CN114504282A - 清洁基站、清洁设备及清洁系统 - Google Patents

Abstract

本申请实施例提供的清洁基站、清洁设备及清洁系统，其中清洁设备能够对接至清洁基站，清洁设备包括主机壳体；定位机构设于清洁基站和主机壳体之间，定位机构能够在第一状态和第二状态之间切换；在第一状态下，定位机构在主机壳体与清洁基站之间施加预设作用力，以使清洁设备维持在与清洁基站对接的预设对接位置；在第二状态下，清洁设备能够与清洁基站相分离。本申请所提供的技术方案，能够实现清洁设备与清洁基站的可靠定位，能够改善清洁设备在对接至清洁基站上进行自清洁时，容易发生抖动的问题。

Description

清洁基站、清洁设备及清洁系统

技术领域

本申请涉及清洁设备结构设计技术领域，尤其涉及一种清洁基站、清洁设备及清洁系统。

背景技术

市面上越来越多的清洁机器人，通过与清洁基站配合，能够实现抹布等清洁部件的自清洁。当清洁设备与清洁基站对接时，清洁设备可以进行自清洁，在自清洁过程中，通常需要对清洁设备上的抹布、滚刷等清洁部件进行刮擦操作，例如利用刮条刮下清洁部件上的污水，在该过程中，清洁部件会向主机传递较大的作用力，使得清洁设备会相对于清洁基站发生不规则地抖动，造成较大异响，甚至影响清洁设备的使用寿命。

发明内容

鉴于上述问题，提出了本申请以解决上述问题或至少部分地解决上述问题的清洁基站、清洁设备及清洁系统。

本申请实施例第一方面提供一种清洁系统，包括：

清洁基站；

清洁设备，所述清洁设备能够对接至所述清洁基站，所述清洁设备包括主机壳体；

定位机构，设于所述清洁基站和所述主机壳体之间，所述定位机构能够在第一状态和第二状态之间切换；

在所述第一状态下，所述定位机构在所述主机壳体与清洁基站之间施加预设作用力，以使所述清洁设备维持在与所述清洁基站对接的预设对接位置；在所述第二状态下，所述清洁设备能够与所述清洁基站相分离。

在一些实施例中，所述预设作用力包括抵顶力或磁吸力。

在一些实施例中，所述定位机构设于所述清洁基站，在所述第一状态下，所述定位机构用于对所述主机壳体的侧部施加所述预设作用力。

在一些实施例中，所述清洁基站包括底壁和侧壁，所述定位机构设于所述侧壁；

所述定位机构包括至少两个，至少两个所述定位机构分别对称设于所述清洁基站上相对的两个侧壁。

在一些实施例中，所述清洁系统还包括：

检测装置，用于检测所述清洁设备是否相对于所述清洁基站对接到位；

控制装置，与所述检测装置及所述定位机构电连接；

当所述检测装置检测到所述清洁设备已对接至所述清洁基站的预设对接位置时，所述控制装置控制所述定位机构处于所述第一状态。

在一些实施例中，所述清洁基站与所述清洁设备通信连接，在所述控制装置接收到所述清洁设备脱离所述清洁基站的指令时，所述控制装置控制所述定位机构切换至所述第二状态。

在一些实施例中，所述定位机构包括固定部和施力部，所述固定部固定于所述清洁基站，所述施力部能够在第一位置和第二位置之间运动；

当所述施力部位于所述第一位置时，所述定位机构处于所述第一状态；

当所述施力部位于所述第二位置时，所述定位机构处于所述第二状态。

在一些实施例中，所述清洁基站包括底壁和侧壁，所述固定部位于所述侧壁的外侧，在所述侧壁上具有供所述施力部穿过的贯穿孔，所述施力部能够穿过所述贯穿孔从所述侧壁的内侧伸入所述容纳腔。

在一些实施例中，所述预设作用力包括抵顶力，当所述施力部位于所述第一位置时，所述施力部与所述清洁设备的主机壳体抵顶接触；当所述施力部位于所述第二位置时，所述施力部脱离所述清洁设备的主机壳体；

或者，当所述施力部位于所述第一位置时，所述施力部对所述清洁设备的主机壳体施加第一抵顶力，当所述施力部位于所述第二位置时，所述施力部对所述清洁设备的主机壳体施加第二抵顶力；其中，所述第一抵顶力大于所述第二抵顶力。

在一些实施例中，所述定位机构还包括第一驱动部，所述控制装置具体与所述第一驱动部连接；

所述第一驱动部与所述施力部驱动连接，以驱动所述施力部在所述第一位置和第二位置之间运动。

在一些实施例中，所述预设作用力包括磁吸力，所述定位机构包括磁吸部，当所述清洁设备对接于所述清洁基站的预设对接位置时，所述磁吸部能够与所述主机壳体相互吸合，而使所述清洁设备维持在所述预设对接位置。

在一些实施例中，所述定位机构还包括第二驱动部，所述控制装置具体与所述第二驱动部连接；

所述第二驱动部与所述磁吸部电连接，用于驱动所述磁吸部上电；

当所述第二驱动部驱动所述磁吸部上电时，所述定位机构处于所述第一状态，所述磁吸部与所述清洁设备吸合；

当所述第二驱动部驱动所述磁吸部掉电时，所述定位机构处于所述第二状态，所述磁吸部释放所述清洁设备。

在一些实施例中，所述预设作用力包括抵顶力，所述清洁设备的侧部具有防滑部，所述防滑部用于与所述定位机构抵顶接触，所述防滑部的摩擦系数大于所述侧部的其他位置的摩擦系数。

本申请实施例第二方面提供一种清洁系统，包括：

清洁基站；

清洁设备，所述清洁设备能够对接至所述清洁基站，所述清洁设备包括主机壳体；

定位机构，设于所述清洁基站与所述主机壳体之间，所述定位机构能够在所述主机壳体与清洁基站之间施加预设作用力，以使所述清洁设备维持在与所述清洁基站对接的预设对接位置；

本申请实施例第三方面提供一种清洁基站，用于与清洁设备对接，包括：

本体；

定位机构，设于所述本体，所述定位机构能够在第一状态和第二状态之间切换；

在所述第一状态下，所述定位机构对所述清洁设备的主机壳体施加预设作用力，以使所述清洁设备维持在与所述清洁基站对接的预设对接位置；

在所述第二状态下，所述清洁设备能够与所述清洁基站相分离。

本申请实施例第四方面提供一种清洁基站，用于与清洁设备对接，包括：

本体；

定位机构，设于所述本体；

所述定位机构能够对所述清洁设备的主机壳体施加预设作用力，以使所述清洁设备维持在与所述清洁基站对接的预设对接位置。

本申请实施例第五方面提供一种清洁设备，包括：主机壳体，所述主机壳体能够对接至清洁基站，其中，所述清洁基站包括：本体和定位机构，所述定位机构设于所述本体，所述定位机构能够在第一状态和第二状态之间切换；在所述第一状态下，所述定位机构能够对所述清洁设备的主机壳体施加预设作用力，以使所述清洁设备维持在与所述清洁基站对接的预设对接位置；在所述第二状态下，所述清洁设备能够与所述清洁基站相分离；

所述主机壳体具有防滑部，所述防滑部用于与所述定位机构抵顶接触。

在一些实施例中，所述防滑部的摩擦系数大于所述主机壳体的其他位置的摩擦系数。

本申请实施例第六方面提供一种清洁设备，包括：主机壳体，所述主机壳体能够对接至清洁基站，其中，所述清洁基站包括：本体和定位机构，所述定位机构设于所述本体；所述定位机构能够对所述清洁设备的主机壳体施加预设作用力，以使所述清洁设备维持在与所述清洁基站对接的预设对接位置；

所述主机壳体具有防滑部，所述防滑部用于与所述定位机构抵顶接触。

本申请实施例第七方面提供一种清洁设备，包括：

主机壳体，所述主机壳体能够对接至清洁基站；

定位机构，设于所述主机壳体；

所述定位机构能够在第一状态和第二状态之间切换；在所述第一状态下，所述定位机构能够对所述清洁基站施加预设作用力，以使所述清洁设备维持在与所述清洁基站对接的预设对接位置；在所述第二状态下，所述清洁设备能够与所述清洁基站相分离。

本申请实施例第八方面提供一种清洁设备，包括：

主机壳体，所述主机壳体能够对接至清洁基站；

定位机构，设于所述主机壳体；

所述定位机构能够对所述清洁基站施加预设作用力，以使所述清洁设备维持在与所述清洁基站对接的预设对接位置。

本申请实施例所提供的清洁基站、清洁设备及清洁系统，通过在清洁基站与清洁设备之间设置定位机构，定位机构对清洁设备的主机壳体和清洁基站之间施加预设作用力，使得清洁设备维持在预设对接位置，从而实现了主机壳体与清洁基站之间的可靠定位，能够改善清洁设备在对接至清洁基站上进行自清洁时，容易发生抖动的问题。

附图说明

为了更清楚地说明本申请实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作一简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图是本申请的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1为本申请一实施例提供的清洁基站的结构示意图；

图2为本申请一实施例提供的清洁设备放置于清洁基站上的状态示意图；

图3a为本申请一实施例提供的定位机构在伸出状态下的示意图；

图3b为本申请一实施例提供的定位机构在缩回状态下的示意图；

图4a为本申请另一实施例提供的清洁基站的结构示意图；

图4b为本申请又一实施例提供的清洁基站的结构示意图；

图4c为本申请再一实施例提供的清洁基站的结构示意图；

图5为本申请实施例提供的清洁系统的电控原理图；

图6为本申请一实施例提供的清洁设备及其局部放大图。

具体实施方式

下面将结合本申请实施例中的附图，对本申请实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述。显然，所描述的实施例仅仅是本申请一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本申请中的实施例，本领域技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本申请保护的范围。

在通篇说明书及权利要求当中所提及的“包括”为一开放式用语，故应解释成“包括但不限定于”。“大致”是指在可接收的误差范围内，本领域技术人员能够在一定误差范围内解决所述技术问题，基本达到所述技术效果。

此外，“连接”一词在此包含任何直接及间接的连接手段。因此，若文中描述一第一装置连接于一第二装置，则代表所述第一装置可直接连接于所述第二装置，或通过其它装置间接地连接至所述第二装置。说明书后续描述为实施本申请的较佳实施方式，然所述描述乃以说明本申请的一般原则为目的，并非用以限定本申请的范围。本申请的保护范围当视所附权利要求所界定者为准。

应当理解，本文中使用的术语“和/或”仅仅是一种描述关联对象的关联关系，表示可以存在三种关系，例如，A和/或B，可以表示：单独存在A，同时存在A和B，单独存在B这三种情况。另外，本文中字符“/”，一般表示前后关联对象是一种“或”的关系。

目前市场上的清洁设备，例如，扫地机器人、洗地机、扫拖一体机等，一般会配备清洁基站，当清洁设备与清洁基站对接时，清洁设备可以进行自清洁，在自清洁过程中，通常需要对清洁设备上的抹布、滚刷等清洁部件进行刮擦操作，例如利用刮条刮下清洁部件上的污水，在该过程中，清洁部件会向主机传递较大的作用力，使得清洁设备会相对于清洁基站发生不规则地抖动，造成较大异响，甚至影响清洁设备的使用寿命。

为解决上述技术问题，相关技术中会在清洁基站的底壁上设置与清洁设备主机的驱动轮配合的定位凹槽，当清洁设备对接在清洁基站上时，清洁设备主机的驱动轮刚好落入定位凹槽内。使得当清洁基站对清洁设备进行自清洁时，降低清洁设备的抖动现象。

但是，发明人经过创造性地发现相关技术中的上述方式，会使得清洁设备的污水容易残留在定位凹槽内，进而加大了用户对清洁基站的清洁难度，用户感受并不好。

因此，为解决上述特定的技术问题，本申请提供以下实施例，以能够较好地将清洁设备维持在与清洁基站对接的预设对接位置，且改善了污水残留在清洁基站上的问题。

图1为本申请一实施例提供的清洁基站的结构示意图；图2为本申请一实施例提供的清洁设备放置于清洁基站上的状态示意图；请参照附图1和附图2，本申请实施例提供一种清洁系统，包括清洁基站100和清洁设备200，清洁设备200能够对接至清洁基站100，其中，清洁设备200可以包括但不限于扫地机器人、洗地机、扫拖一体机等。清洁基站100通常至少可以用于为清洁设备200充电，以及便于清洁设备200在清洁基站100上进行自清洁。在使用时，清洁基站100可以通过外接接头连接电源，当清洁设备200对接至清洁基站100时，清洁基站100可以给清洁设备200充电。

而清洁设备200可以包括主机和位于主机下方的行走轮，行走轮能够用于提供行走动力，或者用于辅助清洁设备200在地面行走。其中，主机包括主机壳体201，主机壳体201围成有容纳腔，在容纳腔内容纳有清洁设备的多个机械部件和电子部件。

清洁系统还包括定位机构300，定位机构300设于清洁基站100和主机壳体201之间。具体的，定位机构300可以设于清洁基站100，或者，定位机构300可以设于主机壳体201，甚至，定位机构300的一部分可以设于清洁基站100，定位机构300的另一部分可以设于主机壳体201，本实施例不做限定。定位机构300旨在使得清洁基站100与主机壳体201之间的相互作用力增大，使得两者之间相对位置不易改变，因此，对于定位机构300设置于清洁基站100和/或主机壳体201，本实施例不做严格限定。

本申请实施例中的定位机构300能够在第一状态和第二状态之间切换。其中，在第一状态下，定位机构300在所述主机壳体201与清洁基站100之间施加预设作用力，以使清洁设备维持在与清洁基站100对接的预设对接位置；在第二状态下，清洁设备200能够与清洁基站100相分离。

具体的，定位机构300的第一状态和第二状态可以是外观上可见的状态变化，例如定位机构300的零部件的相对位置发生改变，或者定位机构300所施加的作用力发生改变。但无论何种，定位机构300在第一状态下，主机壳体201所受到作用力至少大于定位机构在第二状态下，主机壳体201所收到的作用力。当定位机构300在第一状态时，清洁设备200受到定位机构300所施加的预设作用力的限制，使得清洁设备200不易相对于清洁基站100发生位移，因此，在清洁设备200在清洁基站100上进行自清洁时，清洁设备200不易发生抖动，降低了自清洁时的异响，提高了用户体验。

而当定位机构300处于第二状态时，清洁设备200能脱离清洁基站100，在一些实施例中，可以是定位机构300在清洁设备200与清洁基站100之间所施加的作用力减小，以使得清洁设备200在远离清洁基站100运动时，能够克服定位机构300所施加的作用力。在其他一些实施例中，还可以是定位机构300在清洁设备200与清洁基站100之间施加的作用力消失，而使得清洁设备200能够顺畅地脱离清洁基站100，继而进行正常的清洁工作。

本申请实施例所提供的清洁系统，通过在清洁基站与清洁设备之间设置定位机构，定位机构对清洁设备的主机壳体和清洁基站之间施加预设作用力，使得清洁设备维持在预设对接位置，从而实现了主机壳体与清洁基站之间的可靠定位，能够改善清洁设备在对接至清洁基站上进行自清洁时，容易发生抖动的问题。

相较于相关技术中利用驱动轮与清洁基站的定位凹槽定位，本申请实施例所提供的清洁系统，对于清洁基站与清洁设备之间的定位方式无需在清洁基站设置定位凹槽对清洁设备的主机驱动轮定位，从而能够有效避免定位凹槽内残留污水，导致清洁基站清洁难度增加的问题，进而在一定程度上提高了用户体验。

在上述实施例中，定位机构300所施加的预设作用力包括抵顶力或磁吸力。当然，在其他一些实施例中，定位机构300所施加的预设作用力还可以是其他方式，本申请不做特别限定，只要能实现清洁基站100与清洁设备200之间的相对定位即可。

在一些实施例中，如图1和图2所示，定位机构300可以设于清洁基站100，在第一状态下，定位机构300用于对主机壳体201的侧部施加预设作用力。在清洁设备200对接于清洁基站100的状态下，由于重力的作用，清洁设备200在上下方向不易抖动，因此清洁设备200在清洁基站100上的抖动通常发生在侧向方向上。本实施例将定位机构300设计为对主机壳体201的侧部施加预设作用力，由此，可以较大程度上抵抗或削弱清洁设备200的抖动程度，提高清洁设备200在清洁基站100上的稳定性。

当然，在一些实施例中，定位机构300也可以对主机壳体201的顶部施加预设作用力，以使得定位机构300对主机壳体201在上下方向定位主机壳体201，当该预设作用力足够大时，在一定程度上也能够降低清洁设备200在侧向方向上的抖动程度。

同时，由于清洁设备200与清洁基站100的相对定位较好，当清洁设备200在进行自清洁时，刮条对清洁部件的刮擦操作时更易施力，在一定程度上能够更有效地提高清洁设备200的自清洁能力。

如图1所示，在一个具体实施例中，清洁基站100可以包括底壁101和侧壁102。底壁101与侧壁102可以围成供清洁设备200容纳的容纳腔X。该容纳腔X可以具有供清洁设备200运动进入该容纳腔X的开口。

为实现定位机构300对主机壳体201的侧部2011施加预设作用力，定位机构300可以直接设于清洁基站100的侧壁102，或者，定位机构300可以设于清洁基站100的底壁101，但定位机构300可以沿背离底壁101所在方向延伸至抵顶到主机壳体201的侧部2011。基于设计简单的考虑，优选的，将定位机构300设置在清洁基站100的侧壁102，不占用清洁基站100的底壁101空间，有利于清洁基站100的小型化设计。

在一些实施例中，定位机构300所施加的预设作用力包括抵顶力，具体可以是定位机构300抵顶主机壳体201。

如图2所示，在一个具体实施例中，定位机构300可以包括至少两个，至少两个定位机构300可以分别设于清洁基站100的侧壁102的至少两个相对部分。更进一步的，至少两个定位机构300可以分别对称设于清洁基站100的侧壁102的至少两个相对部分。清洁基站100的侧壁102可以包括如图2所示的第一侧壁1021，第二侧壁1022，以及连接第一侧壁1021和第二侧壁1022的第三侧壁1023，三个侧壁围成U形结构，第一侧壁1021与第二侧壁1022相对设置。则侧壁102的至少两个相对部分指的是第一侧壁1021和第二侧壁1022。而在其他一些实施例中，清洁基站100的侧壁102可以为半圆形，侧壁102的至少两个相对部分指的是侧壁102上相对的弧段。

至少两个定位机构300可以对称设于清洁基站100的侧壁。由此，可以使得主机壳体的侧部所受的作用力均衡。具体的，定位机构300可以包括两个，对于定位机构300在侧壁102上的具体位置，可以根据主机壳体的侧部中间位置来确定，在清洁设备200对接于清洁基站100的预设对接位置的状态下，两个定位机构300所施加的作用力刚好作用到主机壳体的侧部的中间位置。

需要说明的是，本申请上述实施例中，定位机构300所施加的作用力，可以为抵顶力，例如，如图2所示，定位机构300设置在清洁基站100的侧壁102，定位机构300对清洁设备200的主机壳体201的侧部施加抵顶力，当至少两个定位机构300分别位于清洁基站100的侧壁102的两个相对部分时，至少两个定位机构300对清洁设备200施加夹持力，而稳固固定清洁设备200。

图4a为本申请另一实施例提供的清洁基站的结构示意图；图4b为本申请又一实施例提供的清洁基站的结构示意图；图4c为本申请再一实施例提供的清洁基站的结构示意图；如图4a～图4c，在其他一些可选实施例中，预设作用力包括磁吸力，定位机构300包括磁吸部，当清洁设备200对接于清洁基站100的预设对接位置时，磁吸部能够与主机壳体201相互吸合，而使清洁设备200维持在预设对接位置。

具体的，而定位机构300施加的作用力为磁吸力时，定位机构300可以设于清洁基站100的侧壁102上与清洁设备200距离最近的位置。例如，如图4a所示，磁吸式的定位机构300可以包括两个，两个定位机构300可以分别设于第一侧壁1021和第二侧壁1022，或者，如图4b所示，定位机构300可以包括一个，一个磁吸式的定位机构300可以设于第三侧壁1023。甚至，在一些实施例中，如图4c所示，磁吸式的定位机构300可以包括三个，三个定位机构300可以分别设于第一侧壁1021、第二侧壁1022以及第三侧壁1023。

更具体的，磁吸部可以为设于清洁基站100上的电磁铁，而在清洁设备200的主机壳体201上可以具有能够被电磁铁吸合的金属或磁性件。

值得注意的是，上述实施例中，为使得清洁设备200能够较为顺畅地进入清洁基站100，并能够顺畅地从清洁基站100脱离，清洁基站100可以仅部分包围清洁设备200。如图2所示，清洁基站100可以沿侧向仅包围清洁设备200的半圆形区域。

为实现清洁系统的自动化控制，提高其智能程度，在能够将清洁设备200稳固定在清洁基站100的同时，不影响清洁设备200进出清洁基站100，以及从清洁基站100脱离。本申请提供以下实施例，以对上述的清洁系统进一步改进，具体，图5为本申请实施例提供的清洁系统的电控原理图；请参照附图1～附图2，以及附图4a～附图4c，以及附图5，清洁系统还可以包括：检测装置400和控制装置500。

检测装置400可以用于检测清洁设备200是否相对于清洁基站100对接到位。具体的，在一些实施例中，检测装置400可以包括设于清洁基站100上的压力传感器，当清洁设备200对接于清洁基站100上时，压力传感器受压，进而被触发。或者，设于清洁基站100上的红外传感器，当清洁设备200对接于清洁基站100上市，红外传感器所发出的红外光被遮挡，进而被触发。当然，检测装置400的具体检测方式也并不限于上述，本领域技术人员可以根据实际情况具体设计，本实施例不做特别限定。

控制装置500可以与检测装置400及定位机构300电连接；当检测装置400检测到清洁设备200已对接至清洁基站100的预设对接位置时，控制装置500控制定位机构300处于第一状态。由此，可以实现只要清洁设备200对接到清洁基站100，定位机构300即可被触发，而处于第一状态，使得清洁设备200可靠固定在清洁基站100。

在一些实施例中，清洁基站100还可以与清洁设备200通信连接，在控制装置500接收到清洁设备200脱离清洁基站100的指令时，控制装置500控制定位机构300切换至第二状态。具体的，控制装置500可以设于清洁基站100，清洁基站100可以与清洁设备200无线通信连接，两者之间可以传输和交换数据。在一些应用场景下，清洁设备200充电完毕或者自清洁完成后，用户需要使得清洁设备200继续进行清洁，清洁设备200可以接收用户的控制指令，该控制指令可以传输给清洁基站100的控制装置500，控制装置500则可以控制定位机构300处于第二状态，定位机构300在第二状态下，清洁设备200无法被清洁基站100固定，进而清洁设备200可以在自身驱动力的作用下脱离清洁基站100，或者，用户可以取走清洁设备200。

通过上述设计，使得定位机构300可以对清洁设备200可靠固定在清洁基站100上，并且不影响清洁设备200正常进出清洁基站100。

图3a为本申请一实施例提供的定位机构在伸出状态下的示意图；图3b为本申请一实施例提供的定位机构在缩回状态下的示意图；请参照附图3a和附图3b，为实现定位机构300在第一状态和第二状态之间切换，具体的，上述的预设作用力可以包括抵顶力，定位机构300可以包括固定部301和施力部302，固定部301固定于清洁基站100，施力部302能够在第一位置和第二位置之间运动，当施力部302位于第一位置(如图3a)时，定位机构300处于第一状态；当施力部302位于第二位置(如图3b)时，定位机构300处于第二状态。

定位机构300包括但不限于以下几种形式：直线驱动装置、滚珠丝杠装置、扭转摆臂装置。当定位机构300为直线驱动装置时，具体可以为直线电机、气缸、液压缸等，如图3a～图3b所示，施力部302可以伸出或缩回固定部301，以实现施力部302在第一位置和第二位置的切换。在其他一些实施例中，当定位机构300包括滚珠丝杠时，施力部302可以为丝杠上的螺母，或者与丝杠上的螺母固定连接，而丝杠可以与旋转电机的输出轴连接，旋转电机输出轴正反转而带动施力部伸出或缩回。当定位机构300包括扭转摆臂时，旋转电机可以驱动扭转摆臂的摆臂摆动，摆臂充当施力部302，摆臂摆动角度来改变其对清洁设备200施加的作用力大小。

进一步的，定位机构300还可以包括第一驱动部，控制装置500具体与第一驱动部连接；第一驱动部与施力部302驱动连接，以驱动施力部302在第一位置和第二位置之间运动。具体的，第一驱动部可以为直线电机、滚珠丝杠装置的旋转电机，以及扭转摆臂装置的旋转电机等，以用于提供定位机构300的动力来源。

优选的，在施力部302处于第一位置时，施力部302至少与清洁设备200接触，当施力部302处于第二位置时，施力部302与清洁设备200可以脱离接触，而使得清洁设备200能够顺畅进出清洁基站100。

当定位机构300对清洁设备200施加的作用力为抵顶力时，上述的施力部302也可以称作抵顶部，用于对清洁设备200施加抵顶力。在此情况下，清洁设备200的主机壳体201可以与清洁基站100间隙配合，而两者能够在定位机构300的施力部302处于第一位置时，被相对固定。

当侧壁102的相对部分之间的距离大于清洁设备200的最大宽度时，磁吸式的定位机构300可以活动设于侧壁102。例如可伸缩地设于侧壁102，以使得磁吸部可以在侧壁102上凸出或缩回，当清洁设备200位于清洁基站100上的预设对接位置时，磁吸部从侧壁10凸出而吸住清洁设备200，当清洁设备200需要脱离清洁基站100时，磁吸部可以失电，而失去磁性，并从侧壁10缩回。

在其他一些实施例中，当定位机构300为磁吸部时，且两个磁吸部可以对称设于清洁基站100的侧壁102时，两个磁吸部之间的距离可以等于或略大于清洁设备200的主机壳体201的最大宽度，当清洁设备200进入清洁基站100的预设对接位置(如图2所示的位置处)，磁吸部可以刚好吸住主机壳体201的最大宽度处，而使得清洁设备200被可靠固定。在该种方式下，定位机构300的施力部302并不能移动，而仅能够在带磁与不带磁的状态下切换。

进一步的，如图1和图2所示，固定部301可以位于清洁基站100的侧壁102的外侧，在侧壁102上可以具有供施力部302穿过的贯穿孔，施力部302能够穿过贯穿孔从侧壁102的内侧伸入容纳腔。通过如此设计，可以使得定位机构300的大部分结构处于清洁基站100的侧壁102的外侧，而能够尽量少地占用清洁基站100的内部空间，使得清洁基站100的整体体积尽可能小。

上述的预设作用力为抵顶力时，且当施力部302位于第一位置时，施力部302可以与清洁设备200的主机壳体201抵顶接触；当施力部302位于第二位置时，施力部302脱离清洁设备200的主机壳体201。或者，在其他一些实施例中，当施力部302位于第一位置时，施力部302对清洁设备200的主机壳体201第一抵顶力，当施力部302位于第二位置时，施力部302对清洁设备200的主机201施加第二抵顶力；其中，第一抵顶力大于第二抵顶力。也就是说，当施力部302处于第二位置时，施力部302并不一定脱离了清洁设备200，一种情况是，施力部302直接脱离了清洁设备200，使得清洁设备200能够从清洁基站100退出，另一种情况是，施力部302仍然与清洁设备200接触，但是施力部302对清洁设备200所施加的作用力较小，而并不足以对清洁设备200实现固定，此时，清洁设备200也能够从清洁基站100退出。

当上述的预设作用力为磁吸力时，定位机构300还包括第二驱动部，该第二驱动部可以为一驱动电路，控制装置400具体与第二驱动部连接；第二驱动部与磁吸部电连接，用于驱动磁吸部上电；当第二驱动部驱动磁吸部上电时，定位机构300处于第一状态，磁吸部与清洁设备200吸合；当第二驱动部驱动磁吸部掉电时，定位机构300处于第二状态，磁吸部释放清洁设备200。通过第二驱动部驱动磁吸部上电带磁，而能够固定清洁设备200，并能够驱动磁吸部掉电失磁，从而能够释放清洁设备200，从而能够灵敏快速地实现清洁设备200在清洁基站100上的固定和释放。

进一步的，当预设作用力包括抵顶力时，主机壳体201的侧部可以具有防滑部202，防滑部202用于与定位机构300抵顶接触，防滑部的摩擦系数大于侧部的其他位置的摩擦系数。其中，防滑部202包括但不限于以下几种：凹凸状的花纹结构，柔性材料层，橡胶层等。主要目的是为了使得定位机构300的施力部302抵顶到主机壳体201时，不易打滑。特别的，当清洁设备200为扫地机器人时，其主机壳体201呈盘状，施力部302抵顶在主机壳体201的侧部，在清洁设备200自清洁的过程中，施力部302容易在主机壳体201上的抵顶位置发生改变，因此，通过设置防滑部202，能够有效降低定位机构300打滑的现象，提高清洁设备200与清洁基站100的定位可靠性。

值得注意的是，在其他一些实施例中，定位机构300可以不设于清洁基站100，而是设于清洁设备200，具体可以设于清洁设备200的主机壳体201的侧部，并对清洁基站100施加作用力，例如定位机构300可以以可翻转或可伸缩的方式设于清洁设备200，清洁设备200上的定位机构300可以对清洁基站100施加抵顶力或磁吸力，甚至其他可作用力，以使得清洁基站100和清洁设备200之间不易产生相对运动，同样也可以使得清洁设备200可靠固定在清洁基站100上。

对于将定位机构300设于清洁设备200上的具体方式，可以与定位机构300设于清洁基站100上的方式类似，具体可以参照设于清洁基站100的方式，在此不做赘述。

本申请实施例还提供另一种清洁系统，包括：清洁基站100、清洁设备200和定位机构300。

清洁设备200能够对接至清洁基站100，清洁设备200包括主机壳体201，定位机构300设于清洁基站100与主机壳体201之间，定位机构300能够在主机壳体201与清洁基站100之间施加预设作用力，以使清洁设备200维持在与清洁基站100对接的预设对接位置。

本实施例的清洁系统与上述实施例所提供的清洁系统大致相同，不同之处在于，本实施例中的定位机构300并不限于能够在第一状态和第二状态之间切换，只要能够实现将清洁设备200维持在于清洁基站100对接的预设对接位置，即能够解决清洁设备200在清洁基站100上自清洁时，容易出现抖动的技术问题。

需要说明的是，本实施例所提供的清洁系统的其他结构和功能与上述实施例相同，具体可以参照上述实施例的描述，在此不做赘述。

本申请一些实施例还提供一种清洁基站100，用于与清洁设备200对接，包括：本体和定位机构300。

定位机构300设于本体，定位机构300能够在第一状态和第二状态之间切换；在第一状态下，定位机构300对清洁设备200的主机壳体201施加预设作用力，以使清洁设备200维持在与清洁基站100对接的预设对接位置；在第二状态下，清洁设备200能够与清洁基站100相分离。

需要说明的是，本实施例所提供的清洁基站的其他结构和功能与上述实施例所提供的清洁系统的清洁基站相同，具体可以参照上述实施例的描述，在此不做赘述。

本申请一些实施例还提供另一种清洁基站100，用于与清洁设备200对接，包括：本体和定位机构300。

定位机构300设于本体；定位机构300能够对清洁设备200的主机壳体201施加预设作用力，以使清洁设备200维持在与清洁基站100对接的预设对接位置。

本实施例的清洁基站与上述实施例所提供的清洁基站大致相同，不同之处在于，本实施例中的定位机构300并不限于能够在第一状态和第二状态之间切换，只要能够实现将清洁设备200维持在于清洁基站100对接的预设对接位置，即能够解决清洁设备200在清洁基站100上自清洁时，容易出现抖动的技术问题。

需要说明的是，本实施例所提供的清洁基站的其他结构和功能与上述实施例所提供的清洁系统的清洁基站相同，具体可以参照上述实施例的描述，在此不做赘述。

本申请一些实施例还一种清洁设备，包括：主机壳体201，主机201能够对接至清洁基站100，其中，清洁基站100包括：本体和定位机构300，定位机构300设于本体，定位机构300能够在第一状态和第二状态之间切换；在第一状态下，定位机构300能够对清洁设备200的主机壳体201施加预设作用力，以使清洁设备维持在与清洁基站100对接的预设对接位置；在第二状态下，清洁设备200与清洁基站100能够相分离；主机壳体201具有防滑部202，防滑部202用于与定位机构300抵顶接触。

进一步的，防滑部202的摩擦系数大于主机壳体201的其他位置的摩擦系数。

需要说明的是，本实施例所提供的清洁设备及清洁基站的其他结构和功能与上述实施例所提供的清洁系统的清洁设备及清洁基站相同，具体可以参照上述实施例的描述，在此不做赘述。

本申请一些实施例还一种清洁设备，包括：主机壳体201，主机壳体201能够对接至清洁基站100，其中，清洁基站100包括：本体和定位机构300，定位机构300设于本体；定位机构300对清洁设备200的主机壳体201施加预设作用力，以使清洁设备200维持在与清洁基站100对接的预设对接位置；主机壳体具有防滑部，防滑部用于与定位机构抵顶接触。

需要说明的是，本实施例所提供的清洁设备及清洁基站的其他结构和功能与上述实施例所提供的清洁系统的清洁设备及清洁基站相同，具体可以参照上述实施例的描述，在此不做赘述。

本申请一些实施例还提供一种清洁设备，包括：主机壳体201和定位机构，主机壳体201能够对接至清洁基站100；定位机构300设于主机壳体201。

定位机构300能够在第一状态和第二状态之间切换；在第一状态下，定位机构300能够对清洁基站100施加预设作用力，以使清洁设备200维持在与清洁基站100的预设对接位置；在第二状态下，清洁设备200能够与清洁基站100相分离。

需要说明的是，本实施例的定位机构300设于清洁设备200，但定位机构300的结构和功能可以与上述实施例中的定位机构300相同，且清洁基站100的本体结构可以与上述实施例相同，具体可以参照上述实施例的描述，本实施例不做赘述。

本申请一些实施例还提供另一种清洁设备，包括：主机壳体201和定位机构300。

主机壳体201能够对接至清洁基站100；定位机构300设于主机壳体201；定位机构300能够对清洁基站100施加预设作用力，以使清洁设备200维持在与清洁基站100对接的预设对接位置。

本实施例的清洁设备中的定位机构300与上述实施例所提供的定位机构300大致相同，不同之处在于，本实施例中的定位机构300并不限于能够在第一状态和第二状态之间切换，只要能够实现将清洁设备200维持在于清洁基站100对接的预设对接位置，即能够解决清洁设备200在清洁基站100上自清洁时，容易出现抖动的技术问题。

需要说明的是，本实施例的定位机构300设于清洁设备200，但定位机构300的结构和功能可以与上述实施例中的定位机构300相同，且清洁基站100的本体结构可以与上述实施例相同，具体可以参照上述实施例的描述，本实施例不做赘述。

下面结合具体的应用场景对本申请各实施例提供的技术方案进行说明。

场景一：

扫地机器人对全屋进行清洁，扫地机器人完成预定的清洁任务后，自主返回至清洁基站，清洁基站识别到扫地机器人已经对接到位，触发定位机构处于第一状态，定位机构将扫地机器人稳定维持在与清洁基站对接的预设对接位置。

随后，由用户启动或自动启动自清洁功能，在扫地机器人自清洁过程中，由于定位机构将扫地机器人与清洁基站可靠定位，整个过程抖动现象较少，程度较轻，噪音也较小，使得用户感知较好。

在使用一段时间后，用户对清洁基站进行清洁，清洁基站由于未设置对扫地机器人的驱动轮定位的定位凹槽，因此，清洁基站的底壁平整，不易残留污水，用户使用抹布一擦即可对清洁基站实现较好清洁。

场景二：

扫地机器人在不进行清洁工作的状态下，被清洁基站的定位机构定位在清洁基站处。当用户需要对室内进行清洁时，可以语音控制或基于终端等扫地机机器人启动，扫地机器人接收到启动命令，清洁基站接收到该启动命令，以使得控制装置控制定位机构切换至第二状态，例如，施力部缩回而释放扫地机器人的主机壳体，扫地机器人从清洁基站退出，进行室内正常清洁。

当清洁完毕，扫地机器人返回至清洁基站，清洁基站感应到扫地机器人已经对接到位，然后控制装置控制定位机构切换至第一状态，例如，施力部伸出而抵顶扫地机器人的主机壳体，从而将清洁设备可靠定位在清洁基站。整个过程无需人为操作定位机构，或人为触发定位机构工作，用户体验较好。

在不相互矛盾的情况下，本领域的技术人员可以将本说明书中描述的不同实施例或示例以及不同实施例或示例的特征进行结合和组合。

最后应说明的是：以上实施例仅用以说明本申请的技术方案，而非对其限制；尽管参照前述实施例对本申请进行了详细的说明，本领域的普通技术人员应当理解：其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分技术特征进行等同替换；而这些修改或者替换，并不使相应技术方案的本质脱离本申请各实施例技术方案的精神和范围。

Claims (17)

1.一种清洁系统，其特征在于，包括：

清洁基站；

清洁设备，所述清洁设备能够对接至所述清洁基站，所述清洁设备包括主机壳体；

定位机构，设于所述清洁基站和所述主机壳体之间，所述定位机构能够在第一状态和第二状态之间切换；

在所述第一状态下，所述定位机构在所述主机壳体与清洁基站之间施加预设作用力，以使所述清洁设备维持在与所述清洁基站对接的预设对接位置；在所述第二状态下，所述清洁设备能够与所述清洁基站相分离。

2.根据权利要求1所述的清洁系统，其特征在于，所述定位机构设于所述清洁基站，在所述第一状态下，所述定位机构用于对所述主机壳体的侧部施加所述预设作用力。

3.根据权利要求2所述的清洁系统，其特征在于，所述清洁基站包括底壁和侧壁，所述定位机构设于所述侧壁；

所述定位机构包括至少两个，至少两个所述定位机构分别对称设于所述侧壁的至少两个相对部分。

4.根据权利要求1所述的清洁系统，其特征在于，所述清洁系统还包括：

检测装置，用于检测所述清洁设备是否相对于所述清洁基站对接到位；

控制装置，与所述检测装置及所述定位机构电连接；

当所述检测装置检测到所述清洁设备已对接至所述清洁基站的预设对接位置时，所述控制装置控制所述定位机构处于所述第一状态。

5.根据权利要求4所述的清洁系统，其特征在于，所述清洁基站与所述清洁设备通信连接，在所述控制装置接收到所述清洁设备脱离所述清洁基站的指令时，所述控制装置控制所述定位机构切换至所述第二状态。

6.根据权利要求4所述的清洁系统，其特征在于，所述定位机构包括固定部和施力部，所述固定部固定于所述清洁基站，所述施力部能够在第一位置和第二位置之间运动；

当所述施力部位于所述第一位置时，所述定位机构处于所述第一状态；当所述施力部位于所述第二位置时，所述定位机构处于所述第二状态。

7.根据权利要求6所述的清洁系统，其特征在于，所述清洁基站包括底壁和侧壁，所述固定部位于所述侧壁的外侧，在所述侧壁上具有供所述施力部穿过的贯穿孔，所述施力部能够穿过所述贯穿孔从所述侧壁的内侧伸入所述容纳腔。

8.根据权利要求6所述的清洁系统，其特征在于，所述预设作用力包括抵顶力，当所述施力部位于所述第一位置时，所述施力部与所述清洁设备的主机壳体抵顶接触；当所述施力部位于所述第二位置时，所述施力部脱离所述清洁设备的主机壳体；

或者，当所述施力部位于所述第一位置时，所述施力部对所述清洁设备的主机壳体施加第一抵顶力，当所述施力部位于所述第二位置时，所述施力部对所述清洁设备的主机壳体施加第二抵顶力；其中，所述第一抵顶力大于所述第二抵顶力。

9.根据权利要求6所述的清洁系统，其特征在于，所述定位机构还包括第一驱动部，所述控制装置具体与所述第一驱动部连接；

所述第一驱动部与所述施力部驱动连接，以驱动所述施力部在所述第一位置和第二位置之间运动。

10.根据权利要求4或6所述的清洁系统，其特征在于，所述预设作用力包括磁吸力，所述定位机构包括磁吸部，当所述清洁设备对接于所述清洁基站的预设对接位置时，所述磁吸部能够与所述主机壳体相互吸合，而使所述清洁设备维持在所述预设对接位置。

11.根据权利要求10所述的清洁系统，其特征在于，所述定位机构还包括第二驱动部，所述控制装置具体与所述驱动部连接；

所述第二驱动部与所述磁吸部电连接，用于驱动所述磁吸部上电；

当所述第二驱动部驱动所述磁吸部上电时，所述定位机构处于所述第一状态，所述磁吸部与所述清洁设备吸合；

当所述第二驱动部驱动所述磁吸部掉电时，所述定位机构处于所述第二状态，所述磁吸部释放所述清洁设备。

12.根据权利要求1所述的清洁系统，其特征在于，所述预设作用力包括抵顶力，所述清洁设备的侧部具有防滑部，所述防滑部用于与所述定位机构抵顶接触，所述防滑部的摩擦系数大于所述侧部的其他位置的摩擦系数。

13.一种清洁系统，其特征在于，包括：

清洁基站；

清洁设备，所述清洁设备能够对接至所述清洁基站，所述清洁设备包括主机壳体；

定位机构，设于所述清洁基站与所述主机壳体之间，所述定位机构能够在所述主机壳体与清洁基站之间施加预设作用力，以使所述清洁设备维持在与所述清洁基站对接的预设对接位置。

14.一种清洁基站，用于与清洁设备对接，其特征在于，包括：

本体；

定位机构，设于所述本体，所述定位机构能够在第一状态和第二状态之间切换；

在所述第一状态下，所述定位机构对所述清洁设备的主机壳体施加预设作用力，以使所述清洁设备维持在与所述清洁基站对接的预设对接位置；

在所述第二状态下，所述清洁设备能够与所述清洁基站相分离。

15.一种清洁基站，用于与清洁设备对接，其特征在于，包括：

本体；

定位机构，设于所述本体；

所述定位机构能够对所述清洁设备的主机壳体施加预设作用力，以使所述清洁设备维持在与所述清洁基站对接的预设对接位置。

16.一种清洁设备，其特征在于，包括：

主机壳体，所述主机壳体能够对接至清洁基站；

定位机构，设于所述主机壳体；

所述定位机构能够在第一状态和第二状态之间切换；在所述第一状态下，所述定位机构能够对所述清洁基站施加预设作用力，以使所述清洁设备维持在与所述清洁基站对接的预设对接位置；在所述第二状态下，所述清洁设备能够与所述清洁基站相分离。

17.一种清洁设备，其特征在于，包括：

主机壳体，所述主机壳体能够对接至清洁基站；

定位机构，设于所述主机壳体；

所述定位机构能够对所述清洁基站施加预设作用力，以使所述清洁设备维持在与所述清洁基站对接的预设对接位置。

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