CN114833666A - 一种釉面砖打磨清洗装置 - Google Patents

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Abstract

本发明涉及一种打磨清洗装置，尤其涉及一种釉面砖打磨清洗装置。本发明提供一种能够对釉面砖表面均匀打磨抛光的釉面砖打磨清洗装置。本发明提供了这样一种釉面砖打磨清洗装置，包括：支撑台，支撑台左上部固接有第一支撑架；水箱，第一支撑架顶部转动式设置有水箱；喷头，水箱底部连接有喷头，喷头贯穿第一支撑架中部；第二支撑架，支撑台左上部固接有第二支撑架，第二支撑架位于第一支撑架右侧。通过第一推动块带动第一滑杆向左移动，能够使第一滑杆带动导轨板前后移动，进而使打磨机带动第一滑块前后移动，从而实现了打磨机能够对釉面砖表面进行均匀打磨的功能。

Description

一种釉面砖打磨清洗装置
技术领域
本发明涉及一种打磨清洗装置，尤其涉及一种釉面砖打磨清洗装置。
背景技术
釉面砖是砖的表面经过施釉和高温高压烧制处理的瓷砖，釉面砖适用于室内装修的各种场所，打磨抛光技术是一种十分常见的表面处理技术，釉面砖制造加工完成后通常需要对其表面进行打磨抛光处理，使釉面砖表面具有光泽感，更加美观。
专利授权公告号为CN207771546U的专利，一种釉面砖抛光机，包括机架、送料转棍、传送带、抛光机头、减速箱和主控芯片，所述机架包含两个互相平行且隔离的安装立板，两个所述安装立板上分别通过调整机构安装有两根所述送料转棍，两根所述送料转棍之间套接有所述传送带，所述传送带顶面的两侧设有定位卡槽，两个所述安装立板的顶端通过若干互相平行的安装横梁固定安装有若干所述抛光机头，若干所述抛光机头由一个电动机通过行星齿轮连接并带动五个抛光盘，但该砖抛光机的抛光机头不能够移动，只能对釉面砖表面的左右两侧进行打磨抛光，导致抛光不均匀，从而影响产品质量，且不具备对釉面砖清洗的功能，降低工作效率。
因此亟需发明一种能够对釉面砖表面均匀打磨抛光的釉面砖打磨清洗装置。
发明内容
为了克服现有的砖抛光机的抛光机头不能够移动，导致抛光不均匀，从而影响产品质量，且不具备对釉面砖清洗的功能的缺点，本发明的目的是提供一种能够对釉面砖表面均匀打磨抛光的釉面砖打磨清洗装置。
本发明通过以下技术途径实现：一种釉面砖打磨清洗装置，包括：支撑台，支撑台左上部固接有第一支撑架；水箱，第一支撑架顶部转动式设置有水箱；喷头，水箱底部连接有喷头，喷头贯穿第一支撑架中部；第二支撑架，支撑台左上部固接有第二支撑架，第二支撑架位于第一支撑架右侧；第一滑块，第二支撑架上部滑动式设置有第一滑块；打磨机，第一滑块上固接有打磨机；推动机构，支撑台顶部右侧设置有用于推动釉面砖的推动机构；限位机构，推动机构与支撑台上设置有用于限制釉面砖移动位置的限位机构；上料机构，支撑台内设置有便于对釉面砖进行上料的上料机构。
作为上述方案的改进，推动机构包括：控制器，支撑台右上部固接有控制器；第一电动推杆，支撑台右上部固接有第一电动推杆，控制器的左侧通过电线与第一电动推杆连接；第一推动块，第一电动推杆的伸缩端固接有第一推动块。
作为上述方案的改进，限位机构包括：限位板，支撑台左上部的前后两侧均固接有限位板，限位板位于第二支撑架内侧；空心管，第一推动块前后两侧均固接有空心管；夹紧件，两个空心管内均滑动式设置有夹紧件；第一弹性件，两个空心管外端与相近的夹紧件之间均连接有第一弹性件，第一弹性件套在夹紧件上；第二滑块，两个夹紧件左部外侧均固接有第二滑块，两个限位板右部内侧为斜面，第二滑块向左移动能与限位板的斜面接触，两个限位板内侧均开有滑槽，第二滑块能够在滑槽内滑动。
作为上述方案的改进，上料机构包括：置料板，支撑台前侧右部固接有两个置料板；送料件，支撑台中部内滑动式设置有送料件，送料件顶部右侧为斜面，送料件与支撑台内顶部接触，支撑台上部的中部开有方形通孔，送料件位于方形通孔下方；第二弹性件，送料件下部与支撑台之间连接有两个第二弹性件，两个第二弹性件套在送料件上；第二电动推杆，支撑台内右部固接有第二电动推杆，控制器右侧通过电线与第二电动推杆连接；第二推动块，第二电动推杆的伸缩端固接有第二推动块。
作为上述方案的改进，还包括有用于控制打磨机前后移动的摆动机构，摆动机构包括：第一滑杆，第一推动块顶部固接有第一滑杆；固定架，打磨机上部固接有固定架；导轨板，固定架下部右侧固接有导轨板，第一滑杆在导轨板内滑动。
作为上述方案的改进，还包括有用于控制喷头转动的旋转机构，旋转机构包括：第二滑杆，第一支撑架左侧上部固接有第二滑杆；第三滑块，第二滑杆上滑动式设置有第三滑块；第三弹性件，第三滑块右侧与第一支撑架左侧之间连接有第三弹性件，第三弹性件套在第二滑杆上；传动组件，打磨机、喷头和第三滑块之间设置有传动组件，传动组件由三个皮带轮和一个平皮带组成，打磨机的输出轴上设置有皮带轮，喷头下部设置有皮带轮，第三滑块底部转动式设置有皮带轮，三个皮带轮上绕有平皮带。
作为上述方案的改进，还包括有用于输送釉面砖的传输机构，传输机构包括：右侧的置料板右侧固接有安装座；电机，安装座内安装有电机；输送组件，两个置料板之间设置有输送组件，输送组件由两个皮带轮和一个输送带组成，电机的输出轴上固接有皮带轮，两个置料板后侧之间转动式设置有皮带轮，两个皮带轮上绕有输送带。
作为上述方案的改进，第二弹性件为压缩弹簧。
采用了上述对本发明结构的描述可知，本发明的设计出发点、理念及优点是：1、通过第一推动块带动第一滑杆向左移动，能够使第一滑杆带动导轨板前后移动，进而使打磨机带动第一滑块前后移动，从而实现了打磨机能够对釉面砖表面进行均匀打磨的功能。
2、通过打磨机的输出轴转动带动传动组件运行，传动组件带动喷头转动，从而使釉面砖移动到喷头底部时，喷头将水箱内的水喷出，从而能够对釉面砖表面进行全面冲洗。
3、通过第一电动推杆的伸缩端带动第一推动块向左移动，能够使两个第二滑块与限位板的斜面接触，两个第二滑块被挤压带动两个夹紧件向内移动，从而将釉面砖夹紧，进而能够防止釉面砖在打磨时发生移动。
4、通过将釉面砖放置到输送组件上，再开启电机，进而使输送组件将釉面砖输送到支撑台内，便于第二推动块推到釉面砖。
附图说明
图1为本发明的立体结构示意图。
图2为本发明推动机构的部分立体结构示意图。
图3为本发明限位机构的第一种部分立体结构示意图。
图4为本发明限位机构的第二种部分立体结构示意图。
图5为本发明限位机构的第三种部分立体结构示意图。
图6为本发明摆动机构的部分立体结构示意图。
图7为本发明上料机构的第一种立体结构示意图。
图8为本发明上料机构的部分立体剖视结构示意图。
图9为本发明上料机构的第二种部分立体结构示意图。
图10为本发明旋转机构的部分立体结构示意图。
图11为本发明传输机构的部分立体结构示意图。
图中标号名称：1、支撑台，2、第一支撑架，3、水箱，4、喷头，5、第二支撑架，6、打磨机，61、第一滑块，7、推动机构，71、控制器，72、第一电动推杆，73、第一推动块，8、限位机构，81、限位板，82、空心管，83、夹紧件，84、第一弹性件，85、第二滑块，86、滑槽，9、摆动机构，91、第一滑杆，92、导轨板，93、固定架，10、上料机构，101、置料板，102、送料件，1021、方形通孔，103、第二电动推杆，104、第二推动块，105、第二弹性件，11、旋转机构，111、传动组件，112、第二滑杆，113、第三弹性件，114、第三滑块，12、传输机构，121、安装座，122、电机，123、输送组件。
具体实施方式
以下结合具体实施例对上述方案做进一步说明。应理解，这些实施例是用于说明本申请而不限于限制本申请的范围。实施例中采用的实施条件可以根据具体厂家的条件做进一步调整，未注明的实施条件通常为常规实验中的条件。
实施例1
一种釉面砖打磨清洗装置，参阅图1、图2、图3、图4、图5、图7、图8和图9所示，包括有支撑台1、第一支撑架2、水箱3、喷头4、第二支撑架5、打磨机6、第一滑块61、推动机构7、限位机构8和上料机构10，支撑台1左上部通过螺栓连接的方式设置有第一支撑架2，第一支撑架2顶部转动式设置有水箱3，水箱3底部连接有喷头4，喷头4贯穿第一支撑架2中部，支撑台1左上部固接有第二支撑架5，第二支撑架5位于第一支撑架2右侧，第二支撑架5上部滑动式设置有第一滑块61，第一滑块61上固接有打磨机6，支撑台1顶部右侧设置有推动机构7，推动机构7与支撑台1上设置有限位机构8，支撑台1内设置有上料机构10。
参阅图1和图2所示，推动机构7包括有控制器71、第一电动推杆72和第一推动块73，支撑台1右上部通过螺栓连接的方式设置有控制器71，支撑台1右上部固接有第一电动推杆72，控制器71的左侧通过电线与第一电动推杆72连接，第一电动推杆72的伸缩端固接有第一推动块73。
参阅图1、图3、图4和图5所示，限位机构8包括有限位板81、空心管82、夹紧件83、第一弹性件84和第二滑块85，支撑台1左上部的前后两侧均固接有限位板81，限位板81位于第二支撑架5内侧，第一推动块73前后两侧均固接有空心管82，两个空心管82内均滑动式设置有夹紧件83，两个空心管82外端与相近的夹紧件83之间均连接有第一弹性件84，第一弹性件84套在夹紧件83上，两个夹紧件83左部外侧均固接有第二滑块85，两个限位板81右部内侧为斜面，第二滑块85向左移动能与限位板81的斜面接触，两个限位板81内侧均开有滑槽86，第二滑块85能够在滑槽86内滑动。
参阅图1、图7、图8和图9所示，上料机构10包括有置料板101、送料件102、第二电动推杆103、第二推动块104和第二弹性件105，支撑台1前侧右部固接有两个置料板101，支撑台1中部内滑动式设置有送料件102，送料件102顶部右侧为斜面，送料件102与支撑台1内顶部接触，支撑台1上部的中部开有方形通孔1021，送料件102位于方形通孔1021下方，送料件102下部与支撑台1之间连接有两个第二弹性件105，两个第二弹性件105套在送料件102上，第二弹性件105为压缩弹簧，压缩弹簧能够更好地带动送料件102移动复位，支撑台1内右部固接有第二电动推杆103，控制器71右侧通过电线与第二电动推杆103连接，第二电动推杆103的伸缩端固接有第二推动块104。
当要使用本装置时，工作人员将第一块釉面砖通过方形通孔1021放到送料件102上，随后工作人员将第二块釉面砖放置到两个置料板101之间，工作人员将第二块釉面砖推入支撑台1内，使得第二块釉面砖位于第二推动块104左侧，工作人员开启并调节控制器71，从而使控制器71控制第二电动推杆103的伸缩端伸长，第二电动推杆103的伸缩端带动第二推动块104向左移动，第二推动块104推动第二块釉面砖向左移动，使得第二块釉面砖与送料件102的斜面接触，第二块釉面砖挤压送料件102向下移动，第二弹性件105随之被压缩，从而使第二块釉面砖顶面与支撑台1内顶部接触，第二块釉面砖箱左移动挤压第一块釉面砖向上移动，当第二块釉面砖顶面与支撑台1内顶部脱离接触时，第一块釉面砖已位于第二块釉面砖上方，第二弹性件105复位带动送料件102向上移动，送料件102带动第二块釉面砖和第一釉面砖向上移动，使得第二块釉面砖位于方形通孔内，第一块釉面砖位于两个夹紧件83之间，同时第二电动推杆103的伸缩端缩短，从而带动第二推动块104向右移动复位，随后工作人员再次调节控制器71，使得控制器71控制第一电动推杆72的伸缩端伸长，第一电动推杆72的伸缩端带动第一推动块73向左移动，第一推动块73推动第一块釉面砖向左移动，同时第一推动块73通过两个空心管82带动两个夹紧件83向左移动，两个夹紧件83带动两个第二滑块85向左移动，当两个第二滑块85与限位板81的斜面接触时，此时第二滑块85不会进入滑槽86内，两个第二滑块85被挤压向内移动，两个第二滑块85带动两个夹紧件83向内移动，第一弹性件84随之被压缩，两个夹紧件83向内移动将釉面砖夹紧，工作人员开启打磨机6，当釉面砖移动到打磨机6下方时，打磨机6的打磨轮能够对釉面砖进行打磨，工作人员通过前后移动打磨机6，使得第一滑块61前后移动对釉面砖表面进行的打磨，同时工作人员将外接水管接入水箱3，当釉面砖移动到喷头4下方时，水箱3内的水通过喷头4喷出，进而对釉面砖表面进行清洗，当两个第二滑块85与限位板81内侧面脱离接触时，两个第一弹性件84复位带动两个夹紧件83和第二滑块85向外移动复位，进而使两个第二滑块85进入滑槽86内，两个夹紧件83与釉面砖脱离接触，随后工作人员将打磨清洗完成的釉面砖取出，然后工作人员将外接水管断开，当第一电动推杆72的伸缩端缩短时，第一电动推杆72带动第一推动块73向右移动，第一推动块73通过空心管82带动夹紧件83向右移动，夹紧件83带动第二滑块85向右移动脱离滑槽86，重复上述操作，能够再次对釉面砖进打磨和清洗，当不需要使用本装置后，工作人员将打磨机6关闭即可。
实施例2
在实施例1的基础之上，参阅图1和图6所示，还包括有摆动机构9，摆动机构9包括有第一滑杆91、导轨板92和固定架93，第一推动块73顶部固接有第一滑杆91，打磨机6上部固接有固定架93，固定架93下部右侧通过焊接的方式设置有导轨板92，第一滑杆91在导轨板92内滑动。
当第一推动块73向左移动时，第一推动块73带动第一滑杆91向左移动，第一滑杆91在导轨板92内直线移动，使得第一滑杆91带动导轨板92前后移动，导轨板92通过固定架93带动打磨机6前后移动，进而使打磨机6带动第一滑块61前后移动，从而能够使打磨机6对釉面砖表面进行均匀打磨，当第一推动块73向右移动时，第一推动块73带动第一滑杆91向右移动，第一滑杆91通过导轨板92带动打磨机6移动复位。
参阅图1和图10所示，还包括有旋转机构11，旋转机构11包括有传动组件111、第二滑杆112、第三弹性件113和第三滑块114，第一支撑架2左侧上部固接有第二滑杆112，第二滑杆112上滑动式设置有第三滑块114，第三滑块114右侧与第一支撑架2左侧之间连接有第三弹性件113，第三弹性件113套在第二滑杆112上，打磨机6、喷头4和第三滑块114之间设置有传动组件111，传动组件111由三个皮带轮和一个平皮带组成，打磨机6的输出轴上设置有皮带轮，喷头4下部设置有皮带轮，第三滑块114底部转动式设置有皮带轮，三个皮带轮上绕有平皮带。
当打磨机6对釉面砖进行打磨时，打磨机6的输出轴转动带动传动组件111运行，传动组件111带动喷头4转动，从而使釉面砖移动到喷头4底部时，喷头4将水箱3内的水喷出，从而对釉面砖表面进行全面冲洗，当打磨机6前后移动时，打磨机6通过传动组件111带动第三滑块114左右移动，第三弹性件113随之被压缩，当打磨机6向中间移动时，打磨机6带动传动组件111移动，第三弹性件113复位带动第三滑块114向左移动复位，第三滑块114带动传动组件111移动复位。
参阅图1和图11所示，还包括有传输机构12，传输机构12包括有安装座121、电机122和输送组件123，右侧的置料板101右侧通过螺栓连接的方式设置有安装座121，安装座121内安装有电机122，两个置料板101之间设置有输送组件123，输送组件123由两个皮带轮和一个输送带组成，电机122的输出轴上固接有皮带轮，两个置料板101后侧之间转动式设置有皮带轮，两个皮带轮上绕有输送带。
通过工作人员将釉面砖放置到两个置料板101之间，使釉面砖位于输送组件123上，工作人员开启电机122，电机122的输出轴转动带动输送组件123运行，进而使输送组件123将釉面砖输送到支撑台1内，便于第二推动块104推到釉面砖，重复以上操作，能够使釉面砖持续被输至支撑台1内，当不需要输送釉面砖后，工作人员将电机122关闭即可。
最后所应当说明的是，以上实施例仅用以说明本发明的技术方案而非对本发明保护范围的限制，尽管参照较佳实施例对本发明作了详细说明，本领域的普通技术人员应当理解，可以对本发明的技术方案进行修改或者等同替换，而不脱离本发明技术方案的实质和范围。

Claims (8)

1.一种釉面砖打磨清洗装置，其特征是，包括：
支撑台(1)，支撑台(1)左上部固接有第一支撑架(2)；
水箱(3)，第一支撑架(2)顶部转动式设置有水箱(3)；
喷头(4)，水箱(3)底部连接有喷头(4)，喷头(4)贯穿第一支撑架(2)中部；
第二支撑架(5)，支撑台(1)左上部固接有第二支撑架(5)，第二支撑架(5)位于第一支撑架(2)右侧；
第一滑块(61)，第二支撑架(5)上部滑动式设置有第一滑块(61)；
打磨机(6)，第一滑块(61)上固接有打磨机(6)；
推动机构(7)，支撑台(1)顶部右侧设置有用于推动釉面砖的推动机构(7)；限位机构(8)，推动机构(7)与支撑台(1)上设置有用于限制釉面砖移动位置的限位机构(8)；
上料机构(10)，支撑台(1)内设置有便于对釉面砖进行上料的上料机构(10)。
2.如权利要求1所述的一种釉面砖打磨清洗装置，其特征是，推动机构(7)包括：
控制器(71)，支撑台(1)右上部固接有控制器(71)；
第一电动推杆(72)，支撑台(1)右上部固接有第一电动推杆(72)，控制器(71)的左侧通过电线与第一电动推杆(72)连接；
第一推动块(73)，第一电动推杆(72)的伸缩端固接有第一推动块(73)。
3.如权利要求2所述的一种釉面砖打磨清洗装置，其特征是，限位机构(8)包括：
限位板(81)，支撑台(1)左上部的前后两侧均固接有限位板(81)，限位板(81)位于第二支撑架(5)内侧；
空心管(82)，第一推动块(73)前后两侧均固接有空心管(82)；
夹紧件(83)，两个空心管(82)内均滑动式设置有夹紧件(83)；
第一弹性件(84)，两个空心管(82)外端与相近的夹紧件(83)之间均连接有第一弹性件(84)，第一弹性件(84)套在夹紧件(83)上；
第二滑块(85)，两个夹紧件(83)左部外侧均固接有第二滑块(85)，两个限位板(81)右部内侧为斜面，第二滑块(85)向左移动能与限位板(81)的斜面接触，两个限位板(81)内侧均开有滑槽(86)，第二滑块(85)能够在滑槽(86)内滑动。
4.如权利要求3所述的一种釉面砖打磨清洗装置，其特征是，上料机构(10)包括：
置料板(101)，支撑台(1)前侧右部固接有两个置料板(101)；
送料件(102)，支撑台(1)中部内滑动式设置有送料件(102)，送料件(102)顶部右侧为斜面，送料件(102)与支撑台(1)内顶部接触，支撑台(1)上部的中部开有方形通孔(1021)，送料件(102)位于方形通孔(1021)下方；
第二弹性件(105)，送料件(102)下部与支撑台(1)之间连接有两个第二弹性件(105)，两个第二弹性件(105)套在送料件(102)上；
第二电动推杆(103)，支撑台(1)内右部固接有第二电动推杆(103)，控制器(71)右侧通过电线与第二电动推杆(103)连接；
第二推动块(104)，第二电动推杆(103)的伸缩端固接有第二推动块(104)。
5.如权利要求4所述的一种釉面砖打磨清洗装置，其特征是，还包括有用于控制打磨机(6)前后移动的摆动机构(9)，摆动机构(9)包括：
第一滑杆(91)，第一推动块(73)顶部固接有第一滑杆(91)；
固定架(93)，打磨机(6)上部固接有固定架(93)；
导轨板(92)，固定架(93)下部右侧固接有导轨板(92)，第一滑杆(91)在导轨板(92)内滑动。
6.如权利要求5所述的一种釉面砖打磨清洗装置，其特征是，还包括有用于控制喷头(4)转动的旋转机构(11)，旋转机构(11)包括：
第二滑杆(112)，第一支撑架(2)左侧上部固接有第二滑杆(112)；
第三滑块(114)，第二滑杆(112)上滑动式设置有第三滑块(114)；
第三弹性件(113)，第三滑块(114)右侧与第一支撑架(2)左侧之间连接有第三弹性件(113)，第三弹性件(113)套在第二滑杆(112)上；
传动组件(111)，打磨机(6)、喷头(4)和第三滑块(114)之间设置有传动组件(111)，传动组件(111)由三个皮带轮和一个平皮带组成，打磨机(6)的输出轴上设置有皮带轮，喷头(4)下部设置有皮带轮，第三滑块(114)底部转动式设置有皮带轮，三个皮带轮上绕有平皮带。
7.如权利要求6所述的一种釉面砖打磨清洗装置，其特征是，还包括有用于输送釉面砖的传输机构(12)，传输机构(12)包括：
右侧的置料板(101)右侧固接有安装座(121)；
电机(122)，安装座(121)内安装有电机(122)；
输送组件(123)，两个置料板(101)之间设置有输送组件(123)，输送组件(123)由两个皮带轮和一个输送带组成，电机(122)的输出轴上固接有皮带轮，两个置料板(101)后侧之间转动式设置有皮带轮，两个皮带轮上绕有输送带。
8.如权利要求7所述的一种釉面砖打磨清洗装置，其特征是，第二弹性件(105)为压缩弹簧。
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