を塗工することが好ましい。配向膜は、化合物（１）及びカイラル剤を含有する混合溶液の塗工時に、混合液に溶解しない溶剤耐性を持つこと、溶剤の除去や液晶の配向の加熱処理時に、耐熱性をもつこと、ラビング時に、摩擦などによる剥がれなどが起きないことが好ましく、ポリマー又はポリマーを含有する組成物からなることが好ましい。

上記ポリマーとしては、たとえば分子内にアミド結合を有するポリアミドやゼラチン類、分子内にイミド結合を有するポリイミド及びその加水分解物であるポリアミック酸、ポリビニルアルコール、アルキル変性ポリビニルアルコール、ポリアクリルアミド、ポリオキサゾール、ポリエチレンイミン、ポリスチレン、ポリビニルピロリドン、ポリアクリル酸又はポリアクリル酸エステル類等のポリマーを挙げることができる。これらのポリマーは、単独で用いてもよいし、２種類以上混ぜたり、共重合体したりしてもよい。これらのポリマーは、脱水や脱アミンなどによる重縮合や、ラジカル重合、アニオン重合、カチオン重合等の連鎖重合、配位重合や開環重合等で容易に得ることができる。

またこれらのポリマーは、溶剤に溶解して、塗布することができる。溶剤は、特に制限はないが、具体的には、水、メタノール、エタノール、エチレングリコール、イソプロピルアルコール、プロピレングリコール、メチルセロソルブ、ブチルセロソルブ又はプロピレングリコールモノメチルエーテルなどのアルコール；酢酸エチル、酢酸ブチル、エチレングリコールメチルエーテルアセテート、ガンマーブチロラクトン、プロピレングリコールメチルエーテルアセテート又は乳酸エチルなどのエステル系溶剤；アセトン、メチルエチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、メチルアミルケトン又はメチルイソブチルケトンなどのケトン系溶剤；ペンタン、ヘキサン又はヘプタンなどの非塩素系脂肪族炭化水素溶剤；トルエン又はキシレンなどの非塩素系芳香族炭化水素溶剤、アセトニトリルなどのニトリル系溶剤；テトラヒドロフラン又はジメトキシエタンなどのエーテル系溶剤；クロロホルム又はクロロベンゼンなどの塩素系溶剤；などが挙げられる。これら有機溶剤は、単独で用いてもよいし、複数を組み合わせて用いてもよい。

また配向膜を形成するために、市販の配向膜材料をそのまま使用してもよい。市販の配向膜材料としては、サンエバー（登録商標、日産化学工業株式会社製）又はオプトマー（登録商標、ＪＳＲ株式会社製）などが挙げられる。

このような配向膜を用いれば、延伸による屈折率制御を行う必要がないため、複屈折の面内ばらつきが小さくなる。それゆえ、支持基材上にフラットパネル表示装置（ＦＰＤ）の大型化にも対応可能な大きな光学フィルムを提供できるという効果を奏する。

上記支持基材上に配向膜を形成する方法としては、たとえば上記支持基材上に、市販の配向膜材料や配向膜の材料となる化合物を溶液にして塗布し、その後、アニールすることにより、上記支持基材上に配向膜を形成することができる。

このようにして得られる配向膜の厚さは、たとえば１０ｎｍ〜１００００ｎｍであり、好ましくは１０ｎｍ〜１０００ｎｍである。上記範囲とすれば、化合物（１）等を該配向膜上で所望の角度に配向させることができる。

またこれら配向膜は、必要に応じてラビングもしくは偏光ＵＶ照射を行うことにより化合物（１）等を所望の方向に配向させることができる。

配向膜をラビングする方法としては、たとえばラビング布が巻きつけられ、回転しているラビングロールを、ステージに載せられ、搬送されている配向膜に接触させる方法を用いることができる。

上記の通り、未重合フィルム調製工程では、任意の支持基材の上に積層した配向膜上に未重合フィルム（液晶層）を積層する。それゆえ、液晶セルを作製し、該液晶セルに化合物（１）等を注入する方法に比べて、生産コストを低減することができる。さらにロールフィルムでのフィルムの生産が可能である。

溶剤の乾燥は、重合を進行させるとともに行ってもよいが、重合前にほとんどの溶剤を乾燥させることが、成膜性の点から好ましい。

溶剤の乾燥方法としては、たとえば自然乾燥、通風乾燥、減圧乾燥などの方法が挙げられる。具体的な加熱温度としては、１０〜２５０℃であることが好ましく、２５〜２００℃であることがさらに好ましい。また加熱時間としては、１０秒間〜６０分間であることが好ましく、３０秒間〜３０分間であることがより好ましい。加熱温度及び加熱時間が上記範囲内であれば、上記支持基材として、耐熱性が必ずしも十分ではない支持基材を用いることができる。

［未重合フィルム重合工程］
未重合フィルム重合工程では、上記未重合フィルム調製工程で得られた未重合フィルムを重合し、硬化させる。これにより化合物（１）等の配向性が固定化されたフィルム、すなわち重合フィルムとなる。

未重合フィルムを重合させる方法は、化合物（１）の種類に応じて、決定されるものである。化合物（１）に含まれるＰ^１及び／又はＰ^２が光重合性であれば光重合、該重合性基が熱重合性であれば熱重合により、上記未重合フィルムを重合させることができる。本発明では、特に光重合により未重合フィルムを重合させることが好ましい。光重合によれば低温で未重合フィルムを重合させることができるので、支持基材の耐熱性の選択幅が広がる。また工業的にも製造が容易となる。また成膜性の観点からも光重合が好ましい。光重合は、未重合フィルムに可視光、紫外光又はレーザー光を照射することにより行う。取り扱い性の観点から、紫外光が特に好ましい。光照射は、化合物（１）が液晶相をとる温度に加温しながら行ってもよい。この際、マスキングなどによって重合フィルムをパターニングすることもできる。

本発明の光学フィルムは、配向膜と光学フィルムとの密着性が良好であるから、光学フィルムの製造が容易である。

さらに本発明の光学フィルムは、ポリマーを延伸することによって位相差を与える延伸フィルムと比較して、薄膜である。

本発明の光学フィルムの製造方法において、上記工程に続いて、支持基材を剥離する工程を含んでいてもよい。このような構成とすることにより、得られる積層体は、配向膜と光学フィルムとからなるフィルムとなる。また上記支持基材を剥離する工程に加えて、配向膜を剥離する工程をさらに含んでいてもよい。このような構成とすることにより、光学フィルムを得ることができる。

かくして得られた光学フィルムは、透明性に優れ、様々なディスプレイ用フィルムとして使用される。形成される層の厚みは、上記のとおり、得られる光学フィルムの位相差値によって、異なるものである。本発明では、上記厚みは、０．１〜１０μｍであることが好ましく、光弾性を小さくする点で０．５〜５μｍであることがさらに好ましい。

このような薄膜でより広い波長域において一様の偏光変換が可能なフィルムは、すべての液晶パネルや有機ＥＬなどのＦＰＤにおいて、光学補償フィルムとして用いることができる。

波長λ（ｎｍ）における光学フィルムの複屈折率Δｎ（λ）は、下記式（８）および（９）を満足することが好ましい。
０．６０＜Δｎ（４５０）／Δｎ（５５０）≦１．００ （８）
１．００≦Δｎ（６５０）／Δｎ（５５０）＜１．３５ （９）
（式（８）及び式（９）中、Δｎ（４５０）、Δｎ（５５０）、Δｎ（６５０）は４５０ｎｍ、５５０ｎｍ、６５０ｎｍにおける、Δｎを表す。）
本発明の光学フィルムは、カイラル剤の添加量を制御することで選択反射波長帯域を制御することが可能である。選択反射波長帯域は、赤外領域、可視領域、紫外領域のいずれでもかまわない。例えば、本発明の光学フィルムをカラーフィルターような着色を積極的に利用する用途に用いる場合には、可視領域に選択反射波長帯域があることが好ましい。また、ネガティブＣプレートの光学フィルムとして用いる場合には、紫外領域に選択反射波長帯域があることが好ましい。
本発明の光学フィルムは、ネガティブＣプレートとしても用いることができる。この場合には、本発明の光学フィルムは、カイラルネマチック相から形成されていることが好ましい。また、選択反射波長帯域の中心波長は、好ましくは５０〜３５０ｎｍであり、より好ましくは１００〜３００ｎｍである。選択反射波長帯域の中心波長λ（ｎｍ）は、λ＝ｎ・Ｐで表すことができる。ここで、ｎは、組成物の平均屈折率を示し、Ｐはカイラルネマチック相のらせんピッチ（μｍ）を示す。選択反射波長帯域の中心波長λ（ｎｍ）は、カイラル剤の添加量を変えることによって制御することができる。例えば選択反射波長帯域の中心波長λ（ｎｍ）を大きくしたいときは、カイラル剤の添加量を減らせばよく、選択反射波長帯域の中心波長λ（ｎｍ）を小さくしたいときは、カイラル剤の添加量を増やせばよい。

本発明の光学フィルムは、単独もしくは他のフィルムと組み合わせて、アンチリフレクション（ＡＲ）フィルムなどの反射防止フィルム、偏光フィルム、位相差フィルム、楕円偏光フィルム、視野角拡大フィルム又は透過型液晶ディスプレイの視野角補償用光学補償フィルムなどに利用することができる。また本発明の光学フィルムは１枚でも優れた光学特性を示すが、複数枚を積層させてもよい。
また、本発明の光学フィルムは、配向膜上に塗布、紫外線照射で重合させることによって形成させることができるため、従来よりも簡便にカラーフィルタの上もしくは下に光学フィルムを形成させることもできる。

図１は、本発明に係るカラーフィルタ１を示す概略図である。
カラーフィルタ１は、支持基材Ａ上に、配向膜３を介して、本発明の光学フィルム２が形成され、その上にカラーフィルタ層４上に形成されてなるカラーフィルタである。

上記構成のカラーフィルタ１の製造方法の一例を記載する。まず、支持基材Ａ上に、配向膜材料を塗布し、ラビング処理を施して、配向膜３を形成する。次に得られた配向膜３上に所望の波長分散特性をもつように、化合物（１）を含む混合溶液を調製し、所望の位相差値になるよう厚みを調製しながら塗布して、光学フィルム２を形成する。次に得られた光学フィルム２上に、カラーフィルタ層４を形成する。

一方、上記カラーフィルタ１を用いれば、光学フィルム２の数を減らした薄型の液晶表示装置を製造することが可能となる。その一例として、図２に示した、一対の基板に液晶層が挟持され形成されてなる液晶表示素子において少なくとも一方の基板の液晶層側に形成された、薄型液晶表示装置が挙げられる。

図２は、本発明に係る液晶表示装置５を示す概略図である。
図２に示す液晶表示装置５では、偏光板６上に例えばガラス基板などのバックライトと対向する基板７が接着剤を介して固定されており、基板７上に作成された配向膜３’上に光学フィルム２’ を介してカラーフィルタ層４’が形成されている。さらにカラーフィルタ層４’上に対向電極８が形成され、対向電極８上に液晶相９が形成されている。バックライト側は、偏光板１０にガラス基板などの基板１１が接着剤を介して固定されており、さらに基板１１には液晶層をアクティブ駆動させるための薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）及び絶縁層１２が形成され、さらにＴＦＴ上にＡｇ、Ａｌ又はＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ Ｔｉｎ Ｏｘｉｄｅ）による透明電極１３及び／又は反射電極１３’が形成されている。図２に示す液晶表示装置５の構成は、従来の液晶表示装置と比較して、光学フィルムの枚数を減らすことができ、より薄型の液晶表示装置の製造を可能とする。

本発明の光学フィルムは、透過型、半透過型、反射型液晶ディスプレイ及び有機ＥＬディスプレイの位相差板並びに該位相差板や上記光学フィルムを備えるＦＰＤにも利用することができる。上記ＦＰＤは、特に限定されるものではなく、たとえば液晶表示装置（ＬＣＤ）や有機ＥＬを挙げることができる。

このように本発明に係るフィルムは、広範囲な用途が考えられる。たとえばこのうち本発明に係る光学フィルム及び偏光フィルムを積層してなる偏光板並びに該偏光板を備えるＦＰＤについて、以下説明する
本発明に係る偏光板は、偏光機能を有するフィルム、すなわち偏光フィルムの片面もしくは両面に直接、又は接着剤もしくは粘着剤を用いて前記光学フィルムを張り合わせることにより得られるものである。なお以下の図３〜図５の説明では、接着剤及び粘着剤を総称して接着剤と呼ぶ場合がある。

図３（ａ）〜図３（ｄ）は、本発明に係る偏光板１を示す概略図である。
図３（ａ）に示す偏光板３０ａは、積層体１４と、偏光フィルム１５とが直接貼り合わされており、積層体１４は、支持基材１６、配向膜１７及び本発明の光学フィルム１８からなる。偏光板３０ａは、支持基材１６、配向膜１７、本発明の光学フィルム１８、偏光フィルム１５の順に積層されている。

図３（ｂ）に示す偏光板３０ｂは、積層体１４と偏光フィルム１５とが、接着剤層１９を介して貼り合わされており、積層体１４は、支持基材１６、配向膜１７及び本発明の光学フィルム１８からなる。偏光板３０ｂは、支持基材１６、配向膜１７、本発明の光学フィルム１８、接着剤層１９、偏光フィルム１５の順に積層されている。

図３（ｃ）に示す偏光板３０ｃは、積層体１４と、偏光フィルム１５とが直接貼り合わされており、積層体１４は、支持基材１６、配向膜１７及び本発明の光学フィルム１８からなる。偏光板３０ａは、本発明の光学フィルム１８、配向膜１７、支持基材１６、偏光フィルム１５の順に積層されている。

図３（ｄ）に示す偏光板３０ｄは、積層体１４と偏光フィルム１５とが、接着剤層１９を介して貼り合わされており、積層体１４は、支持基材１６、配向膜１７及び本発明の光学フィルム１８からなる。偏光板３０ａは、本発明の光学フィルム１８、配向膜１７、支持基材１６、接着剤層１９、偏光フィルム１５の順に積層されている。

図３（ａ）〜図３（ｄ）に示した支持基材は、上述したものであれば、いずれでも良いが、そのなかでもとりわけ、複屈折のまったくない支持基材であるか、延伸などにより、光学補償機能を付与した位相差板（例えば、λ／４板やλ／２板などである。）である事が好ましい。

本発明の偏光板とは、偏光フィルムと本発明の光学フィルムを含む積層体とを張り合わせたものである。積層体１４及び積層体１４’の代わりに、積層体１４から支持基材１６及び配向膜１７を剥離した、光学フィルム１８を用いてもよいし、積層体１４から支持基材１６を剥離した、配向膜１７及び光学フィルム１８からなるフィルムを用いてもよい。
その場合、図３（ａ）〜図３（ｄ）に記載されてい図の支持基材１６及び配向膜１７のない状態や、支持基材１６のない状態になる。

本発明の偏光板は、積層体を複数積層してもよく、その複数の積層体は、全て同一であっても、異なっていてもよい。

偏光フィルム１５は、偏光機能を有するフィルムであればよく、たとえばポリビニルアルコール系フィルムにヨウ素や二色性色素を吸着させて延伸したフィルム、ポリビニルアルコール系フィルムを延伸してヨウ素や二色性色素を吸着させたフィルムなどが挙げられる。

接着剤層１９及び接着剤層１９’に用いられる接着剤は、透明性が高く耐熱性に優れた接着剤であることが好ましい。そのような接着剤としては、たとえばアクリル系、エポキシ系又はウレタン系接着剤などが用いられる。

本発明のフラットパネル表示装置は、本発明の光学フィルムを備えるものであり、たとえば本発明の偏光フィルムと液晶パネルとが貼り合わされた貼合品を備える液晶表示装置を挙げることができる。

本発明にかかるフラットパネル表示装置の実施形態として、液晶表示装置について、以下詳細に述べる。

〔液晶表示装置〕
図４は、本発明に係る液晶表示装置の液晶パネル２０と偏光板３０との貼合品２１を示す概略図である。

液晶表示装置としては、たとえば図２に示すような液晶パネル２０と偏光板３０との貼合品２１を備える液晶表示装置などが挙げられる。貼合品２１は、本発明の偏光板３０と液晶パネル２０とが、接着層２２を介して貼り合わされてなるものである。図示しない電極を用いて、液晶パネル２０に電圧を印加することにより、液晶分子が駆動し、光シャッター効果を奏する。

以下、実施例により本発明をさらに詳細に説明する。例中の「％」及び「部」は、特記ない限り、重量％及び重量部である。

化合物を以下のスキームで合成した。原料のモノテトラヒドロピラニル保護ヒドロキノン(ａ)は特許文献（特開２００４−２６２８８４）に記載されている方法により合成した。

（第一経路）

（化合物（ｂ）の合成例）
モノテトラヒドロピラニル保護ヒドロキノン(ａ)１００．１ｇ（５１５ｍｍｏｌ）、炭酸カリウム９７．１ｇ（７０３ｍｍｏｌ）、６−クロロヘキサノール６４ｇ（４６８ｍｍｏｌ）を取り、ジメチルアセトアミドに溶解・分散させた。窒素雰囲気下、９０℃で、その後１００℃で撹拌した。その後室温まで冷却し、純水、メチルイソブチルケトンを加え、回収した有機層を水酸化ナトリウム水溶液及び純水で洗浄後に脱水し、濾過後に減圧濃縮した。残渣にメタノールを加えて、生成した沈殿を濾過後、真空乾燥させて、化合物(ｂ)を１２６ｇ（４２８ｍｍｏｌ）得た。収率は６−クロロヘキサノール基準で９１％であった。

（化合物（ｃ）の合成例）
化合物(ｂ)を１２６ｇ（４２８ｍｍｏｌ）、３、５−ジターシャリーブチル−４−ヒドロキシトルエン（以下ＢＨＴという）１．４０ｇ（６．４２ｍｍｏｌ）、Ｎ、Ｎ−ジメチルアニリン１１６．７ｇ（９６３ｍｍｏｌ）、１、３−ジメチル−２−イミダゾリジノン１．００ｇ及びクロロホルムを混合した。窒素雰囲気、氷冷下で得られた混合液に、アクイロイルクロリド５８．１ｇ（６４２ｍｍｏｌ）を滴下し、さらに純水を加えて攪拌した後、分離した有機層を回収した。有機層を塩酸水、飽和炭酸ナトリウム水溶液及び純水で洗浄した。有機層を乾燥し、濾過後、有機層にＢＨＴ１ｇを加えて減圧濃縮して、化合物（ｃ）を得た。

（化合物（ｄ）の合成例）
化合物（ｃ）及びテトラヒドロフラン（以下ＴＨＦという）２００ｍｌを混合後、得られた混合液にＴＨＦ２００ｍｌを加えた。さらに塩酸水及び濃塩酸水を加えて、窒素雰囲気、６０℃の条件下で攪拌した。反応溶液に飽和食塩水５００ｍｌを加えてさらに攪拌し、分離した有機層を回収した。回収した有機層を脱水し、濾過後減圧濃縮した。さらに有機層にヘキサンを加えて氷冷下で攪拌し、析出した粉末を濾過後真空乾燥して、化合物（ｄ）を９０ｇ（３３９ｍｍｏｌ）得た。収率は化合物（ｃ）基準で７９％であった。

（化合物（ｅ）の合成）
化合物（ｅ）は以下に示す経路でも合成した。

トランス１，４−シクロヘキサンジカルボン酸モノエトキシメチルエステル（式（ｈ）で表される化合物）の製造を下記のスキームにしたがって行った。

トランス−１、４−シクロヘキサンジカルボン酸２００ｇ（１．１６１６ｍｏｌ）及びジメチルアセトアミド１０００ｍＬを混合した。窒素雰囲気下、攪拌しながら８０℃まで昇温して、得られた溶液に炭酸カリウム９６．３ｇ（０．６９６９ｍｏｌ）を加えた後、ベンジルクロリド１３９．７ｇ（１．１０３５ｍｏｌ）を加え、溶液を１２０℃で６時間攪拌して反応させた。溶液を室温まで放冷後、氷１５００ｇに注ぎ攪拌した。得られた結晶を濾取して、これを水／メタノール３：２（ｖ/ｖ）、次いで水で洗浄した。真空乾燥により溶媒を除去し、化合物（ｆ）を含む粉末２５１ｇを得た。
前工程で得られた化合物（ｆ）を含む粉末２５１ｇをクロロホルム６００ｍＬを混合した。得られた溶液を氷冷し、窒素雰囲気下、得られた溶液にエトキシクロロメタン９３．５ｇ（０．７６００ｍｏｌ）及びトリエチルアミン１４６．８ｇ（１．４５１５ｍｏｌ）を滴下した。反応溶液を室温、窒素雰囲気下で３時間攪拌して反応させた。反応溶液にトルエン６００ｍＬを加え、析出したトリエチルアミン塩酸塩を濾別し、濾液を回収し、水で洗浄した。有機層を回収し、無水硫酸ナトリウムで乾燥、濾過後、溶媒を除去した。得られた粗生成物を真空乾燥して、化合物（ｇ）を含む液体２４２ｇを得た。

前工程で得られた化合物（ｇ）を含む液体２４２ｇ及びＴＨＦ２５０ｍｌを混合した。窒素雰囲気下で、得られた溶液に１０％パラジウム−炭素（５０％含水）１０．０ｇを加えた。減圧後、水素置換し、室温、常圧、水素雰囲気下で得られた溶液を６時間攪拌して反応させた。窒素置換後、得られた溶液を濾過し、触媒及び溶媒を除去した。残渣をクロロホルムに溶解した。得られた溶液をシリカゲル濾過した。シリカゲル上の不溶物を、シリカゲルからさらにクロロホルムにて抽出した。クロロホルム溶液を回収し、これを減圧濃縮し、これにヘプタンを加えて結晶化させた。得られた結晶を濾別、真空乾燥することにより化合物（ｈ）１０６ｇを得た。収率は化合物トランス−１、４−シクロヘキサンジカルボン酸基準で３９％であった。

化合物（ｄ）５６．８ｇ（２１５ｍｍｏｌ）、ジメチルアミノピリジン２．６５ｇ（２２ｍｍｏｌ）、トランス１，４−シクロヘキサンジカルボン酸モノエトキシメチルエステル５０ｇ（２１７ｍｍｏｌ）及びクロロホルム３００ｍＬを混合した。得られた混合液を窒素雰囲気下、氷冷して攪拌し、ジシクロヘキシルカルボジイミド４８．７９ｇ（２３７ｍｏｌ）及びクロロホルム５０ｍＬからなる溶液を滴下した。滴下終了後、得られた反応溶液を室温にて攪拌し、クロロホルム２００ｍＬ及びヘプタン２００ｍＬを加えて沈殿を濾過した。濾液を回収して、２Ｎ−塩酸水溶液で洗浄した。分離した有機層を回収し、不溶成分を濾過により除去後、無水硫酸ナトリウムを加え、濾過後、溶媒を除去して得られた固体を、真空乾燥して、化合物（ｅ’）１００ｇを得た。

化合物（ｅ’）１００ｇ、純水３．６４ｇ（２０２ｍｍｏｌ）、パラトルエンスルホン酸一水和物３．８４ｇ（２０．２ｍｍｏｌ）及びＴＨＦ２００ｍＬを混合した。得られた混合液を窒素雰囲気下、５０℃に加温し、攪拌した。混合液を室温まで放冷後、ＴＨＦを減圧除去し、残渣にヘプタン２００ｍＬを加えた。析出した沈殿を濾取し、純水で洗浄後、真空乾燥した。得られた粉末をクロロホルムに溶解し、シリカゲルを通してから濾過した。濾液を回収しクロロホルム４００ｍLに溶解して、得られた溶液を濃縮し、トルエンを加えた。溶液を減圧濃縮したのち、ヘプタンを加えて結晶化させ、得られた粉末を濾取、真空乾燥して、化合物（ｅ）６４．１ｇを得た。収率は化合物（ｄ）基準、二工程で７６％であった。

（化合物（ｉｉ−ａ）の製造例）
化合物（ｉｉ−ａ）を以下のスキームで合成した。原料である４，７−ジメトキシ−２−フェニルベンゾチアゾールは、Ｊ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．，Ｐｅｒｋｉｎ Ｔｒａｎｓ．１誌、２０５−２１０頁（２０００年）に記載されている方法により合成した。

４，７−ジメトキシ−２−フェニルベンゾチアゾール１０．８ｇ（３９．８ｍｍｏｌ）と塩化ピリジニウム５４．０ｇ（５倍質量）とを混合し、得られた混合液を２２０℃に昇温して攪拌した。混合液を冷却後、水を加え、得られた沈殿を濾別し、水及びヘキサンで洗浄して、４，７−ジヒドロキシ−２−フェニルベンゾチアゾール（化合物（ｉｉ−ａ））を主成分とする固体８．７ｇを得た。収率は４，７−ジメトキシ−２−フェニルベンゾチアゾール基準で８９％であった。

（化合物（ｖ−ａ）の合成例）
化合物（ｉｉ−ａ）と同様の手法でベンゾチアゾールを合成後、三臭化ホウ素による脱メチル化反応によって化合物（ｖ−ａ）を合成した。反応スキームを以下に示す。

（化合物（ｖ−ｂ）の合成例）
化合物（ｉｉ−ａ）の合成例における、原料のベンゾイルクロリドを４−ニトロベンゾイルクロリドに変える以外は同様の方法にて化合物（ｖ−ｂ）を主成分とする固体を得た。収率は２，５−ジメトキシアニリン基準で９８％であった。

（化合物（ｖ−ｃ）の合成例）
化合物（ｉｉ−ａ）の合成例における、原料の化合物を化合物（ｖ−ｂ）に変える以外は同様の方法にて化合物（ｖ−ｃ）を主成分とする固体を得た。収率は化合物（ｖ−ｂ）基準で８９％であった。

（化合物（ｖ−ｄ）の合成例）
化合物（ｉｉ−ａ）の合成例における、原料の化合物を化合物（ｖ−ｃ）に変える以外は同様の方法にて化合物（ｖ−ｄ）を主成分とする固体を得た。収率は化合物（ｖ−ｃ）基準で５２％であった。

（化合物（ｖ−ａ）の合成例）
化合物（ｖ−ｄ）を２１．０ｇ（６６．０ｍｍｏｌ）及び脱水トルエン４４１ｇを混合し、攪拌した。得られた混合液を氷冷し、三臭化ホウ素１００ｇ（３９８ｍｍｏｌ）を加え、７０℃まで昇温し、攪拌した。室温まで冷却した後、さらに氷冷し、水を１５８８ｇ加え、得られた沈殿を濾別し、水及びクロロホルムで洗浄して、化合物（ｖ−ａ）を主成分とする固体１６．５ｇを得た。収率は化合物（ｖ−ｄ）基準で８６％であった。

＜化合物（ｉｉ−１）の合成例＞
化合物（ｉｉ−ａ）２．５５ｇ（１１ｍｍｏｌ）、化合物（ｅ）９．６７ｇ（２３ｍｍｏｌ）、ジメチルアミノピリジン０．２８ｇ（２ｍｍｏｌ）及びクロロホルム５０ｍＬを混合した。得られた混合液にジシクロヘキシルカルボジイミド５．３１ｇ（２８ｍｍｏｌ）のクロロホルム溶液４０ｍＬを氷冷下で滴下した。得られた反応溶液を攪拌し、濾過したのち、分離した有機層を回収した。有機層を乾燥後、減圧濃縮した。残渣に酢酸エチルを加えて溶解し、減圧濃縮後、メタノール２００ｍＬを加えて氷冷下で再沈殿させた。沈殿を濾取し、ｎ−ヘプタンで洗浄、濾過後、得られた固体を真空乾燥して化合物（ｉｉ−１）を６．１ｇ得た。収率は化合物（ｉｉ−ａ）基準で５６％であった。

化合物（ｉｉ−１）の^１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ）：δ（ｐｐｍ）１．４４〜１．８０（ｍ、２４Ｈ）、２．３８〜２．８３（ｍ、１２Ｈ）、３．９３〜３．９７（ｔ、４Ｈ）、４．１１〜４．１４（ｔ、４Ｈ）、５．８９〜５．９４（ｄｄ、２Ｈ）、６．１０〜６．２０（ｍ、２Ｈ）、６．２９〜６．３６（ｍ、２Ｈ）、６．９１〜７．０３（ｍ、８Ｈ）、７．３６（ｓ、２Ｈ）、７．６０（ｍ、３Ｈ）、８．０６（ｍ、２Ｈ）

得られた化合物（ｉｉ−１）の相転移温度を偏光顕微鏡によるテクスチャー観察によって行った。化合物（ｉｉ−１）は、昇温時において、９６℃から１１５℃までスメクチック相を呈し、１１５℃から２２６℃までネマチック相を呈し、降温時において、２２６℃から５０℃までネマチック相を呈した。

＜化合物（ｖ−１）の合成例＞
化合物（ｖ−ａ）２．８８ｇ（１０ｍｍｏｌ）、化合物（ｅ）８．３７ｇ（２０ｍｍｏｌ）、ジメチルアミノピリジン０．２４ｇ（２ｍｍｏｌ）及びクロロホルム７５ｍＬを混合した。得られた混合液にジシクロヘキシルカルボジイミド４．９５ｇ（２４ｍｍｏｌ）のクロロホルム溶液４０ｍＬを氷冷下で滴下した。得られた反応溶液を攪拌し、濾過したのち、分離した有機層を回収した。有機層を乾燥後、減圧濃縮した。残渣に酢酸エチルを加えて溶解し、減圧濃縮後、メタノール２００ｍＬを加えて氷冷下で再沈殿させた。沈殿を濾取し、さらにメタノールで洗浄、濾過後、得られた固体を真空乾燥して化合物（ｖ−１）を１０．３ｇ得た。収率は化合物（ｖ−ａ）基準で９４％であった。

化合物（ｖ−１）の^１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３）：δ（ｐｐｍ）１．４５〜１．８６（ｍ、２４Ｈ）、２．３５〜２．８３（ｍ、１２Ｈ）、３．９３〜３．９７（ｔ、４Ｈ）、４．１５〜４．２０（ｔ、４Ｈ）、５．８０〜５．８４（ｄｄ、２Ｈ）、６．０７〜６．１８（ｍ、２Ｈ）、６．３７〜６．４４（ｍ、２Ｈ）、６．８７〜７．０２（ｍ、８Ｈ）、７．２７（ｄ、２Ｈ）、８．１９〜８．２３（ｄ、２Ｈ）、８．３４〜８．３８（ｄ、２Ｈ）

得られた化合物（ｖ−１）の相転移温度を偏光顕微鏡によるテクスチャー観察によって行った。化合物（ｖ−１）は、昇温時において、１６０℃から１６９℃までスメクチック相を呈し、１６９℃から２２４℃までネマチック相を呈し、降温時において、２２４℃から１５４℃までネマチック相を呈した。

（化合物（ｘ−ａ）の製造例）
化合物（ｘ−ａ）は以下のスキームで合成した。

＜化合物（ｘ−１）の合成例＞
化合物（ｉｉ−ａ）の合成例における、ベンゾイルクロリドを４−ニトロベンゾイルクロリドに変える以外は同様の方法にて、化合物（ｘ−１）を得た。収率は化合物（ｘ−ａ）基準で８４％であった。さらに化合物（ｉｉ−１）と同様の方法で、化合物（ｘ−１）を合成した。収率は化合物（ｘ−ａ）基準で８４％であった。

化合物（ｘ−１）の^１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３）：δ（ｐｐｍ）１．４３〜１．８３（ｍ、２４Ｈ）、２．２９〜２．８２（ｍ、１２Ｈ）、３．９２〜３．９７（ｔ、４Ｈ）、４．１５〜４．２０（ｔ、４Ｈ）、５．８０〜５．８４（ｄｄ、２Ｈ）、６．０７〜６．１８（ｍ、２Ｈ）、６．３７〜６．４４（ｍ、２Ｈ）、６．８６〜７．０２（ｍ、８Ｈ）、７．１２（ｄｔ、１Ｈ）、７．１８（ｓ、２Ｈ）、７．５１（ｄｄ、１Ｈ）、７．６３（ｄｄ、１Ｈ）

得られた化合物（ｘ−１）の相転移温度を偏光顕微鏡によるテクスチャー観察によって行った。化合物（ｘ−１）は、昇温時において、１０１℃から１０６℃までスメクチック相を呈し、１０６℃から１８０℃以上までネマチック相を呈し、降温時において、８１℃までネマチック相を呈し結晶化した。
（実施例５）
＜化合物（Ａ１１−１）の合成例＞
化合物（Ａ１１−１）は下記のスキームに従って合成した。

［４，６−ジメチルベンゾフランの合成例］
３，５−ジメチルフェノール２５ｇ（２０５ｍｍｏｌ）をＮ、Ｎ’−ジメチルアセトアミド１５０．０ｇに溶解させた。溶液を氷浴により冷却した後に、水酸化ナトリウム９．８２（２４６ｍｍｏｌ）を加えた。室温で１時間攪拌し、クロロアセトアルデヒドジメチルアセタール２５．４９ｇ（２６６ｍｍｏｌ）を滴下した。１００℃で１５時間攪拌し、反応液を水１０００ｍＬ、メチルイソブチルケトン４００ｍＬに加えて分液した。有機層を回収し、２回５００ｍＬの１Ｎ−水酸化ナトリウム水溶液で、さらに２回８００ｍＬの純水で有機層を洗浄した。有機層を回収後、無水硫酸ナトリウムで脱水し、エバポレータにて減圧濃縮させ淡赤色粘長液体を得た。一方で、４００ｇのトルエンと、オルトリン酸３．０１ｇを混合し１１０℃に加熱した。該溶液に淡赤色粘長液体をトルエン１００ｍＬに溶解させた溶液を滴下した。３時間１１０℃で攪拌した後、室温まで冷却した。反応液を１Ｎ−炭酸水素ナトリウム水溶液で二回洗浄し、最後に純水５００ｍＬで洗浄した。有機層を回収し、無水硫酸ナトリウムで脱水後、エバポレータにて減圧濃縮、真空乾燥させて、４，６−ジメチルベンゾフランを１６．５ｇ淡赤色粘長液体として得た。収率は３，５−ジメチルフェノール基準で５５％であった。

［２−ホルミル−４，６−ジメチルベンゾフランの合成例］
４，６−ジメチルベンゾフラン２１．６２ｇ（１４８ｍｍｏｌ）をＮ、Ｎ’−ジメチルホルムアミド２８．４ｇ（３８９ｍｍｏｌ）に溶解させた。溶液を水浴により冷却した後に、オキシ塩化リン２５ｇ（１６３ｍｍｏｌ）を滴下した。ピンク色溶液を室温で１時間攪拌した後、１００℃で１０時間攪拌した。反応液を室温まで放冷し、純水１００ｍＬを加えて一時間攪拌後、１Ｎ炭酸水素ナトリウムで中和した。ｐＨを８に調節後、トルエンと分液した。有機層を回収し、活性炭を２．６ｇ加えて濾過した。エバポレータにて減圧濃縮し、残渣をクロロホルムに溶解させ、ヘプタンにて結晶化させた。結晶を濾取、真空乾燥して、２−ホルミル−４，６−ジメチルベンゾフランを１９．５ｇ淡黄色粉末として得た。収率は４，６−ジメチルベンゾフラン基準で７６％であった。

［４，６−ジメチルベンゾフラン−２−カルボン酸の合成例−１］
２−ホルミル−４，６−ジメチルベンゾフラン１９．５０ｇ（１１２ｍｍｏｌ）、アミド硫酸１３．０４ｇ（１３４ｍｍｏｌ）を１００ｍＬの純水と混合した。氷浴で冷却し、亜塩素酸ナトリウム１２．１５ｇ（１３４ｍｍｏｌ）の水１００ｍＬ溶液を滴下した。水浴で３６時間反応させた。反応溶液にトルエン１００ｍＬ、水酸化カリウム２５ｇを加えてｐＨを１２に調整した。分液し、水層を回収し水層をさらに２００ｍＬのトルエンで洗浄した。水層を回収し、２Ｎ−塩酸にてｐＨを２にした後、トルエン４００ｍＬを加えて分液した。有機層を回収し、無水硫酸ナトリウムで脱水後、エバポレータにて減圧濃縮、真空乾燥して、４，６−ジメチルベンゾフラン−２−カルボン酸を１４．２７ｇ黄色粉末として得た。収率は２−ホルミル−４，６−ジメチルベンゾフラン基準で６７％であった。

４，６−ジメチルベンゾフラン−２−カルボン酸は下記のスキームによっても合成できた。

＜４，６−ジメチルベンゾフラン−２−カルボン酸の合成例−２＞

［４，６−ジメチルサリチルアルデヒドの合成例］
３，５−ジメチルフェノール１５０ｇ（１２２７ｍｍｏｌ）、パラホルムアルデヒド２３０．１ｇ（７６７４ｍｍｏｌ）、無水塩化マグネシウム１７５。４ｇ（１８４２ｍｍｏｌ）をアセトニトリル９００ｍＬに分散させた。氷浴で３０分攪拌した後、トリエチルアミン４７４ｇ（４６８１ｍｍｏｌ）を二時間かけて滴下した。混合液を水浴で８時間、室温で１４時間反応させた。反応液に冷５Ｎ−塩酸１５００ｍＬを加えて、酸性にした後、４００ｍＬの酢酸エチルで分液し、有機層を回収した。さらに水層を４００ｍＬの酢酸エチルで分液した。有機層を回収し、先の有機層と集めて、無水硫酸ナトリウムで脱水後、エバポレータにて減圧濃縮した。残渣を４００ｍＬトルエンに溶解し、活性炭３ｇ、シリカゲル２０ｇ加えて３０分室温で攪拌し、濾過した。濾液を回収し、エバポレータにて減圧濃縮、真空乾燥させることにより、４，６−ジメチルサリチルアルデヒドを１７０ｇ橙色粘長液体として得た。収率は３，５−ジメチルフェノール基準で９２％であった。

［４，６−ジメチルベンゾフラン−２−カルボン酸の合成例−２］
４，６−ジメチルサリチルアルデヒド４５．０ｇ（３００ｍｍｏｌ）、炭酸カリウム１０１．ｇ（３００ｍｍｏｌ）、をＮ、Ｎ’―ジメチルアセトアミド３６０ｍＬに分散させた。８０℃に加温した後、ブロモ酢酸エチル５０.０ｇ（３００ｍｍｏｌ）を１時間かけて滴下した。混合液を８０℃で４時間反応させた。反応液を室温まで冷却後、メチルイソブチルケトン４００ｍＬを加えて、冷１Ｎ−塩酸１０００ｍＬで酸性にした後、分液した。有機層を３回１０００ｍＬの純水で洗浄し、有機層を回収した。無水硫酸ナトリウムで脱水後、エバポレータにて溶媒を留去した。残渣に水酸化カリウム４０ｇ、エタノール４００ｍＬを加えて、８０℃で１時間攪拌した。室温まで放冷後、エバポレータにて溶媒を留去し、純水１０００ｍＬを加えた。ｐＨが１２以上であることを確認後、水層をトルエンにて二回、ヘプタンで一回洗浄した。水層を回収し、４Ｎ−硫酸にて中和、ｐＨを３に調節した。析出した黄色沈殿を濾取し、純水で懸洗後、真空乾燥させることにより、４，６−ジメチルベンゾフラン−２−カルボン酸を４８．１ｇ黄色粉末として得た。収率は４，６−ジメチルサリチルアルデヒド基準で８３％であった。

［化合物（１１−ａ）の合成例］
２，５−ジメトキシアニリン１１．４９ｇ（７５．０ｍｍｏｌ）、４，６−ジメチルベンゾフラン−２−カルボン酸１４．２７ｇ（７５．７ｍｍｏｌ）、トリエチルアミン７．５９ｇ（７５．０ｍｍｏｌ）、Ｎ、Ｎ’−ジメチルアミノピリジン１．８３ｇ（１５．０ｍｍｏｌ）及び脱水Ｎ、Ｎ’−ジメチルアセトアミド１００．０ｇを混合した。得られた溶液を氷浴にて冷却した後、ＢＯＰ試薬３４．８５ｇ（８２．５ｍｍｏｌ）を加えて室温で２４時間反応させた。得られた混合液に水、メタノールの混合溶液（水２体積部、メタノール１体積部）を加えて晶析させた。得られた沈殿を濾取し水―メタノールの混合溶液（水３体積部、メタノール２体積部）で洗浄、真空乾燥して、淡黄色粉末として化合物（１１−ａ）を１６．２ｇ得た。収率は２，５−ジメトキシアニリン基準で６６％であった。

［化合物（１１−ｂ）の合成例］
化合物（１１−ａ）１６．０ｇ（４９ｍｍｏｌ）、２，４−ビス（４−メトキシフェニル）−１，３−ジチア−２，４−ジホスフェタン−２，４−ジスルフィド（ローソン試薬）９．２ｇ（３０．０ｍｍｏｌ）及びトルエン１００ｇを混合し、得られた混合液を８０℃に昇温して１２時間反応させた。冷却後濃縮し、化合物（１１−ｂ）とローソン試薬の分解物とを主成分とする赤色粘長固体を得た。

［化合物（１１−ｃ）の合成例］
前項で得られた化合物（１１−ｂ）を含む混合物、水酸化ナトリウム１１．８ｇ（２６２ｍｍｏｌ）及び水２５０ｇを混合し、得られた混合液を氷冷下で反応させた。続いてフェリシアン化カリウム４４．１７ｇ（１３４ｍｍｏｌ）を含む水溶液を、氷冷下で加え、反応させた。６０℃で１２時間反応させて、析出した黄色沈殿を濾取した。濾取した沈殿を水、次いでヘキサンで洗浄し、トルエンで結晶化させた。得られた黄色を真空乾燥して、化合物（１１−ｃ）を主成分とする黄土色固体４．１ｇを得た。収率は化合物（１１−ａ）基準で２５％であった。

［化合物（１１−ｄ）の合成例］
化合物（１１−ｃ）４．０ｇ（１２．０ｍｍｏｌ）及び塩化ピリジニウム４０．０ｇ（１０倍質量）を混合し、１８０℃に昇温して３時間反応させた。得られた混合液を氷に加え、得られた沈殿を濾取した。水で懸洗後、トルエンで洗浄、真空乾燥させて、化合物（１１−ｄ）を主成分とする黄土色固体３．４ｇを得た。収率は化合物（１１−ｃ）基準で９３％であった。

［化合物（Ａ１１−１）の合成例］
化合物（１１−ｄ）３．００ｇ（９．６４ｍｍｏｌ）、化合物（Ａ）８．４７ｇ（２０．２３ｍｍｏｌ）、ジメチルアミノピリジン０．１２ｇ（０．９６ｍｍｏｌ）及びクロロホルム４０ｍＬを混合した。得られた混合液にＮ、Ｎ’−ジイソプロピルカルボジイミド２．９２ｇ（２３．１２ｍｍｏｌ）を氷冷下で加えた。得られた反応溶液を室温で終夜反応させ、シリカゲル濾過したのち、減圧濃縮した。残渣にメタノールを加えて結晶化させた。結晶を濾取し、クロロホルムに再溶解させ０．３ｇの活性炭を加えて、室温で一時間攪拌した。溶液を濾過して濾液をエバポレータにて１／３まで減圧濃縮後、攪拌しながらメタノールを加えて、生成した白色沈殿を濾取し、ヘプタンで洗浄、真空乾燥して化合物（Ａ１１−１）を白色粉末として７．６０ｇ得た。収率は化合物（１１−ｄ）基準で７１％であった。

化合物（Ａ１１−１）の^１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３）：δ（ｐｐｍ）１．４５〜１．８５（ｍ、２４Ｈ）、２．３６〜２．８７（ｍ、１８Ｈ）、３．９３〜３．９７（ｔ、４Ｈ）、４．１５〜４．２０（ｔ、４Ｈ）、５．７９〜５．８４（ｄｄ、２Ｈ）、６．０７〜６．１７（ｍ、２Ｈ）、６．３７〜６．４５（ｍ、２Ｈ）、６．８７〜７．０１（ｍ、９Ｈ）、７．２０（ｓ，１Ｈ）、７．２３（ｓ、２Ｈ）、７．５３（ｓ，１Ｈ）

得られた化合物（Ａ１１−１）の相転移温度を偏光顕微鏡によるテクスチャー観察によって確認した。化合物（Ａ１１−１）は、昇温時において、１０５℃から１３７℃まで粘性の高い中間相を示した。液晶相の判別は困難であったが、１３７℃以上で明確なネマチック液晶相を呈した。ネマチック液晶相は１８０℃以上まであり、降温時においては、６１℃までネマチック相を呈し結晶化した。

＜光学フィルムの製造例＞
（実施例１〜４、比較例１）
ガラス基板に、ポリビニルアルコール（ポリビニルアルコール１０００完全ケン化型、和光純薬工業株式会社製）の２重量％水溶液を塗布し、乾燥後、厚さ８９ｎｍの膜を形成した。続いて、得られた膜の表面にラビング処理を施し、ラビング処理を施した面に、表２の組成の組成物をスピンコート法により塗布し、加熱乾燥した。その後、紫外線を照射した。これにより、ガラス基板に、光学フィルムを作成した。

表２中、溶剤以外の表中の重量％は、組成物を１００重量％とした重量％を意味する。

表中の単位は％
ＬＣ２４２：ＢＡＳＦ社より市販されている液晶化合物
カイラル剤：ＬＣ７５６（ＢＡＳＦ社より市販されているカイラル剤）
光重合性開始剤：ＴＡＺ−Ａ 日本シイベルヘグナー社より市販されているトリアジン系化合物
レベリング剤：ＢＹＫ３６１Ｎ（ビックケミージャパン製）
溶剤：シクロペンタノン

＜光学特性の測定＞
位相差値（ｎｍ）の測定は、ガラス基板上に作成したフィルムを剥離することなく、測定機で計測した。基材に使用したガラス基板には、ほとんど複屈折性が無いため、剥離せずに測定しても、ガラス基板上に作製した光学フィルムの位相差値を得ることができる。また、光学フィルムに由来する部分の膜厚（μｍ）を、光学フィルムの一部を剥離して、レーザー顕微鏡（ＬＥＸＴ３０００、オリンパス社製）を用いて測定した。

作製した光学フィルムのフィルム面の法線方向を０°とし、測定機（エリプソメーター、Ｍ−２２０、日本分光社製）を用いて、波長４５０ｎｍ、５５０ｎｍ、及び６５０ｎｍの光を０°から入射して、入射光の相差値を測定した。測定した膜厚とあわせて、結果を表１０に示す。全てのサンプルで、位相差値はほぼゼロとなることがわかった。

その後、進相軸および遅相軸を中心にして、５°刻みでサンプルを傾斜させて、−６０°から６０°の範囲で位相差値を測定して、各波長４５０ｎｍ、５５０ｎｍ、及び６５０ｎｍで得られる位相差値を求め、二次曲線でフィッティングして放物線を描いた。全ての比較例、実施例ともに、描かれた放物線は、０°を基準とする左右対称の放物線となり、進相軸を中心に傾斜させた場合、上に凸の放物線となり、遅相軸を中心に下に凸の放物線になった。これらの結果と、フィルム面の法線方向の位相差値が、ほぼゼロであることから、作成した光学フィルムは、完全２軸であることがわかり、いわゆるネガティブＣプレートとなっていることがわかった。

また、遅相軸を中心にして、５０°サンプルを傾斜させて、各波長４５０ｎｍ、５５０ｎｍ、及び６５０ｎｍの光を入射した時の、入射光の相差値を測定機（エリプソメーター、日本分光社製）を用いて測定した。得られた位相差値から、［Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）］および［Ｒｅ（６５０）／Ｒｅ（４５０）］を算出した。結果を表１１に示す。

実施例１〜４により得られた光学フィルムは、［Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）］の値がより１以下であった。また、［Ｒｅ（６５０）／Ｒｅ（５５０）］の値が１以上であった。比較例１により得られた光学フィルムは、［Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）］の値がより１以上であった。また、［Ｒｅ（６５０）／Ｒｅ（５５０）］の値が１以下であった。つまり、今発明の組成物は、いわゆる逆波長分散性を示すため、液晶パネルに利用すれば、光学補償に優れた特性を有する。

本発明の組成物によれば、広い波長域において一様の偏光変換が可能な光学フィルムを与えることができる。

１，１’ カラーフィルタ
２，２’ 光学フィルム
３，３’ 配向膜
４，４’ カラーフィルタ層
５ 液晶表示装置
６，１０ 偏光板
７，１１ 基板
８ 対向電極
９ 液晶層
１２ ＴＦＴ、絶縁層
１３ 透明電極
１３’ 反射電極
３０，３０ａ，３０ｂ，３０ｃ，３０ｄ，３０ｅ 偏光板
１４，１４’ 積層体
１５ 偏光フィルム
Ａ，１６，１６’ 支持基材
１７，１７’ 配向膜
１８，１８’ 光学フィルム
１９，１９’，２２ 接着剤層
２０ 液晶パネル
２１ 貼合品

Claims (14)

1. 式（１）で表される化合物及びカイラル剤を含む組成物であって、
   

   

   ［式（１）中、Ａｒは式（Ａｒ−６）〜式（Ａｒ−１３）のいずれかで表される２価の基を表し、Ａｒ基中の芳香環に含まれるπ電子の数Ｎ_πは、１２以上である。
   

   

   ［式（Ａｒ−６）〜式（Ａｒ−１３）中、Ｚ^１は、ハロゲン原子、炭素数１〜６のアルキル基、シアノ基、ニトロ基、炭素数１〜６のアルキルスルフィニル基、炭素数１〜６のアルキルスルホニル基、カルボキシル基、炭素数１〜６のフルオロアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基、炭素数１〜６のアルキルチオ基、炭素数１〜６のＮ−アルキルアミノ基、炭素数２〜１２のＮ，Ｎ−ジアルキルアミノ基、炭素数１〜６のＮ−アルキルスルファモイル基または炭素数２〜１２のＮ，Ｎ−ジアルキルスルファモイル基を表す。
   Ｑ^１及びＱ^３は、それぞれ独立に、−ＣＲ^９Ｒ^１０−、−Ｓ−、−ＮＲ^９−、−ＣＯ−又は−Ｏ−を表す。
   Ｒ^９及びＲ^１０は、それぞれ独立に、水素原子又は炭素数１〜４のアルキル基を表す。
   Ｙ^２及びＹ^３は、それぞれ独立に、置換されていてもよい芳香族炭化水素基又は芳香族複素環基を表す。
   Ｗ^ａ及びＷ^ｂは、それぞれ独立に、水素原子、シアノ基、メチル基又はハロゲン原子を表す。
   ｎは、０〜２の整数を表す。］
   Ｄ^１及びＤ^２は、それぞれ独立に、＊−Ｏ−ＣＯ−、＊−Ｏ−Ｃ（＝Ｓ）−、＊−Ｏ−ＣＲ^１Ｒ^２−、＊−ＮＲ^５−ＣＲ^１Ｒ^２−、または＊−ＮＲ^５−ＣＯ−を表す（＊は、Ａｒに結合する位置を表す）。Ｒ^１及びＲ^２は、それぞれ独立に、水素原子、フッ素原子又は炭素数１〜４のアルキル基を表す。
   Ｒ^５は、水素原子又は炭素数１〜４のアルキル基を表す。
   Ｇ^１及びＧ^２は、それぞれ独立に、式（ｇ−１）〜式（ｇ−１０）のいずれかで示される２価の脂環式炭化水素基を表す。
   

   

   式（ｇ−１）〜（ｇ−１０）で示される基に含まれる水素原子は、ハロゲン原子、炭素数１〜４のアルキル基、炭素数１〜４のフルオロアルキル基、炭素数１〜４アルコキシ基、シアノ基またはニトロ基に置換されていてもよい。
   Ｅ^１及びＥ^２は、それぞれ独立に、＊−ＣＲ^６Ｒ^７−、−ＣＨ_２−ＣＨ_２−、−Ｏ−、−Ｓ−、＊−ＣＯ−Ｏ−、＊−Ｏ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、＊−Ｃ（＝Ｓ）−Ｏ−、＊−Ｏ−Ｃ（＝Ｓ）−、＊−Ｏ−Ｃ（＝Ｓ）−Ｏ−、＊−ＣＯ−ＮＲ^８−、＊−ＮＲ^８−ＣＯ−、＊−Ｏ−ＣＨ_２−、＊−ＣＨ_２−Ｏ−、＊−Ｓ−ＣＨ_２−、＊−ＣＨ_２−Ｓ−又は単結合を表す（＊は、Ｇ^１又はＧ^２に結合する位置を表す）。Ｒ^６及びＲ^７は、それぞれ独立に、水素原子、フッ素原子又は炭素数１〜４のアルキル基を表す。Ｒ^８は、水素原子又は炭素数１〜４のアルキル基を表す。
   Ｂ^１及びＢ^２のうち、Ａ^１又はＡ^２のみと結合しているＢ^１及びＢ^２は、それぞれ独立に、−ＣＨ_２−ＣＨ_２−、＊−ＣＯ−Ｏ−、＊−Ｏ−ＣＯ−、＊−ＣＯ−ＮＨ−、＊−ＮＨ−ＣＯ−、＊−Ｏ−ＣＨ_２−、＊−ＣＨ_２−Ｏ−又は単結合を表し、
   Ｂ^１及びＢ^２のうち、Ｆ^１又はＦ^２と結合しているＢ^１及びＢ^２は、それぞれ独立に、−Ｏ−、＊−ＣＯ−Ｏ−、＊−Ｏ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、＊−ＣＯ−ＮＨ−、＊−ＮＨ−ＣＯ−又は単結合を表す（＊は、Ａ^１又はＡ^２に結合する位置を表す）。
   Ａ^１及びＡ^２は、それぞれ独立に、式（ｇ−１）〜式（ｇ−１０）のいずれかで示される２価の脂環式炭化水素基、又は、式（ａ−１）〜式（ａ−３）、式（ａ−７）及び式（ａ−８）のいずれかで表される２価の芳香族炭化水素基を表す。
   

   

   該２価の芳香族炭化水素基に含まれる水素原子は、ハロゲン原子、炭素数１〜４のアルキル基、炭素数１〜４アルコキシ基、シアノ基又はニトロ基に置換されていてもよい。該炭素数１〜４のアルキル基及び該炭素数１〜４アルコキシ基に含まれる水素原子は、フッ素原子に置換されていてもよい。
   ｋ及びｌは、それぞれ独立に、０〜３の整数を表す。
   Ｆ^１及びＦ^２は、それぞれ独立に、炭素数１〜１２のアルキレン基を表す。該アルキレン基に含まれる水素原子は、炭素数１〜５のアルキル基、炭素数１〜５のアルコキシ基又はハロゲン原子に置換されていてもよく、該アルキレン基に含まれるメチレン基は、−Ｏ−又は−ＣＯ−に置換されていてもよい。
   Ｐ^１及びＰ^２は、それぞれ独立に、水素原子、アクリロイルオキシ基又はメタクリロイルオキシ基を表す（ただし、Ｐ^１及びＰ^２のうち少なくとも１つは、アクリロイルオキシ基又はメタクリロイルオキシ基を表す）。］
   式（１）で表される化合物が、式（２）及び式（３）で表される要件を充足する化合物である組成物。
   （Ｎ_π−４）／３＜ｋ＋ｌ＋４ （２）
   １２≦Ｎ_π≦２２ （３）
   ［式（２）及び式（３）中、Ｎ_π、ｋ及びｌは上記と同じ意味を表す。］
2. 式（１）中、Ａｒが式（Ａｒ−６）で表される２価の基である請求項１記載の組成物。
   

   

   ［式（Ａｒ−６）中、Ｚ^１は、ハロゲン原子、炭素数１〜６のアルキル基、シアノ基、ニトロ基、炭素数１〜６のアルキルスルフィニル基、炭素数１〜６のアルキルスルホニル基、カルボキシル基、炭素数１〜６のフルオロアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基、炭素数１〜６のアルキルチオ基、炭素数１〜６のＮ−アルキルアミノ基、炭素数２〜１２のＮ，Ｎ−ジアルキルアミノ基、炭素数１〜６のＮ−アルキルスルファモイル基または炭素数２〜１２のＮ，Ｎ−ジアルキルスルファモイル基を表す。
   Ｑ^１は、−ＣＲ^９Ｒ^１０−、−Ｓ−、−ＮＲ^９−、−ＣＯ−又は−Ｏ−を表す。
   Ｒ^９及びＲ^１０は、それぞれ独立に、水素原子又は炭素数１〜４のアルキル基を表す。
   Ｙ^２は、置換されていてもよい芳香族炭化水素基又は芳香族複素環基を表す。
   ン原子を表す。
   ｎは、０〜２の整数を表す。］
3. Ｇ^１及びＧ^２が、１，４−シクロヘキシレン基である請求項１又は２のいずれか記載の組成物。
4. Ａ^１及びＡ^２が、それぞれ独立に、１，４−フェニレン基又は１，４−シクロヘキシレン基である請求項１〜３のいずれか記載の組成物。
5. さらに重合開始剤を含有する請求項１〜４のいずれか記載の組成物。
6. 請求項１〜５のいずれか記載の組成物が重合した樹脂を含むフィルム。
7. 選択反射波長域が紫外域にある請求項６記載のフィルム。
8. 支持基材と、支持基材上に形成された請求項６又は７記載のフィルムとを含み、フィルムのカイラル螺旋軸が、支持基材表面に対してほぼ垂直である積層体。
9. 請求項６又は７記載のフィルム及び偏光フィルムを含む偏光部材。
10. 請求項６又は７記載のフィルム及び液晶セルを含む液晶表示装置。
11. 請求項６又は７記載のフィルム及び有機エレクトロルミネッセンスパネルを備える有機ＥＬ表示装置。
12. 請求項１〜５のいずれか記載の組成物を含む溶液を支持基材に塗布し、乾燥させる未重合フィルムの製造方法。
13. 請求項１〜５のいずれか記載の組成物を含む溶液を、支持基材上に形成された配向膜上に塗布し、乾燥させる未重合フィルムの製造方法。
14. 請求項１２又は１３記載の未重合フィルムの製造方法で得られた未重合フィルムを、重合により硬化させるフィルムの製造方法。

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