CN114783298B - 柔性屏的校平装置和柔性屏的校平方法 - Google Patents
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Abstract
本申请实施例公开了一种柔性屏的校平装置和柔性屏的校平方法,该装置包括:基准层,用于承载柔性屏;易形变膜层,设置在柔性屏远离基准层一侧,易形变膜层在基准层的正投影区域覆盖柔性屏在基准层的正投影区域;磁流体层,设置在易形变膜层远离柔性屏一侧,磁流体层在基准层的正投影区域覆盖易形变膜层在基准层的正投影区域,磁流体层包括多个磁流体;其中,在目标磁场力的作用下,磁流体层中的至少部分磁流体由第一状态切换至第二状态,并带动易形变膜层发生形变,易形变膜层产生朝向柔性屏的目标压力,柔性屏在目标压力的作用下发生形变,以使柔性屏的整体平整度调整至第一预设阈值内。本申请保证了柔性屏的平整度,提高了柔性屏的产品良率。
Description
技术领域
本申请属于显示技术领域,尤其涉及一种柔性屏的校平装置和柔性屏的校平方法。
背景技术
随着显示技术的不断发展,采用柔性显示技术制备的显示屏即柔性屏被得到广泛重视。在对柔性屏进行自动光学检测时,由于柔性屏产生的形变较大,检测时需要把柔性屏的平整度校正至合理的公差范围内才可进行检测操作,若未校正柔性屏的平整度,则会使其超出检测相机的景深范围,使得拍出的图片失真,造成误检。
发明内容
本申请实施例提供一种柔性屏的校平装置和柔性屏的校平方法,保证了柔性屏的平整度,提高了柔性屏的产品良率。
第一方面,本申请实施例提供一种柔性屏的校平装置,包括:
基准层,用于承载所述柔性屏;
易形变膜层,设置在所述柔性屏远离所述基准层一侧,所述易形变膜层在所述基准层的正投影区域覆盖所述柔性屏在所述基准层的正投影区域;
磁流体层,设置在所述易形变膜层远离所述柔性屏一侧,所述磁流体层在所述基准层的正投影区域覆盖所述易形变膜层在所述基准层的正投影区域,所述磁流体层包括多个磁流体;
其中,在目标磁场力的作用下,所述磁流体层中的至少部分磁流体由第一状态切换至第二状态,并带动所述易形变膜层发生形变,所述易形变膜层产生朝向所述柔性屏的目标压力,所述柔性屏在所述目标压力的作用下发生形变,以使所述柔性屏的整体平整度调整至第一预设阈值内。
可选的,在一些实施例中,所述校平装置还包括磁场层,所述磁场层设置在所述磁流体层远离所述易形变膜层一侧,所述磁场层包括多个磁场区域;
其中,在初始电流的作用下,所述磁场层中所有磁场区域产生初始磁场力,以使所述磁流体层中的所有磁流体处于所述第一状态;
在目标电流的作用下,所述多个磁场区域中的目标磁场区域产生所述目标磁场力,以使所述磁流体层中与所述目标磁场区域对应的磁流体由所述第一状态切换至所述第二状态。
可选的,在一些实施例中,所述校平装置还包括高度检测装置,所述高度检测装置用于检测位于所述基准层上的所述柔性屏的不同位置到所述基准层的多个高度值,以得到所述柔性屏的多个平整度数据。
可选的,在一些实施例中,所述校平装置还包括处理器,所述处理器与所述高度检测装置电连接,所述处理器用于:
获取所述高度检测装置检测到的所述柔性屏的多个平整度数据;
从所述柔性屏的多个平整度数据中选取大于所述第一预设阈值且小于第二预设阈值的目标平整度数据;
根据所述目标平整度数据,从所述多个磁场区域中确定所述目标磁场区域,并计算所述目标磁场区域对应的目标电流变化值。
可选的,在一些实施例中,所述校平装置还包括供电装置,所述供电装置与所述处理器电连接,所述供电装置用于为所述磁场层提供电流,所述处理器还用于:
根据所述初始电流和所述目标电流变化值,确定所述目标区域对应的目标电流;
控制所述供电装置为所述目标磁场区域提供所述目标电流,以使所述目标磁场区域产生所述目标磁场力。
可选的,在一些实施例中,所述校平装置还包括压力检测装置,所述压力检测装置用于检测所述柔性屏所受到的所述目标压力的压力值,所述压力检测装置与所述处理器电连接,所述处理器还用于:
获取所述压力检测装置检测到的所述目标压力的压力值;
当所述目标压力的压力值大于预设压力阈值时,发出报警信息。
可选的,在一些实施例中,所述处理器还用于:
根据所述报警信息,控制所述供电装置为所述磁场层所提供的电流由所述目标电流切换至所述初始电流或控制所述供电装置停止为所述磁场层提供电流。
可选的,在一些实施例中,所述处理器还用于:
获取所述柔性屏中每个位置对应的一个平整度数据,得到多个第一平整度数据,并根据所述多个第一平整度数据对所述柔性屏进行一次校平操作;
在完成一次校平操作后,再次获取所述柔性屏中每个位置对应的一个平整度数据,得到多个第二平整度数据;
判断所述多个第二平整度数据是否均小于或等于所述第一预设阈值;
若是,则完成对所述柔性屏的校平;
若否,则根据所述多个第二平整度数据对所述柔性屏再进行一次校平操作。
第二方面,本申请实施例还提供一种柔性屏的校平方法,包括:
获取高度检测装置检测到的所述柔性屏的多个平整度数据,其中,所述平整度数据对应位于基准层上的所述柔性屏的不同位置到所述基准层的多个高度值;
从所述多个平整度数据中选取大于第一预设阈值且小于第二预设阈值的目标平整度数据;
根据所述目标平整度数据,从磁场层的多个磁场区域中确定目标磁场区域,并计算所述目标磁场区域对应的目标电流变化值;
根据初始电流和所述目标电流变化值,确定所述目标区域对应的目标电流,其中,在所述目标电流的作用下,所述目标磁场区域产生目标磁场力;
根据所述目标磁场力,得到所述柔性屏的目标压力,并在所述目标压力的作用下控制所述柔性屏发生形变,以使所述柔性屏的整体平整度调整至第一预设阈值内。
可选的,在一些实施例中,根据所述目标磁场力,得到所述柔性屏的目标压力,并在所述目标压力的作用下控制所述柔性屏发生形变,以使所述柔性屏的整体平整度调整至第一预设阈值内,包括:
在所述目标磁场力的作用下,磁流体层中的至少部分磁流体由第一状态切换至第二状态,并带动所述易形变膜层发生形变;
所述易形变膜层发生形变并产生朝向所述柔性屏的所述目标压力,所述柔性屏在所述目标压力的作用下发生形变,以使所述柔性屏的整体平整度调整至第一预设阈值内。
可选的,在一些实施例中,所述方法还包括:
获取压力检测装置检测到的所述目标压力的压力值;
当所述目标压力的压力值大于预设压力阈值时,发出报警信息。
可选的,在一些实施例中,在当所述目标压力的压力值大于预设压力阈值时,发出报警信息之后,所述方法还包括:
根据所述报警信息,控制所述供电装置为所述磁场层所提供的电流由所述目标电流切换至所述初始电流或控制所述供电装置停止为所述磁场层提供电流。
可选的,在一些实施例中,所述方法还包括:
获取所述柔性屏中每个位置对应的一个平整度数据,得到多个第一平整度数据,并根据所述多个第一平整度数据对所述柔性屏进行一次校平操作;
在完成一次校平操作后,再次获取所述柔性屏中每个位置对应的一个平整度数据,得到多个第二平整度数据;
判断所述多个第二平整度数据是否均小于或等于所述第一预设阈值;
若是,则完成对所述柔性屏的校平;
若否,则根据所述多个第二平整度数据对所述柔性屏再进行一次校平操作。
本申请实施例提供的柔性屏的校平装置包括:基准层,用于承载柔性屏;易形变膜层,设置在柔性屏远离基准层一侧,易形变膜层在基准层的正投影区域覆盖柔性屏在基准层的正投影区域;磁流体层,设置在易形变膜层远离柔性屏一侧,磁流体层在基准层的正投影区域覆盖易形变膜层在基准层的正投影区域,磁流体层包括多个磁流体;其中,在目标磁场力的作用下,磁流体层中的至少部分磁流体由第一状态切换至第二状态,并带动易形变膜层发生形变,易形变膜层产生朝向柔性屏的目标压力,柔性屏在目标压力的作用下发生形变,以使柔性屏的整体平整度调整至第一预设阈值内。本申请保证了柔性屏的平整度,提高了柔性屏的产品良率。
附图说明
下面结合附图,通过对本申请的具体实施方式详细描述,将使本申请的技术方案及其有益效果显而易见。
图1是本申请实施例提供的相关技术中的柔性屏的校平装置。
图2是本申请实施例提供的柔性屏的校平装置的第一种结构示意图。
图3是本申请实施例提供的柔性屏的校平装置的第二种结构示意图。
图4是本申请实施例提供的柔性屏的校平方法的流程示意图。
具体实施方式
下面将结合本申请实施例中的附图,对本申请实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述。显然,所描述的实施例仅仅是本申请一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本申请中的实施例,本领域技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本申请保护的范围。
除非另外定义,本公开使用的技术术语或者科学术语应当为本发明所属领域内具有一般技能的人士所理解的通常意义。本公开中使用的“第一”、“第二”以及类似的词语并不表示任何顺序、数量或者重要性,而只是用来区分不同的组成部分。同样,“一个”、“一”或者“该”等类似词语也不表示数量限制,而是表示存在至少一个。“包括”或者“包含”等类似的词语意指出现该词前面的元件或者物件涵盖出现在该词后面列举的元件或者物件及其等同,而不排除其它元件或者物件。“连接”或者“相连”等类似的词语并非限定于物理的或者机械的连接,而是可以包括电性的连接,不管是直接的还是间接的。“上”、“下”、“左”、“右”等仅用于表示相对位置关系,当被描述对象的绝对位置改变后,则该相对位置关系也可能相应地改变。
相关技术中对柔性屏校平采用的校平装置是基于物理器械压平的方式实现的。请参阅图1,图1是本申请实施例提供的相关技术中的柔性屏的校平装置。具体地,该柔性屏的校平装置100可以包括基准层110、支撑住120、压坝130以及驱动装置140。
其中,基准层110与支撑住120可拆卸固定连接,基准层110用于承载柔性屏。需要说明的是,柔性屏在进行校平的过程中,仅需要对设置有功能模块的一侧进行校平即可,无需对柔性屏的所有区域进行校平,因此,可以将柔性屏的一个侧边固定在基准层110上,即基准层110用于承载柔性屏的待校平区域。而柔性屏的其他无需校平的区域则可通过支撑住120对其进行支撑,从而保证柔性屏的平整度以防止其在校平过程中发生卷曲而影响校平操作。
支撑住120的数量可以根据柔性屏的面积进行相应的设置,为保证柔性屏的平整度,可以设置至少三根支撑住120,在柔性屏的相对两个侧边以及柔性屏的中间位置分别设置一根支撑住120实现对柔性屏的支撑。支撑住120可以与基准层110的延伸方向垂直设置。
压坝130可以与基准层110相邻设置,压坝130可以包括固定部和活动部,固定部可以与基准层110固定连接。当柔性屏待校平区域对应的侧边位于基准层110上时,压坝130与基准层110固定连接的固定部可以与柔性屏抵接,从而通过压坝130的固定部以及基准层110对柔性屏进行固定,以防止在对柔性屏的校平过程中,柔性屏发生移动而影响校平效果。
其中,压坝130的活动部可以在驱动装置140的驱动下沿第一方向或与第一方向相反方向运动,在活动部的运动轨迹到达位于基准层上的柔性屏的待校平区域时,可以产生对柔性屏朝向基准层的压力,从而通过物理器械的方式对柔性屏进行校平操作。需要说明的是,压坝130中活动部的长边长度可以大于柔性屏位于基准层上侧边的长度,从而使得活动部在沿第一方向运动的过程中可以覆盖柔性屏侧边沿第二方向上的全部区域,进而可以使得校平过程活动部仅需沿第一方向或第一方向相反方向运动便可对对柔性屏的待校平区域进行全部校平。其中,第一方向与第二方向相互垂直。
驱动装置140可以设置在支撑住120的侧边,驱动装置140可以与压坝130可拆卸固定连接,驱动装置140可以驱动压坝130沿第一方向或第一方向相反的方向运动,第一方向可以为支撑住120的延伸方向,第二方向可以为基准层110的延伸方向,或者说第二方向为与支撑住120的延伸方向垂直的方向。
需要说明的是,采用上述压坝130的物理器械对柔性屏的压平方式,由于压坝130在校平过程中与柔性屏直接接触,如果压坝130对柔性屏的压力过大,则会造成柔性屏压碎的问题,其校平后的柔性屏的整体平整度仅能达到0.05mm内,并且无法对柔性屏进行分区域校平。另外,在校平过程中,无法对柔性屏的当前校平状态进行评估,从而会增加次品率。
为解决现有技术中对柔性屏校平所存在的技术问题,本申请实施例提供一种柔性屏的校平装置和柔性屏的校平方法。请参阅图2和图3,图2是本申请实施例提供的柔性屏的校平装置的第一种结构示意图,图3是本申请实施例提供的柔性屏的校平装置的第二种结构示意图。本申请实施例提供的柔性屏的校平装置200在相关技术中的柔性屏的校平装置100的基础上,去除了压坝130和驱动装置140。具体地,该柔性屏校平装置200可以包括基准层210、易形变膜层220以及磁流体层230。其中,该柔性屏可以为OLED柔性屏、Mirco LED柔性屏、LED柔性屏等。
其中,柔性屏的校平装置还可以包括支撑住240,基准层210可以与支撑住240可拆卸固定连接,基准层210用于承载柔性屏。需要说明的是,柔性屏在进行校平的过程中,仅需要对设置有功能模块的一侧进行校平即可,无需对柔性屏的所有区域进行校平,因此,可以将柔性屏的一个侧边固定在基准层210上,即基准层210用于承载柔性屏的待校平区域。而柔性屏的其他无需校平的区域则可通过支撑住240对其进行支撑,从而保证柔性屏的平整度以防止其在校平过程中发生卷曲而影响校平操作。
支撑住240的数量可以根据柔性屏的面积进行相应的设置,为保证柔性屏的平整度,可以设置至少三根支撑住240,在柔性屏的相对两个侧边以及柔性屏的中间位置分别设置一根支撑住240实现对柔性屏的支撑。支撑住240可以与基准层210的延伸方向垂直设置。
需要说明的是,该柔性屏的校平装置200也可以不包括支撑住240,而将基准层210的面积设置足够大,从而能够承载柔性屏的所有区域。当然,对柔性屏的校平过程也可以不仅仅对其一个侧边进行校平,也可以对柔性屏的所有区域进行校平,在此不作具体限定。
本实施例以柔性屏的校平装置200包括支撑住240进行说明。当柔性屏放置于基准层210上时,基准层210和支撑住240共同对柔性屏进行支撑,并同时对柔性屏起到固定作用,以防止柔性屏在校平过程中发生偏移而影响校平效果。
其中,易形变膜层220可以设置在柔性屏远离基准层210一侧,且易形变膜层220在基准层的正投影区域覆盖柔性屏在基准层的正投影区域,由于柔性屏在校平过程中其翘曲区域会发生形变而变得平整,从而使得柔性屏的原始表面积增加,因此,可以将易形变膜层220的面积设置大于柔性屏的原始面积,以保证柔性屏在校平过程中增加后的面积仍小于易形变膜层220的面积。易形变膜层220可以在力的作用下发生形变,如电磁力,磁场力,压力等。
磁流体层230可以设置在易形变膜层220远离柔性屏一侧,磁流体层230在基准层210的正投影区域覆盖易形变膜层220在基准层的正投影区域。其中,磁流体层230可以包括多个磁流体。
需要说明的是,磁流体是一种特殊的功能材料,是把纳米数量级的磁性粒子包裹一层长链的表面活性剂,均匀的分赛在基液中形成的一种均匀稳定的胶体溶液,磁流体在磁场的作用下会形成丰富的微观结构。也就是说,磁流体在磁场的作用下保持微观物理形态。
因此,如果在磁流体层230中的多个磁流体对应的区域设置磁场,可以在磁场力的作用下使磁流体层230中的多个磁流体保持微观物理形态。还需要说明的是,电流的大小与磁场强度呈正相关,即电流越大,则磁场强度越强;电流越小,则磁场强度越弱。
其中,柔性屏的校平装置200还可以包括磁场层250,磁场层250可以设置在磁流体层230远离易形变膜层220一侧,磁场层250可以包括多个磁场区域251,每一磁场区域251所产生的磁场力均会对其磁场覆盖范围内的磁流体产生影响。
具体地,在初始电流的作用下,磁场层250中的所有磁场区域251均可产生初始磁场力,以使磁流体层230中的所有磁流体处于第一状态。其中,第一状态可以为磁流体的长轴方向处于水平方向。
为改变磁流体层230中磁流体的状态,可以通过改变电流来改变磁场层250的磁场强度,即由初始电流改变为目标电流,在目标电流的作用下,磁场层250中多个磁场区域251中的目标磁场区域产生目标磁场力,以使磁流体层230中与目标磁场区域对应的磁流体由第一状态切换至第二状态。其中,第二状态可以为磁流体的长轴方向与水平方向形成夹角,当目标磁场力足够大时,磁流体的长轴方向可以与水平方向垂直。
在目标磁场力的作用下,磁流体层230中的至少部分磁流体由第一状态切换至第二状态,并带动易形变膜层220发生形变,而易形变膜层220发生形变的位置会产生朝向柔性屏的目标压力,柔性屏在目标压力的作用下会发生形变,以使柔性屏的整体平整度调整至第一预设阈值内。
其中,由于目标磁场力是由目标磁场区域所产生的,因此通过目标磁场力而改变为第二状态的至少部分磁流体是设置在对应目标磁场区域内的目标磁流体。而对于未受到目标磁场力影响的其他磁流体则依然保持初始电流作用下的第一状态。可以理解的是,易形变膜层220所发生形变的区域与发生状态改变的目标磁流体所在位置相对应,柔性屏所受到的目标压力的区域与易形变膜层220发生形变的区域对应,而对于未受到目标压力的区域则依然保持原有状态,从而实现对柔性屏部分区域进行单独校平,无需如相关技术中对整个柔性屏的待校平区域进行全部校平,并可保证恒定的目标压力输出。其中,第一预设阈值可以为0.02mm,相对于相关技术中对柔性屏校平的整体平整度在0.05mm内,本实施例能够对柔性屏实现更加细致的校平操作。
为了确定柔性屏中需要进行校平操作的区域,即需要受到目标压力的区域,该校平装置200还可以包括高度检测装置和处理器,该高度检测装置可以为测高仪等。该高度检测装置可以用于检测位于基准层210上的柔性屏的不同位置到基准层210的多个高度值,以得到柔性屏的多个平整度数据。高度测量装置可以沿位于基准层210上的柔性屏的侧边的延伸方向移动,从而检测到柔性屏不同位置对应的多个高度值。
处理器可以与高度测量装置电连接,处理器可以获取高度测量装置检测到的柔性屏的多个平整度数据;从柔性屏的多个平整度数据中选取大于第一预设阈值且小于第二预设阈值的目标平整度数据;并根据目标平整度数据,从多个磁场区域中确定目标磁场区域,并计算目标磁场区域对应的目标电流变化值。
其中,第一预设阈值可以为0.02mm,第二预设阈值可以为0.2mm,设置第二预设阈值的目的在于如果柔性屏的平整度数据指示其到基准层210的高度值过大,则对其进行校平操作会造成柔性屏有破碎的风险,因此设置第二预设阈值对其进行保护。
通过目标平整度数据可以确定柔性屏需要校平的区域,从而确定柔性屏需要受到目标压力的区域,进而确定目标磁场区域。而目标平整度数据与目标电流变化值存在对应关系,具体地,当目标平整度数据越大,则目标电流变化值越大;目标平整度数据越小,则目标电流变化值越小。
另外,校平装置200还可以包括供电装置,供电装置可以与处理器电连接,供电装置用于为磁场层250提供电流,如上述初始电流和目标电流。具体地,根据初始电流和目标电流变化值,可以确定目标区域对应的目标电流;处理器可以控制供电装置为目标磁场区域提供目标电流,以使目标磁场区域产生目标磁场力。所产生的目标磁场力可以控制磁流体层230中的目标磁流体发生形变进而带动易形变膜层220发生形变,并产生朝向柔性屏的目标压力,柔性屏在目标压力的作用下发生形变,即朝向基准层210形变,以使柔性屏的整体平整度调整至第一预设阈值内。可以理解的是,将柔性屏中平整度不满足第一预设阈值内的区域进行调整,能够实现对柔性屏的分区域校平。
校平装置200还可以包括压力检测装置,如压力传感器等。压力检测装置用于检测柔性屏所受到的目标压力的压力值,压力检测装置可以与处理器电连接,处理器可以获取压力检测装置检测到的目标压力的压力值;当目标压力的压力值大于预设压力阈值时,发出报警信息。预设压力阈值可以根据实际情况具体设置,在此不作具体限定。可以理解的是,如果柔性屏受到的目标压力过大,则容易破碎,因此通过预设压力阈值对目标压力进行限制,以防止其发生破碎。发出报警信息的方式可以为语音播放报警信号或者通过指示灯提示。
在接收到报警信息之后,工作人员可以手动停止对柔性屏的校平操作,也可以采取其他处理方式。比如,根据报警提示,控制供电装置为磁场层250所提供的电流由目标电流切换至初始电流,从而使磁流体层230中的所有磁流体切换至第一状态,易形变膜层220不会产生形变,从而无法产生朝向柔性屏的目标压力,而停止对柔性屏的校平操作。当然,也可以控制供电装置停止为磁场层250提供电流,使磁流体层230中的所有磁流体处于固态胶体,同样可以停止对柔性屏的校平操作。
需要说明的是,如果根据高度测量装置所测量的柔性屏每个位置对应的一个平整度数据所组成的目标平整度数据进行了一次校平操作后,发现柔性屏的部分区域仍无法满足第一预设阈值的要求,则可以对柔性屏进行第二次校平操作,但需重新获取柔性屏的平整度数据。具体地,获取柔性屏中每个位置对应的一个平整度数据,得到多个第一平整度数据,并根据多个第一平整度数据对柔性屏进行一次校平操作;在完成一次校平操作后,再次获取柔性屏中每个位置对应的一个平整度数据,得到多个第二平整度数据;判断多个第二平整度数据是否均小于或等于第一预设阈值;若是,则完成柔性屏的校平;若否,则根据多个第二平整度数据对柔性屏再进行一次校平操作。以此类推,直至柔性屏的所有区域对应的平整度数据均满足第一预设阈值的要求,以使柔性屏的真题平整度调整至第一预设阈值内。
由上可知,本实施例通过柔性屏的平整度数据与电流变化值的关系,改变磁场层250所产生的磁场力,从而改变磁流体层230中至少部分磁流体的状态,并带动易形变膜层220发生形变,产生目标压力,使得柔性屏在目标压力的作用下发生形变,实现对需要校平区域的校平。本实施例可以对柔性屏的部分区域进行单独校平,并使得校平后柔性屏的整体平整度达到0.02mm内。另外,可以对柔性屏的平整度数据进行监控,并通过报警提示防止柔性屏被压碎,进而在保证了柔性屏的整体平整度的同时,提高了柔性屏的产品良率。
相应的,本申请实施例还提供一种柔性屏的校平方法,请参阅图4,图4是本申请实施例提供的柔性屏的校平方法的流程示意图。其中,该柔性屏可以为OLED柔性屏、MircoLED柔性屏、LED柔性屏等。该柔性屏的校平方法的具体步骤可以如下:
301,获取高度检测装置检测到的柔性屏的多个平整度数据,其中,平整度数据对应位于基准层上的柔性屏的不同位置到基准层的多个高度值。
在本实施例中,当柔性屏放置于基准层上时,基准层和支撑住共同对柔性屏进行支撑,并同时对柔性屏起到固定作用,以防止柔性屏在校平过程中发生偏移而影响校平效果。
磁流体层中的多个磁流体对应的区域设置磁场,可以在磁场力的作用下使磁流体层中的多个磁流体保持微观物理形态。还需要说明的是,电流的大小与磁场强度呈正相关,即电流越大,则磁场强度越强;电流越小,则磁场强度越弱。
磁场层可以包括多个磁场区域,每一磁场区域所产生的磁场力均会对其磁场覆盖范围内的磁流体产生影响。
具体地,在初始电流的作用下,磁场层中的所有磁场区域均可产生初始磁场力,以使磁流体层中的所有磁流体处于第一状态。其中,第一状态可以为磁流体的长轴方向处于水平方向。
为改变磁流体层中磁流体的状态,可以通过改变电流来改变磁场层的磁场强度,即由初始电流改变为目标电流,在目标电流的作用下,磁场层中多个磁场区域中的目标磁场区域产生目标磁场力,以使磁流体层中与目标磁场区域对应的磁流体由第一状态切换至第二状态。其中,第二状态可以为磁流体的长轴方向与水平方向形成夹角,当目标磁场力足够大时,磁流体的长轴方向可以与水平方向垂直。
在目标磁场力的作用下,磁流体层中的至少部分磁流体由第一状态切换至第二状态,并带动易形变膜层发生形变,而易形变膜层发生形变的位置会产生朝向柔性屏的目标压力,柔性屏在目标压力的作用下会发生形变,以使柔性屏的整体平整度调整至第一预设阈值内。
其中,由于目标磁场力是由目标磁场区域所产生的,因此通过目标磁场力而改变为第二状态的至少部分磁流体是设置在对应目标磁场区域内的目标磁流体。而对于未受到目标磁场力影响的其他磁流体则依然保持初始电流作用下的第一状态。可以理解的是,易形变膜层所发生形变的区域与发生状态改变的目标磁流体所在位置相对应,柔性屏所受到的目标压力的区域与易形变膜层发生形变的区域对应,而对于未受到目标压力的区域则依然保持原有状态,从而实现对柔性屏部分区域进行单独校平,无需如相关技术中对整个柔性屏的待校平区域进行全部校平,并可保证恒定的目标压力输出。其中,第一预设阈值可以为0.02mm,相对于相关技术中对柔性屏校平的整体平整度在0.05mm内,本实施例能够对柔性屏实现更加细致的校平操作。
高度检测装置可以为测高仪等。该高度检测装置可以用于检测位于基准层上的柔性屏的不同位置到基准层的多个高度值,以得到柔性屏的多个平整度数据。高度测量装置可以沿位于基准层上的柔性屏的侧边的延伸方向移动,从而检测到柔性屏不同位置对应的多个高度值。
302,从多个平整度数据中选取大于第一预设阈值且小于第二预设阈值的目标平整度数据。
在获取高度测量装置检测到的柔性屏的多个平整度数据;从柔性屏的多个平整度数据中选取大于第一预设阈值且小于第二预设阈值的目标平整度数据;并根据目标平整度数据,从多个磁场区域中确定目标磁场区域,并计算目标磁场区域对应的目标电流变化值。
其中,第一预设阈值可以为0.02mm,第二预设阈值可以为0.2mm,设置第二预设阈值的目的在于如果柔性屏的平整度数据指示其到基准层的高度值过大,则对其进行校平操作会造成柔性屏有破碎的风险,因此设置第二预设阈值对其进行保护。
303,根据目标平整度数据,从磁场层的多个磁场区域中确定目标磁场区域,并计算目标磁场区域对应的目标电流变化值。
通过目标平整度数据可以确定柔性屏需要校平的区域,从而确定柔性屏需要受到目标压力的区域,进而确定目标磁场区域。而目标平整度数据与目标电流变化值存在对应关系,具体地,当目标平整度数据越大,则目标电流变化值越大;目标平整度数据越小,则目标电流变化值越小。
304,根据初始电流和目标电流变化值,确定目标区域对应的目标电流,其中,在目标电流的作用下,目标磁场区域产生目标磁场力。
其中,供电装置用于为磁场层提供电流,如上述初始电流和目标电流。具体地,根据初始电流和目标电流变化值,可以确定目标区域对应的目标电流;处理器可以控制供电装置为目标磁场区域提供目标电流,以使目标磁场区域产生目标磁场力。
305,根据目标磁场力,得到柔性屏的目标压力,并在目标压力的作用下控制柔性屏发生形变,以使柔性屏的整体平整度调整至第一预设阈值内。
所产生的目标磁场力可以控制磁流体层中的目标磁流体发生形变进而带动易形变膜层发生形变,并产生朝向柔性屏的目标压力,柔性屏在目标压力的作用下发生形变,即朝向基准层形变,以使柔性屏的整体平整度调整至第一预设阈值内。可以理解的是,将柔性屏中平整度不满足第一预设阈值内的区域进行调整,能够实现对柔性屏的分区域校平。
在目标磁场力的作用下,磁流体层中的至少部分磁流体由第一状态切换至第二状态,并带动易形变膜层发生形变;易形变膜层发生形变并产生朝向柔性屏的目标压力,柔性屏在所述目标压力的作用下发生形变,以使柔性屏的整体平整度调整至第一预设阈值内。
另外,还可以通过压力检测装置检测柔性屏所受到的目标压力的压力值,通过获取压力检测装置检测到的目标压力的压力值;当目标压力的压力值大于预设压力阈值时,发出报警信息。预设压力阈值可以根据实际情况具体设置,在此不作具体限定。可以理解的是,如果柔性屏受到的目标压力过大,则容易破碎,因此通过预设压力阈值对目标压力进行限制,以防止其发生破碎。发出报警信息的方式可以为语音播放报警信号或者通过指示灯提示。
在接收到报警信息之后,工作人员可以手动停止对柔性屏的校平操作,也可以采取其他处理方式。比如,根据报警提示,控制供电装置为磁场层所提供的电流由目标电流切换至初始电流,从而使磁流体层中的所有磁流体切换至第一状态,易形变膜层不会产生形变,从而无法产生朝向柔性屏的目标压力,而停止对柔性屏的校平操作。当然,也可以控制供电装置停止为磁场层提供电流,使磁流体层中的所有磁流体处于固态胶体,同样可以停止对柔性屏的校平操作。
需要说明的是,如果根据高度测量装置所测量的柔性屏每个位置对应的一个平整度数据所组成的目标平整度数据进行了一次校平操作后,发现柔性屏的部分区域仍无法满足第一预设阈值的要求,则可以对柔性屏进行第二次校平操作,但需重新获取柔性屏的平整度数据。具体地,获取柔性屏中每个位置对应的一个平整度数据,得到多个第一平整度数据,并根据多个第一平整度数据对柔性屏进行一次校平操作;在完成一次校平操作后,再次获取柔性屏中每个位置对应的一个平整度数据,得到多个第二平整度数据;判断多个第二平整度数据是否均小于或等于第一预设阈值;若是,则完成柔性屏的校平;若否,则根据多个第二平整度数据对柔性屏再进行一次校平操作。以此类推,直至柔性屏的所有区域对应的平整度数据均满足第一预设阈值的要求,以使柔性屏的真题平整度调整至第一预设阈值内。
由上可知,本实施例通过获取高度检测装置检测到的柔性屏的多个平整度数据,其中,平整度数据对应位于基准层上的柔性屏的不同位置到基准层的多个高度值,从多个平整度数据中选取大于第一预设阈值且小于第二预设阈值的目标平整度数据,根据目标平整度数据,从磁场层的多个磁场区域中确定目标磁场区域,并计算目标磁场区域对应的目标电流变化值,根据初始电流和目标电流变化值,确定目标区域对应的目标电流,其中,在目标电流的作用下,目标磁场区域产生目标磁场力,根据目标磁场力,得到柔性屏的目标压力,并在目标压力的作用下控制柔性屏发生形变,以使柔性屏的整体平整度调整至第一预设阈值内。本实施例可以对柔性屏的部分区域进行单独校平,并使得校平后柔性屏的整体平整度达到0.02mm内。另外,可以对柔性屏的平整度数据进行监控,并通过报警提示防止柔性屏被压碎,进而在保证了柔性屏的整体平整度的同时,提高了柔性屏的产品良率。
在上述实施例中,对各个实施例的描述都各有侧重,某个实施例中没有详述的部分,可以参见其他实施例的相关描述。
以上对本申请实施例所提供的柔性屏的校平装置和柔性屏的校平方法进行了详细介绍,本文中应用了具体个例对本申请的原理及实施方式进行了阐述,以上实施例的说明只是用于帮助理解本申请的方法及其核心思想;同时,对于本领域的技术人员,依据本申请的思想,在具体实施方式及应用范围上均会有改变之处,综上,本说明书内容不应理解为对本申请的限制。
Claims (10)
1.一种柔性屏的校平装置,其特征在于,包括:
基准层,用于承载所述柔性屏;
易形变膜层,设置在所述柔性屏远离所述基准层一侧,所述易形变膜层在所述基准层的正投影区域覆盖所述柔性屏在所述基准层的正投影区域;
磁流体层,设置在所述易形变膜层远离所述柔性屏一侧,所述磁流体层在所述基准层的正投影区域覆盖所述易形变膜层在所述基准层的正投影区域,所述磁流体层包括多个磁流体;其中,在目标磁场力的作用下,所述磁流体层中的至少部分磁流体由第一状态切换至第二状态,并带动所述易形变膜层发生形变,所述易形变膜层产生朝向所述柔性屏的目标压力,所述柔性屏在所述目标压力的作用下发生形变,以使所述柔性屏的整体平整度调整至第一预设阈值内;
磁场层,所述磁场层设置在所述磁流体层远离所述易形变膜层一侧,所述磁场层包括多个磁场区域;
高度检测装置,所述高度检测装置用于检测位于所述基准层上的所述柔性屏的不同位置到所述基准层的多个高度值,以得到所述柔性屏的多个平整度数据;
处理器,所述处理器与所述高度检测装置电连接,所述处理器用于:获取所述高度检测装置检测到的所述柔性屏的多个平整度数据;从所述柔性屏的多个平整度数据中选取大于所述第一预设阈值且小于第二预设阈值的目标平整度数据;根据所述目标平整度数据,从所述多个磁场区域中确定目标磁场区域,并计算所述目标磁场区域对应的目标电流变化值;
供电装置,所述供电装置与所述处理器电连接,所述供电装置用于为所述磁场层提供电流,所述处理器还用于:根据初始电流和所述目标电流变化值,确定所述目标磁场区域对应的目标电流;控制所述供电装置为所述目标磁场区域提供所述目标电流,以使所述目标磁场区域产生所述目标磁场力。
2.根据权利要求1所述的柔性屏的校平装置,其特征在于,在所述初始电流的作用下,所述磁场层中所有磁场区域产生初始磁场力,以使所述磁流体层中的所有磁流体处于所述第一状态;
在所述目标电流的作用下,所述目标磁场区域产生所述目标磁场力,以使所述磁流体层中与所述目标磁场区域对应的磁流体由所述第一状态切换至所述第二状态。
3.根据权利要求1或2任一项所述的柔性屏的校平装置,其特征在于,所述校平装置还包括压力检测装置,所述压力检测装置用于检测所述柔性屏所受到的所述目标压力的压力值,所述压力检测装置与所述处理器电连接,所述处理器还用于:
获取所述压力检测装置检测到的所述目标压力的压力值;
当所述目标压力的压力值大于预设压力阈值时,发出报警信息。
4.根据权利要求3所述的柔性屏的校平装置,其特征在于,所述处理器还用于:
根据所述报警信息,控制所述供电装置为所述磁场层所提供的电流由所述目标电流切换至所述初始电流或控制所述供电装置停止为所述磁场层提供电流。
5.根据权利要求1或2任一项所述的柔性屏的校平装置,其特征在于,所述处理器还用于:
获取所述柔性屏中每个位置对应的一个平整度数据,得到多个第一平整度数据,并根据所述多个第一平整度数据对所述柔性屏进行一次校平操作;
在完成一次校平操作后,再次获取所述柔性屏中每个位置对应的一个平整度数据,得到多个第二平整度数据;
判断所述多个第二平整度数据是否均小于或等于所述第一预设阈值;
若是,则完成对所述柔性屏的校平;
若否,则根据所述多个第二平整度数据对所述柔性屏再进行一次校平操作。
6.一种柔性屏的校平方法,其特征在于,采用权利要求1至5任一所述的柔性屏的校平装置进行,所述柔性屏的校正方法包括:
获取高度检测装置检测到的所述柔性屏的多个平整度数据,其中,所述平整度数据对应位于基准层上的所述柔性屏的不同位置到所述基准层的多个高度值;
从所述多个平整度数据中选取大于第一预设阈值且小于第二预设阈值的目标平整度数据;
根据所述目标平整度数据,从磁场层的多个磁场区域中确定目标磁场区域,并计算所述目标磁场区域对应的目标电流变化值;
根据初始电流和所述目标电流变化值,确定所述目标磁场区域对应的目标电流,其中,在所述目标电流的作用下,所述目标磁场区域产生目标磁场力;
根据所述目标磁场力,得到所述柔性屏的目标压力,并在所述目标压力的作用下控制所述柔性屏发生形变,以使所述柔性屏的整体平整度调整至第一预设阈值内。
7.根据权利要求6所述的柔性屏的校平方法,其特征在于,根据所述目标磁场力,得到所述柔性屏的目标压力,并在所述目标压力的作用下控制所述柔性屏发生形变,以使所述柔性屏的整体平整度调整至第一预设阈值内,包括:
在所述目标磁场力的作用下,磁流体层中的至少部分磁流体由第一状态切换至第二状态,并带动易形变膜层发生形变;
所述易形变膜层发生形变并产生朝向所述柔性屏的所述目标压力,所述柔性屏在所述目标压力的作用下发生形变,以使所述柔性屏的整体平整度调整至第一预设阈值内。
8.根据权利要求6所述的柔性屏的校平方法,其特征在于,所述方法还包括:
获取压力检测装置检测到的所述目标压力的压力值;
当所述目标压力的压力值大于预设压力阈值时,发出报警信息。
9.根据权利要求8所述的柔性屏的校平方法,其特征在于,在当所述目标压力的压力值大于预设压力阈值时,发出报警信息之后,所述方法还包括:
根据所述报警信息,控制所述供电装置为所述磁场层所提供的电流由所述目标电流切换至所述初始电流或控制所述供电装置停止为所述磁场层提供电流。
10.根据权利要求6所述的柔性屏的校平方法,其特征在于,所述方法还包括:
获取所述柔性屏中每个位置对应的一个平整度数据,得到多个第一平整度数据,并根据所述多个第一平整度数据对所述柔性屏进行一次校平操作;
在完成一次校平操作后,再次获取所述柔性屏中每个位置对应的一个平整度数据,得到多个第二平整度数据;
判断所述多个第二平整度数据是否均小于或等于所述第一预设阈值;
若是,则完成对所述柔性屏的校平;
若否,则根据所述多个第二平整度数据对所述柔性屏再进行一次校平操作。
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