CN114853362B - 应用于玻璃面板的镀膜方法及玻璃面板 - Google Patents
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Abstract
本发明公开了一种应用于玻璃面板的镀膜方法及玻璃面板。包括如下步骤：提供基板，所述基板的表面覆着有有机层；采用真空磁控溅射镀膜设备在有机层的表面镀一层功能膜，其中，真空磁控溅射镀膜设备具有n个镀膜腔，以使所述功能膜由n次沉积而成，所述功能膜第一次沉积的厚度小于或等于所述功能膜整体厚度的百分之十五，并小于后几次各个沉积厚度。功能膜由多次沉积而成，第一次沉积的功能膜具有屏蔽有机层的作用，防止有机层出现脱气等问题，保证了真空溅射设备的镀膜环境；并且，第一次沉积形成的功能膜的厚度相对于整体的功能膜的厚度较薄，所以第一次沉积的功能膜对整体的功能膜的性能影响较小，保证了功能膜沉积完成后能够满足性能要求。
Description
技术领域
本发明涉及镀膜的技术领域，尤其涉及一种应用于玻璃面板的镀膜方法及玻璃面板。
背景技术
例如触控类产品，表面具有油墨或OCA光学胶等有机材料，此类有机材料在高温条件下由于脱气释放未参与反应的小分子物质。当含有机层的玻璃进入镀膜设备内后，在真空及加热器的作用下，小分子物质会快速从有机层内析出。此时，若直接在有机层的表面沉积具有功能膜，例如ITO薄膜，小分子物质可能会影响ITO的电阻率、折射率等性能，从而影响整个产品的性能。
发明内容
本发明旨在至少解决现有技术中存在的技术问题之一。为此，本发明提出一种应用于玻璃面板的镀膜方法，能够保证产品的性能。
本发明还提出一种具有应用于玻璃面板的镀膜方法的面板。
根据本发明第一方面实施例的应用于玻璃面板的镀膜方法，包括如下步骤：
提供基板，所述基板的表面覆着有有机层；
采用真空磁控溅射镀膜设备在所述有机层的表面镀一层功能膜，其中，真空磁控溅射镀膜设备具有n个镀膜腔，以使所述功能膜由n次沉积而成，所述功能膜第一次沉积的厚度小于或等于所述功能膜整体厚度的百分之十五，并小于后几次各个沉积厚度。
根据本发明实施例的应用于玻璃面板的镀膜方法，至少具有如下有益效果：功能膜由多次沉积而成，第一次沉积的功能膜具有屏蔽有机层的作用，防止有机层出现脱气等问题，保证了真空溅射设备的镀膜环境；并且，第一次沉积形成的功能膜的厚度相对于整体的功能膜的厚度较薄，所以第一次沉积的功能膜对整体的功能膜的性能影响较小，保证了功能膜沉积完成后能够满足性能要求。
根据本发明的一些实施例，所述功能膜第一次沉积的厚度至少在所述功能膜整体厚度的百分之五。
根据本发明的一些实施例，所述功能膜为氧化铟锡薄膜。
根据本发明的一些实施例，所述功能膜的整体厚度在25纳米至65纳米之间，所述功能膜第一次沉积的厚度在1纳米至5纳米之间。
根据本发明的一些实施例，所述功能膜为金属薄膜、合金薄膜或金属化合物薄膜中一种。
根据本发明的一些实施例，所述功能膜的整体厚度在80纳米至160纳米之间，所述功能膜第一次沉积的厚度在3纳米至15纳米之间。
根据本发明的一些实施例，所述功能膜分为三次沉积而成。
根据本发明的一些实施例，所述真空磁控溅射镀膜设备设置有溅射腔，所述溅射腔包括第一腔体、第二腔体与第三腔体；将所述基板依次经过所述第一腔体、所述第二腔体与所述第三腔体，以在所述有机层的表面沉积三次所述功能膜，其中，当所述基板在所述第三腔体中镀膜时，直至所述功能膜满足性能需求时停止镀膜。
根据本发明的一些实施例，当所述基板在所述第一腔体时，所述第一腔体对应的镀膜模组的功率控制在0.1千瓦至0.25千瓦之间，镀膜时间在0.7分钟之至1.5分钟之间。
根据本发明第二方面实施例的玻璃面板，由上述镀膜方法制作而成。
根据本发明实施例的玻璃面板，至少具有如下有益效果：功能膜由多次沉积而成，第一次沉积的功能膜具有屏蔽有机层的作用，防止有机层出现脱气等问题，保证了真空溅射设备的镀膜环境；并且，第一次沉积形成的功能膜的厚度相对于整体的功能膜的厚度较薄，所以第一次沉积的功能膜对整体的功能膜的性能影响较小，保证了功能膜沉积完成后能够满足性能要求，进而保证了玻璃面板的合格率。
本发明的附加方面和优点将在下面的描述中部分给出，部分将从下面的描述中变得明显，或通过本发明的实践了解到。
附图说明
下面结合附图和实施例对本发明做进一步的说明，其中：
图1为本发明实施例的镀膜方法的流程示意图；
图2为本发明实施例的玻璃面板的结构示意图。
附图标记：
100、基板；200、有机层；300、功能膜。
具体实施方式
下面详细描述本发明的实施例，所述实施例的示例在附图中示出，其中自始至终相同或类似的标号表示相同或类似的元件或具有相同或类似功能的元件。下面通过参考附图描述的实施例是示例性的，仅用于解释本发明，而不能理解为对本发明的限制。
在本发明的描述中，若干的含义是一个以上，多个的含义是两个以上，大于、小于、超过等理解为不包括本数，以上、以下、以内等理解为包括本数。如果有描述到第一、第二只是用于区分技术特征为目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量或者隐含指明所指示的技术特征的先后关系。
本发明的描述中，除非另有明确的限定，设置、安装、连接等词语应做广义理解，所属技术领域技术人员可以结合技术方案的具体内容合理确定上述词语在本发明中的具体含义。
本发明的描述中，参考术语“一个实施例”、“一些实施例”、“示意性实施例”、“示例”、“具体示例”、或“一些示例”等的描述意指结合该实施例或示例描述的具体特征、结构、材料或者特点包含于本发明的至少一个实施例或示例中。在本说明书中，对上述术语的示意性表述不一定指的是相同的实施例或示例。而且，描述的具体特征、结构、材料或者特点可以在任何的一个或多个实施例或示例中以合适的方式结合。
根据本发明第一方面公开了一种应用于玻璃面板的镀膜方法，参照图1与图2，用于在有机层200的表面镀上功能膜300，包括如下步骤：
S100提供基板100，基板100的表面覆着有有机层200；
S200采用真空磁控溅射镀膜设备在有机层200的表面镀一层功能膜300,其中，其中，真空磁控溅射镀膜设备具有n个镀膜腔，以使功能膜300由n次沉积而成，功能膜300第一次沉积的厚度小于或等于功能膜300整体厚度的百分之十五，并小于后几次各个沉积厚度。需要说明的是，本申请方案针对功能膜300是：由于有机层200的脱气导致性能被影响的薄膜，例如氧化铟锡薄膜、金属薄膜、合金薄膜或金属化合物薄膜等。
具体的，在本申请方案中，功能膜300由多次沉积而成，有机层200的表面第一次沉积功能膜300后，该功能膜300覆盖有机层200，且对有机层200具有屏蔽的作用。因此，真空磁控溅射镀膜设备在第二次、第三次继续沉积上述的功能膜300时，由于第一次沉积的功能膜300具有屏蔽有机层200的作用，避免后续沉积功能膜300时，有机层200出现脱气等问题，所以第一次镀上的功能膜300保证了真空磁控溅射镀膜设备的真空镀膜环境，使得后续镀上的功能膜300大概率满足相应的性能要求。
需要说明的是，由于功能膜300第一次沉积的厚度小于或等于功能膜300整体厚度的百分之十五，换而言之，第一次沉积形成的功能膜300的厚度相对于整体的功能膜300的厚度较薄，所以第一次沉积的功能膜300对整体的功能膜300的性能影响较小，因此最终沉积完成的功能膜300大概率满足功能膜300的性能要求。
在一些实施例中，为了实现第一次沉积的功能膜300较薄，第一个镀膜腔的镀膜模组的功率相对于其它镀膜腔的镀膜模组的功率较小，且玻璃在各个镀膜腔的镀膜时间一定，因此，玻璃在第一个镀膜腔的镀膜厚度较薄。
在一些实施例中，功能膜300第一次沉积的厚度至少占功能膜300整体厚度的百分之五，第一次沉积的功能膜300为上述厚度，功能膜300的厚度较合适，既对功能膜300的整体性能影响较小，又对有机层200具有屏蔽的作用，防止有机层200后续会出现脱气等问题。
在一些实施例中，功能膜300为氧化铟锡薄膜，氧化铟锡薄膜的整体厚度一般在25纳米至65纳米之间，在第一次沉积氧化铟锡薄膜时，氧化铟锡薄膜沉积的厚度在1纳米至5纳米之间。第一次沉积的氧化铟锡薄膜为上述厚度，氧化铟锡薄膜的厚度较合适，既对功能膜300的整体性能影响较小，又对有机层200具有屏蔽的作用，防止有机层200后续会出现脱气等问题。
针对氧化铟锡薄膜的实验数据，具体如下：
不同膜厚占比下的电阻和电阻率情况
由实验2与实验3可知，腔A(第一个镀膜腔)第一次镀膜厚度超过百分一十五，氧化铟锡薄膜的相对电阻率超过2000以上，无法满足用户要求。需要说明的是，靶位是指上述的镀膜模组。
在一些实施例中，功能膜300为金属薄膜、合金薄膜或金属化合物薄膜中的一种，上述的功能膜300的整体厚度在80纳米至160纳米之间，功能膜300第一次沉积的厚度在3纳米至15纳米之间。第一次沉积的功能膜300为上述厚度，功能膜300的厚度较合适，既对功能膜300的整体性能影响较小，又对有机层200具有屏蔽的作用，防止有机层200后续会出现脱气等问题。
在一些实施例中，功能膜300分为三次沉积而成，如此，保证能够沉积出满足性能要求的功能膜300，并且真空磁控溅射镀膜设备的制备成本也不会太高。
进一步地，真空磁控溅射镀膜设备设置有溅射腔，溅射腔包括第一腔体、第二腔体与第三腔体。在沉积功能膜300时，基板100依次经过第一腔体、第二腔体与第三腔体，从而在有机层200的表面三次沉积功能膜300，以形成满足性能要求的整体功能膜300。具体的，基板100在第一腔体时，在有机层200的表面第一次沉积功能膜300；基板100在第二腔体时，在第一次镀上的功能膜300的基础上继续沉积功能膜300；基板100在第三腔体时，在第二次镀上的功能膜300的基础上继续镀功能膜300，直至功能膜300满足性能需求，停止镀膜，此时，在有机层200的表面刚好形成满足性能要求的整体功能膜300。
更进一步地，基板100在第一腔体时，第一腔体对应的镀膜模组的功率控制在0.1千瓦至0.25千瓦之间，镀膜时间在0.7分钟之至1.5分钟之间。通过采用上述功率的镀膜模组以及上述的镀膜时间，在有机层200的表面上，第一次沉积的功能膜300的厚度较合适，既对功能膜300的整体性能影响较小，又对有机层200具有屏蔽的作用，防止有机层200后续会出现脱气等问题。
根据本发明第二方面公开了面板，由上述镀膜方法制作而成。功能膜300由多次沉积而成，第一次沉积的功能膜300具有屏蔽有机层200的作用，防止有机层200出现脱气等问题，保证了真空溅射设备的镀膜环境；并且，第一次沉积形成的功能膜300的厚度相对于整体的功能膜300的厚度较薄，所以第一次沉积的功能膜300对整体的功能膜300的性能影响较小，保证了功能膜300沉积完成后能够满足性能要求，进而保证了玻璃面板的合格率。
上面结合附图对本发明实施例作了详细说明，但是本发明不限于上述实施例，在所属技术领域普通技术人员所具备的知识范围内，还可以在不脱离本发明宗旨的前提下作出各种变化。此外，在不冲突的情况下，本发明的实施例及实施例中的特征可以相互组合。
Claims (7)
1.应用于玻璃面板的镀膜方法，其特征在于，包括如下步骤：
提供基板，所述基板的表面覆着有有机层；
采用真空磁控溅射镀膜设备在所述有机层的表面镀一层功能膜，所述功能膜为氧化铟锡薄膜，其中，真空磁控溅射镀膜设备具有n个镀膜腔，以使所述功能膜由n次沉积而成，所述功能膜第一次沉积的厚度小于或等于所述功能膜整体厚度的百分之十五，并小于后几次沉积的沉积厚度。
2.根据权利要求1所述的应用于玻璃面板的镀膜方法，其特征在于，所述功能膜第一次沉积的厚度至少占所述功能膜整体厚度的百分之五。
3.根据权利要求1所述的应用于玻璃面板的镀膜方法，其特征在于，所述功能膜的整体厚度在25纳米至65纳米之间，所述功能膜第一次沉积的厚度在1纳米至5纳米之间。
4.根据权利要求1所述的应用于玻璃面板的镀膜方法，其特征在于，所述功能膜分为三次沉积而成。
5.根据权利要求4所述的应用于玻璃面板的镀膜方法，其特征在于，所述真空磁控溅射镀膜设备设置有溅射腔，所述溅射腔包括第一腔体、第二腔体与第三腔体；
将所述基板依次经过所述第一腔体、所述第二腔体与所述第三腔体，以在所述有机层的表面沉积三次所述功能膜，其中，当所述基板在所述第三腔体中镀膜时，直至所述功能膜满足性能需求时停止镀膜。
6.根据权利要求5所述的应用于玻璃面板的镀膜方法，其特征在于，当所述基板在所述第一腔体时，所述第一腔体对应的镀膜模组的功率控制在0.1千瓦至0.25千瓦之间，镀膜时间在0.7分钟至1.5分钟之间。
7.玻璃面板，其特征在于，由权利要求1至6中任意一项所述镀膜方法制作而成。
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| US6284382B1 (en) * | 1997-11-27 | 2001-09-04 | Sony Corporation | Antireflection film and manufacturing method thereof |
| CN1647247A (zh) * | 2002-04-15 | 2005-07-27 | 维特克斯系统公司 | 在离散片上沉积多层涂层的装置 |
| CN203658697U (zh) * | 2012-11-07 | 2014-06-18 | 法国圣-戈班玻璃公司 | 一种用于具有液晶中介的可变散射特性的上光单元的导电支撑物及此上光单元 |
| CN104271345A (zh) * | 2012-05-21 | 2015-01-07 | 东丽株式会社 | 基板和使用其的触控面板部件 |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US9957609B2 (en) * | 2011-11-30 | 2018-05-01 | Corning Incorporated | Process for making of glass articles with optical and easy-to-clean coatings |
-
2022
- 2022-06-08 CN CN202210599413.0A patent/CN114853362B/zh active Active
Patent Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6284382B1 (en) * | 1997-11-27 | 2001-09-04 | Sony Corporation | Antireflection film and manufacturing method thereof |
| CN1647247A (zh) * | 2002-04-15 | 2005-07-27 | 维特克斯系统公司 | 在离散片上沉积多层涂层的装置 |
| CN104271345A (zh) * | 2012-05-21 | 2015-01-07 | 东丽株式会社 | 基板和使用其的触控面板部件 |
| CN203658697U (zh) * | 2012-11-07 | 2014-06-18 | 法国圣-戈班玻璃公司 | 一种用于具有液晶中介的可变散射特性的上光单元的导电支撑物及此上光单元 |
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