CN114959617B - Ag/WS2-DLC涂层及其制备方法 - Google Patents
Ag/WS2-DLC涂层及其制备方法 Download PDFInfo
- Publication number
- CN114959617B CN114959617B CN202210746836.0A CN202210746836A CN114959617B CN 114959617 B CN114959617 B CN 114959617B CN 202210746836 A CN202210746836 A CN 202210746836A CN 114959617 B CN114959617 B CN 114959617B
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- layer
- dlc
- layers
- sample stage
- coating
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 238000000576 coating method Methods 0.000 title claims abstract description 37
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 title claims abstract description 34
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title description 4
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 22
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 claims abstract description 15
- 239000010959 steel Substances 0.000 claims abstract description 15
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 claims abstract description 14
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 7
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims description 22
- 239000013077 target material Substances 0.000 claims description 17
- 238000000151 deposition Methods 0.000 claims description 15
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- 229910002804 graphite Inorganic materials 0.000 claims description 9
- 239000010439 graphite Substances 0.000 claims description 9
- 230000008021 deposition Effects 0.000 claims description 8
- 238000005086 pumping Methods 0.000 claims description 8
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 238000005137 deposition process Methods 0.000 claims description 4
- 238000007733 ion plating Methods 0.000 claims description 3
- 238000001755 magnetron sputter deposition Methods 0.000 claims description 3
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims 1
- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 claims 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 abstract description 12
- 238000009987 spinning Methods 0.000 abstract description 8
- 238000005240 physical vapour deposition Methods 0.000 abstract description 5
- 238000010276 construction Methods 0.000 abstract description 3
- 239000007787 solid Substances 0.000 abstract description 3
- 208000012886 Vertigo Diseases 0.000 description 7
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 5
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 5
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 5
- 238000005299 abrasion Methods 0.000 description 4
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 4
- 239000000463 material Substances 0.000 description 4
- 238000007378 ring spinning Methods 0.000 description 4
- 239000004753 textile Substances 0.000 description 3
- 230000009286 beneficial effect Effects 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 1
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 1
- 238000004804 winding Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/34—Sputtering
- C23C14/35—Sputtering by application of a magnetic field, e.g. magnetron sputtering
- C23C14/352—Sputtering by application of a magnetic field, e.g. magnetron sputtering using more than one target
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/06—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/06—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
- C23C14/14—Metallic material, boron or silicon
- C23C14/16—Metallic material, boron or silicon on metallic substrates or on substrates of boron or silicon
- C23C14/165—Metallic material, boron or silicon on metallic substrates or on substrates of boron or silicon by cathodic sputtering
-
- D—TEXTILES; PAPER
- D01—NATURAL OR MAN-MADE THREADS OR FIBRES; SPINNING
- D01H—SPINNING OR TWISTING
- D01H7/00—Spinning or twisting arrangements
- D01H7/02—Spinning or twisting arrangements for imparting permanent twist
- D01H7/52—Ring-and-traveller arrangements
- D01H7/60—Rings or travellers; Manufacture thereof not otherwise provided for ; Cleaning means for rings
- D01H7/602—Rings
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P90/00—Enabling technologies with a potential contribution to greenhouse gas [GHG] emissions mitigation
- Y02P90/30—Computing systems specially adapted for manufacturing
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Textile Engineering (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
本发明公开的Ag/WS2‑DLC涂层，包括交替沉积于钢领基材表面的Ag层和WS2‑DLC层，每个Ag层和WS2‑DLC层的厚度均为200～500nm。本发明还公开了Ag/WS2‑DLC涂层的制备方法。本发明的Ag/WS2‑DLC涂层及其制备方法，利用物理气相沉积技术设计和制备Ag/WS2‑DLC涂层，实现了软硬交替分布的涂层可控构筑，为改善或解决纺纱技术快速发展的瓶颈问题奠定了坚实的基础，为关键技术的推广和应用拓宽了适用领域。
Description
技术领域
本发明属于钢领表面涂层技术领域，具体涉及一种Ag/WS2-DLC(类金刚石)涂层，本发明还涉及一种Ag/WS2-DLC涂层的制备方法。
背景技术
纺织业是我国经济的传统支柱产业和民生产业，而纺纱又是纺织产业链的第一道工序，其作用不可替代。目前，环锭纺纱仍然占据我国纺纱行业的主导地位，有数据表明，我国各类环锭纺纱机数量多达10万台，稳居世界第一位。环锭纺纱机的“环”就是钢领的别称，钢领是对纱线进行加捻以及卷绕流程的重要器件之一，其使用性能和使用寿命直接影响纺纱机的最高锭速。钢领的服役寿命短暂与其恶劣的工况环境以及磨损情况都是密不可分的。在实际生产中，钢领与运动部件钢丝圈组成了一对摩擦副，其结构如图1所示。钢丝圈的高速运转导致钢领长期处于高温、高压的工况条件，加之较高湿度的空气环境，如何有效降低钢领的磨损成为当前亟待解决的问题。
当前钢领表面涂层技术我国与国外仍存在巨大差距，研究新型硬质涂层使其能够满足钢领在实际生产中的需求是纺织企业在发展高速纺纱技术中的必经之路。涂层的强韧化设计一直是新型硬质涂层应用的关键技术，利用两种组元或者多种组元依次交替叠加在一起制备成多层涂层材料被认为是突破强度与韧性“倒置关系”、提高涂层综合性能的有效途径之一。
发明内容
本发明的目的在于提供一种Ag/WS2-DLC涂层，解决了现有钢领磨损导致的服役寿命低的问题。
本发明的另一目的在于提供一种Ag/WS2-DLC涂层的制备方法。
本发明所采用的第一种技术方案是：Ag/WS2-DLC涂层，包括交替沉积于钢领基材表面的Ag层和WS2-DLC层，每个Ag层和WS2-DLC层的厚度均为200～500nm。
本发明第一种技术方案的特点还在于，
WS2-DLC层由WS2粒子和石墨粒子掺杂组成。
本发明所采用的第二种技术方案是：Ag/WS2-DLC涂层的制备方法，包括以下步骤：
步骤1、将钢领基材装夹在非平衡磁控溅射离子镀设备的样品台中部，再将设备的炉腔体抽真空；
步骤2、向炉腔体内通入氩气，调节偏压对基材表面进行溅射清洗；
步骤3、在样品台两侧相对靶位上放置Ag靶材，设定轰击时间使得溅射出的Ag粒子在基材表面沉积一层厚度200～500nm的Ag层；
步骤4、将Ag靶材更换为WS2靶材，并在样品台两侧另外两个相对靶位上放置石墨靶材，再次抽真空，设定轰击时间使得溅射出的WS2粒子和C粒子在软质层表面沉积一层厚度200～500nm的WS2-DLC层；
步骤5、重复步骤3和步骤4依次交替沉积Ag层和WS2-DLC层，再炉冷、空冷即得。
本发明第二种技术方案的特点还在于，
步骤1和步骤4中抽真空至真空度为4.0～5.0×10-4Pa。
步骤2中通入氩气后的气压为0.5～0.8Pa。
步骤3和步骤4中设定轰击时间为20～40min。
步骤3和步骤4的沉积过程中保持偏压为-80V，样品台的旋转速度保持在10rpm。
步骤5中的炉冷温度为40℃以下。
本发明的有益效果是：本发明的Ag/WS2-DLC涂层及其制备方法，利用物理气相沉积技术设计和制备Ag/WS2-DLC涂层，实现了软硬交替分布的涂层可控构筑，为改善或解决纺纱技术快速发展的瓶颈问题奠定了坚实的基础，为关键技术的推广和应用拓宽了适用领域。
附图说明
图1是现有钢领摩擦配副的结构示意图；
图2是本发明的Ag/WS2-DLC涂层的结构示意图；
图3是本发明的Ag/WS2-DLC涂层的制备方法采用的物理气相沉积设备示意图。
具体实施方式
下面结合附图以及具体实施方式对本发明进行详细说明。
本发明提供了一种Ag/WS2-DLC涂层，如图2所示，首先在钢领基材表面沉积Ag层，在此基础上，再沉积硬质WS2-DLC层，实现软质层和硬质层交替沉积。
本发明还提供了一种Ag/WS2-DLC涂层的制备方法，首先引入材料的基体、含WS2、石墨和Ag的靶材，其次采用物理气相沉积的方法在钢领基材上交替沉积Ag层和WS2-DLC层，最后结合得到软硬质层交替的多层复合涂层。具体操作如下：
第一步、采用英国Teer公司生产的闭合场非平衡磁控溅射离子镀(CFUBMSIP)设备。该设备采用UDP-650型非平衡磁控溅射系统如图3所示，将清洗好的钢领基材装夹在旋转样品台中部，把炉腔体内的真空度抽至4.0～5.0×10-4Pa，在室温下真空系统中进行后续操作；
第二步、样品在沉积薄膜之前须进行氩离子溅射清洗以去除基材表面的氧化层和吸附的杂质。通入Ar气使Ar气气压为0.5～0.8Pa，调节偏压对基材表面进行溅射清洗；
第三步、在样品台两侧相对靶位上放置Ag靶材，设定轰击时间为20～40min，使得溅射出的Ag粒子在基材表面沉积一层厚度200～500nm的Ag层作为软质层。沉积过程中保持偏压为-80V，样品台的旋转速度保持在10rpm；
第四步、打开炉腔体将Ag靶材更换为WS2靶材，并在样品台两侧另外两个相对靶位上放置石墨靶材，再次在室温下将炉腔体内的真空度抽至4.0～5.0×10-4Pa，开始溅射沉积。设定轰击时间为20～40min，使得溅射出的WS2粒子和C粒子在软质层表面沉积一层厚度200～500nm的WS2-DLC层作为硬质层，沉积过程中保持偏压为-80V，样品台的旋转速度保持在10rpm；
第五步、采用第三步和第四步的方式依次交替沉积Ag层和WS2-DLC层，一层Ag层和一层WS2-DLC层为一组，共沉积三组，之后炉冷至40℃以下，再空冷即得多层复合涂层。
通过上述方式，本发明的Ag/WS2-DLC涂层及其制备方法，利用物理气相沉积技术设计和制备Ag/WS2-DLC涂层，实现了软硬交替分布的涂层可控构筑，解决了现有钢领磨损导致的服役寿命低的问题，为改善或解决纺纱技术快速发展的瓶颈问题奠定了坚实的基础，为关键技术的推广和应用拓宽了适用领域。
实施例1
将清洗好的钢领基材装夹在旋转样品台中部，把炉腔体内的真空度抽至4.0×10- 4Pa，在室温下真空系统中进行后续操作；通入Ar气使气压为0.5Pa，调节偏压对基材表面进行溅射清洗；在样品台两侧相对靶位上放置Ag靶材，设定轰击时间为20min，使得溅射出的Ag粒子在基材表面沉积一层厚度200nm的Ag层作为软质层，沉积过程中保持偏压为-80V，样品台的旋转速度保持在10rpm；打开炉腔体将Ag靶材更换为WS2靶材，并在样品台两侧另外两个相对靶位上放置石墨靶材，再次在室温下将炉腔体内的真空度抽至4.0×10-4Pa，开始溅射沉积，设定轰击时间为20min，使得溅射出的WS2粒子和C粒子在软质层表面沉积一层厚度200nm的WS2-DLC层作为硬质层，沉积过程中保持偏压为-80V，样品台的旋转速度保持在10rpm；依次交替沉积Ag层和WS2-DLC层，一层Ag层和一层WS2-DLC层为一组，共沉积三组，之后炉冷至40℃，再空冷即得多层复合涂层。
实施例2
将清洗好的钢领基材装夹在旋转样品台中部，把炉腔体内的真空度抽至4.5×10- 4Pa，在室温下真空系统中进行后续操作；通入Ar气使气压为0.6Pa，调节偏压对基材表面进行溅射清洗；在样品台两侧相对靶位上放置Ag靶材，设定轰击时间为30min，使得溅射出的Ag粒子在基材表面沉积一层厚度350nm的Ag层作为软质层，沉积过程中保持偏压为-80V，样品台的旋转速度保持在10rpm；打开炉腔体将Ag靶材更换为WS2靶材，并在样品台两侧另外两个相对靶位上放置石墨靶材，再次在室温下将炉腔体内的真空度抽至4.5×10-4Pa，开始溅射沉积，设定轰击时间为30min，使得溅射出的WS2粒子和C粒子在软质层表面沉积一层厚度350nm的WS2-DLC层作为硬质层，沉积过程中保持偏压为-80V，样品台的旋转速度保持在10rpm；依次交替沉积Ag层和WS2-DLC层，一层Ag层和一层WS2-DLC层为一组，共沉积三组，之后炉冷至38℃，再空冷即得多层复合涂层。
实施例3
将清洗好的钢领基材装夹在旋转样品台中部，把炉腔体内的真空度抽至5.0×10- 4Pa，在室温下真空系统中进行后续操作；通入Ar气使气压为0.8Pa，调节偏压对基材表面进行溅射清洗；在样品台两侧相对靶位上放置Ag靶材，设定轰击时间为40min，使得溅射出的Ag粒子在基材表面沉积一层厚度500nm的Ag层作为软质层，沉积过程中保持偏压为-80V，样品台的旋转速度保持在10rpm；打开炉腔体将Ag靶材更换为WS2靶材，并在样品台两侧另外两个相对靶位上放置石墨靶材，再次在室温下将炉腔体内的真空度抽至5.0×10-4Pa，开始溅射沉积，设定轰击时间为40min，使得溅射出的WS2粒子和C粒子在软质层表面沉积一层厚度500nm的WS2-DLC层作为硬质层，沉积过程中保持偏压为-80V，样品台的旋转速度保持在10rpm；依次交替沉积Ag层和WS2-DLC层，一层Ag层和一层WS2-DLC层为一组，共沉积三组，之后炉冷至35℃，再空冷即得多层复合涂层。
Claims (2)
1.Ag/WS2-DLC涂层，其特征在于，包括交替沉积于钢领基材表面的Ag层和WS2-DLC层，一层Ag层和一层WS2-DLC层为一组，共沉积三组，WS2-DLC层由WS2粒子和石墨粒子掺杂组成，每个Ag层和WS2-DLC层的厚度均为200～500nm。
2.Ag/WS2-DLC涂层的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：
步骤1、将钢领基材装夹在非平衡磁控溅射离子镀设备的样品台中部，再将设备的炉腔体抽真空至真空度为4.0～5.0×10-4Pa；
步骤2、向炉腔体内通入氩气至气压为0.5～0.8Pa，调节偏压对基材表面进行溅射清洗；
步骤3、在样品台两侧相对靶位上放置Ag靶材，设定轰击时间为20～40min使得溅射出的Ag粒子在基材表面沉积一层厚度200～500nm的Ag层，沉积过程中保持偏压为-80V，样品台的旋转速度保持在10rpm；
步骤4、将Ag靶材更换为WS2靶材，并在样品台两侧另外两个相对靶位上放置石墨靶材，再次抽真空至真空度为4.0～5.0×10-4Pa，设定轰击时间为20～40min使得溅射出的WS2粒子和C粒子在软质层表面沉积一层厚度200～500nm的WS2-DLC层，沉积过程中保持偏压为-80V，样品台的旋转速度保持在10rpm；
步骤5、重复步骤3和步骤4依次交替沉积Ag层和WS2-DLC层，再炉冷至温度为40℃以下、空冷即得。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN202210746836.0A CN114959617B (zh) | 2022-06-28 | 2022-06-28 | Ag/WS2-DLC涂层及其制备方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN202210746836.0A CN114959617B (zh) | 2022-06-28 | 2022-06-28 | Ag/WS2-DLC涂层及其制备方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CN114959617A CN114959617A (zh) | 2022-08-30 |
| CN114959617B true CN114959617B (zh) | 2024-01-26 |
Family
ID=82964680
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CN202210746836.0A Active CN114959617B (zh) | 2022-06-28 | 2022-06-28 | Ag/WS2-DLC涂层及其制备方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| CN (1) | CN114959617B (zh) |
Citations (14)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH10237627A (ja) * | 1997-02-24 | 1998-09-08 | Sumitomo Electric Ind Ltd | 硬質炭素膜被覆部材 |
| JP2003105565A (ja) * | 2001-09-27 | 2003-04-09 | Toshiba Tungaloy Co Ltd | 耐摩耗性潤滑膜およびその被覆工具 |
| KR20050063463A (ko) * | 2003-12-22 | 2005-06-28 | 재단법인 포항산업과학연구원 | 윤활특성이 우수한 경질코팅 제조방법 및 경질코팅 구조 |
| CN101921983A (zh) * | 2010-09-08 | 2010-12-22 | 广州有色金属研究院 | 一种w-s-c复合膜的制备方法 |
| GB201204927D0 (en) * | 2012-03-20 | 2012-05-02 | Univ Cranfield | Tribological coating |
| CN104962859A (zh) * | 2014-09-05 | 2015-10-07 | 北京机械工业自动化研究所 | WS2/Ag复合梯度固体润滑薄膜的制造方法 |
| CN106222656A (zh) * | 2016-08-23 | 2016-12-14 | 上海交通大学 | 用于轴瓦材料表面的软硬交替复合涂层及其制备方法 |
| CN107267917A (zh) * | 2017-06-07 | 2017-10-20 | 浙江工业大学 | 一种纳米多层结构WSx/DLC润滑膜及制备方法 |
| CN108070857A (zh) * | 2018-02-06 | 2018-05-25 | 苏州涂冠镀膜科技有限公司 | 超厚dlc涂层 |
| CN109136924A (zh) * | 2018-08-29 | 2019-01-04 | 首都航天机械有限公司 | 航天火工分离用石墨烯二硫化钼多层耐磨涂层及制备方法 |
| CN110016653A (zh) * | 2019-04-11 | 2019-07-16 | 东南大学 | 一种原子层沉积软硬复合涂层自润滑刀具及其制备方法 |
| CN110872684A (zh) * | 2018-08-29 | 2020-03-10 | 鄂州市金锋超硬材料有限公司 | 一种超厚无氢类金刚石薄膜及其制备方法 |
| CN110983245A (zh) * | 2019-12-23 | 2020-04-10 | 金轮针布(江苏)有限公司 | 一种低温沉积高硬低摩擦系数涂层针布的制备方法 |
| CN114231926A (zh) * | 2021-12-17 | 2022-03-25 | 深圳市鼎高光电产品有限公司 | 一种可延长切削刀具寿命的涂层及其制备方法 |
-
2022
- 2022-06-28 CN CN202210746836.0A patent/CN114959617B/zh active Active
Patent Citations (14)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH10237627A (ja) * | 1997-02-24 | 1998-09-08 | Sumitomo Electric Ind Ltd | 硬質炭素膜被覆部材 |
| JP2003105565A (ja) * | 2001-09-27 | 2003-04-09 | Toshiba Tungaloy Co Ltd | 耐摩耗性潤滑膜およびその被覆工具 |
| KR20050063463A (ko) * | 2003-12-22 | 2005-06-28 | 재단법인 포항산업과학연구원 | 윤활특성이 우수한 경질코팅 제조방법 및 경질코팅 구조 |
| CN101921983A (zh) * | 2010-09-08 | 2010-12-22 | 广州有色金属研究院 | 一种w-s-c复合膜的制备方法 |
| GB201204927D0 (en) * | 2012-03-20 | 2012-05-02 | Univ Cranfield | Tribological coating |
| CN104962859A (zh) * | 2014-09-05 | 2015-10-07 | 北京机械工业自动化研究所 | WS2/Ag复合梯度固体润滑薄膜的制造方法 |
| CN106222656A (zh) * | 2016-08-23 | 2016-12-14 | 上海交通大学 | 用于轴瓦材料表面的软硬交替复合涂层及其制备方法 |
| CN107267917A (zh) * | 2017-06-07 | 2017-10-20 | 浙江工业大学 | 一种纳米多层结构WSx/DLC润滑膜及制备方法 |
| CN108070857A (zh) * | 2018-02-06 | 2018-05-25 | 苏州涂冠镀膜科技有限公司 | 超厚dlc涂层 |
| CN109136924A (zh) * | 2018-08-29 | 2019-01-04 | 首都航天机械有限公司 | 航天火工分离用石墨烯二硫化钼多层耐磨涂层及制备方法 |
| CN110872684A (zh) * | 2018-08-29 | 2020-03-10 | 鄂州市金锋超硬材料有限公司 | 一种超厚无氢类金刚石薄膜及其制备方法 |
| CN110016653A (zh) * | 2019-04-11 | 2019-07-16 | 东南大学 | 一种原子层沉积软硬复合涂层自润滑刀具及其制备方法 |
| CN110983245A (zh) * | 2019-12-23 | 2020-04-10 | 金轮针布(江苏)有限公司 | 一种低温沉积高硬低摩擦系数涂层针布的制备方法 |
| CN114231926A (zh) * | 2021-12-17 | 2022-03-25 | 深圳市鼎高光电产品有限公司 | 一种可延长切削刀具寿命的涂层及其制备方法 |
Non-Patent Citations (5)
| Title |
|---|
| Differential effects of social influence sources on self-reported music piracy;Zhiyong Yang等;《Decision Support Systems》;第69卷;第70-81页 * |
| IBAD制备WS2-Ag固体润滑膜在海南湿热环境的耐候性能;金杰等;《中国表面工程》;第29卷(第3期);第26-33页 * |
| Influence of Ag doping on the microstructure, mechanical properties, and adhesion stability of diamond-like carbon films;P.P. Jing等;《Surface & Coatings Technology》;第405卷;第1-8页 * |
| 熊党生等.《特种环境固体润滑涂层技术》.国防工业出版社,2016,(第1版),第33页. * |
| 调制比对WSx/a-C多层膜微观组织及摩擦学性能的影响;杨芳儿等;《摩擦学学报》;第37卷(第3期);第387-394页 * |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| CN114959617A (zh) | 2022-08-30 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| CN108690956B (zh) | 电弧离子镀-磁控溅射复合沉积高温耐磨减摩AlTiN纳米多层涂层及其制备方法和应用 | |
| CN103451608B (zh) | 一种掺钨的类金刚石涂层及其制备方法 | |
| CN105239039B (zh) | 一种多层纳米复合涂层冲压模具及其制备方法 | |
| CN115287592B (zh) | 一种指尖密封用高温耐磨自润滑涂层及其制备方法 | |
| CN105644059A (zh) | 一种磁控溅射含银超低摩擦系数类石墨碳膜的制备方法 | |
| CN114231926B (zh) | 一种可延长切削刀具寿命的涂层及其制备方法 | |
| CN111254391B (zh) | 超疏水类金刚石复合层及其制备方法 | |
| CN111485212B (zh) | 一种亚10纳米级仿生结构二硫化钼-碳多层薄膜制备方法 | |
| CN114959617B (zh) | Ag/WS2-DLC涂层及其制备方法 | |
| CN113235041A (zh) | 一种AlCrTiSiWMoN高熵合金氮化物涂层及其制备方法和应用 | |
| CN114836715A (zh) | 一种金属表面Cr/CrN/CrCN/Cr-DLC多层复合自润滑薄膜及其制备方法 | |
| CN115044867A (zh) | 一种TiAlWN涂层及其制备方法与应用 | |
| CN111647856B (zh) | 一种AlCrTiSiN/AlCrTiSiON多层复合涂层的制备工艺 | |
| CN112376017A (zh) | 一种具有耐磨涂层的纺织钢领及其制备方法 | |
| CN113652651A (zh) | TiAlN/TiSiNiN复合涂层、硬质涂层及其制备方法与应用 | |
| CN107012424B (zh) | 一种TiZrB2硬质涂层及其制备方法和应用 | |
| CN113278939A (zh) | 一种类富勒烯纳米结构含氢碳膜及其制备方法 | |
| CN110983245A (zh) | 一种低温沉积高硬低摩擦系数涂层针布的制备方法 | |
| CN103741101A (zh) | 一种MoN/CrN纳米复合涂层及其活塞环 | |
| CN111962036B (zh) | 一种纳米多层涂层及其制备方法和表面涂覆纳米多层涂层的刀具 | |
| CN112609156B (zh) | 具有热循环服役能力的宽温域自润滑膜材料及其制备方法 | |
| CN109207937A (zh) | 一种转子铸铝用具的表面处理方法及其涂层 | |
| CN111549322B (zh) | 一种AlCrTiSiN/AlCrTiSiON多层复合涂层及其制备工艺 | |
| CN112695281A (zh) | 具有织构与自适应润滑涂层的切削刀具及其制备方法 | |
| CN111979543A (zh) | 一种基于摩擦诱导催化形成自润滑非晶碳膜的涂层材料及其制备方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| PB01 | Publication | ||
| PB01 | Publication | ||
| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
| GR01 | Patent grant | ||
| GR01 | Patent grant | ||
| TR01 | Transfer of patent right |
Effective date of registration: 20240917 Address after: 230000 b-1018, Woye Garden commercial office building, 81 Ganquan Road, Shushan District, Hefei City, Anhui Province Patentee after: HEFEI WISDOM DRAGON MACHINERY DESIGN Co.,Ltd. Country or region after: China Address before: 710048 Shaanxi province Xi'an Beilin District Jinhua Road No. 19 Patentee before: XI'AN POLYTECHNIC University Country or region before: China |