CN114637417A - 显示装置 - Google Patents

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金美英
朴昭妍
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Samsung Display Co Ltd
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Abstract

本公开涉及一种显示装置。所述显示装置包括：显示区域，在所述显示区域中布置有红色子像素、绿色子像素和蓝色子像素；和触摸感测层，包括导电图案，所述导电图案包括：触摸电极，在所述显示区域中布置在行方向和列方向上，和迹线，分别电连接到所述触摸电极，并且在所述显示区域中在所述列方向上延伸。这里，所述导电图案包括沿着所述行方向布置的触摸图案单元块，所述多个触摸图案单元块中的每一个包括所述多条迹线的一些部分以及所述多个触摸电极之中的至少一个触摸电极，并且所述触摸图案单元块具有与像素单元块的尺寸的整数倍相对应的尺寸，其中所述像素单元块是所述红色子像素、所述绿色子像素和所述蓝色子像素的最小重复单元。

Description

显示装置
相关申请的交叉引用
本申请基于并且要求于2020年12月16日在韩国知识产权局提交的第10-2020-0176601号韩国专利申请的优先权，上述韩国专利申请的公开内容通过引用全部包含于此。
技术领域
一个或多个实施例涉及一种显示装置。
背景技术
随着显示装置变得便携，显示装置已经被设计为具有各种功能。各种功能中的一种可以包括触摸输入功能。显示装置可以识别与显示装置的表面接触的用户的手指或诸如触控笔的输入装置的位置。
发明内容
显示装置可以包括用于实现如上面所描述的触摸功能的电极，并且在形成触摸电极之后，可以执行用于检验缺陷的检查。缺陷检查可以经由通过使用照相机拍摄具有一定尺寸的图像并比较所拍摄的图像来执行，并且当拍摄到图像时，触摸电极下面的元件可能引起光干扰，并且因此，通过使用所拍摄的图像检测缺陷可能是不容易的。一个或多个实施例包括一种显示装置，在所述显示装置中可以容易地执行缺陷检查并且所述显示装置具有改善的显示质量。然而，上面的技术特征是示例，并且本公开的范围不限于此。
附加方面将在下面的描述中部分地阐述，并且部分地通过描述将会是明显的，或者可以通过实践所提供的本公开的实施例来获知。
根据实施例，一种显示装置包括：显示区域，在所述显示区域中布置有红色子像素、绿色子像素和蓝色子像素；和触摸感测层，包括导电图案，所述导电图案包括：多个触摸电极，在所述显示区域中布置在行方向和列方向上，和多条迹线，分别电连接到所述多个触摸电极，并且在所述显示区域中在所述列方向上延伸，其中，所述触摸感测层的所述导电图案包括沿着所述行方向布置的多个触摸图案单元块，所述多个触摸图案单元块中的每一个包括所述多条迹线的一些部分以及所述多个触摸电极之中的至少一个触摸电极，并且所述触摸图案单元块具有与像素单元块的尺寸的整数倍相对应的尺寸，其中所述像素单元块是所述红色子像素、所述绿色子像素和所述蓝色子像素的最小重复单元。
所述显示装置还可以包括：多个间隔件，在所述显示区域中彼此间隔开。
所述多个间隔件中的至少一个可以与所述多条迹线中的至少一条重叠。
所述多个触摸电极中的每一个可以具有多边形形状。
所述多个触摸电极中的每一个可以具有之字形边缘，并且所述触摸图案单元块可以包括两个邻近的触摸电极的一些部分。
所述多条迹线中的一条可以经由桥接线电连接到所述多个触摸电极中的一个，并且所述多条迹线中的至少一条迹线可以包括与所述桥接线相对应的区中的断开部分。
所述显示装置还可以包括：虚拟触摸电极，分别设置为邻近于所述多个触摸电极。
所述虚拟触摸电极中的每一个的宽度可以小于所述像素单元块的宽度。
所述触摸图案单元块可以与K行和L列(这里，K和L是正整数)的像素单元块重叠，并且所述多条迹线中的一些可以对应于所述像素单元块的所述L列中的一列。
所述多条迹线中的一些可以包括彼此间隔开的多条第一金属线，并且所述多条第一金属线中的每一条可以设置在与所述L列中的所述一列相对应的所述像素单元块中的邻近的子像素之间。
一个触摸电极的至少一部分可以包括连接到彼此的多条第二金属线，并且设置为对应于所述K行和所述L列的所述像素单元块之中的第a行和第b列(这里，a是小于K的正整数，并且b是小于L的正整数)处的所述像素单元块。
根据另一实施例，一种显示装置包括：显示区域，在所述显示区域中布置有红色子像素、绿色子像素和蓝色子像素；多个间隔件，在所述显示区域中；导电图案层，包括导电图案，所述导电图案包括：多个触摸电极，在所述显示区域中布置在行方向和列方向上，和多条迹线，电连接到所述多个触摸电极并且在所述显示区域中在所述列方向上延伸；第一绝缘层，在所述导电图案层下面；以及第二绝缘层，在所述导电图案层上面，其中，所述导电图案层的所述导电图案包括具有所述多条迹线的一些部分以及所述多个触摸电极之中的至少一个触摸电极的所述多个触摸图案单元块中的每一个，所述多个触摸电极之中的沿着所述行方向布置的所述多个触摸电极分别电连接到不同的迹线，并且所述触摸图案单元块具有与作为所述红色子像素、所述绿色子像素和所述蓝色子像素的最小重复单元的像素单元块的尺寸的整数倍相对应的尺寸。
所述多个间隔件中的至少一个可以与所述多条迹线中的至少一条重叠。
所述多个触摸电极中的每一个可以具有多边形形状。
所述多个触摸电极中的每一个可以具有之字形边缘，并且所述触摸图案单元块可以包括两个邻近的触摸电极的一些部分。
所述多条迹线中的一条可以经由桥接线电连接到所述多个触摸电极中的一个，并且所述多条迹线中的至少一条迹线可以包括与所述桥接线相对应的区中的断开部分。
所述显示装置还可以包括：虚拟触摸电极，分别设置为邻近于所述多个触摸电极，其中，所述触摸图案单元块可以包括所述虚拟触摸电极中的一个的至少一部分。
所述虚拟触摸电极中的所述一个的宽度可以小于所述像素单元块的宽度。
所述触摸图案单元块可以与K行和L列(这里，K和L是正整数)的像素单元块重叠，并且所述多条迹线中的一些可以包括多条第一金属线，所述多条第一金属线对应于所述像素单元块的所述L列中的一列并且彼此间隔开。
所述多条第一金属线中的每一条可以设置在与所述L列中的所述一列相对应的所述像素单元块中的邻近的子像素之间。
通过附图、权利要求和详细描述，本公开的其它方面、特征和优点将变得更好地理解。
附图说明
通过结合附图进行的以下描述，本公开的某些实施例的上面和其它方面、特征和优点将更明显，在附图中：
图1是根据实施例的显示装置的平面图；
图2是沿着图1的线II-II截取的显示装置的截面图；
图3是示出图2的基底、显示层、封装层和触摸感测层的截面图；
图4A和图4B是根据实施例的显示装置中的子像素的平面图；
图5是根据实施例的显示装置的触摸感测层中的导电图案层的平面图；
图6是示出图5中的区VI的放大图的平面图；
图7是图5的导电图案层中的触摸图案单元块的平面图；
图8是根据实施例的显示装置的触摸感测层中的导电图案层的平面图；
图9是示出根据实施例的包括在触摸感测层的导电图案中的一个触摸图案单元块的放大图的平面图；
图10是示出根据实施例的包括在触摸感测层的导电图案中的一个触摸图案单元块的放大图的平面图；
图11是根据实施例的显示装置的触摸感测层中的导电图案层的平面图；
图12是图11的导电图案层中的触摸图案单元块的平面图；
图13是示出根据实施例的包括在触摸感测层的导电图案中的一个触摸图案单元块的放大图的平面图；并且
图14是示出根据实施例的包括在触摸感测层的导电图案中的一个触摸图案单元块的放大图的平面图。
具体实施方式
现在将详细参考其示例在附图中被示出的实施例，在附图中，同样的附图标记始终指代同样的元件。在这方面，本实施例可以具有不同的形式，并且不应被解释为限于本文中所阐述的描述。如本文中所使用的，术语“和/或”包括一个或多个相关所列项的任意组合和所有组合。在整个公开中，表述“a、b和c中的至少一个”表示仅a、仅b、仅c、a和b两者、a和c两者、b和c两者、a、b和c的全部或者它们的变体。
尽管本公开允许各种改变和众多实施例，但是将在附图中示出并在书面描述中详细描述特定实施例。参考用于说明一个或多个实施例的附图，以便获得一个或多个实施例的充分的理解、优点以及通过实施而实现的目标。然而，实施例可以具有不同的形式，并且不应被解释为限于本文中所阐述的描述。
下面将参照附图更详细地描述实施例。相同或对应的那些组件被表示为相同的附图标记而不论图号如何，并且省略冗余说明。
尽管可以使用诸如“第一”、“第二”等的这样的术语来描述各种组件，但是这样的组件不限于上面的术语。上面的术语仅用于将一个组件与另一组件区分开。
以单数形式使用的表述涵盖复数表述，除非它在上下文中具有明显不同的含义。
在本说明书中，将理解的是，术语“包括”、“具有”和“包含”旨在说明存在本说明书中公开的特征、数字、步骤、动作、组件、部分或它们的组合，并且不旨在排除一个或多个其它特征、数字、步骤、动作、组件、部分或它们的组合可能存在或可能被添加的可能性。
将理解的是，当层、区或组件被称为“形成在”另一层、区或组件“上”时，所述层、区或组件可以直接或间接形成在所述另一层、区或组件上。也就是说，例如，可以存在居间层、居间区或居间组件。
当某个实施例可以被不同地实施时，可以与所描述的顺序不同地执行特定的处理顺序。例如，两个连续地描述的处理可以基本上同时执行或以与所描述的顺序相反的顺序执行。
在下面的实施例中，当层、区域、或元件等被称为“连接”时，将理解的是，它们可以直接连接或者在层、区域、或元件之间可以存在居间部分。例如，当层、区域或元件等被称为“电连接”时，它们可以直接电连接或者层、区域或元件可以间接地电连接，并且可以存在居间部分。
图1是示出根据实施例的显示装置的截面图，并且图2是沿着图1的线II-II截取的显示装置的截面图。
参考图1，显示装置包括显示区域DA和非显示区域NDA。包括诸如发光二极管的显示元件的子像素设置在显示区域DA中以提供某些图像。非显示区域NDA不提供图像，并且可以围绕显示区域DA。用于提供施加到显示区域DA中的子像素的电信号的扫描驱动器和数据驱动器以及用于提供诸如驱动电压或公共电压的电力的电源线设置在非显示区域NDA中。
如图2中所示，显示装置包括形成在基底100上的显示区域DA中的显示层200。基底100可以包括各种材料，例如，玻璃材料、金属材料、诸如聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)、聚萘二甲酸乙二醇酯(PEN)、聚酰亚胺等的塑料材料。显示层200包括各自包括发光二极管的子像素，并且可以提供特定图像。
封装层300可以覆盖显示层200。封装层300可以保护显示层200免受外部湿气、氧气等的影响。触摸感测层400可以设置在封装层300上。
触摸感测层400可以包括具有导电性的多个触摸电极。例如，触摸感测层400可以是电容式触摸传感器。触摸感测层400可以通过利用当物体(诸如用户的手指)接近或接触触摸感测层400的表面时产生的电容的变化来感测物体接近或接触所在的位置的坐标。
光学功能层500可以设置在触摸感测层400上。光学功能层500可以包括防反射层。防反射层可以包括延迟器和偏振器，或者可以包括黑矩阵和滤色器。
覆盖窗700可以设置在光学功能层500上，粘合剂层600设置在光学功能层500与覆盖窗700之间。粘合剂层600可以包括光学透明粘合剂(OCA)。
覆盖窗700可以包括柔性窗。例如，覆盖窗700可以包括诸如聚酰亚胺的塑料窗或超薄玻璃窗。
图3是示出图2的基底100、显示层200、封装层300和触摸感测层400的截面图。
参考图3，显示层200设置在基底100上，并且显示层200可以包括发光二极管250R、250B和250G，发光二极管250R、250B和250G中的每一个设置在每个子像素中。发光二极管250R、250B和250G中的每一个电连接到薄膜晶体管TFT和存储电容器Cst。
薄膜晶体管TFT可以包括半导体层120、与半导体层120的部分区(沟道区)重叠的栅极电极140、以及连接到半导体层120的源极电极160和漏极电极162。半导体层120可以包括诸如硅的无机半导体、有机半导体或氧化物半导体材料。半导体层120可以具有源极区、漏极区和设置在源极区与漏极区之间的沟道区。
栅极电极140可以与半导体层120的沟道区重叠。栅极电极140可以具有包括铝(Al)、铂(Pt)、钯(Pd)、银(Ag)、镁(Mg)、金(Au)、镍(Ni)、钕(Nd)、铱(Ir)、铬(Cr)、锂(Li)、钙(Ca)、钼(Mo)、钛(Ti)、钨(W)和铜(Cu)中的一种或多种材料的单层或多层结构。
缓冲层110可以设置在半导体层120与基底100之间，以便防止杂质渗透到显示层200中。栅极绝缘层130可以设置在半导体层120与栅极电极140之间，并且层间绝缘层150设置在栅极电极140上。缓冲层110、栅极绝缘层130和/或层间绝缘层150可以包括包含如上陈述的材料的单层或多层结构的无机绝缘材料，诸如氧化硅(SiOx)、氮化硅(SiNx)和氮氧化硅(SiOxNy)。
源极电极160和漏极电极162可以设置在层间绝缘层150上并且可以分别连接到半导体层120的源极区和漏极区。源极电极160和漏极电极162可以各自具有包括铝(Al)、铂(Pt)、钯(Pd)、银(Ag)、镁(Mg)、金(Au)、镍(Ni)、钕(Nd)、铱(Ir)、铬(Cr)、锂(Li)、钙(Ca)、钼(Mo)、钛(Ti)、钨(W)和铜(Cu)中的一种或多种材料的单层或多层结构。
存储电容器Cst可以包括下部电极142和上部电极164。下部电极142包括与栅极电极140的材料相同的材料并且上部电极164可以包括与源极电极160或漏极电极162的材料相同的材料，但是一个或多个实施例不限于此。
薄膜晶体管TFT和存储电容器Cst可以被平坦化绝缘层170覆盖。平坦化绝缘层170可以包括有机绝缘材料。有机绝缘材料可以包括诸如一般通用聚合物(PMMA、PS)、具有酚基团的聚合物衍生物、丙烯酸类聚合物、酰亚胺类聚合物、芳基醚类聚合物、酰胺类聚合物、氟类聚合物、对二甲苯类聚合物、乙烯醇类聚合物等的材料以及它们的共混物。在一些实施例中，平坦化绝缘层170可以包括无机绝缘材料和有机绝缘材料两者。
发光二极管250R、250B和250G可以设置在平坦化绝缘层170上。发光二极管250R、250B和250G中的每一个可以经由限定在平坦化绝缘层170中的接触孔电连接到薄膜晶体管TFT。图3示出了发光二极管250R、250B和250G是有机发光二极管的示例。
发光二极管250R、250B和250G可以发射不同颜色的光。红色发光二极管250R可以包括第一电极210、发射红光的有机发光层220R和第二电极230，并且对应于发射红光的第一子像素(红色子像素)设置。蓝色发光二极管250B可以包括第一电极210、发射蓝光的有机发光层220B和第二电极230，并且对应于发射蓝光的第二子像素(蓝色子像素)设置。绿色发光二极管250G可以包括第一电极210、发射绿光的有机发光层220G和第二电极230，并且对应于发射绿光的第三子像素(绿色子像素)设置。
第一电极210可以包括反射电极。第一电极210可以包括包含银(Ag)、镁(Mg)、铝(Al)、铂(Pt)、钯(Pd)、金(Au)、镍(Ni)、钕(Nd)、铱(Ir)、铬(Cr)或它们的化合物的反射层。在另一实施例中，第一电极210还可以包括设置在上述的反射层上的包含氧化铟锡(ITO)、氧化铟锌(IZO)、氧化锌(ZnO)、氧化铟(In2O3)等的膜。例如，第一电极210可以具有包括氧化铟锡(ITO)/银(Ag)/氧化铟锡(ITO)的三层结构。
上部绝缘层180可以设置在第一电极210上。上部绝缘层180可以具有暴露第一电极210的中心的开口180OP，以限定发光二极管250R、250B和250G的发射区域，和/或子像素。开口180OP的宽度可以对应于发射区域的宽度。
上部绝缘层(或堤层)180增加了第一电极210的边缘与第二电极230之间的距离，并且因此可以防止在第一电极210的边缘处产生电弧。上部绝缘层180可以包括诸如聚酰亚胺(PI)或六甲基二硅氧烷(HMDSO)等的光透射有机绝缘材料。可替代地，上部绝缘层180可以包括诸如黑色有机绝缘材料的有色有机绝缘材料。
间隔件191可以设置在上部绝缘层180上。例如，间隔件191可以直接设置在上部绝缘层180上。间隔件191支撑在稍后将描述的有机发光层220R、220B和220G的沉积工艺中使用的掩模，并且可以防止或减少有机发光层220R、220B和220G中的由于掩模的下垂引起的缺陷。间隔件191可以包括诸如聚酰亚胺(PI)、六甲基二硅氧烷(HMDSO)等的有机绝缘材料，并且可以包括与上部绝缘层180的材料相同的材料。间隔件191和上部绝缘层180可以通过相同的掩模工艺例如，使用半色调掩模的工艺获得。在另一实施例中，间隔件191可以包括与上部绝缘层180的材料不同的材料，并且间隔件191和上部绝缘层180可以通过不同的工艺获得。
红色有机发光层220R可以包括发射红色可见光的荧光材料或磷光体材料，蓝色有机发光层220B可以包括发射蓝色可见光的荧光材料或磷光体材料，并且绿色有机发光层220G可以包括发射绿色可见光的荧光材料或磷光体材料。
第二电极230可以包括(半)透明电极。第二电极230可以包括银(Ag)、镁(Mg)、铝(Al)、镱(Yb)、钙(Ca)、镥(Lu)、金(Au)或它们的化合物，或者可以包括诸如氧化铟锡(ITO)、氧化铟锌(IZO)、氧化锌(ZnO)或氧化铟(In2O3)的(半)透明材料。在实施例中，第二电极230可以包括包含银(Ag)和镁(Mg)的薄金属膜。
第二电极230可以包括具有低功函数的导电材料。例如，第二电极230可以包括包含银(Ag)、镁(Mg)、铝(Al)、铂(Pt)、钯(Pd)、金(Au)、镍(Ni)、钕(Nd)、铱(Ir)、铬(Cr)、锂(Li)、钙(Ca)或它们的合金的(半)透明层。可替代地，第二电极230还可以包括包含上面的材料的(半)透明层上的包含氧化铟锡(ITO)、氧化铟锌(IZO)、氧化锌(ZnO)或氧化铟(In2O3)的层。在实施例中，第二电极230可以包括银(Ag)和镁(Mg)。第二电极230可以形成为完全地覆盖显示区域DA(见图1)。第二电极230可以是覆盖多个第一电极210的公共层。
在图3中，红色有机发光层220R、蓝色有机发光层220B和绿色有机发光层220G中的每一个设置在第一电极210与第二电极230之间以与第一电极210和第二电极230直接接触，但是一个或多个实施例不限于此。在另一实施例中，第一功能层可以设置在红色有机发光层220R、蓝色有机发光层220B和绿色有机发光层220G下面，并且第二功能层可以设置在红色有机发光层220R、蓝色有机发光层220B和绿色有机发光层220G上面。第一功能层可以设置在第一电极210与有机发光层220R、220B和220G之间，并且可以包括空穴传输层和/或空穴注入层。第二功能层可以设置在有机发光层220R、220B和220G与第二电极230之间，并且可以包括电子注入层和/或电子传输层。第一功能层和第二功能层中的每一个可以像第二电极230一样一体地提供以完全地覆盖显示区域DA(见图1)。
图3示出了发光二极管250R、250B和250G包括有机发光层220R、220B和220G，但是一个或多个实施例不限于此。发光二极管可以包括包含无机材料的无机发光二极管。无机发光二极管可以包括包含基于无机材料半导体的材料的PN结二极管。当电压在向前方向上施加到PN结二极管时，注入空穴和电子，并且由空穴和电子的再结合产生的能量转化为光能以发射具有特定颜色的光。无机发光二极管可以具有几微米至几百微米或几纳米至几百纳米的宽度。在一些实施例中，发光二极管可以包括量子点发光二极管。如上面所描述的，发光二极管250R、250B和250G中的每一个中的发射层可以被不同地修改，例如，可以包括有机材料、无机材料、量子点、有机材料和量子点、或者无机材料和量子点。
封装层300可以包括至少一个无机层和至少一个有机层。例如，封装层300可以包括第一无机封装层310、第二无机封装层330和设置在第一无机封装层310与第二无机封装层330之间的有机封装层320。
第一无机封装层310和第二无机封装层330可以包括氧化铝(Al2O3)、氧化钛(TiO2)、氧化钽(Ta2O5)、氧化铪(HfO2)、氧化锌(ZnOx(ZnO和/或ZnO2))、氧化硅(SiOx)、氮化硅(SiNx)和氮氧化硅(SiOxNy)中的一种或多种无机绝缘材料。第一无机封装层310和第二无机封装层330可以各自具有包括上面提到的材料的单层结构或多层结构。有机封装层320可以包括基于聚合物的材料。基于聚合物的材料可以包括诸如聚甲基丙烯酸酯和聚丙烯酸的丙烯酸类树脂、环氧类树脂、聚酰亚胺、聚乙烯等。在实施例中，有机封装层320可以包括丙烯酸酯聚合物。
触摸感测层400设置在封装层300上并且产生触摸输入的坐标。触摸感测层400可以包括用于产生触摸输入的坐标的触摸电极(或感测电极)。触摸电极可以包括设置在第一绝缘层410与第二绝缘层450之间的导电图案层430。例如，触摸电极可以包括包含在导电图案层430中的多条金属线ML和ML'。
第一绝缘层410可以包括诸如氧化硅(SiOx)、氮化硅(SiNx)和/或氮氧化硅(SiOxNy)的无机绝缘材料。
导电图案层430可以包括钼(Mo)、铝(Al)、铜(Cu)、钛(Ti)等，并且可以具有包括如上陈述的材料的单层或多层结构。在实施例中，导电图案层430可以具有包括钛(Ti)/铝(Al)/钛(Ti)的三层结构。
第二绝缘层450可以包括有机绝缘层或无机绝缘层。当第二绝缘层450包括有机绝缘材料时，有机绝缘材料可以包括丙烯酸类树脂、环氧类树脂、聚酰亚胺、聚乙烯等。
图4A和图4B是根据实施例的显示装置中的子像素的平面图。
参考图4A和图4B，红色子像素R、蓝色子像素B和绿色子像素G可以在显示区域DA中以特定规则布置。参考图4A，蓝色子像素B设置在虚拟正方形VS的顶点处和邻近的顶点之间的边处、以及虚拟正方形VS的中心C处。
基于虚拟正方形VS的中心C处的蓝色子像素B，红色子像素R和绿色子像素G可以在邻近的蓝色子像素B之间布置在第一对角线方向ob1和第二对角线方向ob2上。例如，一个红色子像素R和一个绿色子像素G可以设置在中心C处的蓝色子像素B与一个顶点处的蓝色子像素B之间。因此，四个红色子像素R和四个绿色子像素G可以在虚拟正方形VS中。
设置在在y方向上穿过虚拟正方形VS的中心C的轴的相对侧处的红色子像素R和绿色子像素G可以在与作为对称线的穿过虚拟正方形VS的中心C的轴相对称的线中。
在显示区域DA中，设置在虚拟正方形VS中的子像素可以沿着x方向和y方向重复。换句话说，虚拟正方形VS对应于子像素的排列的最小单元(在下文中，称为像素单元块PUB)。像素单元块PUB是具有提供有蓝色子像素B、红色子像素R和绿色子像素G的特定面积的虚拟单元块，并且对应于显示区域DA中的子像素的排列图案中的最小重复单元。显示区域DA可以具有像素单元块PUB沿着x方向和y方向重复地提供的结构。在该实施例中，像素单元块PUB可以包括四个红色子像素R、四个绿色子像素G和四个蓝色子像素B。
参考图4B，在另一实施例中，在像素单元块PUB中，蓝色子像素B可以在y方向上提供在第一虚拟垂直线1V和第三虚拟垂直线3V中。在像素单元块PUB中的每一个中，第一虚拟垂直线1V上的蓝色子像素B之间的间隙可以大于第三虚拟垂直线3V上的蓝色子像素B之间的间隙。
红色子像素R和绿色子像素G可以沿着y方向提供在第二虚拟垂直线2V和第四虚拟垂直线4V中。绿色子像素G和红色子像素R可以交替地提供在第二虚拟垂直线2V上。同样地，绿色子像素G和红色子像素R可以交替地提供在第四虚拟垂直线4V上。
图5是示出根据实施例的显示装置中的触摸感测层的导电图案层的平面图，图6是示出图5中的区VI的放大图的平面图，并且图7是图5的触摸图案单元块的平面图。
如图5中所示，上面参照图3描述的导电图案层430可以包括具有触摸电极TE和迹线的导电图案。根据实施例的触摸电极TE可以以自电容类型检测触摸输入位置。充电信号和放电信号可以通过连接到触摸电极TE的迹线施加到触摸电极TE，并且，当发生由手指或诸如触控笔的物体引起的触摸事件时，在充电信号或放电信号中可能发生失真，并且可以通过使用失真信号检测触摸(触摸输入位置)的坐标。
触摸电极TE可以沿着x方向(行方向，第一方向)和y方向(列方向，第二方向)以矩阵配置提供。例如，触摸电极TE可以提供为包括N行和M列的矩阵。这里，N和M是可以彼此相同或不同的正整数。在下文中，为了便于描述，图5示出了布置为具有四行和四列的矩阵的触摸电极TE，但是N和M可以是几十至几百范围内的正整数。触摸电极TE可以具有多边形形状，例如，图5示出了具有正方形形状的触摸电极TE。
在y方向上延伸的迹线TL1、TL2、TL3和TL4可以提供在第j列(Cj，j＝1、2、3、4)的触摸电极TE的一侧处。第j列Cj的一侧处的迹线TL1、TL2、TL3和TL4设置为邻近于彼此以形成一个组TG。
导电图案层430的导电图案可以具有在显示区域DA中，迹线TL1、TL2、TL3和TL4的组TG和触摸电极TE的列Cj在x方向上交替地布置的结构。每组TG处的迹线TL1、TL2、TL3和TL4的数量可以与包括在第j列Cj中的触摸电极TE的数量相同，并且可以等于触摸电极TE的行的数量N。每组TG的迹线TL1、TL2、TL3和TL4可以朝向非显示区域NDA中的触摸焊盘TPD延伸。
第j列Cj的一侧处的迹线TL1、TL2、TL3和TL4可以分别电连接到第j列Cj中的触摸电极TE。在第j列Cj中，第i行(Ri，i＝1、2、3、4)处的触摸电极TE可以经由桥接线BL电连接到第i迹线TLi。在第j列Cj中，第一行R1处的触摸电极TE可以经由桥接线BL电连接到第一迹线TL1，并且第二行R2处的触摸电极TE可以经由桥接线BL电连接到第二迹线TL2。同样地，第三行R3和第j列Cj处的触摸电极TE可以电连接到邻近于第j列Cj的组TG中的第三迹线TL3，并且第四行R4和第j列Cj处的触摸电极TE可以电连接到邻近于第j列Cj的组TG中的第四迹线TL4。
迹线TL1、TL2、TL3和TL4以及触摸电极TE可以经由桥接线BL电连接到彼此。桥接线BL可以设置在与触摸电极TE以及迹线TL1、TL2、TL3和TL4的层相同的层上，并且可以包括与触摸电极TE以及迹线TL1、TL2、TL3和TL4的材料相同的材料。例如，桥接线BL、触摸电极TE以及迹线TL1、TL2、TL3和TL4可以在上面参照图3描述的第一绝缘层410(见图3)上并且可以被第二绝缘层450(见图3)覆盖。桥接线BL、触摸电极TE以及迹线TL1、TL2、TL3和TL4可以包括钼(Mo)、铝(Al)、铜(Cu)、钛(Ti)等。在实施例中，桥接线BL、触摸电极TE以及迹线TL1、TL2、TL3和TL4可以各自具有包括钛(Ti)/铝(Al)/钛(Ti)的三层结构。
桥接线BL可以在与迹线TL1、TL2、TL3和TL4相交的方向上延伸，例如，可以在x方向上延伸。迹线TL1、TL2、TL3和TL4中的一些可以具有基于桥接线BL的断开部分。
在第j列Cj的一侧处的迹线TL1、TL2、TL3和TL4之中，第i迹线TLi(i＝1、2、3、4)可以经由桥接线BL电连接到第i行Ri和第j列Cj处的触摸电极TE。这里，第i迹线TLi与触摸电极TE之间的其它迹线(例如，第i+1迹线至第n迹线)可以包括与桥接线BL相对应的区中的断开部分，以防止触摸电极TE和/或迹线TL1、TL2、TL3和TL4之间的短路。
在实施例中，参见图6，第一迹线TL1可以经由桥接线BL电连接到第一行R1和第j列Cj处的触摸电极TE。如上面所描述的，第一迹线TL1、桥接线BL和触摸电极TE设置在相同的层上，连接到第一迹线TL1的桥接线BL必须与其它迹线电绝缘，以防止触摸电极TE和/或迹线TL1、TL2、TL3和TL4之间的短路。为此，设置在第一迹线TL1与触摸电极TE之间的迹线中的每一条例如，第二迹线TL2、第三迹线TL3至第四迹线TL4可以具有彼此断开的部分。例如，如图6中所示，第二迹线TL2、第三迹线TL3至第四迹线TL4可以分别包括主要部分(或第一部分、TL2-m、TL3-m和TL4-m)和虚拟部分(或第二部分、TL2-d、TL3-d和TL4-d)。
如图7中所示，上面参照图5描述的显示区域DA的导电图案可以包括沿着第i行Ri重复地提供的触摸图案单元块TUBq(q＝1、2、3、4)。触摸图案单元块TUBq是具有包括触摸电极TE的至少一部分以及迹线TL1、TL2、TL3和TL4的一些部分的一定尺寸(面积)的虚拟单元块，并且可以对应于x方向例如，行方向上的最小重复单元。
导电图案层430的导电图案包括触摸图案单元块TUBq(q＝1、2、3、4)在x方向上重复地提供的结构。例如，导电图案可以包括第一触摸图案单元块TUB1沿着x方向重复地提供的结构、第二触摸图案单元块TUB2沿着x方向重复地提供的结构、第三触摸图案单元块TUB3沿着x方向重复地提供的结构以及第四触摸图案单元块TUB4沿着x方向重复地提供的结构。
如图7中所示，连接包括在邻近的第一触摸图案单元块TUB1中的一个中的触摸电极TE和迹线的桥接线BL的位置可以与连接包括在邻近的第一触摸图案单元块TUB1中的另一个中的触摸电极TE和迹线的桥接线BL的位置相同。例如，包括在一个第一触摸图案单元块TUB1中的桥接线BL的位置、长度和连接点可以与另一第一触摸图案单元块TUB1中的桥接线BL的位置、长度和连接点相同。包括在一个第一触摸图案单元块TUB1中的触摸电极TE和包括在另一第一触摸图案单元块TUB1中的触摸电极TE设置在相同的行处，但是电连接到不同的组TG中的第一迹线TL1。
触摸图案单元块TUBq可以对应于用于执行导电图案的缺陷检查的拍摄图像的最小单元。显示区域DA中的导电图案的缺陷可以通过拍摄与触摸图案单元块TUBq相对应的图像并比较所拍摄的图像来检测。这里，用于缺陷检查的拍摄图像的最小单元可以对应于触摸图案单元块TUBq。
触摸图案单元块TUBq不具有与沿着y方向布置的其它触摸图案单元块的结构相同的结构。例如，第一触摸图案单元块TUB1、第二触摸图案单元块TUB2、第三触摸图案单元块TUB3至第四触摸图案单元块TUB4中的一个可以具有彼此不同的结构。例如，第一触摸图案单元块TUB1中的桥接线BL的连接点、长度和形状可以与第二触摸图案单元块TUB2、第三触摸图案单元块TUB3至第四触摸图案单元块TUB4中的每一个中的桥接线BL的连接点、长度和形状不同。因此，上面的缺陷检查可以通过比较相同的行中的所拍摄的图像来执行，而不可以通过比较不同的行中的所拍摄的图像来执行。
图8是根据实施例的显示装置的触摸感测层中的导电图案层430的平面图。
参考图8，导电图案层430的导电图案可以具有如上面参照图5至图7描述的第一触摸图案单元块TUB1、第二触摸图案单元块TUB2、第三触摸图案单元块TUB3至第四触摸图案单元块TUB4沿着x方向重复地布置的结构。然而，图8的导电图案层430在触摸图案单元块TUBq(q＝1、2、3、4)还包括虚拟触摸电极DTE的方面不同，并且其它特性与上面的描述的特征相同。在下文中，下面将描述不同之处。
触摸图案单元块TUBq(q＝1、2、3、4)可以各自包括迹线TL1、TL2、TL3和TL4的一部分、桥接线BL、触摸电极TE的至少一部分以及虚拟触摸电极DTE。每个虚拟触摸电极DTE与触摸电极TE分离开且间隔开，并且每个虚拟触摸电极DTE可以在迹线TL1、TL2、TL3和TL4的相对侧处，触摸电极TE设置在迹线TL1、TL2、TL3和TL4与虚拟触摸电极DTE之间。
图9是示出根据实施例的包括在触摸感测层的导电图案中的一个触摸图案单元块TUBq的放大图的平面图。为了便于描述，图9示出了图7的第三触摸图案单元块TUB3。
参考图9，触摸图案单元块TUB3可以具有与像素单元块PUB的整数倍相对应的尺寸。换句话说，触摸图案单元块TUB3可以包括K行和L列的像素单元块PUB。这里，K表示包括在触摸图案单元块TUB3中的像素单元块的行的数量并且是正整数，并且L表示包括在触摸图案单元块TUB3中的像素单元块的列的数量并且是正整数。为了便于描述，图9示出了第三触摸图案单元块TUB3包括十二个像素单元块PUB、3x4个像素单元块PUB，但是一个或多个实施例不限于此。在另一实施例中，K和L可以是几十至几百范围内的正整数。
在比较示例中，当触摸图案单元块例如，第三触摸图案单元块TUB3不具有与像素单元块PUB的整数倍相对应的尺寸时，子像素的排列在每个触摸图案单元块中改变。因此，如上面所描述的，在用于检查导电图案中的缺陷的所拍摄的图像中可能存在失真。然而，根据实施例，因为触摸图案单元块TUBq沿着行方向和列方向具有与像素单元块PUB的整数倍相对应的尺寸，所以每个触摸图案单元块TUBq中的子像素的排列是一致的，并且因此，可以改善缺陷检查的精度。
触摸图案单元块TUBq可以包括迹线TL1、TL2、TL3和TL4的一些部分。对此，图9示出了迹线TL1、TL2、TL3和TL4的一些部分设置在第三触摸图案单元块TUB3的边界中。迹线TL1、TL2、TL3和TL4的一些部分可以在K x L个像素单元块PUB中的一些中。对此，图9示出了迹线TL1、TL2、TL3和TL4中的一些在与第一列中的像素单元块PUB相对应的区中。
迹线TL1、TL2、TL3和TL4可以分别包括彼此间隔开并且基本上在y方向上延伸的金属线ML(在下文中，称为第一金属线)。第一金属线ML中的每一条可以设置在红色子像素R、蓝色子像素B和绿色子像素G之间。
图9的第一金属线ML中的每一条可以对应于第一迹线TL1、第二迹线TL2、第三迹线TL3至第四迹线TL4。如图9中所示，与第一迹线TL1、第二迹线TL2、第三迹线TL3至第四迹线TL4相对应的第一金属线ML可以在y方向上以之字形配置延伸。换句话说，第一迹线TL1、第二迹线TL2、第三迹线TL3至第四迹线TL4中的每一条可以基本上在y方向上延伸以具有之字形配置。
与第一迹线TL1、第二迹线TL2、第三迹线TL3至第四迹线TL4相对应的第一金属线ML可以不在任何一个触摸图案单元块(例如，TUB3)的边界内，而是可以在y方向上朝向相邻的触摸图案单元块(例如，TUB1、TUB2和TUB4)连续地延伸，并且上面参照图5描述了其详细配置。
第一金属线ML分别在y方向上延伸，同时在电气上和结构上彼此间隔开，而与触摸电极TE相对应的金属线ML'(在下文中，称为第二金属线)在y方向上延伸，但是可以在电气上和结构上连接到彼此以形成触摸电极TE。因为第二金属线ML'在区A中连接到彼此，所以与触摸电极TE相对应的第二金属线ML'可以彼此电集成。
触摸电极TE可以经由桥接线BL电连接到迹线。图9示出了桥接线BL包括桥接金属线BL1和BL2。
桥接金属线BL1和BL2可以将第三迹线TL3连接到与触摸电极TE相对应的第二金属线ML'，并且可以与第三迹线TL3和第二金属线ML'一体地提供。如上面参照图5和图6所描述的，设置在第三迹线TL3与触摸电极TE之间的迹线例如，第四迹线TL4可以包括在与桥接线BL相对应的区中彼此断开的主要部分TL4-m和虚拟部分TL4-d。
间隔件191设置在显示区域DA中。如图9中所示，间隔件191可以设置在触摸图案单元块TUBq例如，第三触摸图案单元块TUB3的边界内的特定位置中。
至少一个间隔件191可以与迹线重叠。例如，如图9中所示，间隔件191可以与和第二迹线TL2及第三迹线TL3相对应的两条第一金属线ML重叠。另一间隔件191可以与触摸电极TE的邻近于彼此的第二金属线ML'中的至少一条重叠。
在触摸图案单元块TUBq中，在y方向上延伸的金属线例如，第一金属线ML和第二金属线ML'的数量可以对应于“穿过一个像素单元块PUB的金属线的数量”与上面描述的数量L的乘积。在实施例中，参见图9，因为穿过一个像素单元块PUB的金属线ML和ML'的数量是4，并且3x4个像素单元块PUB设置在第三触摸图案单元块TUB3中，所以第三触摸图案单元块TUB3中的在y方向上延伸的金属线的数量可以是16。
图10是示出根据实施例的包括在触摸感测层的导电图案中的一个触摸图案单元块的放大图的平面图。为了便于描述，图10描述了第三触摸图案单元块TUB3被放大。
除了触摸图案单元块例如，第三触摸图案单元块TUB3包括虚拟触摸电极DTE之外，图10的实施例与上面的图9的实施例相同，并且在下文中，下面将描述不同之处。
虚拟触摸电极DTE可以包括至少一条金属线(在下文中，称为虚拟金属线DML)，并且在实施例中，图10示出了两条虚拟金属线DML。虚拟触摸电极DTE的虚拟金属线DML在电气上和结构上不连接到触摸电极TE的第二金属线ML'。例如，虚拟触摸电极DTE的虚拟金属线DML可以与触摸电极TE的第二金属线ML'间隔开。
虚拟触摸电极DTE的宽度(例如，在x方向上的宽度，W1)可以小于像素单元块PUB的宽度(例如，在x方向上的宽度，W2)。在一些实施例中，虚拟触摸电极DTE的虚拟金属线DML的数量可以少于穿过像素单元块PUB的金属线ML或ML'的数量。对此，图9示出了穿过像素单元块PUB的金属线ML或ML'的数量是4，并且虚拟触摸电极DTE包括两条虚拟金属线DML。
图11是根据实施例的显示装置的触摸感测层中的导电图案层的平面图，并且图12是图11中所示的导电图案层中的触摸图案单元块的平面图。
图5至图10示出了触摸电极TE的边缘具有基本上正方形形状并且触摸图案单元块TUBq(q＝1、2、3、4)包括一个触摸电极TE，但是一个或多个实施例不限于此。参考图11和图12，触摸电极TE可以具有多边形形状，所述多边形形状具有之字形边缘，并且触摸图案单元块TUBq'可以包括两个相邻的触摸电极TE的一些部分。除了上面的特性之外的其它特性与上面参照图5至图7描述的实施例的特征相同，并且在下文中，下面将描述不同之处。
触摸电极TE可以在一个方向(例如，y方向)上具有突出部分和缩回部分以具有之字形边缘。在y方向上的两个邻近的触摸电极TE中，一个触摸电极TE的突出部分可以对应于另一触摸电极TE的缩回部分。如上面所描述的，两个邻近的触摸电极TE可以具有穿插结构。
触摸电极TE提供为包括N行和M列的矩阵，并且如上面所描述的，在y方向上邻近于彼此的触摸电极TE可以具有穿插结构。在下文中，为了便于描述，图10示出了四行和四列的触摸电极TE，但是N和M可以是几十至几百范围内的正整数。当触摸电极TE具有上面描述的之字形边缘时，第一行R1和第四行R4中的触摸电极TE可以具有与第二行R2和第三行R3中的触摸电极TE的一半相对应的形状和/或尺寸。
如上面参照图5所描述的，在y方向上延伸的迹线TL1、TL2、TL3和TL4可以提供在第j列(Cj，j＝1、2、3、4)的触摸电极TE的一侧处。
如图12中所示，触摸图案单元块TUBq'(q'＝1、2、3)中的任意一个可以包括两个邻近的触摸电极TE的一些部分。例如，触摸图案单元块TUBq'(q'＝1、2、3)可以包括第i行Ri中的触摸电极TE和第i+1行(Ri+1)中的触摸电极TE的一些部分。例如，第一触摸图案单元块TUB1'可以包括第一行R1中的触摸电极TE和第二行R2中的触摸电极TE的一些部分。第二触摸图案单元块TUB2'可以包括第二行R2中的触摸电极TE和第三行R3中的触摸电极TE的一些部分。第三触摸图案单元块TUB3'可以包括第三行R3中的触摸电极TE和第四行R4中的触摸电极TE的一些部分。
如上面所描述的，导电图案层430的导电图案可以具有触摸图案单元块TUBq'(q'＝1、2、3)沿着x方向重复地提供的结构。如图12中所示，导电图案可以具有第一触摸图案单元块TUB1'沿着x方向重复地提供的结构、第二触摸图案单元块TUB2'沿着x方向重复地提供的结构以及第三触摸图案单元块TUB3'沿着x方向重复地提供的结构。
如上面所描述的，在第j列Cj(j＝1、2、3、4)中的触摸电极TE的一侧处，提供有包括电连接到相应的列的迹线TL1、TL2、TL3和TL4的组TG。因此，连接包括在邻近的第一触摸图案单元块TUB1'中的一个中的触摸电极TE和迹线的桥接线BL的位置可以与连接包括在邻近的第一触摸图案单元块TUB1'中的另一个中的触摸电极TE和迹线的桥接线BL的位置相同。这里，包括在第一触摸图案单元块TUB1'中的每一个中的触摸电极TE设置在相同的行处，但是连接到彼此不同的迹线。
图13和图14是示出根据实施例的包括在触摸感测层的导电图案中的一个触摸图案单元块的放大图的平面图。为了便于描述，图13和图14示出了图12中所示的第二触摸图案单元块TUB2'。
参考图13，触摸图案单元块例如，第二触摸图案单元块TUB2'可以具有与像素单元块PUB的整数倍相对应的尺寸。例如，触摸图案单元块TUBq可以包括K x L个像素单元块PUB。这里，K表示包括在触摸图案单元块中的像素单元块的行的数量并且是正整数，并且L表示包括在触摸图案单元块中的像素单元块的列的数量并且是正整数。为了便于描述，与图9中一样，图13示出了第二触摸图案单元块TUB2'包括3x4个像素单元块PUB，但是一个或多个实施例不限于此。K和L可以是几十至几百范围内的正整数。
触摸图案单元块TUBq’可以包括迹线TL1、TL2、TL3和TL4的一些部分。对此，图13和图14示出了迹线TL1、TL2、TL3和TL4的一些部分在第二触摸图案单元块TUB2'的边界中。迹线TL1、TL2、TL3和TL4的一些部分可以在K x L个像素单元块PUB中的一些中。对此，图13和图14示出了迹线TL1、TL2、TL3和TL4中的一些在与第一列中的像素单元块PUB相对应的区中。
迹线TL1、TL2、TL3和TL4可以分别包括基本上沿着y方向延伸同时沿着x方向彼此间隔开的第一金属线ML。第一金属线ML可以分别对应于第一迹线TL1、第二迹线TL2、第三迹线TL3至第四迹线TL4并且可以基本上沿着y方向延伸以具有如上面所描述的之字形配置。
第一金属线ML分别在y方向上延伸同时在电气上和结构上彼此间隔开，但是与触摸电极TE相对应的金属线ML'和ML”可以在电气上和结构上连接到彼此。
因为第二触摸图案单元块TUB2'包括彼此分离开的两个触摸电极TE的一些部分，所以与第二触摸图案单元块TUB2'中的一个触摸电极TE相对应的第二金属线ML'和与另一触摸电极TE相对应的金属线ML”(在下文中，称为第三金属线)可以彼此间隔开。第二金属线ML'连接到彼此并且第三金属线ML”连接到彼此，但是第二金属线ML'和第三金属线ML”可以彼此间隔开并且分离开。
在图13的第二触摸图案单元块TUB2'中，一个触摸电极TE可以经由桥接线BL连接到第三迹线TL3。如上面所描述的，第三迹线TL3与相应的触摸电极TE之间的迹线例如，第四迹线TL4可以包括在与桥接线BL相对应的区中彼此断开的主要部分TL4-m和虚拟部分TL4-d。
图13示出了触摸图案单元块例如，第二触摸图案单元块TUB2'包括触摸电极TE的一些部分、桥接线BL以及第一迹线TL1、第二迹线TL2、第三迹线TL3至第四迹线TL4的一些部分，但是一个或多个实施例不限于此。触摸图案单元块可以包括虚拟触摸电极DTE。
对此，图14示出了第二触摸图案单元块TUB2'包括虚拟触摸电极DTE的一部分。
虚拟触摸电极DTE可以包括至少一条虚拟金属线DML。包括在一个虚拟触摸电极DTE中的虚拟金属线DML的数量可以少于穿过像素单元块PUB的金属线ML或ML'的数量。对此，图14示出了两条虚拟金属线DML。
虚拟触摸电极DTE的虚拟金属线DML可以在电气上和结构上不连接到触摸电极TE的第二金属线ML'和第三金属线ML”。例如，虚拟触摸电极DTE的虚拟金属线DML可以与触摸电极TE的第二金属线ML'和第三金属线ML”间隔开。
应当理解的是，本文中所描述的实施例应当仅在描述性意义上考虑，而不是出于限制的目的。每个实施例中的特征或方面的描述通常应当被认为可以用于其它实施例中的其它类似特征或方面。尽管已经参照附图描述了一个或多个实施例，但是本领域普通技术人员将理解的是，可以在不脱离如由以下权利范围限定的精神和范围的情况下在其中进行形式和细节上的各种改变。

Claims (20)

1.一种显示装置，其中，所述显示装置包括：
显示区域，在所述显示区域中布置有红色子像素、绿色子像素和蓝色子像素；和
触摸感测层，包括导电图案，所述导电图案包括：
多个触摸电极，在所述显示区域中布置在行方向和列方向上，和
多条迹线，分别电连接到所述多个触摸电极，并且在所述显示区域中在所述列方向上延伸，
其中，所述触摸感测层的所述导电图案包括沿着所述行方向布置的多个触摸图案单元块，所述多个触摸图案单元块中的每一个包括所述多条迹线的一些部分以及所述多个触摸电极之中的至少一个触摸电极，并且
其中，所述触摸图案单元块具有与像素单元块的尺寸的整数倍相对应的尺寸，其中所述像素单元块是所述红色子像素、所述绿色子像素和所述蓝色子像素的最小重复单元。
2.根据权利要求1所述的显示装置，还包括：
多个间隔件，在所述显示区域中彼此间隔开。
3.根据权利要求2所述的显示装置，其中，
所述多个间隔件中的至少一个与所述多条迹线中的至少一条重叠。
4.根据权利要求1所述的显示装置，其中，
所述多个触摸电极中的每一个具有多边形形状。
5.根据权利要求4所述的显示装置，其中，
所述多个触摸电极中的每一个具有之字形边缘，并且
所述触摸图案单元块包括两个邻近的触摸电极的一些部分。
6.根据权利要求1所述的显示装置，其中，
所述多条迹线中的一条经由桥接线电连接到所述多个触摸电极中的一个，并且所述多条迹线中的至少一条迹线包括与所述桥接线相对应的区中的断开部分。
7.根据权利要求1所述的显示装置，还包括：
虚拟触摸电极，分别设置为邻近于所述多个触摸电极。
8.根据权利要求7所述的显示装置，其中，
所述虚拟触摸电极中的每一个的宽度小于所述像素单元块的宽度。
9.根据权利要求1所述的显示装置，其中，
所述触摸图案单元块与K行和L列的像素单元块重叠，并且所述多条迹线中的一些对应于所述像素单元块的所述L列中的一列，其中，所述K和所述L是正整数。
10.根据权利要求9所述的显示装置，其中，
所述多条迹线中的一些包括彼此间隔开的多条第一金属线，并且所述多条第一金属线中的每一条设置在与所述L列中的所述一列相对应的所述像素单元块中的邻近的子像素之间。
11.根据权利要求9所述的显示装置，其中，
一个触摸电极的至少一部分包括连接到彼此的多条第二金属线，并且设置为对应于所述K行和所述L列的所述像素单元块之中的第a行和第b列处的所述像素单元块，其中，a是小于K的正整数，并且b是小于L的正整数。
12.一种显示装置，其中，所述显示装置包括：
显示区域，在所述显示区域中布置有红色子像素、绿色子像素和蓝色子像素；
多个间隔件，在所述显示区域中；
导电图案层，包括导电图案，所述导电图案包括：
多个触摸电极，在所述显示区域中布置在行方向和列方向上，和
多条迹线，电连接到所述多个触摸电极并且在所述显示区域中在所述列方向上延伸；
第一绝缘层，在所述导电图案层下面；以及
第二绝缘层，在所述导电图案层上面，
其中，所述导电图案层的所述导电图案包括沿着所述行方向布置的多个触摸图案单元块，所述多个触摸图案单元块中的每一个包括所述多条迹线的一些部分以及所述多个触摸电极之中的至少一个触摸电极，并且
其中，所述多个触摸电极之中的沿着所述行方向布置的所述多个触摸电极分别电连接到不同的迹线，并且所述触摸图案单元块具有与作为所述红色子像素、所述绿色子像素和所述蓝色子像素的最小重复单元的像素单元块的尺寸的整数倍相对应的尺寸。
13.根据权利要求12所述的显示装置，其中，
所述多个间隔件中的至少一个与所述多条迹线中的至少一条重叠。
14.根据权利要求12所述的显示装置，其中，
所述多个触摸电极中的每一个具有多边形形状。
15.根据权利要求14所述的显示装置，其中，
所述多个触摸电极中的每一个具有之字形边缘，并且所述触摸图案单元块包括两个邻近的触摸电极的一些部分。
16.根据权利要求12所述的显示装置，其中，
所述多条迹线中的一条经由桥接线电连接到所述多个触摸电极中的一个，并且所述多条迹线中的至少一条迹线包括与所述桥接线相对应的区中的断开部分。
17.根据权利要求12所述的显示装置，还包括：
虚拟触摸电极，分别设置为邻近于所述多个触摸电极，
其中，所述触摸图案单元块包括所述虚拟触摸电极中的一个的至少一部分。
18.根据权利要求17所述的显示装置，其中，
所述虚拟触摸电极中的所述一个的宽度小于所述像素单元块的宽度。
19.根据权利要求12所述的显示装置，其中，
所述触摸图案单元块与K行和L列的像素单元块重叠，并且所述多条迹线中的一些包括多条第一金属线，所述多条第一金属线对应于所述像素单元块的所述L列中的一列并且彼此间隔开，其中，所述K和所述L是正整数。
20.根据权利要求19所述的显示装置，其中，
所述多条第一金属线中的每一条设置在与所述L列中的所述一列相对应的所述像素单元块中的邻近的子像素之间。
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