CN109061969B - 阵列基板及其显示面板 - Google Patents

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Abstract

本申请实施方式公开了一种阵列基板及其显示面板，包括基板，主动开关设置于基板上，并定义出显示区域和走线区域，走线区域包括第一区和第二区，主动开关位于第一区。色阻层位于显示区域，第一色阻块位于第一区并设置于主动开关上，第二色阻块位于第二区。遮光垫层，设置于走线区域并覆盖第一色阻块和第二色阻块，其包括主间隔物、子间隔物和黑矩阵，主间隔物位于第一色阻块上，子间隔物位于第二色阻块上。其中，主间隔物整体高度高于子间隔物，并与所述子间隔物形成至少一种高度差。

Description

阵列基板及其显示面板
技术领域
本申请涉及显示领域，尤其涉及一种阵列基板及其显示面板。
背景技术
在显示面板(LiquidCrystalDisplay，LCD)中，黑色矩阵(BlackMatrix，BM)和间隔物(PhotoSpacer，PS)是前制程的两道工序，将其二者合为一，即为BPS(BlackPhotoSpacer)技术。通过使用同一BPS材料形成遮光垫层，而遮光垫层包括黑矩阵和间隔物，间隔物一般包括主间隔物(MainPS)和子间隔物(SubPS)，主间隔物用于定义盒厚，子间隔物则是在显示面板按压而微形变时起辅助支撑作用，黑矩阵则起到遮光的作用。
在将BPS技术应用于COA(Color on Array，阵列基板上色阻层)技术中，主间隔物和子间隔物是位于色阻块之上，其二者的厚度差是通过半色调光罩(Half Tone Mask，HTM)或灰阶光罩(Gray Tone Mask，GTM)等特殊光罩对位于子间隔物之下的色阻块进行特殊处理，使得该色阻块具有较低的厚度，进而使得位于其上的子间隔物低于主间隔物。但是，特殊光罩一般适用于BPS材料，其黏附性较高，且不需较大的曝光量就可以将其在色阻块上形成稳定膜层结构。而色阻材料固化所需的曝光量较大，在特殊光罩的不充分曝光条件下，色阻块与其下结构表面的黏附力不够，容易使得色阻块部分或全部剥离，从而形成缺陷；另一方面，在利用特殊光罩形成主、子间隔物的高度差时，是通过调节通过曝光量来控制所形成色阻块的高度差，而色阻材料对曝光量较为敏感，稳定性不足，此会导致制程上难以管控，最终形成的主、子间隔物间的高度差较小或不均等异常。
发明内容
本申请实施方式提供一种阵列基板及其显示面板。
为解决上述技术问题，本申请提供一种阵列基板，包括：基板，主动开关，色阻层，第一色阻块，第二色阻块和遮光垫层。所述主动开关设置于所述基板上，并定义出显示区域和走线区域，其中，所述走线区域包括第一区和第二区，所述主动开关位于所述第一区。所述色阻层位于所述显示区域，所述第一色阻块位于所述第一区并设置于所述主动开关上，所述第二色阻块位于所述第二区；遮光垫层设置于所述走线区域并覆盖所述第一色阻块和第二色阻块，所述遮光垫层包括一体成型的主间隔物、子间隔物和黑矩阵，所述主间隔物位于所述第一色阻块上，所述子间隔物位于所述第二色阻块上。其中，所述第一色阻块高于所述第二色阻块，使得所述主间隔物高于所述子间隔物，并与所述子间隔物形成至少一种高度差。
在一实施例中，所述第二区还包括金属层和电容，所述第二色阻块设置于所述金属层和所述电容中至少之一的结构上。
在一实施例中，所述金属层的高度小于所述电容的高度，所述电容的高度小于所述主动开关的高度，当所述第二色阻块位于所述金属层和所述电容上时，藉由不同高度的金属层和电容使得所述第二色阻块具有不同高度。
在一实施例中，所述第一色阻块或所述第二色阻块呈岛状或桥状，所述第一色阻块或所述第二色阻块周围具有凹槽，其中，所述主间隔物或所述子间隔物覆盖所述第一色阻块和所述凹槽。
在一实施例中，通过全透过率光罩，形成所述第一色阻块和所述第二色阻块，其中，所述第一色阻块和所述第二色阻块的颜色为相同或相异，相异颜色的所述第一色阻块或所述第二色阻块的厚度为相同或相异。
在一实施例中，当所述第一色阻块和所述第二色阻块的颜色相同时，所述第一色阻块的厚度大于所述第二色阻块的厚度；当所述第一色阻块和所述第二色阻块的颜色相异时，所述第一色阻块和所述第二色阻块的厚度为相同或相异。
在一实施例中，所述第二色阻块具有多种颜色并形成至少两种厚度，使得位于所述第二色阻块之上的所述子间隔物具有至少两种高度，并使得所述主间隔物与所述子间隔物间具有至少两种高度差。
在一实施例中，所述色阻层包括阵列设置的多种色阻，所述第一色阻块或所述第二色阻块与所述色阻层中之一的色阻的颜色相同。
在一实施例中，所述第一色阻块或所述第二色阻块与所述色阻层中颜色相同的色阻通过同一制程形成。
本申请还提供一种显示面板，包括上述各技术特征的阵列基板。
本申请通过将色阻块设置于不同面板结构之上，通过面板结构中如主动开关、电容和金属层间本身的高度差异及色阻块的岛状或桥状的结构设计来调控主间隔物和子间隔物的高度差，再加上不同颜色的色阻块存在的高度差，可以使得主间隔物和子间隔物具有多种高度差，且主间隔物整体高度高于子间隔物。在显示面板按压形变时，通过多种高度的主间隔物和子间隔物的多段支撑，可以更好地支撑和辅助支撑显示面板。另一方面，利用全透过率光罩形成色阻块，可以降低制程难度，且色阻块的曝光量大，形成的色阻块厚度较大，不会致使色阻块剥离，后续形成的主间隔物和子间隔物之间形成的高度差较大且制程稳定，可控性高。
附图说明
图1为本申请一实施例的阵列基板示意图。
图2为本申请一实施例的遮光垫层示意图。
图3为本申请又一实施例的阵列基板示意图。
图4为本申请又一实施例的遮光垫层示意图。
具体实施方式
下面结合本申请实施方式中的附图对本申请实施方式进行描述。
图1为本申请一实施例的阵列基板示意图，图2为本申请一实施例的遮光垫层示意图。请同时参考图1和图2，在一实施例中，本申请提供的阵列基板10包括：基板100、主动开关110、色阻层120、第一色阻块121、第二色阻块122和遮光垫层。所述主动开关110设置于所述基板100上，其中，所述主动开关110包括栅极层，介质层和源极层等层次结构，通过栅极层(即包括显示面板中的扫描线)和源极层(即包括显示面板中的数据线)可定义出显示区域210和走线区域220。所述走线区域包括第一区221和第二区222，所述主动开关110位于所述第一区221。所述色阻层120位于所述显示区域210，用以呈现多种色彩的画面；所述第一色阻块121位于所述走线区域的第一区221并设置于所述主动开关110上，所述第二色阻块122位于所述走线区域的第二区222。所述遮光垫层设置于所述走线区域并覆盖所述第一色阻块121和第二色阻块122，所述遮光垫层包括一体成型的主间隔物131、子间隔物132和黑矩阵(图未示)，所述主间隔物131位于所述第一色阻块121上，所述子间隔物132位于所述第二色阻块122上，所述黑矩阵用以覆盖并遮蔽所述第二区222中除子间隔物132外的其它区域。通过所述第一色阻块121和所述第二色阻块122来垫高所述主间隔物131和所述子间隔物132，使得其二者(131，132)与基板100之间的高度差更大，在后续形成的显示面板中以更好地支撑盒厚。其中，所述主间隔物131高于所述子间隔物132，并与所述子间隔物132形成至少一种高度差。本申请实施例中的“高度”，其是相对于基板100之间的高度，所述主动开关110所在的区域可称为第一区221，走线区域220除所述第一区221之外的其它走线区域220可以称为第二区222。
在一实施例中，如图2所示，所述第二区222还包括电容140，所述第二色阻块122设置于所述电容140上，所述电容140的高度小于所述主动开关110的高度，以使得位于所述主动开关110之上的第一色阻块121高于位于所述电容140之上的第二色阻块122。其中，所述电容140可包括相对设置的栅极层和源极层，所述主动开关110可包括栅极层，介质层和源极层。即所述主动开关110是比所述电容140高出至少一个介质层和一个钝化层的高度。
在一实施例中，所述第一色阻块121高于所述第二色阻块122，在此基础上，当所述BPS材料在所述第一色阻块和第二色阻块等面板结构上流平并固化后，以形成所述遮光垫层，由于其下色阻块(121，122)的高度差可以使得位于所述第一色阻块121之上的主间隔物131高于位于所述第二色阻块122之上的子间隔物132。其中，所述主间隔物131和所述子间隔物132之间的高度差为D1。
在一实施例中，如图1和图2所示，所述第一色阻块121呈岛状，其周围具有凹槽150，凹槽条数为四条，所述主间隔物131覆盖所述第一色阻块121和所述凹槽150。所述凹槽150可暴露出所述基板100或不暴露出所述基板100，以此可以调节填充所述凹槽150的所述主间隔物131的高度。当所述凹槽150暴露出所述基板100时，通过所述主间隔物131覆盖所述凹槽150，可防止所述凹槽150暴露基板100所导致的漏光可能。所述第一色阻块121亦可以呈连接两个色阻的桥状，在其周围的凹槽条数是两条，所述主间隔物131覆盖两凹槽150的量较少，在一定程度上可以增加主间隔物131的高度。同理，也可以将所述第二色阻块122设计成岛状或桥状。
在一实施例中，所述第一色阻块121和所述第二色阻块122的颜色为相同或相异，相异颜色的所述第一色阻块或所述第二色阻块的厚度为相同或相异。其中，为提高主间隔物131和子间隔物132之间的高度差，可以常态性的设计所述第一色阻块121的厚度大于所述第二色阻块122的厚度。当需要所述主间隔物131与所述子间隔物132的高度差更大时，所述主间隔物131可例如全为蓝色色阻块，而所述子间隔物132可例如为其他颜色的色阻块，此设计是由于蓝色色阻在设计时，由于不同颜色色阻的透射波长差异，蓝色色阻的厚度会大于其他颜色色阻的厚度。一般，蓝色色阻的厚度比其他颜色色阻的厚度要大0.2微米左右。此外，所述第二色阻块122可以具有包括蓝色在内的多种颜色，并依此形成至少两种厚度，使得位于所述第二色阻块122之上的所述子间隔物132具有至少两种高度，并使得所述主间隔物131与所述子间隔物132间具有至少两种高度差。
在一实施例中，通过全透过率光罩(Full Tone Mask，FTM)，即100％透光的光罩，形成所述第一色阻块121和所述第二色阻块122。由于是全透过率光罩，当所述第一色阻块121和所述第二色阻块122的颜色相同时，由于所述第一色阻块和所述第二色阻块之下的结构本身存在的高度差异，使得形成的所述第一色阻块121和所述第二色阻块122的厚度有一定的差异，位于所述主动开关110上的第一色阻块121的厚度会大于所述第二色阻块122的厚度。当所述第一色阻块和所述第二色阻块的颜色相异时，所述第一色阻块和所述第二色阻块的厚度为相同或相异。此全透过率光罩相对于特殊光罩，不需要设计光罩的透过率来控制所述第二色阻块122的厚度，也不会使得所述第二色阻块122由于曝光量不足而剥离，较之特殊光罩的制程而言，稳定性较好，可控性高。在一实施例中，“厚度”和“高度”有所区别，所述第一色阻块121和所述第二色阻块122的高度是相对于基板100而言，而所述第一色阻块121和所述第二色阻块122的厚度是依据所述第一色阻块121和所述第二色阻块122的高度与位于其下结构的高度之差而定。如图2作为例示，所述第一色阻块121的厚度是由其高度减去所述主动开关110的高度，所述第二色阻块122的厚度是由其高度减去所述电容140的高度。
在一实施例中，通过所述全透过率光罩，控制所述第一色阻块121或所述第二色阻块122及其周围结构的曝光量，进而可以调节所述凹槽150的深度和宽度；藉由所述凹槽150的结构，可以控制BPS材料流向所述凹槽150并填充所述凹槽150所需的BPS材料的用量，此可以调节所述主间隔物和所述子间隔物间的高度差。其中，通过光罩调节所述凹槽150的深度和宽度于制程上或有一定的误差，对此通过设计所述凹槽150的凹槽条数也可以控制BPS材料填充凹槽150所需的用量，亦可以调节所述主间隔物和所述子间隔物间的高度差。
在一实施例中，所述色阻层120包括阵列设置的多种色阻，其颜色可例如包括红绿蓝三色，或红绿蓝白四色等。所述第一色阻块121或所述第二色阻块122与所述色阻层中之一的色阻的颜色相同。
在一实施例中，所述第一色阻块121或所述第二色阻块122与所述色阻层中颜色相同的色阻通过同一制程形成；如蓝色的第一色阻块和色阻层中的蓝色色阻通过同一制程形成，此可以提高制程效率，节约成本。也可以由单独的制程形成所述第一色阻块121和所述第二色阻块122，使得色阻块(121，122)的制程独立于色阻层120的制程之外，可以更好地调控色阻材料的用量，以制造合适的所述第一色阻块121或所述第二色阻块122。
在一实施例中，且相同颜色的色阻和色阻块的材料一般是相同的，但是当色阻块与色阻层为两道制程形成时(色阻层为一道，色阻块为另一道)，相同颜色的色阻块的材料也可以不同于色阻的材料。
在一实施例中，所述第一色阻块121的颜色相同，所述第二色阻块122的颜色可以是多种颜色，此可以使得位于所述第二色阻块122之上的子间隔物132具有不同的高度。例如所述第二色阻块122包括红绿蓝三色，由于蓝色色阻块的厚度比红绿颜色的色阻块的厚度要大，而对应的蓝色色阻块的高度较高于其他颜色色阻块的高度，此可形成两种高度的子间隔物132，以此在面板受压微形变时可以更好地提供辅助支撑作用。
图3为本申请又一实施例的阵列基板示意图，图4为本申请又一实施例的遮光垫层示意图。请同时参考图3和图4，在一实施例中，一种阵列基板20，其第二区222还包括金属层145。所述金属层145可例如为单层的栅极层或单层的源极层，而所述电容140可包括层叠设置的栅极层和源极层，所述金属层145的高度是小于所述电容140的高度。即，所述电容140是比所述金属层145至少高出一个栅极层或一个源极层的高度，而所述主动开关110比所述金属层145至少高出一个介质层和一个源极层(或栅极层)的高度。可以用金属层145的面板结构来取代电容140，将所述第二色阻块122设置于所述金属层145上，以使得位于所述金属层145上的第二色阻块122低于位于所述电容140上的第二色阻块122。其中，所述主间隔物131和所述子间隔物132之间的高度差为D2，且D2大于D1，可以使得子间隔物132与主间隔物131之间具有更大的高度差。
在一实施例中，部分所述第二色阻块122可以设置于所述电容140上，另一部分所述第二色阻块122可以设置于所述金属层145上，使得所述第二色阻块122和后续形成的子间隔物132均具有两种高度。而当所述第二色阻块122的颜色为多种时，再配合以电容140和金属层145，可以形成四种高度的子间隔物132；若是配合以凹槽150，则子间隔物132可以有更多高度。此设计的子间隔物132与主间隔物131搭配，在面板受压微形变时具有更好的支撑作用，并使得对应的子间隔物132的高度具有多种变化，对间隔物的高度的可控性较高。
请再参考图1至图4，在本申请提供的一种显示面板，包括上述各实施例中所述的阵列基板，以及对向基板(图未示)。其中，所述主间隔物131位于所述阵列基板和所述对向基板之间，以支撑两基板并定义出盒厚。
以上所述，仅为本申请的具体实施方式，但本申请的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本申请揭露的技术范围内，可轻易想到变化或替换，都应涵盖在本申请的保护范围之内。因此，本申请的保护范围应以权利要求的保护范围为准。

Claims (9)

1.一种阵列基板，其特征在于，包括：
基板；
主动开关，设置于所述基板上，并定义出显示区域和走线区域，其中，所述走线区域包括第一区和第二区，所述主动开关位于所述第一区；
色阻层、第一色阻块和第二色阻块，所述色阻层位于所述显示区域，所述第一色阻块位于所述第一区并设置于所述主动开关上，所述第二色阻块位于所述第二区，所述第一色阻块或所述第二色阻块周围具有凹槽；
遮光垫层，设置于所述走线区域并覆盖所述第一色阻块和第二色阻块，所述遮光垫层包括一体成型的主间隔物、子间隔物和黑矩阵，所述主间隔物位于所述第一色阻块上，所述子间隔物位于所述第二色阻块上，所述主间隔物覆盖所述第一色阻块和所述第一色阻块周围的凹槽，所述子间隔物覆盖所述第二色阻块和所述第二色阻块周围的凹槽；
其中，所述第一色阻块高于所述第二色阻块，使得所述主间隔物高于所述子间隔物，并与所述子间隔物形成至少一种高度差；
所述第二区还包括金属层和电容，所述第二色阻块设置于所述金属层和所述电容中至少之一的结构上。
2.如权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述金属层的高度小于所述电容的高度，所述电容的高度小于所述主动开关的高度；当所述第二色阻块位于所述金属层和所述电容上时，藉由不同高度的金属层和电容使得所述第二色阻块具有不同高度。
3.如权利要求2所述的阵列基板，其特征在于，所述第一色阻块或所述第二色阻块呈岛状或桥状。
4.如权利要求2所述的阵列基板，其特征在于，通过全透过率光罩，形成所述第一色阻块和所述第二色阻块；其中，所述第一色阻块和所述第二色阻块的颜色为相同或相异，相异颜色的所述第一色阻块或所述第二色阻块的厚度为相同或相异。
5.如权利要求4所述的阵列基板，其特征在于，当所述第一色阻块和所述第二色阻块的颜色相同时，所述第一色阻块的厚度大于所述第二色阻块的厚度；当所述第一色阻块和所述第二色阻块的颜色相异时，所述第一色阻块和所述第二色阻块的厚度为相同或相异。
6.如权利要求4所述的阵列基板，其特征在于，所述第二色阻块具有多种颜色并形成至少两种厚度，使得位于所述第二色阻块之上的所述子间隔物具有至少两种高度，并使得所述主间隔物与所述子间隔物间具有至少两种高度差。
7.如权利要求4所述的阵列基板，其特征在于，所述色阻层包括阵列设置的多种色阻，所述第一色阻块或所述第二色阻块与所述色阻层中之一的色阻的颜色相同。
8.如权利要求7所述的阵列基板，其特征在于，所述第一色阻块或所述第二色阻块与所述色阻层中颜色相同的色阻通过同一制程形成。
9.一种显示面板，其特征在于，包括权利要求1至8中任一项所述的阵列基板。
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