CN114571836A - 一种微纳烫金版的制作方法 - Google Patents

一种微纳烫金版的制作方法 Download PDF

Info

Publication number
CN114571836A
CN114571836A CN202210069344.2A CN202210069344A CN114571836A CN 114571836 A CN114571836 A CN 114571836A CN 202210069344 A CN202210069344 A CN 202210069344A CN 114571836 A CN114571836 A CN 114571836A
Authority
CN
China
Prior art keywords
plate
micro
gold stamping
nano
nano gold
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
CN202210069344.2A
Other languages
English (en)
Other versions
CN114571836B (zh
Inventor
刘锁
刘兵
柴鑫
张李斌
胡金动
王晓磊
孔秀英
沈亚雄
伍燕德
章帅军
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Zhejiang Yaxin Packaging Material Co ltd
Original Assignee
Zhejiang Yaxin Packaging Material Co ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Zhejiang Yaxin Packaging Material Co ltd filed Critical Zhejiang Yaxin Packaging Material Co ltd
Priority to CN202210069344.2A priority Critical patent/CN114571836B/zh
Publication of CN114571836A publication Critical patent/CN114571836A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN114571836B publication Critical patent/CN114571836B/zh
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Classifications

    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41CPROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
    • B41C1/00Forme preparation
    • B41C1/02Engraving; Heads therefor
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41CPROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
    • B41C1/00Forme preparation
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25DPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D1/00Electroforming

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Electrochemistry (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • ing And Chemical Polishing (AREA)

Abstract

本发明涉及一种微纳烫金版的制作方法,包括PC胶版和逆流槽,逆流槽内设有氨基磺酸电铸液,氨基磺酸电铸液的温度60~70℃,氨基磺酸电铸液密度的比重剂为41~42波美,制作方法依次包括以下步骤:S1获取微纳浮雕图案矢量图稿、S2刻蚀定位图案、S3显影处理、S4银液喷淋、S5母版制备、S6镍离子吸附、S7切割,本发明的优点:由于S6步骤中通过逆流槽使镍离子吸附到母版上形成微纳烫金版,由于逆流槽内液体循环均匀、杂质分离、内应力小,能达到高速铸版的功能,因此制作的微纳烫金版具有创意、色彩炫丽的矢量图,也可以适合大量复制精密产品的需要,而且制作后的全息镭射烫金版表面平整无瑕疵。

Description

一种微纳烫金版的制作方法
技术领域
本发明涉及一种微纳烫金版的制作方法。
背景技术
烫金工艺利用热转移的原理,设计图案雕刻在有色金属上,材质如:铜版、锌版等上雕刻信息,通过热转把薄膜上铝箔全息镭射信息,转移到承载物体上如:烟标、酒标、化妆品及其他商标产品上使用,烫金工艺是现今主流烫印防伪工艺,图案清晰、美观,色彩鲜艳,而现有烫金工艺存在以下缺点:易烫偏及走步拉伸,影响图案的中心度;专属色彩突出后道工序会丢失色彩,色相调控繁琐;工序多,成本高,品质不易控制;生产时会有麻坑泛白,导致品质下滑;雕刻图案费时,精密的图案不易达到。
发明内容
本发明所要达到的目的就是提供一种微纳烫金版的制作方法,能使制作的微纳烫金版表面平整无瑕疵,从而提高产品的档次。
为了解决上述技术问题,本发明是通过以下技术方案实现的:一种微纳烫金版的制作方法,包括PC胶版和逆流槽,所述逆流槽内设有氨基磺酸电铸液,氨基磺酸电铸液包括以下组分:420质量份的氨基磺酸镍和33~36质量份的硼酸,氨基磺酸电铸液的温度60~70℃,氨基磺酸电铸液密度的比重剂为41~42波美,制作方法依次包括以下步骤:
S1:获取微纳浮雕图案矢量图稿;
S2:在PC胶版上刻蚀S1获取的微纳浮雕图案矢量图稿的定位图案;
S3:对S2处理后的PC胶版进行显影处理;
S4:在S3处理后的PC胶版上均匀的喷淋上一层银液,且所述银液在PC胶版上的厚度为0.9~1.1um;
S5:将S4处理后的PC胶版通过制版槽制作出银版芯膜,并将银版芯膜制备成母版;
S6:将S5制作后的母版放置在逆流槽内,使镍离子吸附到母版上形成微纳烫金版,放置时间不低于72h,且微纳烫金版的厚度不低于2mm;
S7:将S6处理后的母版通过精密切割机切割出凸版微纳图案。
优选的,在S1步骤中的微纳浮雕图案矢量图稿通过Adobe Illustrator或AdobePhotoshop获取。
优选的,在S2步骤中的定位图案通过光刻机光刻而成。
优选的,在S3步骤中的PC胶版通过氢氧化钠水溶液处理,且每1000ml水中的氢氧化钠的质量为12~13g,且PC胶版的处理时间不低于10s。
优选的,在S4步骤中的银液包括以下组分组成:100ml氨水、50ml盐酸、50g清洗皂素、10g敏化剂氯化亚锡、10g银液硝酸银和10g还原剂。
优选的,在S4步骤中的银液通过双头喷雾枪进行喷淋。
优选的,在S6步骤中的母版的边缘贴合有环氧胶带。
综上所述,本发明的优点:通过S1获取微纳浮雕图案矢量图稿、S2刻蚀定位图案、S3显影处理、S4银液喷淋、S5母版制备、S6镍离子吸附、S7切割的制作方法制作的微纳烫金版,由于S6步骤中通过逆流槽使镍离子吸附到母版上形成微纳烫金版,由于逆流槽内液体循环均匀、杂质分离、内应力小,能达到高速铸版的功能,其次,氨基磺酸电铸液包括氨基磺酸镍和硼酸,通过在氨基磺酸镍添加硼酸,提高整个氨基磺酸电铸液的缓冲力,从而保证了氨基磺酸电铸液内的PH值保持在一定范围内,提高了镍离子吸附的均衡性,从而提高了微纳烫金版的质量,因此制作的微纳烫金版具有创意、色彩炫丽的矢量图,也可以适合大量复制精密产品的需要,而且制作后的全息镭射烫金版表面平整无瑕疵,以往烫金版要与定位镭射膜带需要套印,现微纳烫金版只需有专属色带,给予参数直接材料,减少了时间的消耗,调高产能,且色彩与全息防伪不会失真,节约时间与成品,同时也解决了走步拉伸机图案的中心度等问题,最后,微纳镭射烫金版的精度1:1的还原了原信息层,从而体现出本产品的防伪能力,还能提高产品的档次,能代替了传统电雕版烫金工艺,提高效率、精度、色彩度,提高产品稳定性、多样性。
具体实施方式
一种微纳烫金版的制作方法,包括PC胶版和逆流槽,所述逆流槽内设有氨基磺酸电铸液,氨基磺酸电铸液包括以下组分:420质量份的氨基磺酸镍和33~36质量份的硼酸,氨基磺酸电铸液的温度60~70℃,氨基磺酸电铸液密度的比重剂为41~42波美,制作方法依次包括以下步骤:
S1:获取微纳浮雕图案矢量图稿;
S2:在PC胶版上刻蚀S1获取的微纳浮雕图案矢量图稿的定位图案;
S3:对S2处理后的PC胶版进行显影处理;
S4:在S3处理后的PC胶版上均匀的喷淋上一层银液,且所述银液在PC胶版上的厚度为0.9~1.1um;
S5:将S4处理后的PC胶版通过制版槽制作出银版芯膜,并将银版芯膜制备成母版;
S6:将S5制作后的母版放置在逆流槽内,使镍离子吸附到母版上形成微纳烫金版,放置时间不低于72h,且微纳烫金版的厚度不低于2mm;
S7:将S6处理后的母版通过精密切割机切割出凸版微纳图案。
通过S1获取微纳浮雕图案矢量图稿、S2刻蚀定位图案、S3显影处理、S4银液喷淋、S5母版制备、S6镍离子吸附、S7切割的制作方法制作的微纳烫金版,由于S6步骤中通过逆流槽使镍离子吸附到母版上形成微纳烫金版,由于逆流槽内液体循环均匀、杂质分离、内应力小,能达到高速铸版的功能,其次,氨基磺酸电铸液包括氨基磺酸镍和硼酸,通过在氨基磺酸镍添加硼酸,提高整个氨基磺酸电铸液的缓冲力,从而保证了氨基磺酸电铸液内的PH值保持在一定范围内,提高了镍离子吸附的均衡性,从而提高了微纳烫金版的质量,因此制作的微纳烫金版具有创意、色彩炫丽的矢量图,也可以适合大量复制精密产品的需要,而且制作后的全息镭射烫金版表面平整无瑕疵,以往烫金版要与定位镭射膜带需要套印,现微纳烫金版只需有专属色带,给予参数直接材料,减少了时间的消耗,调高产能,且色彩与全息防伪不会失真,节约时间与成品,同时也解决了走步拉伸机图案的中心度等问题,最后,微纳镭射烫金版的精度1:1的还原了原信息层,从而体现出本产品的防伪能力,还能提高产品的档次,能代替了传统电雕版烫金工艺,提高效率、精度、色彩度,提高产品稳定性、多样性。
在S1步骤中的微纳浮雕图案矢量图稿通过Adobe Illustrator或AdobePhotoshop获取,能根据实现需求获取不同类型的微纳浮雕图案矢量图稿,满足不同的生产需求,在S2步骤中的定位图案通过光刻机光刻而成,能提高定位图案的精度,在S3步骤中的PC胶版通过氢氧化钠水溶液处理,且每1000ml水中的氢氧化钠的质量为12~13g,且PC胶版的处理时间不低于10s,能使图像显影时的持续析出,从而提高图像的呈现质量,在S4步骤中的银液包括以下组分组成:100ml氨水、50ml盐酸、50g清洗皂素、10g敏化剂氯化亚锡、10g银液硝酸银和10g还原剂,能使银液均匀的喷淋,而且色彩明亮宛如镜面一致、无脏点、无水迹印,在S4步骤中的银液通过双头喷雾枪进行喷淋,能实现银液的均匀喷淋,提高喷淋质量,在S6步骤中的母版的边缘贴合有环氧胶带,能增加摩擦性来解决内应力牢度问题。
除上述优选实施例外,本发明还有其他的实施方式,本领域技术人员可以根据本发明作出各种改变和变形,只要不脱离本发明的精神,均应属于本发明所附权利要求所定义的范围。

Claims (7)

1.一种微纳烫金版的制作方法,其特征在于:包括PC胶版和逆流槽,所述逆流槽内设有氨基磺酸电铸液,氨基磺酸电铸液包括以下组分:420质量份的氨基磺酸镍和33~36质量份的硼酸,氨基磺酸电铸液的温度60~70℃,氨基磺酸电铸液密度的比重剂为41~42波美,依次包括以下步骤:
S1:获取微纳浮雕图案矢量图稿;
S2:在PC胶版上刻蚀S1获取的微纳浮雕图案矢量图稿的定位图案;
S3:对S2处理后的PC胶版进行显影处理;
S4:在S3处理后的PC胶版上均匀的喷淋上一层银液,且所述银液在PC胶版上的厚度为0.9~1.1um;
S5:将S4处理后的PC胶版通过制版槽制作出银版芯膜,并将银版芯膜制备成母版;
S6:将S5制作后的母版放置在逆流槽内,使镍离子吸附到母版上形成微纳烫金版,放置时间不低于72h,且微纳烫金版的厚度不低于2mm;
S7:将S6处理后的母版通过精密切割机切割出凸版微纳图案。
2.根据权利要求1所述的一种微纳烫金版的制作方法,其特征在于:在S1步骤中的微纳浮雕图案矢量图稿通过Adobe Illustrator或Adobe Photoshop获取。
3.根据权利要求1所述的一种微纳烫金版的制作方法,其特征在于:在S2步骤中定位图案通过光刻机光刻而成。
4.根据权利要求1所述的一种微纳烫金版的制作方法,其特征在于:在S3步骤中PC胶版通过氢氧化钠水溶液处理,且每1000ml水中的氢氧化钠的质量为12~13g,且PC胶版的处理时间不低于10s。
5.根据权利要求1所述的一种微纳烫金版的制作方法,其特征在于:在S4步骤中的银液包括以下组分组成:100ml氨水、50ml盐酸、50g清洗皂素、10g敏化剂氯化亚锡、10g银液硝酸银和10g还原剂。
6.根据权利要求5所述的一种微纳烫金版的制作方法,其特征在于:在S4步骤中的银液通过双头喷雾枪进行喷淋。
7.根据权利要求1所述的一种微纳烫金版的制作方法,其特征在于:在S6步骤中母版的边缘贴合有环氧胶带。
CN202210069344.2A 2022-01-21 2022-01-21 一种微纳烫金版的制作方法 Active CN114571836B (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN202210069344.2A CN114571836B (zh) 2022-01-21 2022-01-21 一种微纳烫金版的制作方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN202210069344.2A CN114571836B (zh) 2022-01-21 2022-01-21 一种微纳烫金版的制作方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN114571836A true CN114571836A (zh) 2022-06-03
CN114571836B CN114571836B (zh) 2023-09-26

Family

ID=81769708

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN202210069344.2A Active CN114571836B (zh) 2022-01-21 2022-01-21 一种微纳烫金版的制作方法

Country Status (1)

Country Link
CN (1) CN114571836B (zh)

Citations (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH09123386A (ja) * 1995-11-06 1997-05-13 Think Lab Kk オフセット版及びオフセット版の製作方法
US20040031404A1 (en) * 2002-08-19 2004-02-19 John Dixon Seamless embossing shim
CN1804138A (zh) * 2005-11-14 2006-07-19 深圳市允升吉电子有限公司 一种有机发光显示器蒸镀用掩膜的电铸制作方法
JP2007308761A (ja) * 2006-05-18 2007-11-29 Fujifilm Corp めっき処理方法、導電性金属膜およびその製造方法、並びに透光性電磁波シールド膜
EP2098362A1 (en) * 2006-12-27 2009-09-09 Hitachi Chemical Company, Ltd. Engraved plate and base material having conductor layer pattern using the engraved plate
WO2010006108A1 (en) * 2008-07-10 2010-01-14 Illinois Tool Works Inc. Imaging of deep structures or reliefs for shallow relief embossing
CN101992583A (zh) * 2009-08-19 2011-03-30 比亚迪股份有限公司 一种无缝宽幅全息模压母版的制备方法
WO2012134466A1 (en) * 2011-03-30 2012-10-04 Taiwan Green Point Enterprises Co., Ltd. Molding tool with a three dimensional surface relief pattern and method of making the same
CN107460529A (zh) * 2017-08-28 2017-12-12 厦门市韩江环保科技有限公司 一种电镀清洗设备及其清洗方法
CN109930182A (zh) * 2018-12-27 2019-06-25 上海铂庚科技有限公司 一种湿制程制作镍合金精密零部件的方法
CN110871619A (zh) * 2018-08-29 2020-03-10 苏州苏大维格科技集团股份有限公司 一种高保真拼版方法
CN111663124A (zh) * 2020-06-11 2020-09-15 大连理工大学 一种在碳化硅表面镀银的方法
CN112323103A (zh) * 2020-11-04 2021-02-05 江苏兴广包装科技有限公司 一种全息防伪版的热压式拼版方法
CN113232445A (zh) * 2021-03-24 2021-08-10 昆山景鹏包装材料有限公司 一种带有文字全息的镭射膜制备方法
CN113910822A (zh) * 2021-11-04 2022-01-11 杭州新耀激光科技有限公司 一种微纳米级光学烫金方法

Patent Citations (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH09123386A (ja) * 1995-11-06 1997-05-13 Think Lab Kk オフセット版及びオフセット版の製作方法
US20040031404A1 (en) * 2002-08-19 2004-02-19 John Dixon Seamless embossing shim
CN1804138A (zh) * 2005-11-14 2006-07-19 深圳市允升吉电子有限公司 一种有机发光显示器蒸镀用掩膜的电铸制作方法
JP2007308761A (ja) * 2006-05-18 2007-11-29 Fujifilm Corp めっき処理方法、導電性金属膜およびその製造方法、並びに透光性電磁波シールド膜
EP2098362A1 (en) * 2006-12-27 2009-09-09 Hitachi Chemical Company, Ltd. Engraved plate and base material having conductor layer pattern using the engraved plate
WO2010006108A1 (en) * 2008-07-10 2010-01-14 Illinois Tool Works Inc. Imaging of deep structures or reliefs for shallow relief embossing
CN101992583A (zh) * 2009-08-19 2011-03-30 比亚迪股份有限公司 一种无缝宽幅全息模压母版的制备方法
WO2012134466A1 (en) * 2011-03-30 2012-10-04 Taiwan Green Point Enterprises Co., Ltd. Molding tool with a three dimensional surface relief pattern and method of making the same
CN107460529A (zh) * 2017-08-28 2017-12-12 厦门市韩江环保科技有限公司 一种电镀清洗设备及其清洗方法
CN110871619A (zh) * 2018-08-29 2020-03-10 苏州苏大维格科技集团股份有限公司 一种高保真拼版方法
CN109930182A (zh) * 2018-12-27 2019-06-25 上海铂庚科技有限公司 一种湿制程制作镍合金精密零部件的方法
CN111663124A (zh) * 2020-06-11 2020-09-15 大连理工大学 一种在碳化硅表面镀银的方法
CN112323103A (zh) * 2020-11-04 2021-02-05 江苏兴广包装科技有限公司 一种全息防伪版的热压式拼版方法
CN113232445A (zh) * 2021-03-24 2021-08-10 昆山景鹏包装材料有限公司 一种带有文字全息的镭射膜制备方法
CN113910822A (zh) * 2021-11-04 2022-01-11 杭州新耀激光科技有限公司 一种微纳米级光学烫金方法

Also Published As

Publication number Publication date
CN114571836B (zh) 2023-09-26

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN102478716B (zh) 一种眼镜架板材的制作方法
CN1375401A (zh) 印刷装饰性图案的凹版印刷法
CN113232445A (zh) 一种带有文字全息的镭射膜制备方法
CN101439624B (zh) 图案文字转印胶带的制作方法
CN114571836A (zh) 一种微纳烫金版的制作方法
US4552829A (en) Transfer sheet with color pattern having metallic luster, and method of manufacturing said sheet
GB2147612A (en) Method of producing timepiece dial
CN101633281A (zh) 陶瓷装饰件及其加工方法
CN106585146A (zh) 一种彩金浮雕工艺
LU501555B1 (en) Production process of lining paper for packaging
CN101693422B (zh) 一种在全息素面上定位并叠加图案的全息镍板的制造方法
CN104997248A (zh) 一种镂空文字首饰制作方法
KR100388446B1 (ko) 투명 아크릴 또는 플라스틱 성형품에 헤어라인 형성 방법
CN110239243B (zh) 一种光刻玻璃复制胶片图像的生产工艺
CN201592541U (zh) 一种在全息素面上定位并叠加图案的全息镍版
CN201094032Y (zh) 制版印刷技术制备树脂光学码盘
JP4475737B2 (ja) 立体電鋳品及びその製造方法ならびに立体電鋳品シート
CN114228362B (zh) 一种印刷图案与光学纹理对位的转印膜的制膜方法
CN114132062A (zh) 一种微纳米潜影防伪器件及其制备方法与版辊
CN101817270A (zh) 包含专用镭射图案和背景镭射图案的镭射版及其制作方法
CN212749296U (zh) 微透镜阵列定域涂布辊
JPH0540182A (ja) 装飾部材の製造方法
RU2215828C2 (ru) Способ изготовления рельефных изделий с использованием фотополимера
CN117124762A (zh) 一种新型无醛立体民族图纹软瓷的制法
CN116649693A (zh) 砂金奖牌或奖章的制造方法

Legal Events

Date Code Title Description
PB01 Publication
PB01 Publication
SE01 Entry into force of request for substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
GR01 Patent grant
GR01 Patent grant