CN114779535A - 显示面板和显示装置 - Google Patents

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CN114779535A CN202210451994.3A CN202210451994A CN114779535A CN 114779535 A CN114779535 A CN 114779535A CN 202210451994 A CN202210451994 A CN 202210451994A CN 114779535 A CN114779535 A CN 114779535A
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魏雄周
黎敏
庞家齐
彭元鸿
万彬
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    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
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    • G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
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Abstract

本发明公开一种显示面板和显示装置，显示面板包括对盒成形的阵列基板和彩膜基板；彩膜基板包括第一衬底和位于第一衬底靠近阵列基板一侧的多个第一主隔垫物，阵列基板包括第二衬底和位于第二衬底靠近彩膜基板一侧的多个第二主隔垫物，第一主隔垫物和第二主隔垫物在对盒方向上对应设置；第一衬底包括阵列分布的多个子像素区和多行遮光区，相邻两行遮光区之间分布有至少一行子像素区；其中，在第一衬底靠近阵列基板的一侧设有辅隔垫物，第一主隔垫物和辅隔垫物在第一衬底上的正投影均落在遮光区内，辅隔垫物的底端距第一衬底的间距小于等于第一主隔垫物的底端距第一衬底的间距；或者，在第二衬底靠近阵列基板的一侧设有辅隔垫物。

Description

显示面板和显示装置
技术领域
本发明一般涉及显示技术领域，具体涉及一种显示面板和显示装置。
背景技术
薄膜晶体管液晶显示装置(Thin Film TransistorLiduid Crystal Display，简称TFT-LCD)以其体积小、功耗低、无辐射、制造成本相对较低等优点占据了显示面板的市场。显示面板包括对盒设置的阵列基板、彩膜基板以及位于阵列基板和彩膜基板之间的液晶层。液晶层厚度(即盒厚)主要通过形成在阵列基板和彩膜基板之间的隔垫物(PhotoSpacer，简称PS)来控制，隔垫物可以形成在阵列基板上，也可以形成在彩膜基板上。
隔垫物分为主隔垫物(Main PS)和辅隔垫物(Sub PS)，主隔垫物的高度大于辅隔垫物的高度，主隔垫物会有一定的压缩量，支撑盒厚，处于压缩状态。当液晶面板受过大外力作用时，辅隔垫物才被压缩，起到辅助支撑作用。
通常情况下，为了优化PS造成亮度不均匀和LCD的强度，采用XPS设计方法，在阵列基板和彩膜基板上各自做一层Main PS，并将两个基板上的Main PS十字交叉设置。
与此同时，高刷新率显示产品也在逐渐普及，众多240Hz、360Hz高刷产品上市，甚至480Hz高刷产品也即将推出，可带来更丝滑流畅的视觉体验。而高刷产品的盒厚与灰阶响应时间有关系，液晶量一定时，灰阶响应时间越快，刷新率越高，盒厚越低，辅隔垫物的高度越小。例如刷新率240Hz，盒厚2.4μm，Sub PS的高度为2.67μm；刷新率340Hz，盒厚2.2μm，SubPS的高度为0.84μm；刷新率480Hz，盒厚1.6μm，Sub PS的高度为0.39μm。
由于刷新率越高，Sub PS的高度越小，容易出现Sub PS形貌变形或者缺失的问题，甚至出现Sub PS无法实现的问题。
发明内容
鉴于现有技术中的上述缺陷或不足，期望提供一种显示面板和显示装置。
第一方面，本发明实施例提供一种显示面板，包括对盒成形的阵列基板和彩膜基板；
所述彩膜基板包括第一衬底和位于所述第一衬底靠近所述阵列基板一侧的多个第一主隔垫物和多个辅隔垫物，所述阵列基板包括第二衬底和位于所述第二衬底靠近所述彩膜基板一侧的多个第二主隔垫物，所述第一主隔垫物和所述第二主隔垫物在对盒方向上对应设置；
所述第一衬底包括阵列分布的多个子像素区和多行遮光区，相邻两行所述遮光区之间分布有至少一行所述子像素区；其中，
所述第一主隔垫物和所述辅隔垫物在所述第一衬底上的正投影均落在所述遮光区内，所述辅隔垫物的底端距所述第一衬底的间距小于等于所述第一主隔垫物的底端距所述第一衬底的间距。
可选地，所述第一衬底靠近所述阵列基板的一侧依次层叠设有黑色遮光层、彩色光阻层和覆盖层，所述黑色遮光层位于所述遮光区，所述彩色光阻层具有多个露出所述黑色遮光层的开口；
所述覆盖层远离所述第一衬底的表面设有多个第一凹槽，多个所述第一凹槽与多个所述开口在垂直于所述第一衬底的方向上对应设置，且所述第一凹槽与所述开口在所述第一衬底的正投影至少部分重叠；
所述辅隔垫物在所述第一衬底的正投影与所述第一凹槽在所述第一衬底的正投影至少部分重叠。
可选地，所述第一凹槽在所述第一衬底的正投影落在所述开口在所述第一衬底的正投影范围内；和/或，
所述辅隔垫物在所述第一衬底的正投影落在所述第一凹槽在所述第一衬底的正投影范围内。
可选地，所述第一衬底靠近所述阵列基板的一侧依次层叠设有黑色遮光层、彩色光阻层和覆盖层，所述黑色遮光层位于所述遮光区，所述彩色光阻层覆盖所述黑色遮光层；
所述覆盖层远离所述第一衬底的表面设有多个第二凹槽，所述第二凹槽在所述第一衬底上的正投影落在所述遮光区内；
所述辅隔垫物在所述第一衬底的正投影与所述第二凹槽在所述第一衬底的正投影至少部分重叠。
可选地，所述辅隔垫物在所述第一衬底的正投影落在所述第二凹槽在所述第一衬底的正投影范围内。
可选地，所述彩色光阻层包括红色光阻、绿色光阻和蓝色光阻，所述红色光阻、所述彩色光阻和所述绿色光阻分别呈列状排布；和/或，
所述彩色光阻层包括红色光阻、绿色光阻和蓝色光阻，所述红色光阻、所述绿色光阻或所述蓝色光阻中的任一覆盖所述遮光区。
可选地，所述第一衬底靠近所述阵列基板的一侧设有彩色光阻层和所述黑色遮光层，所述黑色遮光层位于所述子像素区，所述黑色遮光层位于所述遮光区；
所述彩色光阻层远离所述第一衬底的一侧设有覆盖层，所述覆盖层覆盖所述黑色遮光层；
所述黑色遮光层远离所述第一衬底的表面设有多个第三凹槽，所述覆盖层远离所述第一衬底的表面设有多个第四凹槽，多个所述第四凹槽与多个所述第三凹槽在垂直于所述第一衬底的方向上对应设置，且所述第四凹槽与所述第三凹槽在所述第一衬底的正投影至少部分重叠；
所述辅隔垫物在所述第一衬底的正投影与所述第四凹槽在所述第一衬底的正投影至少部分重叠。
可选地，所述第四凹槽在所述第一衬底的正投影落在所述开口在所述第三衬底的正投影范围内；和/或，
所述辅隔垫物在所述第一衬底的正投影落在所述第四凹槽在所述第一衬底的正投影范围内。
可选地，所述第一衬底靠近所述阵列基板的一侧设有彩色光阻层和所述黑色遮光层，所述黑色遮光层位于所述子像素区，所述黑色遮光层位于所述遮光区；
所述彩色光阻层远离所述第一衬底的一侧设有覆盖层，所述覆盖层覆盖所述黑色遮光层；
所述覆盖层远离所述第一衬底的表面设有多个第五凹槽，所述辅隔垫物在所述第一衬底的正投影与所述第五凹槽在所述第一衬底的正投影至少部分重叠。
可选地，所述辅隔垫物在所述第一衬底的正投影落在所述第五凹槽在所述第一衬底的正投影范围内。
可选地，所述第一衬底靠近所述阵列基板的一侧设有彩色光阻层和所述黑色遮光层，所述黑色遮光层位于所述子像素区，所述黑色遮光层位于所述遮光区；
所述彩色光阻层远离所述第一衬底的一侧设有覆盖层，所述覆盖层覆盖所述黑色遮光层；其中，
所述黑色遮光层远离所述第一衬底的端部较所述彩色光阻层远离所述第一衬底的端部靠近所述第一衬底，所述辅隔垫物和所述第一主隔垫物均设置在所述覆盖层远离第一衬底的一侧；或者，
在垂直于所述第一衬底的方向上，所述黑色遮光层的厚度大于所述彩色光阻的厚度，所述覆盖层正对所述黑色遮光层的部分高于所述覆盖层正对所述子像素区的部分，所述覆盖层正对所述黑色遮光层的部分复用为所述辅隔物垫。
第二方面，本发明提供一种显示面板，包括对盒成形的阵列基板和彩膜基板；
所述彩膜基板包括第一衬底和位于所述第一衬底靠近所述阵列基板一侧的多个第一主隔垫物；
所述阵列基板包括依次层叠设置的第二衬底、薄膜晶体管层、像素电极层和平坦层，所述平坦层靠近所述彩膜基板一侧设有多个第二主隔垫物和多个辅隔垫物，所述第一主隔垫物和所述第二主隔垫物在对盒方向上对应设置；
所述第一衬底包括阵列分布的多个子像素区和位于相邻两行所述子像素区之间的遮光区；其中，
所述第一主隔垫物和所述辅隔垫物在所述第一衬底上的正投影均落在所述遮光区内。
可选地，所述平坦层远离所述第二衬底的一侧还设有钝化层，所述第二钝化层远离所述第二衬底的表面设有多个第六凹槽，所述辅隔垫物在所述第二衬底的正投影与所述第六凹槽在所述第二衬底的正投影至少部分重叠。
可选地，所述辅隔垫物在所述第二衬底的正投影落在所述第六凹槽在所述第二衬底的正投影范围内。
第三方面，本发明实施例提供一种显示装置，包括如上所述的显示面板。
本发明的实施例提供的技术方案可以包括以下有益效果：
本发明实施例提供的显示面板和显示装置，将辅隔垫物设置在彩膜基板的遮光区内，辅隔垫物和彩膜基板上的第一主隔垫物不在同一平面内，利用段差使得辅隔垫物能够良好成形，有利于高刷显示产品中辅隔垫物的成形；或者，将辅隔垫物和第一主隔垫物设置在同一平面内，辅隔垫物的底端较像素区的顶部靠近第一衬底，利用段差使得辅隔垫物能够良好成形，有利于高刷显示产品中辅隔垫物的成形；或者，将辅隔垫物设置在阵列基板侧，也有利于高刷显示产品中辅隔垫物的成形。
附图说明
通过阅读参照以下附图所作的对非限制性实施例所作的详细描述，本发明的其它特征、目的和优点将会变得更明显：
图1为现有技术中辅隔垫物形貌缺失的结构示意图；
图2为本发明实施例提供的彩膜基板的一种结构示意图；
图3为沿图2中A-A线的截面示意图；
图4为沿图2中B-B线的一种截面示意图；
图5为沿图2中B-B线的另一种截面示意图；
图6为本发明实施例提供的彩膜基板的另一种结构示意图；
图7为沿图6中C-C线的截面示意图；
图8为沿图6中D-D线的一种截面示意图；
图9为沿图6中D-D线的另一种截面示意图；
图10为本发明实施例提供的彩膜基板的又一种结构示意图；
图11为沿图10中E-E线的一种截面示意图；
图12为沿图10中E-E线的另一种截面示意图；
图13为沿图10中E-E线的有一种截面示意图；
图14为本发明实施例提供的阵列基板的一种结构示意图；
图15为本发明实施例提供的阵列基板的另一种结构示意图。
具体实施方式
下面结合附图和实施例对本发明作进一步的详细说明。可以理解的是，此处所描述的具体实施例仅仅用于解释相关发明，而非对该发明的限定。另外还需要说明的是，为了便于描述，附图中仅示出了与发明相关的部分。
需要说明的是，在不冲突的情况下，本发明中的实施例及实施例中的特征可以相互组合。下面将参考附图并结合实施例来详细说明本发明。
在本发明的描述中，需要理解的是，术语“中心”、“纵向”、“横向”、“长度”、“宽度”、“高度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”、“顺时针”、“逆时针”、“轴向”、“径向”、“周向”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本发明和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本发明的限制。
本发明采用第一、第二等来描述各种信息，但这些信息不应局限于这些术语。这些术语仅用来将同一类型的信息彼此区分开。例如在不脱离本发明范围的情况下，第一信息也可以被称为第二信息，类似地，第二信息也可以被称为第一信息。
在本发明的描述中，需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，还可以是两个元件内部的连通，可以是无线连接，也可以是有线连接。对于本领域的普通技术人员而言，可以具体情况理解上述术语在本发明中的具体含义。
目前高刷新率显示产品逐渐普及，随着众多240Hz、360Hz高刷产品的上市，甚至480Hz高刷产品也即将推出，可带来更丝滑流畅的视觉体验。而高刷产品的盒厚与灰阶响应时间有关系，液晶量一定时，灰阶响应时间越快，刷新率越高，盒厚越低，辅隔垫物30的高度越小。例如刷新率240Hz，盒厚2.4μm，Sub PS的高度为2.67μm；刷新率340Hz，盒厚2.2μm，SubPS的高度为0.84μm；刷新率480Hz，盒厚1.6μm，Sub PS的高度为0.39μm。可见，刷新率越高，液晶量一定时，盒厚越小。
现有技术中，在XPS设计的基础上，通常将辅隔垫物(Sub PS)设计在彩膜基板侧，辅隔垫物(Sub PS)和主隔垫物(Main PS)设计在同一平面上。而刷新率越高，盒厚越小，会导致Sub PS的高度越小，容易出现Sub PS形貌变形或者缺失的问题，甚至出现Sub PS无法实现的问题。
参照图1，ab线所涉范围内的主隔垫物、辅隔垫物的结构可详见图1中的曲线图，图1的曲线图中存在辅隔垫物(Sub PS)形貌缺失的问题，即图1中“Sub PS变形”所指代的部位。
请参考图2或图6，本发明实施例提供一种显示面板，包括对盒成形的彩膜基板10和阵列基板；
彩膜基板10包括第一衬底100和位于第一衬底100靠近阵列基板一侧的多个第一主隔垫物101和多个辅隔垫物30，阵列基板包括第二衬底和位于第二衬底靠近彩膜基板10一侧的多个第二主隔垫物，第一主隔垫物101和第二主隔垫物在对盒方向上对应设置；
第一衬底100包括阵列分布的多个子像素区和位于相邻两行子像素区之间的遮光区；其中，
第一主隔垫物101和辅隔垫物30在第一衬底100上的正投影均落在遮光区内，辅隔垫物30的底端较第一主隔垫物101的底端靠近第一衬底100。
可以理解的是，本发明实施例中，阵列基板具有多条栅线和多条数据线，多条栅线沿横向分布，多条数据线沿纵向分布；在对盒方向上，彩膜基板10上的遮光区与阵列基板上的栅线正对设置；阵列分布的多个子像素区构成显示区。
为了优化隔垫物造成亮度不均匀和LCD的强度，采用XPS设计方法，优选第一主隔垫物沿着栅线延伸的方向布置，第二主隔垫物沿着数据线延伸的方向分布；在平行于第一衬底(或第二衬底)的方向上，多个第一主隔垫物和多个第二主隔垫物一一对应相接触，第一主隔垫物和第二主隔垫物之间相互垂直，如此设计能够保证第一主隔垫物和第二主隔垫物之间接触的可靠性。
本实施例中辅隔垫物30设计在彩膜基板10侧，将辅隔垫物30和第一主隔垫物101正对遮光区设置，且辅隔垫物30和第一主隔垫物101设计在两个不同的平面内。具体的，相对于第一衬底100而言，辅隔垫物30较第一主隔垫物101靠近第一衬底100，从而在垂直于第一衬底100的方向上确保辅隔垫物30的成形高度，确保高刷产品的液晶盒厚比较小的情况下，辅隔垫物30能够成形。
作为一种可选的实施方式，参照图2至图4，或者参照图6至图8，
第一衬底100靠近阵列基板的一侧依次层叠设有黑色遮光层104、彩色光阻层103和覆盖层102，黑色遮光层104位于遮光区，彩色光阻层103具有露出黑色遮光层104的开口；
覆盖层102远离第一衬底100的表面设有多个第一凹槽105，多个第一凹槽105与多个开口在垂直于第一衬底100的方向上对应设置，且第一凹槽105与开口在第一衬底的正投影至少部分重叠；辅隔垫物30在第一衬底100的正投影与第一凹槽105在第一衬底的正投影至少部分重叠。
具体的，第一凹槽105在第一衬底100的正投影落在开口在第一衬底的正投影范围内；和/或，
辅隔垫物30在第一衬底100的正投影落在第一凹槽105在第一衬底100的正投影范围内，在覆盖层102除第一凹槽105之外的区域内设有第一主隔垫物101。
该实施例中，彩色光阻层103覆盖黑色遮光层104且具有露出黑色遮光层104的开口，覆盖层102覆盖彩色光阻层103和开口后，形成正对开口的第一凹槽105，如此覆盖层103正对第一凹槽105的部分与覆盖层103正对像素区的部分形成段差，利用该段差在第一凹槽105内形成辅隔垫物，从而利于辅隔垫物30的成形，第一主隔垫物101形成在覆盖层102除第一凹槽105之外的区域内，使得辅隔垫物30相对于第一主隔垫物具有一定的段差，如此设计确保辅隔垫物的成形不受高刷产品的盒厚的影响。
若高刷产品的刷新率为480Hz，可选的，黑色遮光层104的厚度为0.99μm～2.43μm，覆盖层102的厚度为1.1μm～1.5μm；
第一凹槽105的深度为0.5μm～0.7μm，辅隔垫物30的高度为0.9μm～1.2μm；
辅隔垫物30远离第一衬底100的端部与第一主隔垫物101远离第一衬底100的端部之间的段差为0.25μm～0.45μm；
第二主隔垫物的高度与第一主隔垫物的高度相同。
如此设计，既能够确保第一主隔垫物和第二主隔垫物之间的接触的可靠性，又能确保高刷产品中辅隔垫物的有效成形。
需要说明的是，彩膜基板10的第一衬底100朝向阵列基板的一侧设有黑矩阵(Black Matrix，简称BM)，一般黑矩阵包括位于相邻行子像素之间的部分、位于相邻列子像素之间的部分以及位于像素区周边的部分；
在本发明实施例中，考虑子像素区的大小、发光显示的效果，参照图2，优选相邻列子像素区之间紧邻设计，不通过黑矩阵隔开，黑矩阵包括位于相邻行子像素之间的黑色遮光层。
作为一种可选的实施方式，参照图2、图3和图5，或者参照图6、图7和图9，第一衬底100靠近阵列基板的一侧依次层叠设有黑色遮光层104、彩色光阻层103和覆盖层102，黑色遮光层104位于遮光区，彩色光阻层103覆盖黑色遮光层；
覆盖层102远离第一衬底100的表面设有多个第二凹槽106，第二凹槽106在第一衬底100上的正投影落在遮光区内；
辅隔垫物30在第一衬底100的正投影与第二凹槽106在第一衬底的正投影至少部分重叠。
具体的，辅隔垫物30在第一衬底100的正投影落在第二凹槽106在第一衬底的正投影范围内，在覆盖层102除第二凹槽106之外的区域内设有第一主隔垫物101。
该实施例利用覆盖层上的第二凹槽106来形成辅隔垫物，确保辅隔垫物的成形不受高刷产品的液晶盒厚的影响。
若高刷产品的刷新率为480Hz，可选的，黑色遮光层的厚度为0.99μm～2.43μm，覆盖层的厚度为1.1μm～1.5μm；
第二凹槽的深度为0.5μm～0.7μm，辅隔垫物的高度为0.9～1.2um；
辅隔垫物远离第一衬底的端部与第一主隔垫物远离第一衬底的端部之间的段差为0.25μm～0.45μm；
第二主隔垫物的高度与第一主隔垫物的高度相同。
如此设计，既能够确保第一主隔垫物和第二主隔垫物之间的接触的可靠性，又能确保高刷产品中辅隔垫物的有效成形。
进一步地，彩色光阻层103包括红色(Red)光阻、绿色(Green)光阻和蓝色(Blue)光阻，红色光阻、所述彩色光阻和所述绿色光阻分别呈列状排布。。
本实施例中，彩色光阻层103除了覆盖各个子像素区，还覆盖黑色遮光层104。例如：参照图4或图8，彩色光阻具有露出黑色遮光层的开口，利用红色光阻、绿色光阻和蓝色光阻的构图工艺同时形成开口。
参照图2所示的彩膜基板，自左至右彩色光阻依次为蓝色光阻、绿色光阻、红色光阻、蓝色光阻、绿色光阻、红色光阻和蓝色光阻，即蓝色光阻、绿色光阻、红色光阻分别呈列状设计，以一列红色光阻为例，一列红色光阻覆盖一列子像素区，且覆盖位于一列中的相邻两个子像素区之间的遮光区。
作为一种可选的实施方式，参照图6所示的彩膜基板，彩色光阻层103包括红色光阻、绿色光阻和蓝色光阻，红色光阻、绿色光阻或蓝色光阻中的任一覆盖遮光区。
例如，红色光阻整面设计，绿色光阻、蓝色光阻均呈岛状设计，红色光阻整面设计是指红色光阻除了覆盖红色子像素区，红色光阻还覆盖遮光区；或者，蓝色光阻整面设计，绿色光阻、红色光阻均呈岛状设计，蓝色光阻整面设计是指蓝色光阻除了覆盖蓝色子像素区，蓝色光阻还覆盖遮光区；或者，绿色光阻整面覆盖，红色光阻、蓝色光阻均呈岛状设计，绿色光阻整面设计是指绿色光阻除了覆盖绿色子像素区，绿色光阻还覆盖遮光区。图6中优选蓝色光阻整面设计的结构；或者，参照图5或图9，彩色光阻整体覆盖黑色遮光层，例如蓝色光阻覆盖黑色遮光层。
请参照图10，本发明实施例还提供一种显示面板，包括对盒成形的彩膜基板和阵列基板；
彩膜基板包括第一衬底和位于第一衬底靠近阵列基板一侧的多个第一主隔垫物101和多个辅隔垫物30，阵列基板包括第二衬底和位于第二衬底靠近彩膜基板10一侧的多个第二主隔垫物，第一主隔垫物101和第二主隔垫物在对盒方向上一一对应相接触；
第一衬底100包括阵列分布的多个子像素区和位于相邻两行子像素区之间的遮光区；其中，
第一主隔垫物和辅隔垫物在第一衬底上的正投影均落在遮光区内，辅隔垫物的底端距第一衬底的间距小于等于第一主隔垫物的底端距第二衬底的间距。
作为一种可选的实施方式，第一衬底100靠近阵列基板的一侧设有彩色光阻层103和黑色遮光层104，彩色光阻层103位于子像素区，黑色遮光层104位于遮光区；
彩色光阻层103远离第一衬底的一侧设有覆盖层102，覆盖层102还覆盖黑色遮光层103；
参照图10和图11，黑色遮光层104远离第一衬底100的表面设有多个第三凹槽，覆盖层102远离第一衬底的表面设有多个第四凹槽107，多个第四凹槽107与多个第三凹槽在垂直于第一衬底的方向上对应设置，且第四凹槽与第三凹槽在第一衬底的正投影至少部分重叠；
辅隔垫物30在第一衬底100的正投影与第四凹槽107在第一衬底的正投影至少部分重叠。
具体的，第四凹槽107在第一衬底的正投影落在开口在第三衬底的正投影范围内；和/或，
辅隔垫物30在第一衬底100的正投影落在第四凹槽107在第一衬底的正投影范围内，覆盖层102除第四凹槽之外的区域内设有第一主隔垫物101。
又或者，参照图10和图12，覆盖层102远离第一衬底100的表面设有多个第五凹槽108，辅隔垫物30在第一衬底的正投影与第五凹槽108在第一衬底的正投影至少部分重叠。
具体的，辅隔垫物30在第一衬底100的正投影落在第五凹槽108在第一衬底100的正投影范围内，覆盖层102除第五凹槽108之外的区域内设有第一主隔垫物101。
又或者，参照图10和图13，黑色遮光层104远离第一衬底100的端部较彩色光阻远离第一衬底100的端部靠近第一衬底100，相应的覆盖层正对遮光区的部分与覆盖层正对显示区(显示区为各个子像素区)的部分之间形成一定的段差，辅隔垫物和第一主隔垫物均设置在覆盖层远离第一衬底的一侧，且辅隔垫物和第一主隔垫物正对遮光区设置，利用遮光区和子像素区之间的段差可以形成一定高度的辅隔垫物，有利于辅隔垫物的成形。
其中，彩色光阻包括红色光阻、蓝色光阻和绿色光阻。本实施例中红色光阻、蓝色光阻和绿色光阻分别呈岛状设计，在黑色遮光层上形成第三凹槽，覆盖层在对应第三凹槽的部位形成第四凹槽，如此利用第四凹槽来设计辅隔垫物；或者，直接在覆盖层上形成第五凹槽，确保辅隔垫物的成形不受高刷产品的液晶盒厚的影响；或者，利用覆盖层正对遮光区的部分与覆盖层正对子像素区的部分之间的段差，直接在覆盖层上形成辅隔垫物，确保辅隔垫物的成形不受高刷产品的液晶盒厚的影响。
作为一种可选的实施方式，在第一衬底靠近阵列基板的一侧还层叠设有彩色光阻层和覆盖层，覆盖层位于彩色光阻层远离第一衬底的一侧；
彩色光阻层包括彩色光阻和位于遮光区内的黑色遮光层，彩色光阻位于子像素区内；其中，
在垂直于第一衬底的方向上，黑色遮光层的厚度大于彩色光阻的厚度，覆盖层正对黑色遮光层的部分高于覆盖层正对子像素区的部分，覆盖层正对黑色遮光层的部分复用为辅隔物垫。
在覆盖层完成之后，由于栅线上的黑色遮光层(Gate BM)与像素区内的段差有0.25μm，相应的，覆盖层正对遮光区的部分高于覆盖层正对子像素区的部分，可利用此段差当做辅隔垫物，分别在彩膜基板侧形成第一主隔垫物和在阵列基板侧形成第二主隔垫物即可。
本发明实施例还提供一种显示面板，包括对盒成形的彩膜基板和阵列基板20；
彩膜基板包括第一衬底和位于第一衬底靠近阵列基板20一侧的多个第一主隔垫物；
阵列基板20包括依次层叠设置的第二衬底200、薄膜晶体管层201、像素电极层202和平坦层203，平坦层203靠近彩膜基板一侧设有多个第二主隔垫物204和多个辅隔垫物30，第一主隔垫物和第二主隔垫物204在对盒方向上对应设置；
第一衬底包括阵列分布的多个子像素区和位于相邻两行子像素区之间的遮光区；其中，
第一主隔垫物和辅隔垫物30在第一衬底上的正投影均落在遮光区内。
该实施例中，辅隔垫物30设计在阵列基板侧，彩膜基板侧的第一主隔垫物和阵列基板侧的第二主隔垫物在对盒方向上一一对应相接触，第一主隔垫物和第二主隔垫物之间相互垂直，如此设计能够保证第一主隔垫物和第二主隔垫物之间接触的可靠性。可在平坦层上形成钝化层，通过沉积、干刻形成多个凸起来作为辅隔物垫30，厚度为0.25μm～0.45μm，确保辅隔垫物的成形不受高刷产品的盒厚的影响。
进一步地，平坦层远离第二衬底200的一侧还设有钝化层205，第二钝化层205远离第二衬底200的表面设有多个第六凹槽206，辅隔垫物30在第二衬底200的正投影与第六凹槽206在第二衬底的正投影至少部分重叠。
具体的，辅隔垫物30在第二衬底200的正投影落在第六凹槽206在第二衬底200的正投影范围内，钝化层205除第六凹槽206之外的区域内设有第二主隔垫物204。
具体的，在平坦层上形成钝化层205，通过刻蚀形成第六凹槽206，第六凹槽206的深度优选为0.25μm～0.45μm；在第六凹槽206内形成辅隔垫物，相应的辅隔垫物包括位于第六凹槽206内的部分和位于第六凹槽206外的部分，在钝化层205处第六凹槽206之外的区域内设置第二主隔垫物，使得辅隔垫物相对于第二主隔垫物具有一定的段差，从而确保辅隔垫物的成形不受高刷产品的盒厚的影响。
本发明的实施例还提供一种显示装置，包括上述显示面板。
本发明实施例还提供一种显示面板的制备方法，包括：
制作彩膜基板，彩膜基板包括第一衬底和形成在第一衬底一侧的第一主隔垫物多个辅隔垫物，第一衬底包括阵列分布的多个子像素区和位于相邻两行子像素区之间的遮光区；
制作阵列基板，阵列基板包括第二衬底和形成在第二衬底一侧的第二主隔垫物，第一主隔垫物和第二主隔垫物在对盒方向上一一对应相接触；
将彩膜基板与阵列基板相对设置；其中，
第一主隔垫物和辅隔垫物在第一衬底上的正投影均落在遮光区内，辅隔垫物的底端距第一衬底的间距小于等于第一主隔垫物的底端距第二衬底的间距。
例如，针对图2至图4所示的显示面板，或者图6至图8所示的显示面板，制备彩膜基板时，在第一衬底靠近阵列基板的一侧依次形成黑色遮光层、彩色光阻层(红色光阻、蓝色光阻和绿色光阻)和覆盖层，彩色光阻层具有露出黑色遮光层的开口，利用形成红色光阻、蓝色光阻和绿色光阻的构图工艺同时形成露出黑色遮光层的开口，如此不会增加工艺流程和掩膜数量；
接着进行一次构图工艺，在第一凹槽内形成辅隔垫物，在覆盖层除第一凹槽之外的区域内形成第一主隔垫物。
例如，针对图2、图3和图5所示的显示面板，或者图6、图7和图9所示的显示面板，制备彩膜基板时，在第一衬底靠近阵列基板的一侧依次形成黑色遮光层、彩色光阻层(红色光阻、蓝色光阻和绿色光阻)和覆盖层，彩色光阻层覆盖黑色遮光层，
接着进行一次构图工艺，在第二凹槽内形成辅隔垫物，在覆盖层除第一凹槽之外的区域内形成第一主隔垫物。
例如，针对图10和图11所示的显示面板，制备彩膜基板时，在第一衬底上形成黑色遮光层和彩色光阻层，黑色遮光层位于遮光区，彩色光阻层位于子像素区；然后在彩色光阻层上形成覆盖涂层，利用一次构图工艺(涂胶、掩膜、曝光、显影及刻蚀)形成具有第四凹槽的覆盖层；
接着进行一次构图工艺，在第四凹槽内形成辅隔垫物，在覆盖层除第四凹槽之外的区域内形成第一主隔垫物。
例如，针对图10和图12所示的显示面板，制备彩膜基板时，第一衬底上形成黑色遮光层和彩色光阻层，黑色遮光层位于遮光区，彩色光阻层位于子像素区；
然后在彩色光阻层靠近阵列基板的一侧形成覆盖涂层，利用一次构图工艺(涂胶、掩膜、曝光、显影及刻蚀)形成具有第五凹槽的覆盖层，覆盖层还覆盖黑色遮光层；
接着进行一次构图工艺，在第五凹槽内形成辅隔垫物，在覆盖层除第五凹槽之外的区域内形成第一主隔垫物。
例如，针对图10和图13所示的显示面板，制备彩膜基板时，第一衬底上形成黑色遮光层和彩色光阻层，黑色遮光层位于遮光区，彩色光阻层位于子像素区，黑色遮光层的厚度低于彩色光阻层的厚度；
然后在彩色光阻层靠近阵列基板的一侧形成覆盖层，覆盖层还覆盖黑色遮光层，由于黑色遮光层的厚度低于彩色光阻层的厚度，相应的，覆盖层正对遮光区的部分与覆盖层正对子像素区的部分形成段差；
在覆盖层正对遮光区的部分形成辅隔垫物和第一主隔垫物。
本发明实施例还提供一种显示面板的制备方法，包括：
制作彩膜基板，彩膜基板包括第一衬底和形成在第一衬底一侧的第一主隔垫物，第一衬底包括阵列分布的多个子像素区和位于相邻两行子像素区之间的遮光区；
制作阵列基板，阵列基板包括第二衬底盒形成在第二衬底一侧的第二主隔垫物和多个辅隔垫物，第一主隔垫物和第二主隔垫物在对盒方向上一一对应相接触；
将彩膜基板与阵列基板相对设置；其中，
第一主隔垫物和辅隔垫物在第一衬底上的正投影均落在遮光区内。
例如，针对包含图14所示阵列基板的显示面板，阵列基板包括依次层叠设置的第二衬底、薄膜晶体管层、像素电极层和平坦层，在平坦层背离第二衬底的一侧进行一次钝化工艺，通过沉积钝化膜层、刻蚀处理，在需要形成辅隔物垫的位置形成厚度为0.25μm～0.45μm厚度的凸起，用作辅隔垫物。
例如，针对包含图15所示阵列基板的显示面板，阵列基板包括依次层叠设置的第二衬底、薄膜晶体管层、像素电极层和平坦层，在平坦层背离第二衬底的一侧进行一次钝化工艺，通过沉积钝化膜层、刻蚀处理形成具有第六凹槽的钝化层，在第六凹槽内形成辅隔物垫，在钝化层除第六凹槽之外的区域内形成第二辅隔垫物。
在本发明的上述任一实施例中，设置在彩膜基板侧的第一主隔垫物的延伸方向同栅线的延伸方向，设置在阵列基板侧的第二主隔垫物的延伸方向同数据线的延伸方向，设置在彩膜基板侧或阵列基板侧的辅隔垫物的延伸方向同栅线的延伸方向，也即，在平行于第一衬底或第二衬底的方向上，设置在彩膜基板侧或阵列基板侧的辅隔垫物、设置在彩膜基板侧的第一主隔垫物以及设置在阵列基板侧的第二主隔垫物均呈长条状；
基于彩膜基板的厚度方向或阵列基板的厚度方向，设置在彩膜基板侧或阵列基板侧的辅隔垫物、设置在彩膜基板侧的第一主隔垫物以及设置在阵列基板侧的第二主隔垫物均呈扁薄状，即非柱状结构。
以上描述仅为本发明的较佳实施例以及对所运用技术原理的说明。本领域技术人员应当理解，本发明中所涉及的发明范围，并不限于上述技术特征的特定组合而成的技术方案，同时也应涵盖在不脱离发明构思的情况下，由上述技术特征或其等同特征进行任意组合而形成的其它技术方案。例如上述特征与本发明中公开的(但不限于)具有类似功能的技术特征进行互相替换而形成的技术方案。

Claims (15)

1.一种显示面板，其特征在于，包括对盒成形的阵列基板和彩膜基板；
所述彩膜基板包括第一衬底和位于所述第一衬底靠近所述阵列基板一侧的多个第一主隔垫物和多个辅隔垫物，所述阵列基板包括第二衬底和位于所述第二衬底靠近所述彩膜基板一侧的多个第二主隔垫物，所述第一主隔垫物和所述第二主隔垫物在对盒方向上对应设置；
所述第一衬底包括阵列分布的多个子像素区和多行遮光区，相邻两行所述遮光区之间分布有至少一行所述子像素区；其中，
所述第一主隔垫物和所述辅隔垫物在所述第一衬底上的正投影均落在所述遮光区内，所述辅隔垫物的底端距所述第一衬底的间距小于等于所述第一主隔垫物的底端距所述第一衬底的间距。
2.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述第一衬底靠近所述阵列基板的一侧依次层叠设有黑色遮光层、彩色光阻层和覆盖层，所述黑色遮光层位于所述遮光区，所述彩色光阻层具有多个露出所述黑色遮光层的开口；
所述覆盖层远离所述第一衬底的表面设有多个第一凹槽，多个所述第一凹槽与多个所述开口在垂直于所述第一衬底的方向上对应设置，且所述第一凹槽与所述开口在所述第一衬底的正投影至少部分重叠；
所述辅隔垫物在所述第一衬底的正投影与所述第一凹槽在所述第一衬底的正投影至少部分重叠。
3.根据权利要求2所述的显示面板，其特征在于，所述第一凹槽在所述第一衬底的正投影落在所述开口在所述第一衬底的正投影范围内；和/或，
所述辅隔垫物在所述第一衬底的正投影落在所述第一凹槽在所述第一衬底的正投影范围内。
4.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述第一衬底靠近所述阵列基板的一侧依次层叠设有黑色遮光层、彩色光阻层和覆盖层，所述黑色遮光层位于所述遮光区，所述彩色光阻层覆盖所述黑色遮光层；
所述覆盖层远离所述第一衬底的表面设有多个第二凹槽，所述第二凹槽在所述第一衬底上的正投影落在所述遮光区内；
所述辅隔垫物在所述第一衬底的正投影与所述第二凹槽在所述第一衬底的正投影至少部分重叠。
5.根据权利要求4所述的显示面板，其特征在于，所述辅隔垫物在所述第一衬底的正投影落在所述第二凹槽在所述第一衬底的正投影范围内。
6.根据权利要求2-5任一项所述的显示面板，其特征在于，所述彩色光阻层包括红色光阻、绿色光阻和蓝色光阻，所述红色光阻、所述彩色光阻和所述绿色光阻分别呈列状排布；和/或，
所述彩色光阻层包括红色光阻、绿色光阻和蓝色光阻，所述红色光阻、所述绿色光阻或所述蓝色光阻中的任一覆盖所述遮光区。
7.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述第一衬底靠近所述阵列基板的一侧设有彩色光阻层和所述黑色遮光层，所述黑色遮光层位于所述子像素区，所述黑色遮光层位于所述遮光区；
所述彩色光阻层远离所述第一衬底的一侧设有覆盖层，所述覆盖层覆盖所述黑色遮光层；
所述黑色遮光层远离所述第一衬底的表面设有多个第三凹槽，所述覆盖层远离所述第一衬底的表面设有多个第四凹槽，多个所述第四凹槽与多个所述第三凹槽在垂直于所述第一衬底的方向上对应设置，且所述第四凹槽与所述第三凹槽在所述第一衬底的正投影至少部分重叠；
所述辅隔垫物在所述第一衬底的正投影与所述第四凹槽在所述第一衬底的正投影至少部分重叠。
8.根据权利要求7所述的显示面板，其特征在于，所述第四凹槽在所述第一衬底的正投影落在所述开口在所述第三衬底的正投影范围内；和/或，
所述辅隔垫物在所述第一衬底的正投影落在所述第四凹槽在所述第一衬底的正投影范围内。
9.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述第一衬底靠近所述阵列基板的一侧设有彩色光阻层和所述黑色遮光层，所述黑色遮光层位于所述子像素区，所述黑色遮光层位于所述遮光区；
所述彩色光阻层远离所述第一衬底的一侧设有覆盖层，所述覆盖层覆盖所述黑色遮光层；
所述覆盖层远离所述第一衬底的表面设有多个第五凹槽，所述辅隔垫物在所述第一衬底的正投影与所述第五凹槽在所述第一衬底的正投影至少部分重叠。
10.根据权利要求9所述的显示面板，其特征在于，所述辅隔垫物在所述第一衬底的正投影落在所述第五凹槽在所述第一衬底的正投影范围内。
11.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述第一衬底靠近所述阵列基板的一侧设有彩色光阻层和所述黑色遮光层，所述黑色遮光层位于所述子像素区，所述黑色遮光层位于所述遮光区；
所述彩色光阻层远离所述第一衬底的一侧设有覆盖层，所述覆盖层覆盖所述黑色遮光层；其中，
所述黑色遮光层远离所述第一衬底的端部较所述彩色光阻层远离所述第一衬底的端部靠近所述第一衬底，所述辅隔垫物和所述第一主隔垫物均设置在所述覆盖层远离第一衬底的一侧；或者，
在垂直于所述第一衬底的方向上，所述黑色遮光层的厚度大于所述彩色光阻的厚度，所述覆盖层正对所述黑色遮光层的部分高于所述覆盖层正对所述子像素区的部分，所述覆盖层正对所述黑色遮光层的部分复用为所述辅隔物垫。
12.一种显示面板，其特征在于，包括对盒成形的阵列基板和彩膜基板；
所述彩膜基板包括第一衬底和位于所述第一衬底靠近所述阵列基板一侧的多个第一主隔垫物；
所述阵列基板包括依次层叠设置的第二衬底、薄膜晶体管层、像素电极层和平坦层，所述平坦层靠近所述彩膜基板一侧设有多个第二主隔垫物和多个辅隔垫物，所述第一主隔垫物和所述第二主隔垫物在对盒方向上对应设置；
所述第一衬底包括阵列分布的多个子像素区和位于相邻两行所述子像素区之间的遮光区；其中，
所述第一主隔垫物和所述辅隔垫物在所述第一衬底上的正投影均落在所述遮光区内。
13.根据权利要求12所述的显示面板，其特征在于，所述平坦层远离所述第二衬底的一侧还设有钝化层，所述第二钝化层远离所述第二衬底的表面设有多个第六凹槽，所述辅隔垫物在所述第二衬底的正投影与所述第六凹槽在所述第二衬底的正投影至少部分重叠。
14.根据权利要求13所述的显示面板，其特征在于，所述辅隔垫物在所述第二衬底的正投影落在所述第六凹槽在所述第二衬底的正投影范围内。
15.一种显示装置，包括如权利要求1-14任一项所述的显示面板。
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