CN112666744A - 彩膜基板及其制作方法、显示面板和显示装置 - Google Patents

Abstract

本发明实施例提供一种彩膜基板及其制作方法、显示面板和显示装置。彩膜基板包括第一像素区和至少半围绕第一像素区的第二像素区，第二像素区包括多个彩色子像素，第一像素区包括多个彩色子像素和多个高透子像素；彩膜基板包括依次堆叠的衬底层、滤光层和保护层，保护层包括远离滤光层一侧的第一表面；第一像素区内第一表面距衬底层的垂直距离为h1，第二像素区内第一表面距衬底层的垂直距离为h2，∣h1‑h2∣≤0.25μm。本发明能够提升彩膜基板的保护层的表面的平坦程度，在彩膜基板组装成显示面板时，能够使得第一像素区对应的液晶层的厚度与第二像素区对应的液晶层的厚度大致相同，改善应用时显示面板显示亮度不均的问题。

Description

彩膜基板及其制作方法、显示面板和显示装置

技术领域

本发明涉及显示技术领域，尤其涉及一种彩膜基板及其制作方法、显示面板和显示装置。

背景技术

随着显示技术的不断发展，液晶显示器以及有机发光显示器成为时下显示行业的主流产品，并处于日新月异的发展变革中，与此同时，消费者对显示器的要求也在日益提升，如超高分辨率显示、触控显示以及全面屏显示等，成为显示领域研究的热点和重要课题。

屏下光学组件的方案，由于其能够实现高屏占比以及高美观度而成为时下热点。将摄像头或者指纹识别组件设置在显示面板下方，在应用时光线需要穿透显示面板后才能够被光学组件所接收。所以为了保证光学组件的应用时的光学性能，则需要其对应位置处的显示面板具有足够的透光率，这就需要对显示面板的特定区域做结构上的改进。而在目前应用屏下光学元件方案的液晶显示技术中，存在显示亮度不均的问题。

发明内容

本发明实施例提供一种彩膜基板及其制作方法、显示面板和显示装置，以解决应用在屏下光学组件方案中时，显示区的显示亮度不均的问题。

第一方面，本发明实施例提供一种彩膜基板，彩膜基板包括第一像素区和至少半围绕第一像素区的第二像素区，第二像素区包括多个彩色子像素，第一像素区包括多个彩色子像素和多个高透子像素；

彩膜基板包括依次堆叠的衬底层、滤光层和保护层，保护层包括远离滤光层一侧的第一表面；第一像素区内第一表面距衬底层的垂直距离为h1，第二像素区内第一表面距衬底层的垂直距离为h2，其中，∣h1-h2∣≤0.25μm。

第二方面，本发明实施例提供一种彩膜基板的制作方法，彩膜基板包括第一像素区和至少半围绕第一像素区的第二像素区，第二像素区包括多个彩色子像素，第一像素区包括多个彩色子像素和多个高透子像素；制作方法包括：

提供衬底层；

在衬底层之上制作滤光层；

在滤光层之上整面涂布光感材料层；

采用半色调掩模对光感材料层进行曝光处理，并经显影工艺后形成保护层，其中，第一像素区对应的半色调掩模的透光率与第二像素区对应的半色调掩模的透光率不同，保护层包括远离滤光层一侧的第一表面；第一像素区内第一表面距衬底层的垂直距离为h1，第二像素区内第一表面距衬底层的垂直距离为h2，其中，∣h1-h2∣≤0.25μm。

第三方面，本发明实施例提供又一种彩膜基板的制作方法，彩膜基板包括第一像素区和至少半围绕第一像素区的第二像素区，第二像素区包括多个彩色子像素，第一像素区包括多个彩色子像素和多个高透子像素；制作方法包括：

提供衬底层；

在衬底层之上制作滤光层；

在滤光层之上整面涂布第一有机层；

在第一有机层之上整面涂布至少一层第二有机层，第一有机层和第二有机层形成保护层，保护层包括远离滤光层一侧的第一表面；第一像素区内第一表面距衬底层的垂直距离为h1，第二像素区内第一表面距衬底层的垂直距离为h2，其中，∣h1-h2∣≤0.25μm。

第四方面，本发明实施例提供一种显示面板，显示面板包括阵列基板和本发明任意实施例提供的彩膜基板，阵列基板和彩膜基板相对设置。

第五方面，本发明实施例提供一种显示装置，显示装置包括本发明任意实施例提供的显示面板，显示装置还包括光学组件，光学组件在显示面板所在平面的正投影与第一像素区交叠。

本发明实施例提供的彩膜基板及其制作方法、显示面板和显示装置，具有如下有益效果：本发明能够应用在屏下光学组件方案中，通过对彩膜基板的结构进行改进，使得第一像素区内保护层的表面距衬底层的垂直距离与第二像素区内保护层的表面距衬底层的垂直距离差异不大于0.25μm，提升保护层的表面的平坦程度，在彩膜基板组装成显示面板时，能够使得第一像素区对应的液晶层的厚度与第二像素区对应的液晶层的厚度大致相同，从而保证在相同驱动电压下两个像素区分别对应的液晶响应速率以及透光率大致相同，能够改善应用时显示面板显示亮度不均的问题。

附图说明

为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作一简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图是本发明的一些实施例，对于本领域技术人员来讲，在不付出创造性劳动性的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1为现有技术中一种彩膜基板的截面示意图；

图2为本发明实施例提供的一种彩膜基板的俯视示意图；

图3为图2中切线A-A'位置处一种截面示意图；

图4为本发明实施例提供的另一种彩膜基板的局部示意图；

图5为图4中切线B-B'位置处一种截面示意图；

图6为图4中切线B-B'位置处另一种截面示意图；

图7为图4中切线B-B'位置处另一种截面示意图；

图8为图4中切线B-B'位置处另一种截面示意图；

图9为图4中切线B-B'位置处另一种截面示意图；

图10为本发明实施例提供的一种彩膜基板的制作方法流程图；

图11为本发明实施例提供的另一种彩膜基板的制作方法流程图；

图12为本发明实施例提供的显示面板的截面示意图；

图13为本发明实施例提供的显示装置的截面示意图。

具体实施方式

为使本发明实施例的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。

在本发明实施例中使用的术语是仅仅出于描述特定实施例的目的，而非旨在限制本发明。在本发明实施例和所附权利要求书中所使用的单数形式的“一种”、“所述”和“该”也旨在包括多数形式，除非上下文清楚地表示其他含义。

在屏下光学组件的方案中，需要保证光学组件对应位置处的显示面板具有足够大的透光率。在液晶显示面板中则要求光学组件对应的显示区具有较高的开口率，现有技术的实现方式是将光学组件对应的显示区内的像素排布做特殊设计。图1为现有技术中一种彩膜基板的截面示意图，如图1所示，示意出了应用在屏下光学组件方案中时光学组件对应的显示区AA1，还示意出了正常的显示区AA2。彩膜基板包括衬底1、黑矩阵2、彩色色阻3以及保护层4。在显示区AA2内，黑矩阵2限定的开口均被彩色色阻3填充。而在显示区AA1内，黑矩阵2限定的部分开口被彩色色阻3填充，黑矩阵2限定的部分开口5不填充色阻，则开口5对应的位置处透光率较高，以用于保证显示区AA1整体的透光率。在彩膜基板制作时，在彩色色阻工艺之后，涂布保护层4，由于显示区AA1内开口5不填充色阻，则涂布保护层4时部分材料还需要填充到开口5内，在目前设计和工艺条件下，最终固化的保护层4无法形成平坦的表面。也即图1中示意的，显示区AA1位置处彩膜基板的厚度与显示区AA2位置处彩膜基板的厚度差异较大，一般情况下，显示区AA2位置处彩膜基板的厚度要比显示区AA1位置处彩膜基板的厚度小0.8～1.4μm。在彩膜基板组装成显示面板时，彩膜基板和阵列基板相对贴合，在彩膜基板和阵列基板之间的空间内灌入液晶分子。其中，保护层4位于靠近液晶分子的一侧，由于保护层4无法形成平坦的表面，导致显示区AA1和显示区AA2分别对应的液晶层的厚度不同，则在应用中导致在相同驱动电压下两个显示区分别对应的液晶响应速率、透光率存在差异，从而-导致显示区AA1和显示区AA2存在亮度差异，导致显示不均，影响显示效果。

基于此，本发明实施例提供一种彩膜基板，彩膜基板包括第一像素区，应用在屏下光学组件方案中第一像素区与光学组件所在区域相对应。通过对像素区内彩膜基板的结构进行改进，以减小第一像素区内彩膜基板和第二像素区内彩膜基板的厚度差异，改善应用时显示面板显示亮度不均的问题。

图2为本发明实施例提供的一种彩膜基板的俯视示意图，图3为图2中切线A-A'位置处一种截面示意图。如图2所示，彩膜基板包括第一像素区Q1和至少半围绕第一像素区Q1的第二像素区Q2，第二像素区Q2包括多个彩色子像素10，第一像素区Q1包括多个彩色子像素10和多个高透子像素20。其中，彩色子像素10包括红色子像素、绿色子像素和蓝色子像素。图2中仅以第二像素区Q2围绕第一像素区Q1进行示意。图2中第一像素区Q1的形状、第一像素区Q1内子像素的排布方式、以及第一像素区Q1内高透子像素20与彩色子像素10的大小关系仅做示意性表示，不作为对本发明的限定。另外，第一像素区Q1内彩色子像素10的尺寸与第二像素区Q2内彩色子像素10的尺寸可以相同也可以不同。在第一像素区Q1内设置高透子像素20，能够增大第一像素区Q1的透光率，应用在屏下光学组件方案中时，能够保证光学组件对应的显示区的透光率，以确保光学组件的光学性能。

如图3所示，彩膜基板包括依次堆叠的衬底层100、滤光层200和保护层300，图中仅简化示意出各层。其中，滤光层200包括彩色色阻，应用在液晶显示技术中，用以实现彩色显示。保护层300包括远离滤光层200一侧的第一表面M1；第一像素区Q1内第一表面M1距衬底层100的垂直距离为h1，第二像素区Q2内第一表面M1距衬底层100的垂直距离为h2，其中，∣h1-h2∣≤0.25μm。

本发明实施例提供的彩膜基板能够应用在屏下光学组件方案中，通过对彩膜基板的结构进行改进，使得第一像素区内保护层的表面距衬底层的垂直距离与第二像素区内保护层的表面距衬底层的垂直距离差异不大于0.25μm，可选的，第一像素区内保护层的表面距衬底层的垂直距离与第二像素区内保护层的表面距衬底层的垂直距离基本相等。本发明实施例提供的彩膜基板，能够提升保护层的表面的平坦程度，在彩膜基板组装成显示面板时，能够使得第一像素区对应的液晶层的厚度与第二像素区对应的液晶层的厚度大致相同，从而保证在相同驱动电压下两个像素区分别对应的液晶响应速率以及透光率大致相同，能够改善应用时显示面板显示亮度不均的问题。

本发明实施例中彩膜基板结构的改进方式包括：在彩色色阻工艺之后，采用至少涂布两次保护层材料的方式，增大保护层材料的涂布量以形成保护层；设置第一像素区内彩色色阻的厚度大于第二像素区内彩色色阻的厚度；设置第一像素区内黑矩阵的厚度大于第二像素区内黑矩阵的厚度；在第一像素区内的彩色子像素中设置量子点；采用光感材料制作保护层，然后采用曝光-显影工艺对保护层进行处理，以使得保护层的表面尽量平坦化；设置第一像素区内高透子像素包括白色色阻。彩膜基板的滤光层包括黑矩阵和彩色色阻，其中，黑矩阵中延伸方向不同的遮光条交叉限定出多个开口，一个子像素对应一个开口。

下面在具体的实施例中对本发明实施例中彩膜基板的具体结构以及制作方法进行详细的举例说明。

在一些实施方式中，在高透子像素包括的开口内不填充色阻，高透子像素包括的开口被保护层的材料填充。通过增大第一像素区内其他结构(彩色色阻、黑矩阵)的厚度、或者在第一像素区内彩色子像素中设置量子点，以弥补第一像素区内保护层材料涂布时需要填充的空间。

具体的，图4为本发明实施例提供的另一种彩膜基板的局部示意图，图4中示意出了局部的第一像素区Q1和局部的第二像素区Q2。滤光层200包括黑矩阵210和彩色色阻220；黑矩阵210包括在第一方向x延伸的多个第一遮光条11和在第二方向y延伸的多个第二遮光条12，第一方向x和第二方向y交叉，典型的，第一方向x和第二方向y相互垂直。多个第一遮光条11和多个第二遮光条12交叉限定出多个开口13，一个子像素包括一个开口13；也即彩色子像素10和高透子像素20均包括开口13。

在一种实施例中，图5为图4中切线B-B'位置处一种截面示意图。如图5所示的，彩色子像素10包括的开口(未标示)被彩色色阻220填充，高透子像素20包括的开口13被保护层300的材料填充。在垂直于彩膜基板方向z上，第一像素区Q1内的彩色色阻220的厚度d1大于第二像素区Q2内的彩色色阻220的厚度d2。具体的，彩色色阻220包括红色色阻、绿色色阻和蓝色色阻，不同颜色的色阻制作材料不同。其中，红色子像素包括的开口被红色色阻填充，绿色子像素包括的开口被绿色色阻填充，蓝色子像素包括的开口被蓝色色阻填充。在彩膜基板制作时，首先提供衬底层100、在衬底层100上制作黑矩阵210，然后制作彩色色阻220。其中，同种颜色的色阻在同一工艺中制作，也就是说，比如依次制作红色色阻、绿色色阻和蓝色色阻，在制作红色色阻时，第一像素区Q1内红色子像素对应的开口、以及第二像素区Q2内红色子像素对应的开口均相应的被红色色阻填充。通过对色阻的制作工艺进行控制，以实现第一像素区Q1内彩色色阻的厚度大于第二像素区Q2内彩色色阻的厚度。

本发明一种实施例中，第一像素区Q1内红色色阻的厚度大于第二像素区Q2内红色色阻的厚度。本发明另一种实施例中，第一像素区Q1内绿色色阻的厚度大于第二像素区Q2内绿色色阻的厚度。本发明另一种实施例中，第一像素区Q1内蓝色色阻的厚度大于第二像素区Q2内蓝色色阻的厚度。本发明另一种实施例中，第一像素区Q1内三种颜色色阻的厚度均分别大于第二像素区Q2内相应颜色色阻的厚度。本发明实施例中设置第一像素区Q1内彩色色阻的厚度d1大于第二像素区Q2内彩色色阻d2的厚度，通过增大第一像素区Q1内彩色色阻的厚度，以减小保护层材料涂布时第一像素区Q1内保护层材料需要填充的空间，以实现在现有的工艺条件下，制作形成的保护层300具有相对平坦的表面，满足∣h1-h2∣≤0.25μm，提升保护层的表面的平坦程度，在彩膜基板组装成显示面板时，能够使得第一像素区对应的液晶层的厚度与第二像素区对应的液晶层的厚度大致相同，从而保证在相同驱动电压下两个像素区分别对应的液晶响应速率以及透光率大致相同，，能够改善应用时显示面板显示亮度不均的问题。

在另一种实施例中，图6为图4中切线B-B'位置处另一种截面示意图。如图6所示的，彩色子像素10包括的开口(未标示)被彩色色阻220填充，高透子像素20包括的开口13被保护层300的材料填充。在垂直于彩膜基板方向z上，第一像素区Q1内的黑矩阵210的厚度d3大于第二像素区Q2内的黑矩阵210的厚度d4。该实施方式中，通过增大第一像素区Q1内黑矩阵210的厚度，以弥补保护层材料涂布时第一像素区Q1内保护层材料需要填充的空间，以实现在现有的工艺条件下，制作形成的保护层300具有相对平坦的表面，满足∣h1-h2∣≤0.25μm，提升保护层的表面的平坦程度，在彩膜基板组装成显示面板时，能够使得第一像素区对应的液晶层的厚度与第二像素区对应的液晶层的厚度大致相同，从而保证在相同驱动电压下两个像素区分别对应的液晶分子的响应速率以及透光率大致相同，改善显示面板显示亮度不均的问题。

在另一种实施例中，图7为图4中切线B-B'位置处另一种截面示意图。如图7所示的，彩色子像素10包括的开口被彩色色阻220填充，高透子像素20包括的开口13被保护层300的材料填充。在垂直于彩膜基板方向z上，第一像素区Q1内的彩色色阻220的厚度d1大于第二像素区Q2内的彩色色阻220的厚度d2，且第一像素区Q1内的黑矩阵210的厚度d3大于第二像素区Q2内的黑矩阵210的厚度d4。该实施方式中，通过增大第一像素区Q1内黑矩阵210的厚度以及增大第一像素区Q1内彩色色阻的厚度，与增加第一像素区Q1内单一结构的厚度相比，能够进一步弥补保护层材料涂布时第一像素区Q1内保护层材料需要填充的空间，以实现在现有的工艺条件下制作的保护层的表面更加平坦，在彩膜基板组装成显示面板时，能够使得第一像素区对应的液晶层的厚度与第二像素区对应的液晶层的厚度大致相同，改善显示面板显示亮度不均的问题。

在另一种实施例中，图8为图4中切线B-B'位置处另一种截面示意图。如图8所示的，彩色子像素10包括的开口被彩色色阻220填充，高透子像素20包括的开口13被保护层300的材料填充。在第一像素区Q1内：彩色子像素10还包括量子点14，量子点14位于彩色色阻220和保护层300之间，其中，在单个彩色子像素10中量子点14的颜色和彩色色阻220的颜色相同。也即，在第一像素区Q1内：红色子像素包括红色量子点，绿色子像素包括绿色量子点，蓝色子像素包括蓝色量子点。该实施方式在第一像素区Q1内的彩色子像素中彩色色阻220之上设置量子点14，能够弥补保护层材料涂布时第一像素区Q1内保护层材料需要填充的空间，使得保护层的表面更加平坦，在彩膜基板组装成显示面板时，能够使得第一像素区对应的液晶层的厚度与第二像素区对应的液晶层的厚度大致相同，改善显示面板显示亮度不均的问题。同时，在第一像素区Q1内彩色子像素10中设置量子点14，在应用中显示面板中能够增加第一像素区Q1内彩色子像素10的显示纯度，提升第一像素区Q1的显示效果。

在一些实施方式中，在高透子像素包括的开口内填充白色色阻。具体的，图9为图4中切线B-B'位置处另一种截面示意图。如图9所示的，滤光层还包括白色色阻230，彩色子像素10包括的开口被彩色色阻220填充，高透子像素20包括的开口被白色色阻230填充。该实施方式中，设置高透子像素包括白色色阻，在完成滤光层200工艺之后，第一像素区Q1和第二像素区Q2的远离衬底层100一侧的表面高度差异较小，再制作保护层时，在第一像素区Q1内涂布的保护层材料也不需要额外填充开口，则固化成型后的保护层能够具有较平坦的表面，使得第一像素区Q1内保护层300的第一表面距衬底层的垂直距离与第二像素区Q2内保护层300的第一表面距衬底层的垂直距离差异较小，提升保护层的表面的平坦程度，在彩膜基板组装成显示面板时，能够使得第一像素区对应的液晶层的厚度与第二像素区对应的液晶层的厚度大致相同，改善显示面板显示亮度不均的问题。。

在一些实施方式中，通过增加保护层材料的涂布量，以减小保护层材料填充高透子像素的开口后导致的第一像素区内和第二像素区内保护层的外表面(也即上面实施例中第一表面)距衬底层的段差。比如制作时多次涂布保护层材料，以依靠保护层成型过程中的流动性，来减小保护层固化后第一像素区的彩膜基板和第二像素区的彩膜基板的厚度差异。具体的，图10为本发明实施例提供的一种彩膜基板的制作方法流程图，如图10所示，制作方法包括：

步骤S101：提供衬底层100。

步骤S102：在衬底层100之上制作滤光层200；具体的，滤光层200包括黑矩阵210和彩色色阻220，可参考上述图4中的示意来理解滤光层200的结构。黑矩阵210包括在第一方向x延伸的多个第一遮光条11和在第二方向y延伸的多个第二遮光条12，第一方向x和第二方向y交叉，多个第一遮光条11和多个第二遮光条12交叉限定出多个开口13，一个子像素包括一个开口13。彩色子像素10包括的开口(未标示)被彩色色阻220填充，高透子像素20包括的开口13不被色阻填充。具体的，在制作滤光层时，首先在衬底层100上制作黑矩阵210，然后制作彩色色阻220，其中，同种颜色的色阻在同一工艺中制作，比如依次制作红色色阻、绿色色阻和蓝色色阻，在制作红色色阻时，第一像素区Q1内红色子像素对应的开口、以及第二像素区Q2内红色子像素对应的开口均相应的被红色色阻填充。

步骤S103：在滤光层200之上整面涂布第一有机层310；如图中示意的，在涂布第一有机层310时，第一有机层310的有机材料填充高透子像素20的开口13。而由于一次涂布的有机材料不能过厚，并且高透子像素20所在的第一像素区需要相对较多的有机材料，虽然在涂布有机材料的初期有机材料具有一定的流动性，但随着有机材料逐渐固化形成第一有机层310，第一有机层310的外表面不能形成平坦的表面，高透子像素20所在的第一像素区内有机层的外表面距衬底层100的距离相对较小。

步骤S104：在第一有机层310之上整面涂布第二有机层320。在第一有机层310之上再次涂布有机材料，再次涂布的有机材料不需要填充开口，且有机材料具有一定的流动性，有机材料逐渐固化之后形成的第二有机层320能够形成一个相对平坦的表面。第一有机层310和第二有机层320形成保护层300。其中，第一有机层310和第二有机层320的制作材料相同。保护层300包括远离滤光层200一侧的第一表面(未示出)；第一像素区Q1内第一表面距衬底层100的垂直距离为h1，第二像素区Q2内第一表面距衬底层100的垂直距离为h2，其中，∣h1-h2∣≤0.25μm。

图10实施例中示意了在滤光层200之上涂布两次有机层以形成保护层300。可选的，根据每次涂布的有机层的厚度不同，可以增加有机层的涂布次数，比如涂布三次有机层以形成最终的保护层300。具体的，每次涂布有机层的厚度大约为1～1.4μm。可选的，每次涂布有机层的厚度大约为1.2μm。采用多次涂布有机层的方式来制作保护层，以使得保护层的远离衬底层的一侧具有相对平坦的表面，在彩膜基板组装成显示面板时，能够使得第一像素区对应的液晶层的厚度与第二像素区对应的液晶层的厚度大致相同，在应用中保证在相同驱动电压下两个像素区分别对应的液晶响应速率以及透光率大致相同，改善显示面板显示亮度不均的问题。这种多次涂布有机层的制作方式，每次涂布有机层的厚度相对较薄，避免一次涂布较厚的有机层导致有机层加热固化时局部区域应力无法释放，而导致局部粘合性差。也就是说，本发明提供的制作方法还能够保证保护层与滤光层之间接触粘结的可靠性。

在另一种实施例中，保护层300的制作材料包括光感材料。在滤光层200工艺之后采用光感材料制作保护层300，光感材料对特定波长的光敏感，通过曝光-显影工艺能够对光感材料层进行处理，以减小第二像素区Q2内光感材料层的厚度，形成最终的保护层300，使得第一像素区Q1内保护层300的第一表面距衬底层的垂直距离与第二像素区Q2内保护层300的第一表面距衬底层的垂直距离差异较小，提升保护层的表面的平坦程度，在彩膜基板组装成显示面板时，能够使得第一像素区对应的液晶层的厚度与第二像素区对应的液晶层的厚度大致相同，从而保证在相同驱动电压下两个像素区分别对应的液晶响应速率以及透光率大致相同，改善应用时显示面板显示亮度不均的问题。

具体的，图11为本发明实施例提供的另一种彩膜基板的制作方法流程图，如图11所示，制作方法包括：

步骤S201：提供衬底层100；

步骤S202：在衬底层100之上制作滤光层200；具体的，滤光层200包括黑矩阵210和彩色色阻220，可参考上述图4中的示意来理解滤光层200的结构。黑矩阵210限定出多个开口，彩色子像素10包括的开口被彩色色阻220填充，高透子像素20包括的开口13不被色阻填充。

步骤S203：在滤光层200之上整面涂布光感材料层330。由于一次涂布的光感材料不能过厚，并且高透子像素20所在的第一像素区需要相对较多的有机材料以填充高透子像素20的开口13。所以虽然在涂布光感材料的初期光感材料具有一定的流动性，但其外表面(远离衬底层100一侧的表面)仍然不能形成平坦的表面。

步骤S204：采用半色调掩模400对光感材料层330进行曝光处理，并经显影工艺后形成保护层300，其中，第一像素区Q1对应的半色调掩模400的透光率与第二像素区Q2对应的半色调掩模400的透光率不同。其中，光感材料层330中的光感材料可以是正性光感材料也可以为负性光感材料。以光感材料层330中的光感材料是正性光感材料为例，则设置第一像素区Q1对应的半色调掩模400的透光率小于第二像素区Q2对应的半色调掩模400的透光率，在经过曝光处理之后，第二像素区Q2内光感材料层330发生光化学反应。则在显影工艺中，发生光化学反应的光感材料能够在显影液中软化并溶解，从而能够减小第二像素区Q2内光感材料层330的厚度，最终形成保护层300。保护层300包括远离滤光层200一侧的第一表面(未示出)；在经步骤S204之后，第一像素区Q1内第一表面距衬底层100的垂直距离为h1，第二像素区Q2内第一表面距衬底层100的垂直距离为h2，其中，∣h1-h2∣≤0.25μm。

该实施方式提供的制作方法中，保护层材料光感材料制作，通过曝光-显影工艺对光感材料层进行处理以使得保护层的远离衬底层的一侧具有相对平坦的表面，在彩膜基板组装成显示面板时，能够使得第一像素区对应的液晶层的厚度与第二像素区对应的液晶层的厚度大致相同，从而保证在相同驱动电压下两个像素区分别对应的液晶响应速率以及透光率大致相同，改善应用时显示面板显示亮度不均的问题。

具体的，在第一像素区Q1内，高透子像素20的面积大于彩色子像素10的面积。在第一像素区Q1内高透子像素20均匀分布。通过在第一像素区Q1内设置高透子像素20能够增大第一像素区Q1的透光率，设置高透子像素20的面积相对较大，能够减小第一像素区Q1内黑矩阵占据的面积，能够保证第一像素区Q1的开口率，在有效的空间内设置高透子像素20的同时也确保彩色子像素10设置密度满足显示的需求。

在一种实施例中，高透子像素20的面积为彩色子像素10面积的4倍。

进一步的，本发明实施例还提供一种显示面板，图12为本发明实施例提供的显示面板的截面示意图，如图12所示，显示面板包括相对设置的阵列基板001和彩膜基板002，彩膜基板002为本发明任意实施例提供的彩膜基板，在彩膜基板002和阵列基板001之间还设置有液晶层003。

进一步的，本发明实施例还提供一种显示装置，图13为本发明实施例提供的显示装置的截面示意图，如图13所示，显示装置包括本发明实施例提供的显示面板00，显示装置还包括光学组件004，光学组件004在显示面板00所在平面的正投影与第一像素区Q1交叠。在一种实施例中，光学组件004为摄像头。在另一种实施例中，光学组件004为指纹识别组件。本发明实施例中显示装置可以是例如手机、平板计算机、笔记本电脑、电纸书、电视机、智能穿戴产品等任何具有显示功能的设备。

以上所述仅为本发明的较佳实施例而已，并不用以限制本发明，凡在本发明的精神和原则之内，所做的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本发明保护的范围之内。

最后应说明的是：以上各实施例仅用以说明本发明的技术方案，而非对其限制；尽管参照前述各实施例对本发明进行了详细的说明，本领域技术人员应当理解：其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分或者全部技术特征进行等同替换；而这些修改或者替换，并不使相应技术方案的本质脱离本发明各实施例技术方案的范围。

Claims (12)

1.一种彩膜基板，其特征在于，所述彩膜基板包括第一像素区和至少半围绕所述第一像素区的第二像素区，所述第二像素区包括多个彩色子像素，所述第一像素区包括多个彩色子像素和多个高透子像素；

所述彩膜基板包括依次堆叠的衬底层、滤光层和保护层，所述保护层包括远离所述滤光层一侧的第一表面；所述第一像素区内所述第一表面距所述衬底层的垂直距离为h1，所述第二像素区内所述第一表面距所述衬底层的垂直距离为h2，其中，∣h1-h2∣≤0.25μm。

2.根据权利要求1所述的彩膜基板，其特征在于，

所述滤光层包括黑矩阵和彩色色阻；所述黑矩阵包括在第一方向延伸的多个第一遮光条和在第二方向延伸的多个第二遮光条，所述第一方向和所述第二方向交叉，多个所述第一遮光条和多个所述第二遮光条交叉限定出多个开口，一个子像素包括一个所述开口；

所述彩色子像素包括的所述开口被所述彩色色阻填充，所述高透子像素包括的所述开口被所述保护层的材料填充。

3.根据权利要求2所述的彩膜基板，其特征在于，

在垂直于所述彩膜基板方向上，所述第一像素区内的所述彩色色阻的厚度大于所述第二像素区内的所述彩色色阻的厚度。

4.根据权利要求2或3所述的彩膜基板，其特征在于，

在垂直于所述彩膜基板方向上，所述第一像素区内的所述黑矩阵的厚度大于所述第二像素区内的所述黑矩阵的厚度。

5.根据权利要求2所述的彩膜基板，其特征在于，

在所述第一像素区内：所述彩色子像素还包括量子点，所述量子点位于所述彩色色阻和所述保护层之间，其中，在单个所述彩色子像素中所述量子点的颜色和所述彩色色阻的颜色相同。

6.根据权利要求1所述的彩膜基板，其特征在于，

所述滤光层包括黑矩阵、彩色色阻和白色色阻；所述黑矩阵包括在第一方向延伸的多个第一遮光条和在第二方向延伸的多个第二遮光条，所述第一方向和所述第二方向交叉，多个所述第一遮光条和多个所述第二遮光条交叉限定出多个开口，一个子像素包括一个所述开口；

所述彩色子像素包括的所述开口被所述彩色色阻填充，所述高透子像素包括的所述开口被所述白色色阻填充。

7.根据权利要求1所述的彩膜基板，其特征在于，

在所述第一像素区内，所述高透子像素的面积大于所述彩色子像素的面积。

8.根据权利要求1所述的彩膜基板，其特征在于，

所述保护层的制作材料包括光感材料。

9.一种彩膜基板的制作方法，其特征在于，所述彩膜基板包括第一像素区和至少半围绕所述第一像素区的第二像素区，所述第二像素区包括多个彩色子像素，所述第一像素区包括多个彩色子像素和多个高透子像素；所述制作方法包括：

提供衬底层；

在所述衬底层之上制作滤光层；

在所述滤光层之上整面涂布光感材料层；

采用半色调掩模对所述光感材料层进行曝光处理，并经显影工艺后形成保护层，其中，所述第一像素区对应的所述半色调掩模的透光率与所述第二像素区对应的所述半色调掩模的透光率不同，所述保护层包括远离所述滤光层一侧的第一表面；所述第一像素区内所述第一表面距所述衬底层的垂直距离为h1，所述第二像素区内所述第一表面距所述衬底层的垂直距离为h2，其中，∣h1-h2∣≤0.25μm。

10.一种彩膜基板的制作方法，其特征在于，所述彩膜基板包括第一像素区和至少半围绕所述第一像素区的第二像素区，所述第二像素区包括多个彩色子像素，所述第一像素区包括多个彩色子像素和多个高透子像素；所述制作方法包括：

提供衬底层；

在所述衬底层之上制作滤光层；

在所述滤光层之上整面涂布第一有机层；

在所述第一有机层之上整面涂布至少一层第二有机层，所述第一有机层和所述第二有机层形成保护层，所述保护层包括远离所述滤光层一侧的第一表面；所述第一像素区内所述第一表面距所述衬底层的垂直距离为h1，所述第二像素区内所述第一表面距所述衬底层的垂直距离为h2，其中，∣h1-h2∣≤0.25μm。

11.一种显示面板，其特征在于，包括阵列基板和如权利要求1至8任一项所述的彩膜基板，所述阵列基板和所述彩膜基板相对设置。

12.一种显示装置，其特征在于，包括权利要求11所述的显示面板，所述显示装置还包括光学组件，所述光学组件在所述显示面板所在平面的正投影与所述第一像素区交叠。

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