CN114481023A

CN114481023A - 刀具加工方法与刀具

Info

Publication number: CN114481023A
Application number: CN202011160963.XA
Authority: CN
Inventors: 王业友; 瞿义生; 张明
Original assignee: Wuhan Supor Cookware Co Ltd
Current assignee: Wuhan Supor Cookware Co Ltd
Priority date: 2020-10-27
Filing date: 2020-10-27
Publication date: 2022-05-13

Abstract

本申请提供了一种刀具加工方法与刀具，刀具加工方法包括以下步骤：步骤S10：制备刀体，所述刀体包括刀刃部；步骤S20：采用物理气相沉积法在所述刀刃部的表面镀第一层膜，所述第一层膜包括TiN、TiNC、TiC、C或N中的至少一种；步骤S30：采用物理气相沉积法在所述第一层膜的基础上镀第二层膜，所述第二层膜包括抗菌离子。本申请可以提供一种工艺简单、不易磨损且具有持久抗菌效果的刀具加工方法。

Description

刀具加工方法与刀具

技术领域

本申请涉及厨房用具技术领域，尤其涉及一种刀具加工方法与刀具。

背景技术

刀具在使用切削鱼肉或果蔬后，没有及时清洁干净，就放置起来时，刀面粘附的残渣，容易滋生有害病菌，有害病菌的传播和感染严重威胁着人类的健康，尤其是今年的新冠病毒的传播感染，使抗菌材料在日常生活中的应用迅速发展起来。

公开号为CN99800249.6的专利和公开号为CN101125458A的专利，在不锈钢或塑料中整体添加银，提高了材料的抗菌效果，但是将银等掺杂到整体材料中增加了制备材料的难度和生产成本。

公开号为CN101705468A的专利公开了一种磁控溅射技术，在真空室内靶材旋转，基材表面底层和外层沉积TiN层，中间层为Cu-Zn金属层抗菌，其工艺复杂，抗菌性能差。

公开号为CN1793428A的专利公开了一种利用高温辉光渗入银或铜的方法，其工艺为加热温度为800℃～1050℃，渗入时间为2～4小时，渗入后再进行时效热处理，但这种法存在抗菌层厚度比较薄，容易磨损而导致抗菌效果持久性差问题。

发明内容

本申请提供了一种刀具加工方法与刀具，以提供一种工艺简单、不易磨损且具有持久抗菌效果的刀具加工方法。

本申请第一方面提供了一种刀具加工方法，其包括以下步骤：

步骤S10：制备刀体，所述刀体包括刀刃部；

步骤S20：采用物理气相沉积法在所述刀刃部的表面镀第一层膜，所述第一层膜包括TiN、TiNC、TiC、C或N中的至少一种；

步骤S30：采用物理气相沉积法在所述第一层膜的基础上镀第二层膜，所述第二层膜包括抗菌离子。

上述刀具加工方法包括步骤S10、步骤S20和步骤S30；步骤S10包括制备刀体，刀体包括刀刃部；步骤S20包括采用物理气相沉积法在刀刃部的表面镀第一层膜，第一层膜包括TiN、TiNC、TiC、C或N中的至少一种，使第一层膜的硬度达到58HRC～62HRC，从而可以提高刀刃部的耐磨性，降低在切割食材过程中刀刃部的磨损，使刀刃部保持持久锋利的效果；步骤S30包括采用物理气相沉积法在第一层膜的基础上镀第二层膜，第二层膜包括抗菌离子，从而使第二层膜具有抗菌性能；此外，物理气相沉积法工艺简单，膜层稳定，膜层的附着牢度高，从而防止使用过程中第一层膜或第二层膜脱落，确保刀具具有持久的锋利度和抗菌效果。

可选地，所述第一层膜为TiN镀膜层，所述步骤S20包括：

在物理气相沉积装置中通入高纯度氮气使真空度保持在4×10^-1pa～9×10^-1pa，钛金属靶材加热蒸发，电离沉积在所述刀刃部的表面形成TiN镀膜层。

可选地，所述第一层膜为TiNC镀膜层，所述步骤S20包括：

在物理气相沉积装置中通入高纯度氮气使真空度保持在4×10^-1pa～9×10^-1pa，通入乙炔气体，钛金属靶材加热蒸发，电离沉积在所述刀刃部的表面形成TiNC镀膜层。

可选地，所述第一层膜为TiC镀膜层，所述步骤S20包括：

在物理气相沉积装置中通入高纯度碳蒸气使真空度保持在4×10^-1pa～9×10^- ¹pa，钛金属靶材加热蒸发，电离沉积在所述刀刃部的表面形成TiC镀膜层。

可选地，所述步骤S20还包括：在所述刀刃部的表面镀第一层膜之前，在所述刀刃部的表面镀过渡层，所述过渡层为纯钛层，以在刀刃部与第一层膜之间起到连接作用，增加第一层膜与刀刃部之间的结合力，防止第一层膜脱落，增强刀具的使用性能。

可选地，所述第一层膜为渗碳膜，所述步骤S20包括：

在物理气相沉积装置中通入高纯度碳蒸气使真空度保持在4×10^-1pa～9×10^- ¹pa，碳蒸气渗入所述过渡层内形成渗碳膜，也就是说，过渡层中的一部分渗碳之后形成第一层膜，使第一层膜与过渡层之间相互渗透，进一步增加了二者之间的结合强度，防止第一层膜脱落。

可选地，所述第一层膜为渗氮膜，所述步骤S20包括：

在物理气相沉积装置中通入高纯度氮气使真空度保持在4×10^-1pa～9×10^-1pa，氮气渗入所述过渡层内形成渗氮膜。

可选地，所述步骤S20还包括：将镀有第一层膜的刀刃部进行抛口处理，形成锋利的刀刃。

可选地，所述步骤S30包括：通过电弧放电，将位于阴极的抗菌离子靶材蒸发，电离出离子体，在真空条件下，通过偏压加速，沉积在所述刀体的表面上。

可选地，所述抗菌离子包括银离子、锌离子或铜离子中的至少一种。

本申请第二方面提供了一种刀具，所述刀具采用本申请提供的任意一种刀具加工方法制成。

可选地，所述第一层膜的厚度为0.3μm～5μm，既能够形成均匀连续的膜层，又能够使第一层膜具有较高的硬度和较强的结合力，从而使刀具具有良好的耐磨性能。

可选地，所述第一层膜的厚度为0.1μm～4μm，既能够使第一层膜满足刀具的性能要求，又能够提高生产速率并节约原材料，从而降低生产成本。

可选地，所述第二层膜的厚度为0.1μm～0.3μm，既能够使第二层膜均匀连续地覆盖于刀体表面，又能够避免第二层膜影响刀刃部的锋利性。

可选地，所述第二层膜中所述抗菌离子的质量比例为7.5％～10％，既能够形成可靠的抗菌效果，又不至于导致抗菌离子含量过多引起中毒。

应当理解的是，以上的一般描述和后文的细节描述仅是示例性的，并不能限制本申请。

附图说明

图1为本申请实施例提供的刀体的结构示意图；

图2为图1的剖面结构示意图；

图3为图2中A处的局部放大图；

图4为本申请实施例提供的刀体上镀第一层膜之后的结构示意图；

图5为图4的剖面结构示意图；

图6为图5中B处的局部放大图；

图7为本申请实施例提供的刀体上镀第二层膜之后的结构示意图；

图8为图7的剖面结构示意图；

图9为图8中C处的局部放大图。

附图标记：

1-刀体；

10-刀刃部；

12-刀柄；

2-第一层膜；

3-第二层膜。

此处的附图被并入说明书中并构成本说明书的一部分，示出了符合本申请的实施例，并与说明书一起用于解释本申请的原理。

具体实施方式

为了使本申请的目的、技术方案及优点更加清楚明白，以下结合附图及实施例，对本申请进行进一步详细说明。应当理解，此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本申请，并不用于限定本申请。

在本申请的描述中，除非另有明确的规定和限定，术语“第一”、“第二”仅用于描述的目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性；除非另有规定或说明，术语“多个”是指两个或两个以上；术语“连接”、“固定”等均应做广义理解，例如，“连接”可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接，或电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连。对于本领域的普通技术人员而言，可以根据具体情况理解上述术语在本发明中的具体含义。

本说明书的描述中，需要理解的是，本申请实施例所描述的“上”、“下”等方位词是以附图所示的角度来进行描述的，不应理解为对本申请实施例的限定。此外，在上下文中，还需要理解的是，当提到一个元件连接在另一个元件“上”或者“下”时，其不仅能够直接连接在另一个元件“上”或者“下”，也可以通过中间元件间接连接在另一个元件“上”或者“下”。

如图1-图9所示，本申请实施例提供了一种刀具，该刀具包括刀体1、第一层膜2和第二层膜3。刀体1可以根据使用要求制成任意适当的形状，刀体1应具有刀刃部10和刀柄12，刀刃部10用于切割食材，刀柄12用于握持刀具；第一层膜2包括TiN、TiNC、TiC、C或N中的至少一种，使第一层膜2的硬度达到58HRC～62HRC，从而可以提高刀刃部10的耐磨性，降低在切割食材过程中刀刃部10的磨损，使刀刃部10保持持久锋利的效果；第二层膜3包括抗菌离子，从而使第二层膜3具有抗菌性能；第一层膜2和第二层膜3之间相互独立，无相互渗透，从而可以确保第一层膜2的高硬度和第二层膜3的抗菌性能。

此外，第一层膜2和第二层膜3采用物理气相沉积法依次镀在刀体1的表面，工艺简单，离子绕射性能好，能够适用于具有任意复杂形状的刀具，刀体表面形成的膜层稳定，且膜层的附着牢度高，从而防止使用过程中第一层膜2或第二层膜3脱落，确保刀具具有持久的锋利度和抗菌效果。另外，本申请实施例提供的刀具在镀膜后表面光滑，摩擦系数低，从而使刀具表面容易清洁，不易粘连食材；且镀膜在真空密封腔体内完成，能够有效隔绝外部环境，既能够防止污染环境，又能够保证刀具表面的光亮效果。

其中，可以仅在刀体1的一面镀膜，也可以在刀体1的两面镀膜。也就是说，第一层膜2可以仅覆盖于刀刃部10的一面，也可以同时覆盖于刀刃部10的两面；同样地，第二层膜3可以仅覆盖刀体1的一面，也可以同时覆盖刀体1的两面。

在一些实施例中，第一层膜2的厚度为0.3μm～5μm，例如，第一层膜2的厚度可以为0.3μm、0.5μm、0.7μm、1.0μm、1.2μm、1.5μm、1.8μm、2.0μm、2.2μm、2.5μm、2.8μm、3.0μm、3.3μm、3.5μm、3.7μm、4.0μm、4.2μm、4.5μm、4.8μm或5.0μm等，既能够形成均匀连续的膜层，又能够使第一层膜2具有较高的硬度和较强的结合力，从而使刀具具有良好的耐磨性能。当第一层膜2的厚度小于0.3μm时，第一层膜2的厚度过薄，在对刀刃部10进行抛口处理时容易将第一层膜2打磨掉，导致刀具的耐磨性降低；随着第一层膜2厚度的增加，第一层膜2的硬度和结合力逐渐增大，但第一层膜2的厚度大于5.0μm时，导致处理时间和成本急剧增加，此外，第一层膜2的硬度过大时，会增加抛口处理的难度，难以形成锋利的刀刃。

在另一些实施例中，第一层膜2的厚度为0.1μm～4μm，例如，第一层膜2的厚度可以为0.1μm、0.2μm、0.3μm、0.5μm、0.7μm、1.0μm、1.2μm、1.5μm、1.8μm、2.0μm、2.2μm、2.5μm、2.8μm、3.0μm、3.3μm、3.5μm、3.7μm或4.0μm等，既能够使第一层膜2满足刀具的性能要求，使刀具在切割大多数食材时均具有良好的耐磨性，又能够提高生产速率并节约原材料，从而降低生产成本。

进一步地，第二层膜3的厚度为0.1μm～0.3μm，例如，第二层膜3的厚度可以为0.1μm、0.12μm、0.14μm、0.15μm、0.17μm、0.19μm、0.2μm、0.22μm、0.25μm、0.27μm或0.3μm等，既能够使第二层膜3均匀连续地覆盖于刀体1表面，又能够避免第二层膜3影响刀刃部10的锋利性。当第二层膜3的厚度小于0.1μm时，第二层膜3的厚度过薄，导致第二层膜3不连续或厚度不均匀，影响刀具表面的抗菌效果；当第二层膜3的厚度大于0.3μm时，第二层膜3的厚度过厚，导致刀刃部10过厚而降低锋利性。

进一步地，第二层膜3中抗菌离子的质量比例为7.5％～10％，例如，第二层膜3中抗菌离子的质量比例可以为7.5％、7.7％、7.9％、8.0％、8.2％、8.5％、8.8％、9.0％、9.3％、9.5％、9.7％或10％等，既能够形成可靠的抗菌效果，又不至于导致抗菌离子含量过多引起中毒。当第二层膜3中的抗菌离子的质量比例低于7.5％时，抗菌离子的含量过少，导致抗菌效果较差；当第二层膜3中的抗菌离子的质量比例高于10％时，抗菌离子的含量过多，容易引起中毒，影响刀具的使用安全。

其中，抗菌离子可以为银离子、锌离子或铜离子中的至少一种。

本申请实施例提供的刀具可以采用的刀具加工方法包括以下步骤：

步骤S10：制备刀体1，刀体1包括刀刃部10；

步骤S20：采用物理气相沉积法在刀刃部10的表面镀第一层膜2，第一层膜2包括TiN、TiNC、TiC、C或N中的至少一种；

步骤S30：采用物理气相沉积法在第一层膜2的基础上镀第二层膜3，第二层膜3包括抗菌离子。

进一步地，步骤S10中可以采用现有的常规刀具加工工艺制成刀体1，例如，步骤S10可以包括：将刀坯冲压成型，刀坯采用马氏体材料3Cr13或5Cr15MoV制成的条状结构，条状结构与刀体等长且宽度为18mm～40mm，然后依次进行热处理、滚压调直、斜磨、抛光、注柄、开刃和清洗，最终形成具有刀刃部10和刀柄12的刀体。

进一步地，步骤S20具体包括以下步骤：

1、将刀具不需要镀膜的部位用夹具遮挡住，置入物理气相沉积装置的腔体内；

2、真空腔体清洁：用吸尘器将物理气相沉积装置的腔体内清洁干净；

3、抽真空：真空抽至6.6×10^-3pa，开始是粗抽，从大气抽至5pa左右，用油扩散泵进行细抽，在粗抽时，可以烘烤加热至150℃，伴随镀膜室温度的升高，器壁放气会使真空度降低，然后又回升，等到温度回升到6.6×10^-3pa时方可进行镀膜工作；

4、表面清洗：通入高纯度氩气(99.999％)真空度保持在2pa～3pa，轰击电压：800V～1000V，轰击时间：10min，此刻在刀体表面吸附的真空镀膜室内发生辉光放电，放电产生的氩离子以较高的能量撞击刀体表面，将灰尘、杂质和刀体表面原子溅射下来，露出材料的新鲜表面；

5、镀过渡层：通入高纯度氩气使真空度保持在2×10^-2pa，脉冲偏压：400V～500V，占空比20％，电弧电流：60A～80A，用金属钛引燃电弧蒸发源，每个电弧蒸发源引燃120min～150min，从而在刀体的表面沉积形成纯钛层，以在刀刃部与第一层膜2之间起到连接作用，增加第一层膜2与刀刃部之间的结合力，防止第一层膜2脱落，增强刀具的使用性能；

6、镀第一层膜：

1)当第一层膜为TiCN镀膜层时，具体操作如下：

在物理气相沉积装置中通入高纯度氮气使真空度保持在4×10^-1pa～9×10^-1pa，然后再逐渐加大乙炔(C₂H₂)气体，随着乙炔(C₂H₂)气体量增大，色泽开始变化，控制氮气与乙炔两种气体的比例，可以达到预定颜色。

其中，电弧电流：50A～70A，脉冲偏压：100V～150V，占空比60％～80％,沉积温度：200℃～250℃,镀膜时间：150min～180min，膜层厚度：0.1μm～4μm。

2)当第一层膜为TiN镀膜层时，具体操作如下：

在物理气相沉积装置中通入高纯度氮气使真空度保持在4×10^-1pa～9×10^-1pa，然后再逐渐加大氢气(H₂)气体，随着氢气(H₂)气体量增大，色泽开始变化，达到颜色膜层。

其中，电弧电流：50A～70A，脉冲偏压：100V～150V，占空比60％～80％，沉积温度：200℃～250℃，镀膜时间：150min～180min，膜层厚度：0.1μm～4μm。

3)当第一层膜为TiC镀膜层时，具体操作如下：

在物理气相沉积装置中通入高纯度碳蒸气使真空度保持在4×10^-1pa～9×10^- ¹pa，然后再逐渐加大氢气(H₂)气体，随着氢气(H₂)气体量增大，色泽开始变化，达到颜色膜层。

4)当第一层膜为渗碳膜时，具体操作如下：

5)当第一层膜为渗氮膜时，具体操作如下：：

7、冷却：镀第一层膜工序结束后，关闭电弧电源和偏压电源，然后关闭气源、停转架；让刀具在物理气相沉积装置内冷却至80℃～100℃，向镀膜室内充大气，取出刀具；使刀具在常温环境(约23℃)，冷却1小时，充分冷却之后再取出，以避免膜层之间出现渗透现象，也就是说，未经过常温冷却，直接加工的话，会有膜层渗透问题。

进一步地，步骤20还包括：将镀有第一层膜2的刀刃部10进行抛口处理，形成锋利的刀刃。也就是说，当第一层膜2镀完后，使用120#砂带，在刀刃部10上拉多次，以消除镀膜过程中在刀刃部产生的毛刺；由于第一层膜2为高硬度膜层，因此产生的毛刺也为高硬度的毛刺，需经过多次磨口，例如磨口次数可以为6～8次，以充分去除毛刺形成锋利的刀刃；当磨口次数超过低于6次时，难以充分去除毛刺；当磨口次数超过8次时，加工成本过高，且刀刃部10的锋利性提高并不明显。

进一步地，步骤S30包括：通过电弧放电，将位于阴极的抗菌离子靶材蒸发，电离出离子体，在真空条件下，通过偏压加速，沉积在刀体1的表面上。其中，抗菌离子包括银离子、锌离子或铜离子中的至少一种。

具体地，以抗菌离子为银离子为例，步骤S30具体包括以下步骤：

1、将刀具置入物理气相沉积装置的腔体内；

4、表面清洗：通入高纯度氩气(99.999％)真空度保持在2pa～3pa，轰击电压：800V～1000V，轰击时间：10min，此刻在工件表面吸附的真空镀膜室内发生辉光放电，放电产生的氩离子以较高的能量撞击工件表面，将灰尘、杂质和工件表面原子溅射下来，露出材料的新鲜表面；

5、镀第二层膜：

通过电弧放电，将位于阴极的银靶材蒸发、电离出离子体，在真空条件下，通过偏压加速，沉积在刀具表面上，其中，电弧电流：60A～80A，脉冲偏压：120V～150V，占空比60％～80％，沉积温度：200℃～250℃，镀膜时间：150min～180min，膜层厚度：0.1μm～0.3μm；

6、冷却：

镀第二层膜膜工序结束后，关闭电弧电源和偏压电源，然后关闭气源、停转架，让刀具在真空镀膜室内冷却至80℃～100℃，向镀膜室内充大气，取出刀具。

为说明本申请实施例的上述刀具的耐磨性，将现有常规工艺方式制成的刀具以及本申请实施例提供的刀具进行对比试验，试验结果参见表1。各组实施例的刀具除了刀具表面成分不同之外，其它参数(例如刀具的形状、尺寸、材质、厚度和成型工艺等)完全相同，并且其余试验条件也完全相同。其中，每一个样品编号所代表的为一组样品刀具，其试验结果为该组样品刀具试验结果的平均值。

各实施例和对比例中的刀具按照加速度模拟测试方法进行测试，测试方法是通过实际消费者使用过程中，刀具刀刃部容易破坏的机理，增加机械模拟强化测试，对刀具持久锋利度进行评价，测试的循环次数作为评价标准，持久锋利度测试方法、锋利度等级评价方法具体如下：

1、持久锋利度测试方法

采用专用的试验机，在15N压力作用下，使待测试刀具对试验纸张进行往复切割，切割长度5㎝，实验纸张规格为120g黄色牛皮纸，循环切割一次以及一次锋利度等级评价，标志一个循环结束。

2、锋利度等级评价方法

每做完一个循环模拟测试后，将样品进行切割胶条测试，若无法切断评价物，则即为不合格，停止实验。记录循环模拟测试的循环次数，循环次数多表示持久锋利度好。

表1

从附表1中的数据对比可以看出，采用本申请的实施例1-实施例5的技术方案的刀具，相比采用对比例1和对比例2的技术方案得到的刀具，具有更加持久的锋利度，也就是说，在刀具表面镀第一层膜，可以有效降低在切割食材过程中刀刃部的磨损，使刀刃部保持持久锋利的效果。

为说明本申请实施例的上述刀具的抗菌效果，将现有常规工艺方式制成的刀具以及本申请实施例提供的刀具进行抗菌测试，测试结果参见表2。各组实施例的刀具除了刀具表面成分不同之外，其它参数(例如刀具的形状、尺寸、材质、厚度和成型工艺等)完全相同，并且其余试验条件也完全相同。其中，每一个样品编号所代表的为一组样品刀具，其试验结果为该组样品刀具试验结果的平均值。

抗菌测试参照JIS Z 2801-2010抗菌加工制品-抗菌性实验方法和抗菌效果测定，抗菌活性值≥2合格，抗菌活性值越大，抗菌效果越好。

表2

根据表2的数据可以看出，本申请实施例提供的刀具的抗菌活性值均大于2，抗菌率在99％以上，符合JIS Z 2801-2010抗菌加工制品-抗菌性实验方法和抗菌效果测定的规定，具有良好的抗菌效果。

以上仅为本申请的优选实施例而已，并不用于限制本申请，对于本领域的技术人员来说，本申请可以有各种更改和变化。凡在本申请的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本申请的保护范围之内。

Claims

1.一种刀具加工方法，其特征在于，包括以下步骤：

步骤S10：制备刀体(1)，所述刀体(1)包括刀刃部(10)；

步骤S20：采用物理气相沉积法在所述刀刃部(10)的表面镀第一层膜(2)，所述第一层膜(2)包括TiN、TiNC、TiC、C或N中的至少一种；

步骤S30：采用物理气相沉积法在所述第一层膜(2)的基础上镀第二层膜(3)，所述第二层膜(3)包括抗菌离子。

2.根据权利要求1所述的刀具加工方法，其特征在于，所述第一层膜(2)为TiN镀膜层，所述步骤S20包括：

在物理气相沉积装置中通入高纯度氮气使真空度保持在4×10^-1pa～9×10^-1pa，钛金属靶材加热蒸发，电离沉积在所述刀刃部(10)的表面形成TiN镀膜层。

3.根据权利要求1所述的刀具加工方法，其特征在于，所述第一层膜(2)为TiNC镀膜层，所述步骤S20包括：

在物理气相沉积装置中通入高纯度氮气使真空度保持在4×10^-1pa～9×10^-1pa，通入乙炔气体，钛金属靶材加热蒸发，电离沉积在所述刀刃部(10)的表面形成TiNC镀膜层。

4.根据权利要求1所述的刀具加工方法，其特征在于，所述第一层膜(2)为TiC镀膜层，所述步骤S20包括：

在物理气相沉积装置中通入高纯度碳蒸气使真空度保持在4×10^-1pa～9×10^-1pa，钛金属靶材加热蒸发，电离沉积在所述刀刃部(10)的表面形成TiC镀膜层。

5.根据权利要求1所述的刀具加工方法，其特征在于，所述步骤S20还包括：在所述刀刃部(10)的表面镀第一层膜(2)之前，在所述刀刃部(10)的表面镀过渡层，所述过渡层为纯钛层。

6.根据权利要求5所述的刀具加工方法，其特征在于，所述第一层膜(2)为渗碳膜，所述步骤S20包括：

在物理气相沉积装置中通入高纯度碳蒸气使真空度保持在4×10^-1pa～9×10^-1pa，碳蒸气渗入所述过渡层内形成渗碳膜。

7.根据权利要求5所述的刀具加工方法，其特征在于，所述第一层膜(2)为渗氮膜，所述步骤S20包括：

8.根据权利要求1-7任一项所述的刀具加工方法，其特征在于，所述步骤S20还包括：将镀有第一层膜(2)的刀刃部(10)进行抛口处理，形成锋利的刀刃。

9.根据权利要求1-7任一项所述的刀具加工方法，其特征在于，所述步骤S30包括：通过电弧放电，将位于阴极的抗菌离子靶材蒸发，电离出离子体，在真空条件下，通过偏压加速，沉积在所述刀体(1)的表面上。

10.根据权利要求1-7任一项所述的刀具加工方法，其特征在于，所述抗菌离子包括银离子、锌离子或铜离子中的至少一种。

11.一种刀具，其特征在于，所述刀具采用权利要求1-10任一项所述的刀具加工方法制成。

12.根据权利要求11所述的刀具，其特征在于，所述第一层膜(2)的厚度为0.3μm～5μm。

13.根据权利要求11所述的刀具，其特征在于，所述第一层膜(2)的厚度为0.1μm～4μm。

14.根据权利要求11所述的刀具，其特征在于，所述第二层膜(3)的厚度为0.1μm～0.3μm。

15.根据权利要求11所述的刀具，其特征在于，所述第二层膜(3)中所述抗菌离子的质量比例为7.5％～10％。