CN209911733U - 阵列基板和显示面板 - Google Patents

Abstract

本申请提供了一种阵列基板和显示面板，阵列基板包括：衬底基板，衬底基板上设有薄膜晶体管层；色阻单元，色阻单元位于薄膜晶体管层上，色阻单元包括色阻层以及钝化层，钝化层设置于色阻层背离薄膜晶体管层一侧；隔垫物单元，隔垫物单元位于色阻单元上，隔垫物单元包括主隔垫物和辅助隔垫物，主隔垫物与辅助隔垫物的高度相同；其中，色阻单元沿主隔垫物和辅助隔垫物的排布方向分为第一区域和第二区域，第一区域上的色阻单元的厚度大于第二区域上的色阻单元的厚度，主隔垫物位于第一区域上，辅助隔垫物于第二区域上。本申请的阵列基板解决面板显示区出现色度不均匀或不良的问题，提高面板显示的稳定性。

Description

阵列基板和显示面板

技术领域

本申请涉及显示技术领域，特别涉及一种阵列基板和显示面板。

背景技术

这里的陈述仅提供与本申请有关的背景信息，而不必然地构成示例性技术。

COA(Color Filter on Array)技术是将彩色滤光层制备在阵列基板上的技术。由于COA结构的显示面板不存在彩膜基板与阵列基板的对位问题，可以降低显示面板制备过程中对盒制程的难度，避免了对盒时的误差，因此COA 阵列基板应用越来越多。

隔垫物PS(Photo Space)作为阵列基板和彩膜基板之间的支撑物，通常会使用两种类型，如在基板上设置主隔垫物(main PS)及辅助隔垫物(sub PS), 起到多级缓冲的作用，以防止各种色度不均匀(Mura)或者色度不良的问题发生。

液晶盒设置在阵列基板和彩膜基板之间，为了确保液晶盒具有足够大的液晶冗余，主隔垫物和辅助隔垫物之间具有一定的高度差，当环境温度上升，主隔垫物起支撑作用；当温度下降，液晶体积收缩，主隔垫物进一步压缩，此时辅助隔垫物也开始接触彩膜基板并且产生支撑力。因此设计隔垫物时，需要保证主隔垫物与辅助隔垫物之间有较大的段差以保证液晶盒具有较大的液晶冗余。然而由于隔垫物的高度难于把控，不同位置的主隔垫物与辅助隔垫物之间的段差有可能不同，导致液晶盒厚不稳定，导致面板显示区出现色度不均匀或不良的问题。

实用新型内容

本申请的主要目的是提供一种阵列基板和显示面板，旨在解决主隔垫物与辅助隔垫物之间的段差不稳定，导致液晶盒厚不稳定，导致面板显示区出现色度不均匀或不良的技术问题。

为了实现上述目的，本申请提供一种阵列基板，所述阵列基板至少包括：

衬底基板，所述衬底基板上设有薄膜晶体管层；

色阻单元，所述色阻单元位于所述薄膜晶体管层上，所述色阻单元包括色阻层以及钝化层，所述钝化层设置于所述色阻层背离所述薄膜晶体管层一侧；

隔垫物单元，所述隔垫物单元位于所述色阻单元上，所述隔垫物单元包括主隔垫物和辅助隔垫物，所述主隔垫物与所述辅助隔垫物的高度相同；

其中，所述色阻单元沿所述主隔垫物和辅助隔垫物的排布方向分为第一区域和第二区域，所述第一区域上的色阻单元的厚度大于所述第二区域上的色阻单元的厚度，所述主隔垫物位于所述第一区域上，所述辅助隔垫物于所述第二区域上。

可选地，所述色阻层包括多个间隔设置的彩色色阻，所述第一区域内设置有所述彩色色阻，所述第二区域未设置所述彩色色阻。

可选地，设置在所述第一区域的所述彩色色阻背离所述薄膜晶体管层的面凹设有凹槽，所述主隔垫物位于所述凹槽内。

可选地，所述阵列基板还包括透明导电层，所述透明导电层位于所述钝化层背离所述色阻层的一侧；

所述透明导电层包括间隔设置且呈阵列排布的若干个画素电极区，所述彩色色阻至少包括第一色阻和第二色阻，所述第一色阻呈条状设置在所述薄膜晶体管层上，以使所述第一区域内设置有所述彩色色阻；所述第二色阻分别设置在各个画素电极区上下对应的位置上，所述第二区域位于相邻两个第二色阻之间，以使所述第二区域内未设置有所述彩色色阻。

可选地，所述钝化层包括衬垫凸起，所述隔垫物单元设置在所述衬垫凸起上，以减小所述隔垫物层的高度。

可选地，所述主隔垫物下方的衬垫凸起的厚度大于所述辅助隔垫物下方的衬垫凸起的厚度。

可选地，所述阵列基板还包括黑色矩阵层，所述黑色矩阵层设置在所述钝化层背离所述色阻层一侧。

可选地，所述钝化层包括垫高台，所述第一区域内设置有垫高台之上，所述第二区域内未设置有所述垫高台。

本申请还提供一种阵列基板，所述阵列基板包括：

衬底基板，所述衬底基板上设有薄膜晶体管层；

色阻单元，所述色阻单元位于所述薄膜晶体管层上，所述色阻单元包括色阻层以及钝化层，所述钝化层设置于所述色阻层背离所述薄膜晶体管层一侧；

隔垫物单元，所述隔垫物单元位于所述色阻单元上，所述隔垫物单元包括主隔垫物和辅助隔垫物，所述主隔垫物与所述辅助隔垫物的高度相同；

其中，所述色阻单元沿所述主隔垫物和辅助隔垫物的排布方向分为第一区域和第二区域，所述钝化层包括第一垫高台和第二垫高台，所述第一衬垫高台高于所述第二垫高台，所述第一区域内设置有所述第一垫高台，所述第二区域内设置有所述第二垫高台，使得所述第一区域上的色阻单元的厚度大于所述第二区域上的色阻单元的厚度，所述主隔垫物位于所述第一区域上，所述辅助隔垫物于所述第二区域上。

本申请还提供一种阵列基板的制作工艺，所述阵列基板制作工艺包括：

提供一种衬底基板；

在所述衬底基板上形成薄膜晶体管层；

在所述薄膜晶体管层上形成色阻单元，其中，采用第一半透式掩模板曝光所述色阻单元，以在所述薄膜晶体管层上形成具有第一区域和第二区域的色阻单元，且所述第一区域上的色阻单元的厚度大于所述第二区域上的色阻单元的厚度；

在所述色阻单元上形成隔垫物单元，其中，所述隔垫物单元包括主隔垫物和辅助隔垫物，在所述第一区域上形成主隔垫物，在所述第二区域上形成辅助隔垫物。

可选地，所述在所述薄膜晶体管层上形成色阻单元，其中，采用第一半透式掩模板曝光所述色阻单元，以在所述薄膜晶体管层上形成具有第一区域和第二区域的色阻单元，且所述第一区域上的色阻单元的厚度大于所述第二区域上的色阻单元的厚度的步骤之后，还包括：

采用第二半透式掩模板曝光显影所述色阻层，以使在所述第一区域上的色阻层背离所述薄膜晶体管层的一侧形成凹槽。

本申请还提供一种显示面板，所述显示面板包括：

阵列基板；

彩膜基板，所述阵列基板和所述彩膜基板相对设置；

液晶层，所述液晶层位于所述阵列基板和所述彩膜基板之间；

其中，所述阵列基板包括：

衬底基板，所述衬底基板上设有薄膜晶体管层；

色阻单元，所述色阻单元位于所述薄膜晶体管层上，所述色阻单元包括色阻层以及钝化层，所述钝化层设置于所述色阻层背离所述薄膜晶体管层一侧；

隔垫物单元，所述隔垫物单元位于所述色阻单元上，所述隔垫物单元包括主隔垫物和辅助隔垫物，所述主隔垫物与所述辅助隔垫物的高度相同；

其中，所述色阻单元沿所述主隔垫物和辅助隔垫物的排布方向分为第一区域和第二区域，所述第一区域上的色阻单元的厚度大于所述第二区域上的色阻单元的厚度，所述主隔垫物位于所述第一区域上，所述辅助隔垫物于所述第二区域上。

本申请的阵列基板包括在衬底基板上设有薄膜晶体管层、位于所述薄膜晶体管层上的色阻单元以及位于所述色阻单元上的隔垫物单元，所述隔垫物单元包括主隔垫物和辅助隔垫物，所述主隔垫物和辅助隔垫物的高度相同，所述色阻单元沿所述主隔垫物和辅助隔垫物的排布方向分为第一区域和第二区域，通过设置所述第一区域上的色阻单元的厚度大于所述第二区域上的色阻单元的厚度，所述主隔垫物位于所述第一区域上，所述辅助隔垫物于所述第二区域上，使得所述主隔垫物和辅助隔垫物之间具有高度段差，保证液晶冗余空间的同时，避免主隔垫物和辅助隔垫物不同高度设计，从而避免液晶盒厚不稳定，导致面板显示区出现色度不均匀或不良的问题，提高面板显示的稳定性。

附图说明

为了更清楚地说明本申请实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本申请的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图示出的获得其他的附图。

图1为本申请阵列基板实施例1的俯视结构示意图；

图2为图1中A-A方向的剖视结构示意图；

图3为图1中B-B方向的剖视结构示意图；

图4为本申请阵列基板实施例2和实施例3的俯视结构示意图；

图5为图4中C-C方向的剖视结构示意图；

图6中的a1-b1为本申请阵列基板的彩色色阻上形成凹槽的结构流程图；

图7中的a2-d2为本申请阵列基板的钝化层上形成衬垫凸起的一实施例结构流程图；

图8中的a2-d3为本申请阵列基板的钝化层上形成衬垫凸起的另一实施例结构流程图。

附图标号说明：

标号	名称	标号	名称
				1	阵列基板	30	色阻单元
10	衬底基板	31	色阻层
				20	薄膜晶体管层	311	第一色阻
21	栅极	312	第二色阻
				22	栅极绝缘层	313	凹槽
40	隔垫物单元	32	钝化层
				41	主隔垫物	321	衬垫凸起
42	辅助隔垫物	322	垫高台
				50	第一区域	60	第二区域

本申请目的的实现、功能特点及优点将结合实施例，参照附图做进一步说明。

具体实施方式

下面将结合本申请实施例中的附图，对本申请实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本申请的一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本申请中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本申请保护的范围。

需要说明，本申请实施例中所有方向性指示(诸如上、下、左、右、前、后……)仅用于解释在某一特定姿态(如附图所示)下各部件之间的相对位置关系、运动情况等，如果该特定姿态发生改变时，则该方向性指示也相应地随之改变。

另外，在本申请中涉及“第一”、“第二”等的描述仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示其相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括至少一个该特征。另外，各个实施例之间的技术方案可以相互结合，但是必须是以本领域普通技术人员能够实现为基础，当技术方案的结合出现相互矛盾或无法实现时应当认为这种技术方案的结合不存在，也不在本申请要求的保护范围之内。

本申请提供一种阵列基板，该阵列基板为将彩色虑光层制备在阵列基板 (ColorFilter on Array)上的COA型阵列基板，应用于显示面板上。该COA 型阵列基板由于是已经将彩色滤光层制备在阵列基板上，故其不存在与彩膜基板进行对位的问题，只需要将彩膜玻璃衬底装设在所述阵列基板上即可。

参照图1至图6，所述阵列基板包括：

衬底基板10，所述衬底基板10上设有薄膜晶体管层20。所述衬底基板 10为玻璃基板，所述薄膜晶体管层20包括栅极21以及栅极绝缘层22，所述栅极21位于所述衬底基板10与所述栅极绝缘层22之间。

色阻单元30，所述色阻单元30位于所述薄膜晶体管层20上，所述色阻单元30包括色阻层31以及钝化层32，所述钝化层32设置于所述色阻层31 背离所述薄膜晶体管层20一侧。所述色阻层31具体设置在所述栅极绝缘层22之上，所述钝化层32位于所述色阻层31背离所述栅极绝缘层22的面上。

在其它实施例中，所述色阻层31与所述栅极绝缘层22之间也可以设置所述钝化层32，也即在所述色阻层31面向所述栅极绝缘层22的面以及背离所述栅极绝缘层22的面上均设置所述钝化层32。

隔垫物单元40，所述隔垫物单元40位于所述色阻单元30上，所述隔垫物单元40作为阵列基板1和彩膜衬底基板10之间的支撑物，该支撑物立于所述阵列基板1和所述彩膜衬底基板10之间，以形成液晶层的容置空间，且所述隔垫物单元40包括主隔垫物41和辅助隔垫物42，通过主隔垫物41和辅助隔垫物42形成不同空间大小的缓冲，如当环境温度上升时，此时液晶处于展开状态，主隔垫物41起主要支撑所用，当环境温度下降时，液晶体积收缩，主隔垫物41进一步压缩，此时辅助隔垫物42起辅助支撑作用，以保证液晶盒足够大的液晶冗余。

为了实现液晶盒足够大的液晶冗余，需设置主隔垫物41与辅助隔垫物42 的高度不在同一个平面上，产生一定的高度差，其中，使主隔垫物41和辅助隔垫物42的高度不在同一个平面上，产生一定的高度差的方式有多种，如设置主隔垫物41与辅助隔垫物42的高度不同，或者在所述主隔垫物41下方采用垫高的方式使得主隔垫物41与辅助隔垫物42产生一点的高度差。

由于主隔垫物41和辅助隔垫物42的高度不同时，高度差难于把控，导致高度段差不稳定，使得液晶盒厚不稳定，容易在面板显示区出现色度不均匀的现象，故本实施例设置所述主隔垫物41与所述辅助隔垫物42的高度相同，通过在所述主隔垫物41下采用垫高的方式实现主隔垫物41和辅助隔垫物42的高度差设置，具体地，所述色阻单元30沿所述主隔垫物41和辅助隔垫物42的排布方向分为第一区域50和第二区域60，所述第一区域50上的色阻单元30的厚度大于所述第二区域60上的色阻单元30的厚度，所述主隔垫物41位于所述第一区域50上，所述辅助隔垫物42于所述第二区域60上。

所述色阻单元30包括色阻层31和钝化层32，所述第一区域50上的色阻单元30的厚度大于所述第二区域60上的色阻单元30的厚度的具体实现方式有多种，如：

实施例1：参照图1至图3，具体可以通过在所述第一区域50上设置色阻层31，而在所述第二区域60上不设置所述色阻层31实现，如所述色阻层31包括多个间隔设置的彩色色阻，所述第一区域50内设置有所述彩色色阻，所述第二区域60未设置所述彩色色阻。

实施例2：参照图4至图5，具体还可以通过在所述第一区域50上设置的钝化层32设置垫高台322，而在所述第二区域60上设置的钝化层32未设置垫高台322实现。如所述钝化层32包括垫高台322，所述第一区域50内设置有垫高台322，所述第二区域60内未设置有所述垫高台322。

实施例3：同样参照图4至图5，具体还可以通过在所述第一区域50上设置的钝化层32设置第一垫高台，而在所述第二区域60上设置的钝化层32 设置第二垫高台，且第一垫高台高于所述第二垫高台实现。如所述钝化层32 包括第一垫高台和第二垫高台，所述第一垫高台高于所述第二垫高台，所述第一区域50内设置有所述第一垫高台，所述第二区域60内设置有所述第二垫高台。

本申请的阵列基板1包括在衬底基板10上设有薄膜晶体管层20、位于所述薄膜晶体管层20上的色阻单元30以及位于所述色阻单元30上的隔垫物单元40，所述隔垫物单元40包括主隔垫物41和辅助隔垫物42，所述主隔垫物 41和辅助隔垫物42的高度相同，所述色阻单元30沿所述主隔垫物41和辅助隔垫物42的排布方向分为第一区域50和第二区域60，通过设置所述第一区域50上的色阻单元30的厚度大于所述第二区域60上的色阻单元30的厚度，所述主隔垫物41位于所述第一区域50上，所述辅助隔垫物42于所述第二区域60上，使得所述主隔垫物41和辅助隔垫物42之间具有高度段差，保证液晶冗余空间的同时，避免主隔垫物41和辅助隔垫物42不同高度设计，从而避免液晶盒厚不稳定，导致面板显示区出现色度不均匀或不良的问题，提高面板显示的稳定性。

基于上述实施例1，所述色阻层31包括多个间隔设置的彩色色阻，所述第一区域50内设置有所述彩色色阻，所述第二区域60未设置所述彩色色阻，所述主隔垫物41设置在设有所述彩色色阻的第一区域50上，所述辅助隔垫物42设置在未设有所述彩色色阻的第二区域60上。也即本实施例中主隔垫物41和辅助隔垫物42通过所述彩色色阻的厚度形成高度段差，为了防止所述彩色色阻的厚度过大，导致主隔垫物41和辅助隔垫物42之间的高度段差过大，当环境温度下降时，也即体积收缩，主隔垫物41进一步压缩后，容置导致辅助隔垫物42接触不到彩膜基板，起不到支撑作用，因此需要对第一区域50上的所述彩色色阻进行厚度调整，如设置在所述第一区域50的所述彩色色阻背离所述薄膜晶体管层20的面凹设有凹槽313，所述主隔垫物41位于所述凹槽313内。所述凹槽313的槽深根据主隔垫物41和辅助隔垫物42之间的高度段差需求设定，所述主隔垫物41位于所述凹槽313内时，减小所述主隔垫物41与所述辅助隔垫物42之间的高度段差。可见，基于所述第一区域50上的所述彩色色阻的凹槽313结构设置，可以灵活的调整主隔垫物41 和辅助隔垫物42之间的高度段差，满足各种高度段差的需求。

进一步地，所述阵列基板1还包括透明导电层，所述透明导电层位于所述钝化层32背离所述色阻层31的一侧。

所述透明导电层包括间隔设置且呈阵列排布的若干个画素电极区，所述彩色色阻至少包括第一色阻311和第二色阻312，所述第一色阻311呈条状设置在所述薄膜晶体管层20上，以使所述第一区域50内设置有所述彩色色阻；所述第二色阻312分别设置在各个画素电极区上下对应的位置上，所述第二区域60位于相邻两个第二色阻312之间，以使所述第二区域60内未设置有所述彩色色阻。

所述彩色色阻包括两种设计结构，如所述第一色阻311，呈条状排布在所述薄膜晶体管层20上，所述第一区域50位于与所述第一色阻311相对应的位置上，使得所述第一区域50内设置有所述彩色色阻；另一种如所述第二色阻312，为岛型(island型)结构，所述第二色阻312只存在画素电极区相对的位置上，两个相邻的第二色阻312之间，或者两个相邻的画素电极区之间没有所述第二色阻312，所述第二区域60位于所述两个相邻的第二色阻312之间，故所述第二区域60内未设置有所述彩色色阻，所述主隔垫物41位于所述第一区域50，所述辅助隔垫物42位于所述第二区域60，故所述主隔垫物41与所述辅助隔垫物42之间存在与所述彩色色阻厚度相等的高度段差，因此可以解决液晶盒的液晶白边。

在液晶显示面板中，彩色色阻包括R色阻、B色阻和G色阻，其中，所述第一色阻311可以是B色阻，而所述第二色阻312为R色阻和G色阻，也即所述B色阻进行条状(Stripe)设计，R色阻和G色阻进行岛状(Island) 设计，所述第一区域50上设置所述B色阻，而所述第二区域60上未设有任何色阻(位于R色阻之间，或者位于G色阻之间)，故设置在所述第一区域50上的主隔垫物41站在B色阻对应的子画素电极的具有B色阻的栅极21线 (gate line)上，辅助隔垫物42站在R/G色阻对应的子画素电极的没有色阻的栅极21线(gate line)上。

可以理解的是，所述第一色阻311也可以是R色阻，而所述第二色阻312 为G色阻和B色阻，也即将R色阻进行Stripe设计，G色阻和B色阻进行Island 设计，所述第一区域50上设置所述R色阻，而所述第二区域60上未设有任何色阻(位于G色阻之间，或者位于B色阻之间)，故设置在所述第一区域 50上的主隔垫物41站在R色阻对应的子画素电极的具有B色阻的gate line 上，辅助隔垫物42站在G/B色阻对应的子画素电极的没有色阻的gate line上。

或者，还可以理解的是，所述第一色阻311还可以是G色阻，而所述第二色阻312为R色阻和B色阻，也即将G色阻进行Stripe设计，R色阻和B 色阻进行Island设计，所述第一区域50上设置有所述G色阻，而所述第二区域60上未设有任何色阻(位于R色阻之间，或者位于B色阻之间)，故设置在所述第一区域50上的主隔垫物41站在G色阻对应的子画素电极的具有G 色阻的gate line上，辅助支撑物sub ps站在R/B色阻对应的子画素电极的没有色阻的gate line上。

进一步的，参照图6，本申请提出阵列基板1的第四实施例，该实施例中的阵列基板1采用无黑矩阵(BM-Less)技术将黑矩阵和隔垫物单元40集合于同一种材料(黑矩阵隔垫材料BPS)同一制程完成，可以节省一道隔垫物单元40材料及制程，缩短生成时间降低了产品成本。其中，将所述黑矩阵和隔垫物单元40集合于同一种BPS材料，这种BPS材料即需要满足防止漏光的效果，又要满足隔垫物支撑作用，故对这种BPS材料的要求也高，该BPS 材料的技术难度较大，价格昂贵，通过上述所有实施例的方式制作所述隔垫物单元40，可以一定程度上减少隔垫物单元40对该BPS材料的用量，但隔垫物单元40对该BPS材料的使用量仍较大，成本让较高。

故本实施例提出通过钝化层32的结构设置减少隔垫物单元40和黑矩阵层的厚度设计，以进一步较少隔垫物单元40对该BPS材料的用量，如所述钝化层32包括衬垫凸起321，所述隔垫物单元40设置在所述衬垫凸起321上，以减小所述隔垫物层的高度。具体而言，所述钝化层32通过增加部分区域的厚度以形成所述衬垫凸起321，而所述隔垫物单元40的主隔垫物41和辅助隔垫物42设置在所述衬垫凸起321之上，由于阵列基板1的整体厚度固定，所述钝化层32的衬垫凸起321增加厚度时，相对应的减小所述主隔垫物41和辅助隔垫物42的高度，确保所述阵列基板1的整体厚度，主隔垫物41和辅助隔垫物42的高度减小后，可以减少该BPS材料的使用量，更大程度的降低生产成本。

可以理解的是，所述主隔垫物41下方的衬垫凸起321的厚度和所述辅助隔垫物42下方的衬垫凸起321的厚度可以相同，也可以不同，本实施例为了进一步使得所述主隔垫物41和辅助隔垫物42之间形成高度段差，所述主隔垫物41下方的衬垫凸起321的厚度大于所述辅助隔垫物42下方的衬垫凸起 321的厚度。

可选地，所述阵列基板1还包括黑色矩阵层，所述黑色矩阵层设置在所述钝化层32背离所述色阻层31一侧。

参照图1至图6，本申请还提供一种阵列基板1的制作工艺的第一实施例，所述阵列基板1制作工艺包括：

步骤一：提供一种衬底基板10。

步骤二：在所述衬底基板10上形成薄膜晶体管层20。

其中，在所述衬底基板10上形成薄膜晶体管层20的步骤包括：

在所述衬底基板10形成栅极21层；

在所述栅极21层上形成栅极绝缘层22；

在所述栅极绝缘层22上形成平坦层。

步骤三：在所述薄膜晶体管层20上形成色阻单元30，其中，采用第一半透式掩模板曝光所述色阻单元30，以在所述薄膜晶体管层20上形成具有第一区域50和第二区域60的色阻单元30，且所述第一区域50上的色阻单元30 的厚度大于所述第二区域60上的色阻单元30的厚度。

第一半透式掩模板设有不同的透光率，如所述第一半透式掩模板与色阻单元30上的第一区域50相对应的位置的透光率低，与色阻单元30上的第二区域60相对应的位置的透光率高(对于光照强度高，厚度更小的色阻材料，若光照强度低，厚度更厚的色阻材料则第一半透式掩模板的透光率设置相反)，在所述薄膜晶体管上涂布色阻单元30材料后，将所述第一半透式掩模板罩在所述色阻单元30上，透光率低的位置与所述第一区域50相对应，透光率高的位置与所述第二区域60相对应，将所述色阻材料进行曝光显影，以在所述薄膜晶体管层20上形成色阻单元30，且所述色阻单元30具有厚大较大的第一区域50和厚度较小的第二区域60。

步骤四：在所述色阻单元30上形成隔垫物单元40，其中，所述隔垫物单元40包括主隔垫物41和辅助隔垫物42，在所述第一区域50上形成主隔垫物 41，在所述第二区域60上形成辅助隔垫物42。

具体在所述第一区域50和第二区域60涂布隔垫物材料，曝光显影所述隔垫物材料，基于所述第一区域50高于所述第二区域60，在所述第一区域 50上形成的隔垫物与在所述第二区域60上形成的隔垫物具有高度段差，将所述第一区域50上形成的隔垫物定义为主隔垫物41，将所述第二区域60上形成的的隔垫物定义为辅助隔垫物42。其中，在该步骤中，所述主隔垫物41和辅助隔垫物42的形成，可以采用同一光照强度进行曝光显影，使得主隔垫物 41和辅助隔垫物42的高度相等，如此易于控制各个主隔垫物41和辅助隔垫物42的高度，可有效防止主隔垫物41和辅助隔垫物42的高度差不好控制而导致液晶盒不稳定，进而导致面板显示不稳定的问题出现。

所述色阻单元30包括色阻层31和钝化层32，在所述薄膜晶体管层20上形成色阻单元30的步骤包括在所述薄膜晶体管层20上形成色阻层31；在所述色阻层31上形式钝化层32。其中，所述色阻层31包括多个间隔设置的彩色色阻，在曝光显影所述色阻材料时，可以设置所述第一半透式掩模板上与所述第一区域50对应的位置的透光率小于与所述第二区域60对应的位置的透光率，以使在所述第一区域50内形成所述彩色色阻，而未在所述第二区域 60内形成所述彩色色阻，使得所述第一区域50与所述第二区域60具有高度差，而在所述第一区域50上形成所述主隔垫物41，在所述第二区域60上形成辅助隔垫物42时，所述主隔垫物41和所述辅助隔垫物42之间具有高度段差。

或者，可以在所述色阻层31上涂布钝化材料后，通过采用所述第一半透式掩模板曝光显影所述钝化材料，以在所述第一区域50上的钝化层32具有厚度大于在所述第二区域60上的钝化层32厚度的垫高台322，由于第一区域 50上的垫高台322与第二区域60上的钝化层32具有高度差，在所述第一区域50上形成所述主隔垫物41，在所述第二区域60上形成辅助隔垫物42时，所述主隔垫物41和所述辅助隔垫物42之间具有高度段差。

进一步地，采用彩色色阻提高所述主隔垫物41和所述辅助隔垫物42之间的高度段差时，为了防止彩色色阻的厚度过大，导致主隔垫物41和辅助隔垫物42之间的高度段差过大，当环境温度下降时，也即体积收缩，主隔垫物 41进一步压缩后，容置导致辅助隔垫物42接触不到彩膜基板，起不到支撑作用，因此需要对第一区域50上的所述彩色色阻进行厚度调整，因此，所述阵列基板1的制作工艺中，在所述在所述薄膜晶体管层20上形成色阻单元30，其中，采用第一半透式掩模板曝光所述色阻单元30，以在所述薄膜晶体管层 20上形成具有第一区域50和第二区域60的色阻单元30，且所述第一区域50 上的色阻单元30的厚度大于所述第二区域60上的色阻单元30的厚度的步骤之后，还包括：

采用第二半透式掩模板曝光显影所述色阻层31，以使在所述第一区域50 上的色阻层31背离所述薄膜晶体管层20的一侧形成凹槽313。

具体设置所述第二半透式掩模板与所述第一区域50上的彩色色阻对应的位置的透光率高与其他位置的透光率，在所述薄膜晶体管层20涂布色阻材料后，采用所述第二半透式掩模板曝光显影所述色阻层31，以使位于所述第一区域上的所述色阻层31背离所述薄膜晶体管层20的一侧形成凹槽313，在所述凹槽313内形成所述主隔垫物41时，可以减小主隔垫物41与辅助隔垫物 42之间的高度段差。

其中，可以通过调节所述第二半透式掩模板的透光率来达到调节所述凹槽313的深度，进而调节主隔垫物41和辅助隔垫物42之间的高度段差的目的，如此，可灵活的调节所述主隔垫物41和辅助隔垫物42之间的高度段差。

进一步地，参照图7，本申请还提供一种阵列基板1的制作工艺的第二实施例，基于上述制作工艺的第一实施例，所述在所述薄膜晶体管层20上形成色阻单元30的步骤包括：

在所述薄膜晶体管层20上涂布色阻材料；

曝光显影所述色阻材料，以在所述第一区域50上形成彩色色阻，未在所述第二区域60上形成彩色色阻；

在所述色阻层31上涂布钝化材料；

采用第三半透式掩模板曝光显影所述钝化材料，以使所述第一区域50上和第二区域60上的钝化层32的厚度大于其它位置的钝化层32厚度。

具体设置所述第三半透式掩模板在于所述第一区域50和所述第二区域60 对应位置处的透光率小于其它位置的透光率，采用所述第三半透式掩模板曝光显影所述钝化材料时，由于所述第一区域50和第二区域60上的光照强度弱，在所述第一区域50和所述第二区域60上形成衬垫凸起321。

在所述衬垫凸起321上形成所述主隔垫物41和辅助隔垫物42。由于阵列基板1的整体厚度有一定的要求，所述钝化层32设置所述衬垫凸起321后，为了不增加阵列基板1的整体厚度，在所述衬垫凸起321上形成高度较小的主隔垫物41和辅助隔垫物42，所述主隔垫物41和辅助隔垫物42的高度由所述衬垫凸起321321提升。

在采用无黑矩阵技术制成阵列基板1技术中，主隔垫物41和辅助隔垫物 42以及黑矩阵层均用同一种材料和制成，在本实施例中，通过减小所述主隔垫物41和辅助隔垫物42的高度，减小该材料的使用，可以减少制作成本，其制作方法简单。

在其它实施例中，还可以通过设置所述第三半透式掩模板与所述第一区域50对应位置的透光率小于与所述第二区域60对应位置的透光率，以使所述钝化层32曝光显影后，在所述第一区域50上形成的衬垫凸起321的厚度大于在所述第二区域60上形成的衬垫凸起321的厚度。衬垫凸起321分别用于垫高主隔垫物41和辅助隔垫物42，从而使得主隔垫物41和辅助隔垫物42 自身的厚度减小，进而可以减少形成隔垫物单元40的BPS材料用量，降低生产成本。

具体参照图4，设置所述第三半透式掩模板不同位置的透光率不同，如 T1区、T2区、T3区分别对应各个彩色色阻的位置，其中，第三半透式掩模板的透光率T2>T1>T3。

进一步地，参照图8，本申请还提供一种阵列基板1的制作工艺的第三实施例，基于上述制作工艺的第一实施例和第二实施例，所述采用第三半透式掩模板曝光显影所述钝化材料，以使所述第一区域50上和第二区域60上的钝化层32的厚度大于其它位置的钝化层32厚度的步骤之后，还包括

在所述钝化层32上涂布BPS材料；

曝光显影所述BPS材料，以在所述钝化层32上形成与所述衬垫凸起321 形状相同的遮光层，其中个，所述遮光层包括黑矩阵和隔垫物单元40。

具体而言，在所述钝化层32上沉积一定厚度的BPS薄膜，钝化层32的衬垫凸起321与BPS薄膜共同分别形成黑矩阵、主隔垫物41和辅助隔垫物 42，使得主隔垫物41和辅助隔垫物42自身的厚度减小，进而可以减少形成 PS的BPS材料用量，降低生产成本。

本申请还提供一种显示面板，参照图1至图8，所述显示面板包括：

阵列基板1；

彩膜基板(图中未标注)，所述阵列基板1和所述彩膜基板相对设置；

液晶层(图中未标注)，所述液晶层位于所述阵列基板1和所述彩膜基板之间；

其中，所述阵列基板1包括：

衬底基板10，所述衬底基板10上设有薄膜晶体管层20；

色阻单元30，所述色阻单元30位于所述薄膜晶体管层20上，所述色阻单元30包括色阻层31以及钝化层32，所述钝化层32设置于所述色阻层31 背离所述薄膜晶体管层20一侧；

隔垫物单元40，所述隔垫物单元40位于所述色阻单元30上，所述隔垫物单元40包括主隔垫物41和辅助隔垫物42，所述主隔垫物41与所述辅助隔垫物42的高度相同；

其中，所述色阻单元30沿所述主隔垫物41和辅助隔垫物42的排布方向分为第一区域50和第二区域60，所述第一区域50上的色阻单元30的厚度大于所述第二区域60上的色阻单元30的厚度，所述主隔垫物41位于所述第一区域50上，所述辅助隔垫物42于所述第二区域60上。

本申请的显示面板包括阵列基板1和彩膜基板，所述阵列基板1和所述彩膜基板相对设置；液晶层，所述液晶层位于所述阵列基板1和彩膜基板之间；其中，所述阵列基板1为上述所述的阵列基板1，基于所述阵列基板1具有保证液晶冗余空间的同时，避免主隔垫物41和辅助隔垫物42不同高度设计，从而避免液晶盒厚不稳定，导致面板显示区出现色度不均匀或不良的问题的效果，故所述显示面板具有稳定性高的效果。

以上所述仅为本申请的优选实施例，并非因此限制本申请的专利范围，凡是在本申请的构思下，利用本申请说明书及附图内容所作的等效变换，或直接/间接运用在其他相关的技术领域均包括在本申请的专利保护范围内。

Claims (10)

1.一种阵列基板，其特征在于，所述阵列基板包括：

衬底基板，所述衬底基板上设有薄膜晶体管层；

色阻单元，所述色阻单元位于所述薄膜晶体管层上，所述色阻单元包括色阻层以及钝化层，所述钝化层设置于所述色阻层背离所述薄膜晶体管层一侧；

隔垫物单元，所述隔垫物单元位于所述色阻单元上，所述隔垫物单元包括主隔垫物和辅助隔垫物，所述主隔垫物与所述辅助隔垫物的高度相同；

其中，所述色阻单元沿所述主隔垫物和辅助隔垫物的排布方向分为第一区域和第二区域，所述第一区域上的色阻单元的厚度大于所述第二区域上的色阻单元的厚度，所述主隔垫物位于所述第一区域上，所述辅助隔垫物于所述第二区域上。

2.如权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述色阻层包括多个间隔设置的彩色色阻，所述第一区域内设置有所述彩色色阻，所述第二区域未设置所述彩色色阻。

3.根据权利要求2所述的阵列基板，其特征在于，设置在所述第一区域的所述彩色色阻背离所述薄膜晶体管层的面凹设有凹槽，所述主隔垫物位于所述凹槽内。

4.如权利要求2或3所述的阵列基板，其特征在于，所述阵列基板还包括透明导电层，所述透明导电层位于所述钝化层背离所述色阻层的一侧；

所述透明导电层包括间隔设置且呈阵列排布的若干个画素电极区，所述彩色色阻至少包括第一色阻和第二色阻，所述第一色阻呈条状设置在所述薄膜晶体管层上，以使所述第一区域内设置有所述彩色色阻；所述第二色阻分别设置在各个画素电极区上下对应的位置上，所述第二区域位于相邻两个第二色阻之间，以使所述第二区域内未设置有所述彩色色阻。

5.如权利要求2所述的阵列基板，其特征在于，所述钝化层包括衬垫凸起，所述隔垫物单元设置在所述衬垫凸起上，以减小所述隔垫物层的高度。

6.如权利要求5所述的阵列基板，其特征在于，所述主隔垫物下方的衬垫凸起的厚度大于所述辅助隔垫物下方的衬垫凸起的厚度。

7.如权利要求6所述的阵列基板，其特征在于，所述阵列基板还包括黑色矩阵层，所述黑色矩阵层设置在所述钝化层背离所述色阻层一侧。

8.如权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述钝化层包括垫高台，所述第一区域内设置有垫高台，所述第二区域内未设置有所述垫高台。

9.一种阵列基板，其特征在于，所述阵列基板包括：

衬底基板，所述衬底基板上设有薄膜晶体管层；

色阻单元，所述色阻单元位于所述薄膜晶体管层上，所述色阻单元包括色阻层以及钝化层，所述钝化层设置于所述色阻层背离所述薄膜晶体管层一侧；

隔垫物单元，所述隔垫物单元位于所述色阻单元上，所述隔垫物单元包括主隔垫物和辅助隔垫物，所述主隔垫物与所述辅助隔垫物的高度相同；

其中，所述色阻单元沿所述主隔垫物和辅助隔垫物的排布方向分为第一区域和第二区域，所述钝化层包括第一垫高台和第二垫高台，所述第一垫高台高于所述第二垫高台，所述第一区域内设置有所述第一垫高台，所述第二区域内设置有所述第二垫高台，使得所述第一区域上的色阻单元的厚度大于所述第二区域上的色阻单元的厚度，所述主隔垫物位于所述第一区域上，所述辅助隔垫物于所述第二区域上。

10.一种显示面板，其特征在于，所述显示面板包括：

阵列基板；

彩膜基板，所述阵列基板和所述彩膜基板相对设置；

液晶层，所述液晶层位于所述阵列基板和所述彩膜基板之间；

其中，所述阵列基板包括：

衬底基板，所述衬底基板上设有薄膜晶体管层；

色阻单元，所述色阻单元位于所述薄膜晶体管层上，所述色阻单元包括色阻层以及钝化层，所述钝化层设置于所述色阻层背离所述薄膜晶体管层一侧；

隔垫物单元，所述隔垫物单元位于所述色阻单元上，所述隔垫物单元包括主隔垫物和辅助隔垫物，所述主隔垫物与所述辅助隔垫物的高度相同；

其中，所述色阻单元沿所述主隔垫物和辅助隔垫物的排布方向分为第一区域和第二区域，所述第一区域上的色阻单元的厚度大于所述第二区域上的色阻单元的厚度，所述主隔垫物位于所述第一区域上，所述辅助隔垫物于所述第二区域上。

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