CN114875627A - 去渍控制方法、装置及控制器、护理装置 - Google Patents

去渍控制方法、装置及控制器、护理装置 Download PDF

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CN114875627A
CN114875627A CN202210617803.6A CN202210617803A CN114875627A CN 114875627 A CN114875627 A CN 114875627A CN 202210617803 A CN202210617803 A CN 202210617803A CN 114875627 A CN114875627 A CN 114875627A
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parameters
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张田田
胡蒙
段怡斐
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Wuxi Little Swan Electric Co Ltd
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Abstract

本发明公开了一种去渍控制方法、装置及控制器、护理装置,该控制方法包括:获取待处理物的属性信息和污渍信息;根据属性信息和污渍信息确定去渍控制参数,并根据去渍控制参数对去渍机构进行控制。由此,实现了对待处理物局部污渍的精准去除,减少对待处理物的损伤,并且减少洗涤资源的浪费。

Description

去渍控制方法、装置及控制器、护理装置
技术领域
本发明涉及护理技术领域,尤其是涉及一种去渍控制方法、装置及控制器、护理装置。
背景技术
护理装置是能够对待处理物进行除菌、除螨、除味、熨烫等操作,在不损害待处理物的前提下,对待处理物进行有效护理的家用电器。
随着人们生活质量的提高,智能化、便捷化成为了家电行业发展方向,护理装置的发展方向也是如此。目前,市场上已有的护理装置具有除菌、除螨、除味、除皱、干燥、增香等一种或多种功能,但还没有一种具有去渍功能的护理装置,因此,存在一定的局限性。
发明内容
本发明旨在至少在一定程度上解决相关技术中的技术问题之一。
为此,本发明的一个目的在于提出一种去渍控制方法,以实现对待处理物局部污渍的精准去除,减少对待处理物的损伤,并且减少洗涤资源的浪费。
本发明的第二个目的在于提出一种去渍控制装置。
本发明的第三个目的在于提出一种控制器。
本发明的第四个目的在于提出一种护理装置。
为达上述目的,本发明第一方面实施例提出了一种去渍控制方法,所述方法包括:
获取待处理物的属性信息和污渍信息;根据所述属性信息和所述污渍信息确定去渍控制参数,并根据所述去渍控制参数对去渍机构进行控制。
本发明实施例的去渍控制方法,通过获得待处理物的属性信息和污渍信息,根据属性信息和污渍信息确定去渍控制参数,并根据去渍控制参数对去渍机构进行控制,实现对待处理物的精准去渍,并且本发明考虑到了待处理物的属性,结合待处理物的属性信息确定去渍控制参数,能够减少对待处理物的损伤。
为达上述目的,本发明第二方面实施例提出了一种去渍控制装置,所述装置包括:
获取模块,用于获取待处理物的属性信息和污渍信息;控制模块,用于根据所述属性信息和所述污渍信息确定去渍控制参数,并根据所述去渍控制参数对去渍机构进行控制。
本发明实施例的去渍控制装置,通过获取模块获取待处理物的属性信息和污渍信息,控制模块根据属性信息和污渍信息确定去渍控制参数,并根据去渍控制参数对去渍机构进行控制,实现了对待处理物的精准去渍,并且本发明考虑到了待处理物的属性,结合待处理物的属性信息确定去渍控制参数,能够减少对待处理物的损伤。
为达上述目的,本发明第三方面实施例提出了一种控制器,该控制器包括:存储器和处理器,所述存储器上存储有计算机程序,所述处理器执行所述程序时实现如以上所述的去渍控制方法。
为达上述目的,本发明第四方面实施例提出了一种护理装置,包括上述第二方面实施例所述的去渍控制装置,或者,根据上述第三方面实施例所述的控制器。
本发明附加的方面和优点将在下面的描述中部分给出,部分将从下面的描述中变得明显,或通过本发明的实践了解到。
附图说明
图1是本发明实施例的去渍控制方法的流程图;
图2是本发明第一个实施例的去渍控制方法的流程图;
图3是本发明第二个实施例的去渍控制方法的流程图;
图4是本发明一个具体实施例的去渍控制方法的流程图;
图5是本发明实施例的去渍控制装置的结构框图;
图6是本发明实施例的控制器的结构框图。
具体实施方式
下面详细描述本发明的实施例,所述实施例的示例在附图中示出,其中自始至终相同或类似的标号表示相同或类似的元件或具有相同或类似功能的元件。下面通过参考附图描述的实施例是示例性的,旨在用于解释本发明,而不能理解为对本发明的限制。
下面参考附图描述本发明实施例的去渍控制方法、装置及控制器、护理装置。
图1是本发明实施例的去渍控制方法的流程图。如图1所示,该控制方法包括以下步骤:
步骤S110:获取待处理物的属性信息和污渍信息。
需要说明的是,本发明实施例的去渍控制方法的执行主体可以是护理装置,如护理柜、护理鞋盒等,后续的介绍均以护理柜为例。此外,待处理物可以为衣物、鞋子等,放入护理装置中的待处理物可以是一个,也可以是多个。
在一些实施方式中,在步骤S110之前,该方法还包括:确定检测到待处理物,且接收到去渍模式选择指令。
作为一个示例,护理柜具有多种功能模式,例如,除菌模式、除螨模式、除味模式、除皱模式、干燥模式、增香模式以及去渍模式等。当用户需要对待处理物进行去渍时,用户只需要将待处理物放入护理柜中,并选择去渍模式,护理柜即可开始对待处理物进行去渍处理。
在一些实施方式中,用户选择功能模式的方式包括但不限于以下两种:护理柜上可以设置触控显示屏,触控显示屏上显示有上述各种功能模式,用户可以通过手指点击,选择所需要的功能模式。或者,护理柜上可以设置多个按键,每个按键对应控制一种功能模式的开启或关闭,用户可以通过按压按键,选择所需要的功能模式。
当用户将待处理物放入护理柜中,并选择了去渍模式后,护理柜则会开始执行“获取待处理物的属性信息和污渍信息”操作。
在一些实施方式中,属性信息包括待处理物颜色和/或待处理物材质。作为一个示例,当待处理物为衣物时,属性信息即为衣物颜色和/或衣物材质。通过获得待处理物的属性信息,能够针对不同待处理物颜色或待处理物材质,选择合适其洗涤的洗涤参数和去渍溶剂,从而能够有效减少对衣物的损伤。
在一些实施例中,污渍信息包括污渍类型、污渍面积和污渍位置中的至少一个。其中,污渍类型包括水溶性污渍、油溶性污渍、固体污渍等。不同的污渍类型可以使用不同的去渍溶剂和去渍参数进行清洁。污渍面积是指待处理物上各污渍类型对应的区域大小。不同的污渍面积需要使用的去渍溶剂的使用量和去渍参数也不相同。污渍位置是指待处理物上污渍所在的位置区域,比如待处理物为衣物时,污渍位置可以为衣领、衣袖等具体的位置。不同的污渍位置需要的控制去渍机构执行不同的操作,以便去渍机构可以准确的到达污渍位置进行精准的去渍处理。
在一些实施方式中,可以采用传感器来获取属性信息和污渍信息。具体地,在护理柜中(如在护理柜的内壁、柜门等位置)安装传感器,当用户将待处理物放入护理柜中后,传感器采集待处理物的属性信息和污渍信息,并将采集到的属性信息和污渍信息上传至护理柜的控制芯片,由控制芯片根据属性信息和污渍信息控制护理柜的去渍机构进行去渍处理。
作为一个示例,获取待处理物颜色,可以使用颜色识别传感器;获取待处理物材质,可以使用材质识别传感器;获取污渍类型、污渍面积和污渍位置,可以使用污渍检测传感器。本申请实施例中对于获取属性信息和污渍信息的方式不作具体限定。
步骤S120:根据属性信息和污渍信息确定去渍控制参数,并根据去渍控制参数对去渍机构进行控制。
在一些实施方式中,去渍控制参数包括去渍溶剂类型、去渍溶剂用量、刷头运动参数以及刷头洗涤参数中至少一个。
控制芯片接收到待处理物的属性信息和污渍信息后,根据属性信息和污渍信息确定去渍溶剂类型、去渍溶剂用量、刷头运动参数以及刷头洗涤参数。具体地,根据待处理物颜色、待处理物材质和污渍类型确定去渍溶剂类型;根据污渍面积选择去渍溶剂用量;根据污渍位置确定刷头运动参数;根据待处理物颜色、待处理物材质、污渍类型以及污渍面积确定刷头洗涤参数。
作为一个示例,假设待处理物为衣物,衣物的材质为羊毛材质,污渍类型为油污。由于羊毛材质的衣物不耐碱,则去渍溶剂类型应该选择中性溶剂来进行去渍,且污渍类型为油污,因此,去渍溶剂中还应该含“酶”,从而确定对应的去渍溶剂类型。通过此种方式确定的去渍溶剂类型,能够减少去渍溶剂对待处理物带来的洗涤损伤。
可选的,污渍面积越大,需要使用的去渍溶剂用量越多,污渍面积越小,需要使用的去渍溶剂用量越少。在确定污渍位置后,根据污渍位置确定刷头从当前位置到达污渍位置所需要移动的预设路径,按照该预设路径移动刷头至污渍位置进行去渍处理。
在本发明实施例中,控制芯片关联有待处理物的参数数据库,参数数据库中存储有不同属性信息和污渍信息对应的去渍控制参数。控制芯片接收到护理物的属性信息和污渍信息后,可以直接从参数数据库中调取相应的去渍控制参数,来对护理柜中的去渍机构进行控制。
在一些实施方式中,去渍机构包括刷头和去渍溶剂箱。
具体地,刷头可以使用市面上已有的任意能够对待处理物进行去渍的刷头,刷头上需要具有至少一个出水口。一个护理柜中可以设置多个相同类型的刷头,也可以设置多个不同类型的刷头,作为一个示例,可以在护理柜中设置两个针对衣物去渍的刷头,两个刷头布置在护理柜相对的两个侧壁上,从而能够同时对两件衣物,或者一件衣物的两面进行去渍处理。作为另一个示例,可以在护理柜中设置一个针对衣物去渍的刷头,和一个针对鞋子去渍的刷头,从而使护理柜能够对多种类型的待处理物进行去渍处理。
去渍溶剂箱用于存放不同类型的去渍溶剂,去渍溶剂箱和刷头连通。控制芯片与去渍溶剂箱连接,控制芯片能够控制去渍溶剂箱向刷头输送去渍溶剂。
图2是本发明第一个实施例的去渍控制方法的流程图。如图2所示,步骤S120包括以下步骤:
步骤S210:根据去渍溶剂类型、去渍溶剂用量控制去渍溶剂箱将相应去渍溶剂输至刷头。
步骤S220:根据刷头运动参数控制刷头运动至污渍位置,并控制刷头喷洒去渍溶剂至污渍位置。
步骤S230:根据刷头洗涤参数控制刷头对待处理物进行去渍处理。
具体地,当根据属性信息和污渍信息确定了去渍溶剂类型和去渍溶剂用量后,控制去渍溶剂箱将相应的去渍溶剂,按照确定的去渍溶剂用量输送至刷头。在获取了刷头运动参数后,控制刷头运动至待处理物的污渍位置;刷头运动至污渍位置后,控制刷头向污渍处喷洒去渍溶剂箱输送的去渍溶剂;并根据刷头的洗涤参数,控制刷头运动,来实现对待处理物的局部去渍处理。需要说明的是,刷头运动可以为顺时针或逆时针的旋转运动。
可选的,刷头运动参数用于控制刷头通过预设路径移动至污渍位置的参数;刷头洗涤参数是指控制刷头按照洗涤参数对污渍位置处的污渍进行洗涤去渍的参数。
在一些实施方式中,去渍机构还包括净水箱,净水箱用于给刷头供水。具体地,刷头与净水箱连通,在去渍过程中,控制芯片能够控制净水箱向刷头供水,刷头将净水箱输送的清水喷洒至待处理物的污渍处,来打湿或冲洗待处理物。
在一些实施方式中,刷头洗涤参数包括刷头的转速、出水速度以及刷头接触待处理物时的接触面积、接触压力和接触时长中的至少一个。步骤S220还包括:根据接触面积、接触压力和接触时长控制刷头与待处理物接触,并控制刷头按照转速旋转、按照出水速度出水,以对污渍进行去渍处理。
具体地,当根据刷头运动参数控制刷头运动至待处理物的污渍位置后,先控制刷头向污渍位置处喷洒去渍溶剂;再按照设定的接触面积和接触压力,控制刷头接触待处理物,并按照设定的转速控制刷头旋转,来对待处理物进行刷洗;在刷洗的过程中,按照设定的出水速度,控制刷头向污渍处喷洒清水,来对待处理物进行冲洗。
在一些实施方式中,步骤S120还包括以下步骤:控制刷头按照预设速度喷水预设时间,以对待处理物进行冲洗。
具体地,刷头与待处理物的接触时长为刷头工作一次的工作时长,在对待处理物进行去渍的过程中,当刷头对待处理物刷洗的时长达到接触时长时,控制刷头停止转动,并控制净水箱向刷头输送清水,刷头按照预设速度向污渍处喷水预设时间,来对待处理物进行冲洗。对待处理物冲洗后,再次控制刷头接触待处理物,进行下一次的刷洗工作。当检测到去渍结束后,需要对待处理物进行最后一次的冲洗工作,则再次控制刷头按照预设速度和预设时间向污渍处喷水,以完成对待处理物的去渍处理。
需要说明的是,预设速度和预设时间可以根据去渍和冲洗需求由用户自己设定。此外,可以设置刷头的工作次数,当刷头完成设定工作次数的刷洗后,即视为去渍结束。
图3是本发明第二个实施例的去渍控制方法的流程图。如图3所示,在一些实施方式中,在去渍处理结束后,还可以对去渍处理的区域进行烘干处理,该控制方法还包括以下步骤:
步骤S310:获取去渍过程中刷头的出水量,并获取环境参数。
步骤S320:根据出水量、环境参数以及属性信息确定烘干参数,根据烘干参数控制烘干机构对待处理物进行烘干处理。
需要说明的是,烘干参数包括烘干温度和烘干时长。
在一些实施方式中,环境参数包括空气湿度和/或温度。示例地,若护理装置为护理柜时,可以获取护理柜中的空气湿度和温度。具体地,获取去渍过程中刷头的出水量,该出水量为整个去渍过程中的总出水量,通过获得出水量的大小,可以判断出待处理物的浸湿程度,从而根据浸湿程度确定烘干参数,示例地,浸湿程度越大,则烘干温度越高,或者烘干时长越长。获取刷头出水量的方式可以为:在刷头进水管道中安装水量传感器,通过水量传感器来获得刷头实际的出水量。
获取护理柜中的空气湿度和温度的方式可以为:在护理柜中安装湿度计和温度计,湿度计和温度计可以使用市面上已有的电子湿度计和电子温度计。湿度计和温度计与控制芯片连接,湿度计采集的湿度值和温度计采集的温度值上传至控制芯片。
根据获取到的出水量、空气湿度、温度以及属性信息综合确定烘干参数。示例地,刷头的出水量越大、空气湿度越高、温度越低,则可以设置烘干温度越高,或者,烘干时长越长。此外,若待处理物材质为不耐高温的材质,则可以适当降低烘干温度。在一些实施方式中,可以建立出水量、空气湿度、温度、衣物材质与烘干参数之间的关系式,并设置出水量、空气湿度、温度和衣物材质影响烘干参数的权重比,由此,来获得具体地烘干参数。
由此,通过出水量、环境参数以及属性信息,来综合确定烘干参数,不仅能够减少烘干时的资源浪费,还能够降低烘干过程对待处理物损伤。
在一些实施方式中,烘干机构设置在护理柜中,烘干机构包括风扇和发热体,具体地,发热体加热周围空气,通过风扇的转动使被加热的空气形成热气流,并吹向待处理物,来对待处理物进行烘干。另外,通过确定的烘干温度控制发热体的加热功率和工作时长,通过确定的烘干时长控制风扇的转速和工作时长。
由此,通过获得待处理物的属性信息和污渍信息,确定针对于该待处理物实际情况的去渍控制参数,即去渍溶剂类型、去渍溶剂用量、刷头运动参数以及刷头洗涤参数;再根据刷头运动参数控制刷头运动至待处理物的污渍处;根据去渍溶剂类型和去渍溶剂用量,控制去渍溶剂箱向刷头输送针对该待处理物污渍的去渍溶剂,刷头将去渍溶剂喷洒至污渍处;根据刷头洗涤参数控制刷头对待处理物进行刷洗,来去除污渍;完成刷洗后,控制净水箱向刷头输送净水,来对经过刷洗后的污渍处进行冲洗,完成对待处理物污渍的去渍工作;最后通过烘干机构根据烘干参数对待处理物进行烘干。
实现了对待处理物局部污渍的精准去除,并且,由于洗涤过程中使用的去渍溶剂使用的是适合于待处理物材质的去渍溶剂,烘干时也考虑到了待处理物材质,因此,能够减少对待处理物的洗涤损伤。此外,根据污渍面积确定合适的去渍溶剂用量,能够减少洗涤资源的浪费;根据出水量、环境参数以及属性信息,来综合确定烘干参数,也能够减少烘干时的资源浪费。
作为一个具体的实施例,如图4所示,该去渍控制方法包括如下步骤:
步骤S410,检测到护理装置中存在待处理物,并接收到用户选择的去渍模式。
步骤S420,获取待处理物的材质、颜色、污渍类型、污渍面积和污渍位置等信息。
步骤S430,根据待处理物颜色、材质和污渍类型确定去渍溶剂类型;根据污渍面积选择去渍溶剂用量;根据污渍位置确定刷头运动参数;根据待处理物颜色、材质、污渍类型以及污渍面积确定刷头洗涤参数。
步骤S440,根据去渍溶剂类型、去渍溶剂用量控制去渍溶剂箱将相应去渍溶剂输至刷头。
步骤S450,根据刷头运动参数控制刷头运动至污渍位置,并控制刷头喷洒去渍溶剂至污渍位置。
步骤S460,根据接触面积、接触压力和接触时长控制刷头与待处理物接触,并控制刷头按照转速旋转、按照出水速度出水,以对待处理物进行去渍处理。
步骤S470,控制刷头按照预设速度喷水预设时间,以对待处理物进行冲洗。
步骤S480,获取去渍过程中刷头的出水量、空气湿度和温度。
步骤S490,根据出水量、空气湿度、温度以及待处理物颜色、材质确定烘干参数,根据烘干参数控制烘干机构对待处理物进行烘干处理。
图5是本发明实施例的去渍控制装置的结构框图。
如图5所示,该控制装置500包括:用于获取待处理物的属性信息和污渍信息的获取模块510、用于根据属性信息和污渍信息确定去渍控制参数,并根据去渍控制参数对去渍机构进行控制的控制模块520。
在一些实施方式中,属性信息包括待处理物颜色和/或待处理物材质,污渍信息包括污渍类型、污渍面积和污渍位置中的至少一个。获取模块510可以包括多种传感器,来获取属性信息和污渍信息,作为一个示例,获取模块510包括颜色识别传感器,用于获取待处理物颜色;材质识别传感器,用于获取待处理物材质;污渍检测传感器,用于获取污渍类型、污渍面积和污渍位置。
在一些实施方式中,去渍控制参数包括去渍溶剂类型、去渍溶剂用量、刷头运动参数以及刷头洗涤参数中的至少一个。去渍机构包括刷头、去渍溶剂箱。控制模块520具体用于:根据去渍溶剂类型、去渍溶剂用量控制去渍溶剂箱将相应去渍溶剂输至刷头;根据刷头运动参数控制刷头运动至污渍位置,并控制刷头喷洒去渍溶剂至污渍位置;根据刷头洗涤参数控制刷头对待处理物进行去渍处理。
在一些实施方式中,去渍机构还包括净水箱,净水箱用于给刷头供水。刷头洗涤参数包括刷头的转速、出水速度以及刷头接触待处理物时的接触面积、接触压力和接触时长中的至少一个。控制模块520还具体用于:根据接触面积、接触压力和接触时长控制刷头与待处理物接触,并控制刷头按照转速旋转、按照出水速度出水,以对污渍进行去渍处理。
在一些实施方式中,控制模块520还具体用于:控制刷头按照预设速度喷水预设时间,以对待处理物进行冲洗。
在一些实施方式中,该控制装置500还包括烘干模块,烘干模块用于:获取去渍过程中刷头的出水量,并获取环境参数;根据出水量、环境参数以及属性信息确定烘干参数,根据烘干参数控制烘干机构对待处理物进行烘干处理。
所属领域的技术人员可以清楚地了解到,为描述的方便和简洁,所述描述的模块的具体工作过程,可以参考前述方法实施例中的对应过程,在此不再赘述。
图6是本发明实施例的控制器的结构框图。
如图6所示,控制器600包括:处理器601和存储器603。其中,处理器601和存储器603相连,如通过总线602相连。可选地,控制器600还可以包括收发器604。需要说明的是,实际应用中收发器604不限于一个,该控制器600的结构并不构成对本发明实施例的限定。
处理器601可以是CPU(Central Processing Unit,中央处理器),通用处理器,DSP(Digital Signal Processor,数据信号处理器),ASIC(Application SpecificIntegrated Circuit,专用集成电路),FPGA(Field Programmable Gate Array,现场可编程门阵列)或者其他可编程逻辑器件、晶体管逻辑器件、硬件部件或者其任意组合。其可以实现或执行结合本发明公开内容所描述的各种示例性的逻辑方框、模块和电路。处理器601也可以是实现计算功能的组合,例如包含一个或多个微处理器组合,DSP和微处理器的组合等。
总线602可包括一通路,在上述组件之间传送信息。总线602可以是PCI(Peripheral Component Interconnect,外设部件互连标准)总线或EISA(ExtendedIndustry Standard Architecture,扩展工业标准结构)总线等。总线602可以分为地址总线、数据总线、控制总线等。为便于表示,图6中仅用一条粗线表示,但并不表示仅有一根总线或一种类型的总线。
存储器603用于存储与本发明上述实施例的异步串行通讯方法对应的计算机程序,该计算机程序由处理器601来控制执行。处理器601用于执行存储器603中存储的计算机程序,以实现前述方法实施例所示的内容。
其中,控制器600包括但不限于:移动电话、笔记本电脑、数字广播接收器、PDA(个人数字助理)、PAD(平板电脑)、PMP(便携式多媒体播放器)、车载终端(例如车载导航终端)等等的移动终端以及诸如数字TV、台式计算机等等的固定终端。图6示出的控制器600仅仅是一个示例,不应对本发明实施例的功能和使用范围带来任何限制。
为了实现上述实施例,本发明还提出了一种护理装置,该护理装置包括上述实施例提出的控制器或去渍控制装置。
另外,需要说明的是,本发明实施例的护理装置的其他构成及作用对本领域的技术人员来说是已知的,为减少冗余,此处不做赘述。
应当理解,本发明的各部分可以用硬件、软件、固件或它们的组合来实现。在上述实施方式中,多个步骤或方法可以用存储在存储器中且由合适的指令执行系统执行的软件或固件来实现。例如,如果用硬件来实现,和在另一实施方式中一样,可用本领域公知的下列技术中的任一项或他们的组合来实现:具有用于对数据信号实现逻辑功能的逻辑门电路的离散逻辑电路,具有合适的组合逻辑门电路的专用集成电路,可编程门阵列(PGA),现场可编程门阵列(FPGA)等。
在本说明书的描述中,参考术语“一个实施例”、“一些实施例”、“示例”、“具体示例”、或“一些示例”等的描述意指结合该实施例或示例描述的具体特征、结构、材料或者特点包含于本发明的至少一个实施例或示例中。在本说明书中,对上述术语的示意性表述不一定指的是相同的实施例或示例。而且,描述的具体特征、结构、材料或者特点可以在任何的一个或多个实施例或示例中以合适的方式结合。
在本发明的描述中,需要理解的是,术语“中心”、“纵向”、“横向”、“长度”、“宽度”、“厚度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”“内”、“外”、“顺时针”、“逆时针”、“轴向”、“径向”、“周向”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系,仅是为了便于描述本发明和简化描述,而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作,因此不能理解为对本发明的限制。
此外,术语“第一”、“第二”仅用于描述目的,而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此,限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括至少一个该特征。在本发明的描述中,“多个”的含义是至少两个,例如两个,三个等,除非另有明确具体的限定。
在本发明中,除非另有明确的规定和限定,术语“安装”、“相连”、“连接”、“固定”等术语应做广义理解,例如,可以是固定连接,也可以是可拆卸连接,或成一体;可以是机械连接,也可以是电连接;可以是直接相连,也可以通过中间媒介间接相连,可以是两个元件内部的连通或两个元件的相互作用关系,除非另有明确的限定。对于本领域的普通技术人员而言,可以根据具体情况理解上述术语在本发明中的具体含义。
在本发明中,除非另有明确的规定和限定,第一特征在第二特征“上”或“下”可以是第一和第二特征直接接触,或第一和第二特征通过中间媒介间接接触。而且,第一特征在第二特征“之上”、“上方”和“上面”可是第一特征在第二特征正上方或斜上方,或仅仅表示第一特征水平高度高于第二特征。第一特征在第二特征“之下”、“下方”和“下面”可以是第一特征在第二特征正下方或斜下方,或仅仅表示第一特征水平高度小于第二特征。
尽管上面已经示出和描述了本发明的实施例,可以理解的是,上述实施例是示例性的,不能理解为对本发明的限制,本领域的普通技术人员在本发明的范围内可以对上述实施例进行变化、修改、替换和变型。

Claims (10)

1.一种去渍控制方法,其特征在于,包括:
获取待处理物的属性信息和污渍信息;
根据所述属性信息和所述污渍信息确定去渍控制参数,并根据所述去渍控制参数对去渍机构进行控制。
2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述污渍信息包括污渍位置,所述去渍控制参数包括去渍溶剂类型、去渍溶剂用量、刷头运动参数以及刷头洗涤参数中至少一个,所述去渍机构包括刷头和去渍溶剂箱,所述根据所述去渍控制参数对去渍机构进行控制,包括:
根据所述去渍溶剂类型、所述去渍溶剂用量控制所述去渍溶剂箱将相应去渍溶剂输至所述刷头;
根据所述刷头运动参数控制所述刷头运动至所述污渍位置,并控制所述刷头喷洒所述去渍溶剂至所述污渍位置;
根据所述刷头洗涤参数控制所述刷头对所述待处理物进行去渍处理。
3.根据权利要求2所述的方法,其特征在于,所述刷头洗涤参数包括刷头的转速、出水速度以及刷头接触所述待处理物时的接触面积、接触压力和接触时长中的至少一个,所述根据所述刷头洗涤参数控制所述刷头对所述待处理物进行去渍处理,包括:
根据所述接触面积、所述接触压力和所述接触时长控制所述刷头与所述待处理物接触,并控制所述刷头按照所述转速旋转、按照所述出水速度出水,以对所述待处理物进行去渍处理。
4.根据权利要求2所述的方法,其特征在于,所述根据所述去渍控制参数对去渍机构进行控制,还包括:
控制所述刷头按照预设速度喷水预设时间,以对所述待处理物进行冲洗。
5.根据权利要求4所述方法,其特征在于,所述对待处理物进行冲洗之后,所述方法,还包括:
获取去渍过程中所述刷头的出水量,并获取环境参数;
根据所述出水量、所述环境参数以及所述属性信息确定烘干参数,根据所述烘干参数控制烘干机构对所述待处理物进行烘干处理。
6.根据权利要求5所述方法,其特征在于,所述环境参数包括空气湿度和/或温度。
7.根据权利要求1所述方法,其特征在于,所述获取待处理物的属性信息和污渍信息之前,所述方法还包括:
确定检测到所述待处理物,且接收到去渍模式选择指令。
8.一种控制器,包括存储器、处理器和存储在所述存储器上的计算机程序,其特征在于,所述计算机程序被所述处理器执行时,实现根据权利要求1-7中任一项所述的去渍控制方法。
9.一种去渍控制装置,其特征在于,包括:
获取模块,用于获取待处理物的属性信息和污渍信息;
控制模块,用于根据所述属性信息和所述污渍信息确定去渍控制参数,并根据所述去渍控制参数对去渍机构进行控制。
10.一种护理装置,其特征在于,包括:根据权利要求8所述的控制器,或者,根据权利要求9所述的去渍控制装置。
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