CN114592179A - 掩模版及显示装置的制备方法 - Google Patents
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Abstract
本公开实施例提供一种掩模版及显示装置的制备方法，其中，该掩模版设置有具有一定图形的多个开口，每个图形的各内转角处分别设置有朝向图形的中心延伸的凸部。采用本公开实施例的技术方案可以提高柔性OLED器件的水氧阻隔性能。
Description
技术领域
本公开涉及显示技术领域，尤其涉及一种掩模版及显示装置的制备方法。
背景技术
柔性OLED(Organic Electroluminescence Display，有机发光半导体)显示器因具有可弯折、可弯曲及边框窄等优点，受到广泛关注。柔性OLED显示器通常利用薄膜封装(Thin Film Encapsulation，简称TFE)方法进行封装。然而，受掩模版的制作精度及对准精度的限制及阴影效应的影响，掩模版上每个图形的内转角边缘与柔性基底上围堰(Dam)的内转角边缘之间的距离更容易小于图形的内直边边缘与柔性基底上的围堰的内直边边缘之间的距离。在采用化学气相沉积(Chemical Vapor Deposition，简称CVD)工艺形成封装层时，会造成封装层上转角区域亲液性强的部分外移，从而墨水在封装层的转角区域的流动速度大于其在封装层的直边边缘的流动速度，导致墨水易于沿封装层的转角区域溢出围堰，降低了柔性OLED显示器的水氧阻隔性能。
发明内容
本公开实施例提供一种掩模版及显示装置的制备方法，以解决或缓解现有技术中的一项或更多项技术问题。
作为本公开实施例的一个方面，本公开实施例提供一种掩模版，掩模版设置有具有一定图形的多个开口，每个图形的各内转角处分别设置至少一个朝向图形的中心延伸的凸部。
在一种实施方式中，凸部在与掩模版平行的平面上的投影为轴对称图形。
在一种实施方式中，凸部在与掩模版平行的平面上的投影为等腰三角形、矩形、等腰梯形、菱形和椭圆形中的一种或多种。
在一种实施方式中，凸部的宽度范围为50μm-300μm。
在一种实施方式中，内转角为圆角，凸部为多个，多个凸部沿圆角的周向间隔设置。
在一种实施方式中，图形在与掩模版平行的平面上的正投影为矩形、正方形、平行四边形、五边形、六边形和椭圆形中的一种。
作为本公开实施例的一个方面，本公开实施例提供一种显示装置的制备方法，包括采用上述任一种实施方式的掩模版形成封装层。
在一种实施方式中，采用掩模版形成封装层包括：
将掩模版设置在基底设有多个第一围堰的一侧；多个第一围堰与所掩模版中的多个开口一一对应，开口对应的图形在基底上的正投影覆盖第一围堰在基底上的正投影；凸部在基底上的正投影与第一围堰在基底上的正投影交叠；
在基底具有第一围堰的一侧依次形成第一封装层、有机层和第二封装层；其中，第一封装层和第二封装层在基底上的正投影均覆盖第一围堰在基底上的正投影，第一围堰包围的区域在基底上的正投影覆盖有机层在基底上的正投影。
在一种实施方式中，基底设有第一围堰的一侧还设有多个第二围堰，多个第二围堰与多个第一围堰一一对应，第二围堰在基底上的正投影位于对应的第一围堰在基底上的正投影的内侧。
采用本公开实施例的掩模版形成第一封装层，可使形成的第一封装层中位于凸部下方的转角区域的膜质与第一封装层的直边边缘的膜质接近，确保第一封装层中转角区域的亲液性与其直边边缘的亲液性接近或一致，从而使得墨水在第一封装层中转角区域及直边边缘的流动速度接近或相同，避免因墨水在第一封装层的转角区域的流动速度较快而发生溢流，以使墨水形成的有机层可被第一封装层和第二封装层完全包裹，有利于提高柔性OLED显示器的水氧阻隔性，可避免OLED显示器被水氧腐蚀而产生不良。
上述概述仅仅是为了说明书的目的，并不意图以任何方式进行限制。除上述描述的示意性的方面、实施方式和特征之外，通过参考附图和以下的详细描述，本公开进一步的方面、实施方式和特征将会是容易明白的。
附图说明
在附图中，除非另外规定，否则贯穿多个附图相同的附图标记表示相同或相似的部件或元素。这些附图不一定是按照比例绘制的。应该理解，这些附图仅描绘了根据本公开公开的一些实施方式，而不应将其视为是对本公开范围的限制。
图1A示出相关技术中掩模版与基底之间的位置示意图。
图1B示出相关技术中掩模版的结构示意图。
图2A示出采用图1B所示的掩模版形成TFE封装结构的俯视示意图。
图2B示出图2A中掩模版上图形的内转角边缘与基底上围堰的转角边缘之间的位置示意图。
图3示出根据本公开实施例的掩模版的结构示意图。
图4A示出采用图3所示的掩模版形成TFE封装结构的俯视示意图。
图4B示出图4A中掩模版上图形的内转角边缘与TFE封装结构之间的位置示意图。
图4C示出图4A中掩模版上图形的内直边边缘与TFE封装结构之间的位置示意图。
图5A至图5C示出根据本公开实施例的凸部的其中三种示意图。
图6A至图6C示出根据本公开实施例的凸部的另外三种示意图。
具体实施方式
在下文中，仅简单地描述了某些示例性实施例。正如本领域技术人员可认识到的那样，在不脱离本公开的精神或范围的情况下，可通过各种不同方式修改所描述的实施例。因此，附图和描述被认为本质上是示例性的而非限制性的。
如图1A和图1B所示，由于掩模版110与基底120之间存在间隙，在采用化学气相沉积工艺在基底120上形成封装层130的过程中，工艺气体A会在掩模版110上图形111的边缘产生扰动，使得封装层130形成亲液性具有差异的第一部分131和第二部分132，其中第一部分131为封装层130的周缘部分，第二部分132为封装层130上第一部分131包围的部分，第一部分131的亲液性比第二部分132的亲液性更差。
如图2A和图2B所示，在相关技术中，受掩模版110的制作精度和对准精度的限制，掩模版110上每个图形111的各内转角边缘111A与基底120的围堰210上对应的内转角边缘210A之间的距离更容易小于掩模版110上每个图形111的内直边边缘111B与围堰210上对应的内直边边缘210B之间的距离。在利用掩模版110形成第一封装层130A时，容易造成第一封装层130A上转角边缘与围堰210上对应的内转角边缘210A之间的距离小于第一封装层130A上直边边缘与围堰210上对应的内直边边缘210B之间的距离，从而导致第一封装层130A上转角区域亲液性强的部分外移。继而，在向第一封装层130A上喷印墨水时，墨水在第一封装层130A上转角区域的流动速度比其在第一封装层130A的直边边缘的流动速度更快，墨水易于沿第一封装层130A上转角区域溢出围堰210，使得墨水所形成的有机层140无法被第一封装层130A和第二封装层130B完全包裹，导致水汽和氧气沿围堰210的外侧指向内侧的方向浸入有机层140，降低了水氧阻隔性能。
为解决上述技术问题，本公开实施例提供一种掩模版300。如图3所示，该掩模版300设置有具有一定图形的多个开口310，每个开口310所对应图形的各内转角处分别设置至少一个朝向图形的中心延伸的凸部311。示例性地，每个图形包括内转角边缘310A和内直边边缘310B，凸部311设置在每个图形的各内转角的内转角边缘310A处。
示例性地，该掩模版300可以适用于化学气相沉积工艺和等离子化学气相沉积工艺(Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition，简称PECVD)等沉积工艺，也可以适用于本领域其他工艺，本公开实施例对掩模版300所适用的工艺不作限制。
如图4A至图4C所示，在采用本公开实施例的掩模版300在基底410的设置有围堰420的一侧形成第一封装层430的过程中，工艺气体朝向基底410流动时，掩模版300上设置在每个图形的各内转角边缘310A的凸部311可在相应内转角附近对工艺气体(例如等离子气体等)产生扰动，可减小第一封装层430中位于凸部311下方的转角区域的膜质的致密性并增加其粗糙度，可使形成的第一封装层430的转角区域的膜质与其直边边缘的膜质接近，确保第一封装层430上转角区域的亲液性与其直边边缘的亲液性接近或一致，从而使得墨水在第一封装层430上转角区域及直边边缘的流动速度接近或相同，避免因墨水在第一封装层430的转角区域的流动速度较快而发生溢流，以使墨水形成的有机层440可被第一封装层430和第二封装层450完全包裹(即TFE封装结构)，有利于提高柔性OLED显示器的水氧阻隔性能，可避免柔性OLED显示器被水氧腐蚀而产生不良。
在一种实施方式中，如图5A至图5C所示，凸部311在与掩模版300平行的平面上的投影为轴对称图形。
请一并参考图1，相关技术中，在阴影效应作用下，封装层130的第一部分131包括内阴影部分131A和外阴影部分131B，其中，内阴影部分131A为在基底120上的正投影被掩模版110的图形在基底120上的正投影所包围的部分，外阴影部分131B为在基底120上的正投影与掩模版110的图形在基底120上的正投影重叠的部分。在本实施方式中，利用掩模版300的边缘成膜特性，通过设置凸部311在与掩模版300平行的平面上的正投影为轴对称图形，从而在采用该掩模版300制备第一封装层430时，工艺气体可在凸部311与基底410之间沿凸部311的两侧指向中部的方向相对流动，使得形成的第一封装层430中位于凸部311下方的转角区域为两层外部阴影部分交叠形成，有助于确保第一封装层430中位于凸部311下方的转角区域与其附近的内部阴影部分的厚度相似且厚度差异较小。
在一种实施方式中，凸部311在与掩模版300平行的平面上的投影为等腰三角形、矩形、等腰梯形、菱形和椭圆形中的一种或多种。其中，如图5A至图5C所示，分别示出凸部311在与掩模版300平行的平面上的投影为等腰三角形、矩形和等腰梯形。凸部311在与掩模版300平行的平面上的投影为菱形和椭圆形的可参考图5A至图5C。可以理解的是，凸部311在与掩模版300平行的平面上的投影还可以是其他类型的轴对称图形，本申请对此不作限制。
在一种实施方式中，凸部311的宽度范围为50μm-300μm。示例性地，凸部311的宽度可以是50μm、60μm、70μm、……、290μm、300μm中的任一值。凸部311的宽度为凸部311在凸部311的宽度方向上的尺寸的最大值，其中凸部311的宽度方向为与开口310的图形的内转角指向中心的方向相垂直的方向。需要说明的是，参考图1A至图2B，相关技术还可以通过增加掩模版110上每个图形的各内转角边缘111A与基底120围堰210上对应的内转角边缘210A之间的距离来使形成的第一封装层130A上转角边缘亲液性强的部分内移，但是这又容易造成第一封装层130A上转角边缘的厚度不足，导致水汽和氧气沿第一封装层130A指向有机层140的方向浸入有机层140。
在本实施方式中，通过设置凸部311的宽度范围为50μm-300μm，可使第一封装层430中位于凸部311下方的转角区域为由两层外部阴影部分重叠形成，确保第一封装层430中位于凸部311下方的转角区域与其附近的内部阴影部分的膜质相同且厚度相同。如此，可以在改变第一封装层430的转角区域的膜质的情况下，不影响第一封装层430的转角区域的镀膜厚度，从而确保其封装效果不受影响。
在一种实施方式中，凸部311的长度范围为0.5mm-2mm。示例性地，凸部311的长度可以是0.5mm、0.6mm、0.7mm、……、1.9mm、2mm中的任一值。凸部311的长度为凸部311在凸部311的长度方向上的尺寸的最大值，其中凸部311的长度方向为开口310的图形的内转角指向中心的方向。通过设置凸部311的长度范围为0.5mm-2mm，便于在凸部311的长度方向上，控制第一封装层430中位于凸部311下方的转角区域的尺寸。在一种实施方式中，如图6A至图6C所示，内转角可以为圆角，每个内转角处的凸部311可以为多个，该多个凸部311沿圆角的周向间隔设置。示例性地，凸部311的数量可以为两个或三个以上。例如，图6A至图6C示出凸部311的数量为三个，其中，图6A中三个凸部311在与掩模版300平行的平面上的投影为等腰三角形，图6B中三个凸部311在与掩模版300平行的平面上的投影为矩阵，图6C中三个凸部311在与掩模版300平行的平面上的投影为等腰梯形。凸部311的数量可以根据实际需要进行选择和调整，本公开实施例对凸部311的数量不作限制。
在本实施方式中，通过沿圆角的周向间隔设置多个凸部311，可使工艺气体在掩模版300每个图形的各内转角处的扰动更均匀，确保形成的第一封装层430中转角区域的膜质及其厚度更加均匀。
在一种可选的实施方式中，图形在与掩模版300平行的平面上的正投影为矩形(图3所示)、正方形、平行四边形、五边形、六边形和椭圆形中的一种。可以理解的是，图形在与掩模版300平行的平面上的正投影以根据实际需要进行选择和调整，本公开实施例对其不作限制。
本公开实施还提供一种显示装置的制备方法，请一并参考图3至图4C，该制备方法可以包括采用上述任一种实施方式的掩模版300形成封装层。
在一种实施方式中，采用掩模版300形成封装层包括：
步骤S11、将掩模版300设置在基底410设有多个第一围堰421的一侧；多个第一围堰421与所掩模版300中的多个开口310一一对应，开口310对应的图形在基底410上的正投影覆盖第一围堰421在基底410上的正投影；凸部311在基底410上的正投影与第一围堰421在基底410上的正投影交叠。示例性地，基底410的材质可以是聚酰亚胺(Polyimide，简称PI)等柔性材质。
步骤S12、在基底410具有第一围堰421的一侧依次形成第一封装层430、有机层440和第二封装层450；其中，第一封装层430和第二封装层450在基底410上的正投影均覆盖第一围堰421在基底410上的正投影，第一围堰421包围的区域在基底410上的正投影覆盖有机层440在基底410上的正投影。
示例性地，步骤S12可以包括：
步骤S121、采用等离子化学气相沉积工艺在基底410的设置有第一围堰421的一侧形成第一封装层430；第一封装层430的周缘延伸至对应的第一围堰421的外侧且延伸至对应的开口310所对应图形的图形边缘的下方，使得第一封装层430在基底410上的正投影与掩模版300在基底410上的正投影交叠。
步骤S122、采用喷墨打印工艺在第一封装层430的背离基底410的一侧喷印墨水，以使墨水在第一围堰421的内侧形成有机层440。
步骤S123、采用化学气相沉积工艺在有机层440及第一封装层430的背离基底410的一侧形成第二封装层450，以使第一封装层430和第二封装层450包裹有机层440，形成TFE封装结构。示例性地，第一封装层430和第二封装层450可以均为无机层。
在本实施方式中，由于在形成第一封装层430的过程中，位于掩模版300中每个开口310所对应图形的内转角处310A的凸部311会对等离子气体产生绕动，可减小第一封装层430中位于凸部311下方的转角区域的致密性并增加其粗糙度，使第一封装层430中转角区域的膜质与其直边边缘的膜质接近，确保第一封装层430中转角区域的亲液性与其直边边缘的亲液性接近或一致，从而使得墨水在第一封装层430中转角区域及直边边缘的流动速度接近或相同。相较于相关技术，利用本公开实施例形成的第一封装层430的转角区域的墨水流动速度更小。如此，在采用喷墨打印方式向第一封装层430的背离基底的一侧滴入墨水时，可减缓墨水在第一封装层431的转角区域的流速速度，可有效避免墨水沿第一封装层430的转角区域溢出第一围堰421。其中，第一围堰421可在墨水的流动过程中对墨水进行阻挡，从而限制墨水在第一封装层430的背离基底410的一侧的扩散区域，避免墨水溢流到无效区域。采用本公开实施例的掩模版300所形成的第一封装层430和第二封装层450能够对有机层440进行有效包裹，避免水汽和氧气等浸入到有机层440，有利于提升显示装置的水氧阻隔性。
在一种实施方式中，基底410设有第一围堰421的一侧还设有多个第二围堰422，多个第二围堰422与多个第一围堰421一一对应，第二围堰422在基底410上的正投影位于对应的第一围堰421在基底410上的正投影的内侧。示例性地，根据实际需要，凸部311在基底410上的正投影可以与对应的第二围堰422在基底410上的正投影交叠或不交叠。通过设置第二围堰422，可进一步对墨水的流动进行阻挡，限制墨水的扩散区域。
上述实施例的显示装置可以是智能穿戴装置、电子相框、显示器、平板电脑、笔记本电脑、智能手机等具有显示功能的显示装置。
上述实施例的掩模版300及显示装置的其他构成可以采用于本领域普通技术人员现在和未来知悉的各种技术方案，这里不再详细描述。
在本说明书的描述中，需要理解的是，术语“中心”、“纵向”、“横向”、“长度”、“宽度”、“厚度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”、“顺时针”、“逆时针”、“轴向”、“径向”、“周向”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本公开和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本公开的限制。
此外，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括一个或者多个该特征。在本公开的描述中，“多个”的含义是两个或两个以上，除非另有明确具体的限定。
在本公开中，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”、“固定”等术语应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或成一体；可以是机械连接，也可以是电连接，还可以是通信；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通或两个元件的相互作用关系。对于本领域的普通技术人员而言，可以根据具体情况理解上述术语在本公开中的具体含义。
在本公开中，除非另有明确的规定和限定，第一特征在第二特征之“上”或之“下”可以包括第一和第二特征直接接触，也可以包括第一和第二特征不是直接接触而是通过它们之间的另外的特征接触。而且，第一特征在第二特征“之上”、“上方”和“上面”包括第一特征在第二特征正上方和斜上方，或仅仅表示第一特征水平高度高于第二特征。第一特征在第二特征“之下”、“下方”和“下面”包括第一特征在第二特征正上方和斜上方，或仅仅表示第一特征水平高度小于第二特征。
上文的公开提供了许多不同的实施方式或例子用来实现本公开的不同结构。为了简化本公开的公开，上文中对特定例子的部件和设置进行描述。当然，它们仅仅为示例，并且目的不在于限制本公开。此外，本公开可以在不同例子中重复参考数字和/或参考字母，这种重复是为了简化和清楚的目的，其本身不指示所讨论各种实施方式和/或设置之间的关系。
以上所述，仅为本公开的具体实施方式，但本公开的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本公开揭露的技术范围内，可轻易想到其各种变化或替换，这些都应涵盖在本公开的保护范围之内。因此，本公开的保护范围应以所述权利要求的保护范围为准。
Claims (10)
1.一种掩模版，其特征在于，所述掩模版设置有具有一定图形的多个开口，每个所述图形的各内转角处分别设置至少一个朝向所述图形的中心延伸的凸部。
2.根据权利要求1所述的掩模版，其特征在于，所述凸部在与所述掩模版平行的平面上的投影为轴对称图形。
3.根据权利要求2所述的掩模版，其特征在于，所述凸部在与所述掩模版平行的平面上的投影为等腰三角形、矩形、等腰梯形、菱形和椭圆形中的一种或多种。
4.根据权利要求1所述的掩模版，其特征在于，所述凸部的宽度范围为50μm-300μm。
5.根据权利要求4所述的掩模版，其特征在于，所述凸部的长度范围为0.5mm-2mm。
6.根据权利要求1至5中任一项所述的掩模版，其特征在于，所述内转角为圆角，所述凸部为多个，多个所述凸部沿所述圆角的周向间隔设置。
7.根据权利要求1所述的掩模版，其特征在于，所述图形在与所述掩模版平行的平面上的正投影为矩形、正方形、平行四边形、五边形、六边形和椭圆形中的一种。
8.一种显示装置的制备方法，其特征在于，包括采用权利要求1至7中任一项所述的掩模版形成封装层。
9.根据权利要求8所述的制备方法，其特征在于，采用所述掩模版形成封装层包括：
将所述掩模版设置在基底设有多个第一围堰的一侧；所述多个第一围堰与所掩模版中的多个开口一一对应，所述开口对应的图形在所述基底上的正投影覆盖所述第一围堰在所述基底上的正投影；所述凸部在所述基底上的正投影与所述第一围堰在所述基底上的正投影交叠；
在所述基底具有第一围堰的一侧依次形成第一封装层、有机层和第二封装层；其中，所述第一封装层和所述第二封装层在所述基底上的正投影均覆盖所述第一围堰在所述基底上的正投影，所述第一围堰包围的区域在所述基底上的正投影覆盖有机层在所述基底上的正投影。
10.根据权利要求9所述的制备方法，其特征在于，所述基底设有第一围堰的一侧还设有多个第二围堰，所述多个第二围堰与所述多个第一围堰一一对应，所述第二围堰在所述基底上的正投影位于对应的所述第一围堰在所述基底上的正投影的内侧。
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