CN114450263A - 含氟醚化合物、磁记录介质用润滑剂和磁记录介质 - Google Patents
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Abstract
本发明涉及一种含氟醚化合物，其特征在于由式(1)表示。C6H6‑n‑[O‑R1‑O‑CH2‑R2‑CH2‑R3]n(1)(式(1)中，n为2或3的整数，R1为‑CH2CH2‑、‑CH2CH2CH2‑或‑CH2CH(OH)CH2‑，R2为全氟聚醚链，R3为‑OCH2CH(OH)CH2O(CH2)mOH(式中的m为2～4的整数。))。
Description
技术领域
本发明涉及适合于磁记录介质的润滑剂用途的含氟醚化合物、包含它的磁记录介质用润滑剂和磁记录介质。
本申请基于2019年10月1日在日本申请的特愿2019-181309号主张优先权，并将其内容援引于此。
背景技术
为了提高磁记录再生装置的记录密度，进行了适于高记录密度的磁记录介质的开发。
以往，作为磁记录介质，有在基板上形成记录层、在记录层上形成碳等保护层的磁记录介质。保护层在保护记录层中记录的信息的同时，提高磁头的滑动性。但是，仅通过在记录层上设置保护层，不能充分得到磁记录介质的耐久性。因此，通常在保护层的表面涂布润滑剂而形成润滑层。
作为形成磁记录介质的润滑层时使用的润滑剂，例如已提出了含有如下化合物的润滑剂，所述化合物是在具备包含CF2的重复结构的氟类聚合物的末端具有羟基等极性基团的化合物。
例如，专利文献1中公开了具有芳香族基团和羟基的氟聚醚化合物。
另外，专利文献2中公开了用在分子末端具有羟基的氟聚醚链对苯环进行二取代或三取代而形成的氟聚醚化合物。
另外，专利文献3中公开了在两个末端具有多个羟基、且配置有该羟基间的最短距离相隔3原子以上的取代基的化合物。
现有技术文献
专利文献
专利文献1：日本专利第5816919号公报
专利文献2：日本专利第6198848号公报
专利文献3：日本专利4632144号公报
发明内容
发明所要解决的问题
在磁记录再生装置中，要求进一步减小磁头的上浮量。因此，要求使磁记录介质中的润滑层的厚度更薄。
但是，一般而言，如果使润滑层的厚度变薄，则润滑层的被覆性降低，磁记录介质的耐磨损性有降低的倾向。此外，如果使润滑层的厚度变薄，则被覆保护层表面的润滑层与保护层的密合性不足，容易发生润滑剂层中的含氟醚化合物附着于磁头的粘着。
本发明是鉴于上述情况而完成的，本发明的课题在于提供一种含氟醚化合物，其适合于用作磁记录介质用润滑剂的材料，所述磁记录介质用润滑剂的材料能够形成即使减薄厚度，也具有优异的耐磨损性，且粘着得到抑制的润滑层。
此外，本发明的课题还在于提供包含本发明的含氟醚化合物的磁记录介质用润滑剂。
此外，本发明的课题还在于提供具有包含本发明的含氟醚化合物的润滑层的、具有优异的可靠性和耐久性的磁记录介质。
用于解决问题手段
为了解决上述课题，本发明人反复进行了深入研究。
结果发现，只要形成由-OCH2CH(OH)CH2O(CH2)mOH(式中的m为2～4的整数。)构成的端基经由亚甲基(-CH2-)键合的全氟聚醚链，通过与特定的连接基团键合的取代基，将苯环的氢中的2个或3个进行了取代的含氟醚化合物即可，从而想到了本发明。
即，本发明的第一方案为以下的含氟醚化合物。
[1]一种含氟醚化合物，其特征在于由下述式(1)表示。
C6H6-n-[O-R1-O-CH2-R2-CH2-R3]n (1)
(式(1)中，n为2或3的整数，R1为-CH2CH2-、-CH2CH2CH2-、-CH2CH(OH)CH2-中的任意之一，R2为全氟聚醚链，R3为-OCH2CH(OH)CH2O(CH2)mOH(式中的m为2～4的整数。)。)
对于本发明的第一方式的上述含氟醚化合物，如下所述，可以优选包含以下的特征。优选组合以下特征中的两个以上。
[2][1]所述的含氟醚化合物，其特征在于，上述式(1)中的R2由下述式(2)～(4)中的任一个表示；
(式(2)中，p表示1～30，q表示0～30。)
(式(3)中，r表示1～30。)
(式(4)中，s表示1～20。)
[3][2]所述的含氟醚化合物，其特征在于是由下述式(A)～(N)表示的任一种化合物。
(式(A)中，R2由上述式(2)表示。)
(式(B)中，R2由上述式(3)表示。)
(式(C)中，R2由上述式(4)表示。)
(式(D)中，R2由上述式(2)表示。)
(式(E)中，R2由上述式(2)表示。)
(式(F)中，R2由上述式(2)表示。)
(式(G)中，R2由上述式(3)表示。)
(式(H)中，R2由上述式(4)表示。)
(式(I)中，R2由上述式(2)表示。)
(式(J)中，R2由上述式(2)表示。)
(式(K)中，R2由上述式(3)表示。)
(式(L)中，R2由上述式(4)表示。)
(式(M)中，R2由上述式(2)表示。)
(式(N)中，R2由上述式(2)表示。)
[4][1]～[3]中任一项所述的含氟醚化合物，其数均分子量在500～10000的范围内。
[5]一种磁记录介质用润滑剂，其特征在于包含[1]～[4]中任一项所述的含氟醚化合物。
[6]一种磁记录介质，其为在基板上至少依次设置有磁性层、保护层和润滑层的磁记录介质，其特征在于所述润滑层包含[1]～[4]中任一项所述的含氟醚化合物。
[7][6]所述的磁记录介质，所述润滑层的平均膜厚为0.5nm～3nm。
发明效果
本发明的含氟醚化合物适合作为磁记录介质用润滑剂的材料。
本发明的磁记录介质用润滑剂由于包含本发明的含氟醚化合物，因此可以形成即使减薄厚度，也具有优异的耐磨损性，且粘着得到抑制的润滑层。
本发明的磁记录介质由于设置了具有优异的耐磨损性、粘着得到抑制的润滑层，因此具有优异的可靠性和耐久性。
附图说明
图1是表示本发明的磁记录介质的一个实施方式的示意剖面图。
具体实施方式
以下，对本发明的含氟醚化合物、磁记录介质用润滑剂(以下，有时简称为“润滑剂”)及磁记录介质的优选例进行详细说明。另外，本发明并不仅仅限定于以下所示的实施方式。也可以在本发明的范围内，根据需要对数目、位置、种类、量、比率、组合、数值及尺寸等进行省略、变更和/或追加。
[含氟醚化合物]
本实施方式的含氟醚化合物由下述式(1)表示。
C6H6-n-[O-R1-O-CH2-R2-CH2-R3]n (1)
(式(1)中，n为2或3的整数，R1为-CH2CH2-、-CH2CH2CH2-、-CH2CH(OH)CH2-中的任意之一，R2为全氟聚醚链，R3为-OCH2CH(OH)CH2O(CH2)mOH(式中的m为2～4的整数。)。)
此处，对于在使用包含本实施方式的含氟醚化合物的润滑剂，在磁记录介质的保护层上形成润滑层的情况下，即使厚度薄，也可得到优异的耐磨损性，粘着得到抑制的原因进行说明。
本实施方式的含氟醚化合物，如式(1)所示，具有苯环的氢中的2个或3个被取代基(-[O-R1-O-CH2-R2-CH2-R3])取代的结构。
式(1)所示的含氟醚化合物所包含的苯环通过苯环的分子间相互作用、和/或苯环与保护层的相互作用，有助于提高本实施方式的含氟醚化合物与保护层的密合性。由此，通过使用包含式(1)所示的含氟醚化合物的润滑剂，可得到具有优异的耐磨损性的润滑层。
式(1)所示的含氟醚化合物所含的2个或3个取代基各自具有一个R2所示的全氟聚醚链(以下有时简写为“PFPE链”。)。在将包含含氟醚化合物的润滑剂涂布在保护层上而形成润滑层的情况下，PFPE链在被覆保护层的表面的同时，对润滑层赋予润滑性，使磁头与保护层的摩擦力降低。
如式(1)所示，在R2所示的PFPE链的与苯环相反一侧的端部，经由亚甲基(-CH2-)键合有R3所示的端基。R3所示的端基由-OCH2CH(OH)CH2O(CH2)mOH(式中的m为2～4的整数。)组成。在包含本实施方式的含氟醚化合物的润滑层中，R3所示的末端基所包含的2个羟基(-OH)使含氟醚化合物与保护层密合，抑制了粘着。
R3所示的端基中，2个羟基(-OH)分别与不同的碳原子键合，羟基所键合的碳原子彼此经由包含氧原子的连接基团(包含-O-(醚键)的连接基团)而键合。包含醚键的连接基团对R3所示的端基赋予柔软性。因此，本实施方式的含氟醚化合物，例如与端基所含的2个羟基分别与不同的碳原子键合、羟基所键合的碳原子彼此键合的含氟醚化合物相比，包含它的润滑层容易吸附于保护膜上，润滑层与保护层的密合性优异。
此外，在式(1)所示的含氟醚化合物中，苯环与R2所示的PFPE链之间配置有包含醚键(-O-)的连接基团(-O-R1-O-CH2-)。包含醚键的连接基团对式(1)所示的含氟醚化合物赋予柔软性。因此，本实施方式的含氟醚化合物与例如苯环与R2所示的PFPE链直接键合的含氟醚化合物相比，包含它的润滑层容易吸附于保护膜上，润滑层与保护层的密合性优异。
由以上情况推定，包含本实施方式的含氟醚化合物的润滑剂可以形成即使厚度薄，也可以以高被覆率被覆保护层的表面，具有优异的耐磨损性，且粘着得到抑制的润滑层。
在式(1)所示的本实施方式的含氟醚化合物中，与苯环键合的取代基(-[O-R1-O-CH2-R2-CH2-R3])的数量(式(1)中n的数值)为2个或3个。
与苯环键合的2个或3个取代基，可以各不相同，也可以包含相同的取代基。为了容易合成含氟醚化合物，2个或3个取代基优选全部相同。
在式(1)所示的含氟醚化合物所包含的2个或3个取代基包含不相同的取代基的情况下，各取代基所包含的R1、R2、R3可以全部各自不同，也可以是R1、R2、R3中的仅一个或两个不同。
在式(1)所示的本实施方式的含氟醚化合物中，R1是-CH2CH2-、-CH2CH2CH2-、-CH2CH(OH)CH2-中的任意一种。
在R1为-CH2CH(OH)CH2-的情况下，在包含本实施方式的含氟醚化合物的润滑层中，R1所含的羟基(-OH)使含氟醚化合物与保护层密合并抑制了粘着，因此是优选的。
特别是在式(1)中的n的数值为2个的情况下，R1优选为-CH2CH(OH)CH2-。在式(1)中的n的数值为2个的情况下，来自R3所示的端基的含氟醚化合物中的羟基的数量为4个。因此，与式(1)中的n的数值为3个的情况相比，来自R3所示的端基的羟基的数量减少2个。含氟醚化合物中的羟基有助于提高包含含氟醚化合物的润滑层与保护层的密合性。例如，式(1)中的n的数值为2个时，使2个取代基(-[O-R1-O-CH2-R2-CH2-R3])中所含的R1两者均为-CH2CH(OH)CH2-。在这种情况下，含氟醚化合物中的羟基的数量就是来自R1的2个和来自R3所示的端基的4个的合计为6个。结果，由于n的数值为2个，因此与n的数值为3个的情况相比，即使来自R3所示的端基的羟基数少，包含含氟醚化合物的润滑层与保护层的密合性也变得良好，是优选的。
在式(1)所示的本实施方式的含氟醚化合物中，R2为全氟聚醚链(PFPE链)。式(1)所示的含氟醚化合物所包含的2个或3个取代基各自具有的R2可以各自不同，也可以包含相同的基团，优选全部相同。
R2没有特别限定，可以根据包含含氟醚化合物的润滑剂所要求的性能等适当选择。
R2优选为下述式(2)～式(4)所示的任意之一。在R2为式(2)～式(4)中的任意之一的情况下，含氟醚化合物的合成容易，是优选的。
另外，在R2为式(2)～式(4)中的任意之一的情况下，全氟聚醚链中的氧原子数(醚键(-O-)数)相对于碳原子数的比例是适当的。因此，成为具有适当硬度的含氟醚化合物。因此，涂布在保护层上的含氟醚化合物在保护层上不易凝聚，可以以充分的被覆率形成厚度更薄的润滑层。此外，在R2为式(2)～式(4)中的任意之一的情况下，就成为可得到具有良好的耐磨损性的润滑层的含氟醚化合物。
(式(2)中，p表示1～30，q表示0～30。)
(式(3)中，r表示1～30。)
(式(4)中，s表示1～20。)
式(2)中，作为重复单元的(CF2-CF2-O)与(CF2-O)的排列顺序没有特别限制。在式(2)中，(CF2-CF2-O)的数量p与(CF2-O)的数量q可以相同，也可以不同。式(2)可以包含由单体单元(CF2-CF2-O)和(CF2-O)组成的无规共聚物、嵌段共聚物、交替共聚物中的任意一种。
在式(1)中的R2为式(2)的情况下，表示平均聚合度的p为1～30，优选为1～15，进一步优选为1～7。p可以为1～6、2～5。在式(1)中的R2为式(2)的情况下，表示平均聚合度的q为0～30，优选为0～15，进一步优选为0～7。q可以为1～6、2～5。另外，q为0时，p优选为1～10。
在式(3)中，在表示平均聚合度的r为1～30的情况下，本实施方式的含氟醚化合物的数均分子量容易成为优选的范围。r优选为1～10，更优选为1～5。
在式(4)中，在表示平均聚合度的s为1～20的情况下，本实施方式的含氟醚化合物的数均分子量容易成为优选的范围。s优选为1～10，更优选为1～5。
式(1)中，R3表示-OCH2CH(OH)CH2O(CH2)mOH(式中的m为2～4的整数。)。m为2～4的整数，优选为2。
式(1)所示的含氟醚化合物具体而言优选为下述式(A)～(N)所示的任一化合物。下述式(A)～(N)中的R2为由上述式(2)～式(4)表示的任意之一，关于式(2)～式(4)的上述优选条件，在式(A)～(N)中的R2中也同样优选。
式(A)～(N)中的R2所包含的p、q、r、s均为表示平均聚合度的值，因此未必为整数。R2为式(2)时，式(2)中的p表示1～30，q表示0～30。在R2为式(3)的情况下，式(3)中的r表示1～30。R2为式(4)时，式(4)中的s表示1～20。式(A)～(N)所示的化合物均是键合于苯环的2个或3个取代基全部相同的化合物。
式(A)所示的化合物中，n为2，R1为-CH2CH(OH)CH2-，R2为式(2)，R3的m为2。
式(B)所示的化合物中，n为2，R1为-CH2CH(OH)CH2，R2为式(3)，R3的m为2。
式(C)所示的化合物中，n为2，R1为-CH2CH(OH)CH2-，R2为式(4)，R3的m为2。
式(D)所示的化合物中，n为2，R1为-CH2CH(OH)CH2-，R2为式(2)，R3的m为3。
式(E)所示的化合物中，n为2，R1为-CH2CH(OH)CH2-，R2为式(2)，R3的m为4。
式(F)所示的化合物中，n为2，R1为-CH2CH2-，R2为式(2)，R3的m为2。
式(G)所示的化合物中，n为2，R1为-CH2CH2-，R2为式(3)，R3的m为2。
式(H)所示的化合物中，n为2，R1为-CH2CH2-，R2为式(4)，R3的m为2。
式(I)所示的化合物中，n为3，R1为-CH2CH(OH)CH2-，R2为式(2)，R3的m为2。
式(J)所示的化合物中，n为3，R1为-CH2CH2CH2-，R2为式(2)，R3的m为2。
式(K)表示的化合物中，n为3，R1为-CH2CH2CH2-，R2为式(3)，R3的m为2。
式(L)所示的化合物中，n为3，R1为-CH2CH2CH2-，R2为式(4)，R3的m为2。
式(M)所示的化合物中，n为3，R1为-CH2CH2CH2-，R2为式(2)，R3的m为3。
式(N)所示的化合物中，n为3，R1为-CH2CH2CH2-，R2为式(2)，R3的m为4。
(式(A)中，R2由上述式(2)表示。)
(式(B)中，R2由上述式(3)表示。)
(式(C)中，R2由上述式(4)表示。)
(式(D)中，R2由上述式(2)表示。)
(式(E)中，R2由上述式(2)表示。)
(式(F)中，R2由上述式(2)表示。)
(式(G)中，R2由上述式(3)表示。)
(式(H)中，R2由上述式(4)表示。)
(式(I)中，R2由上述式(2)表示。)
(式(J)中，R2由上述式(2)表示。)
(式(K)中，R2由上述式(3)表示。)
(式(L)中，R2由上述式(4)表示。)
(式(M)中，R2由上述式(2)表示。)
(式(N)中，R2由上述式(2)表示。)
如果式(1)所示的化合物为上述式(A)～(N)所示的任一化合物，则原料容易获得，而且能够形成即使厚度薄，也具有更为优异的耐磨损性，并且粘着得到进一步抑制的润滑层，因此是优选的。
本实施方式的含氟醚化合物的数均分子量(Mn)优选在500～10000的范围内。如果数均分子量为500以上，则包含本实施方式的含氟醚化合物的润滑剂不易蒸发，可以防止润滑剂蒸发而转移到磁头。含氟醚化合物的数均分子量更优选为1000以上。此外，如果数均分子量为10000以下，则含氟醚化合物的粘度变得适当，通过涂布包含它的润滑剂，可以容易地形成厚度薄的润滑层。为了在应用于润滑剂时形成容易处理的粘度，含氟醚化合物的数均分子量优选为3000以下。
含氟醚化合物的数均分子量(Mn)是通过采用ブルカー·バイオスピン公司制造的AVANCEIII400的1H-NMR和19F-NMR测定的值。在NMR(核磁共振)的测定中，将试样在六氟苯、d-丙酮、d-四氢呋喃等单独或混合溶剂中稀释，用于测定。19F-NMR化学位移的基准是将六氟苯的峰视为-164.7ppm，1H-NMR化学位移的基准是将丙酮的峰视为2.2ppm。
“制造方法”
本实施方式的含氟醚化合物的制造方法没有特别限制，可以使用以往公知的制造方法来制造。本实施方式的含氟醚化合物例如可以使用以下所示的制造方法进行制造。
首先，准备具有与式(1)中的R2对应的全氟聚醚链的化合物，使该化合物与2个或3个碳原子数被2个或3个卤代烷氧基取代的苯、或者被2个或3个缩水甘油氧基取代的苯进行加成反应。由此，生成式(1-1)所示的化合物。
C6H6-n-[O-R1-O-CH2-R2-CH2-OH]n (1-1)
(式(1-1)中，n为2或3的整数，R1为-CH2CH2-、-CH2CH2CH2-、-CH2CH(OH)CH2-中的任意之一，R2为全氟聚醚链。)
作为制造式(1-1)所示的化合物时使用的、被3个卤代烷氧基取代的苯，可以列举例如1,3,5-三(溴丙氧基)苯、1,2,3-三(溴丙氧基)苯、1,2，4-三(溴丙氧基)苯、1，3，5-三(溴乙氧基)苯、1,2,3-三(溴乙氧基)苯、1,2,4-三(溴乙氧基)苯等。
作为被2个卤代烷氧基取代的苯，例如可以列举邻二(溴丙氧基)苯、间二(溴丙氧基)苯、对二(溴丙氧基)苯、邻二(溴乙氧基)苯、间二(溴乙氧基)苯、对二(溴乙氧基)苯等。
被2个或3个卤代烷氧基取代的苯，例如可通过使二羟基苯或三羟基苯与1,3-二溴丙烷或1,2-二溴乙烷进行加成反应而得到。
作为制造式(1-1)所示的化合物时使用的被3个缩水甘油基氧基取代的苯，可以列举1,3,5-三(缩水甘油基氧基)苯、1,2,3-三(缩水甘油基氧基)苯、1,2,4-三(缩水甘油基氧基)苯等。
作为被2个缩水甘油基氧基取代的苯，可以列举1,3-双(缩水甘油基氧基)苯、1,2-双(缩水甘油基氧基)苯、1,4-双(缩水甘油基氧基)苯等。
被2个或3个缩水甘油基氧基取代的苯，例如可以通过使二羟基苯或三羟基苯与环氧氯丙烷或环氧溴丙烷进行加成反应而得到。
接着，使式(1-1)所示的化合物与环氧氯丙烷或环氧溴丙烷反应，生成式(1-1)所示的化合物的2个或3个取代基(-[O-R1-O-CH2-R2-CH2-OH])的末端的氢被缩水甘油基取代的全氟聚醚。生成的全氟聚醚是在苯环上键合有在末端具有环氧基的2个或3个取代基的化合物。接着，使选自乙二醇、1,3-丙二醇和1，4-丁二醇中的任意化合物与通过上述方法生成的全氟聚醚反应。这样得到的化合物例如可以通过使用柱色谱的方法进行分离。
通过以上方法，得到了式(1)所示的含氟醚化合物。
本实施方式的含氟醚化合物为上述式(1)所示的化合物。因此，如果使用包含它的润滑剂在保护层上形成润滑层，则保护层的表面被式(1)中R2所示的PFPE链被覆的同时，磁头与保护层的摩擦力降低。另外，使用包含本实施方式的含氟醚化合物的润滑剂所形成的润滑层，通过苯环分子间相互作用、和/或苯环与保护层的相互作用，与保护层的密合性优异。
另外，包含本实施方式的含氟醚化合物的润滑层通过含氟醚化合物中的R3所示的端基中分别包含的2个羟基与保护层的键合而密合在保护层上。而且，由于R3所示的端基所包含的2个羟基分别与不同的碳原子键合，所述羟基所键合的碳原子彼此经由包含氧原子的连接基团而结合，因此包含本实施方式的含氟醚化合物的润滑层的柔软性良好。因此，包含本实施方式的含氟醚化合物的润滑层容易吸附于保护膜，与保护层的密合性优异。
由以上情况可知，如果采用本实施方式的含氟醚化合物，则润滑层与保护层被牢固地结合，可得到具有优异的耐磨损性、粘着得到抑制的润滑层。
[磁记录介质用润滑剂]
本实施方式的磁记录介质用润滑剂包含式(1)所示的含氟醚化合物。
本实施方式的润滑剂，只要在不损害包含式(1)所示的含氟醚化合物所带来的特性的范围内，可以根据需要混合使用作为润滑剂的材料使用的公知材料。
作为公知材料的具体例子，例如可以列举FOMBLIN(注册商标)ZDIAC、FOMBLINZDEAL、FOMBLIN AM-2001(以上为Solvay Solexis公司制)、Moresco A20H(Moresco公司制)等。与本实施方式的润滑剂混合使用的公知材料的数均分子量优选为1000～10000。
在本实施方式的润滑剂包含式(1)所示的含氟醚化合物以外的其他材料的情况下，本实施方式的润滑剂中的式(1)所示的含氟醚化合物的含量优选为50质量％以上，更优选为70质量％以上。也可以为80质量％以上、90质量％以上。上限可以任意选择，例如可以为99质量％以下、95质量％以下、90质量％以下。
由于本实施方式的润滑剂包含式(1)所示的含氟醚化合物，因此可以形成即使减薄厚度，也可以以高被覆率被覆保护层的表面，且与保护层的密合性优异的润滑层。因此，根据本实施方式的润滑剂，可得到即使厚度薄也具有优异的耐磨损性、粘着得到抑制的润滑层。
[磁记录介质]
本实施方式的磁记录介质在基板上至少依次设置有磁性层、保护层和润滑层。
在本实施方式的磁记录介质中，可以根据需要在基板与磁性层之间设置1层或2层以上的基底层。另外，也可以在基底层与基板之间设置附着层和/或软磁性层。
图1是表示本发明的磁记录介质的一个实施方式的示意剖面图。
本实施方式的磁记录介质10，形成了在基板11上依次设置附着层12、软磁性层13、第1基底层14、第2基底层15、磁性层16、保护层17和润滑层18的结构。
“基板”
作为基板11，例如可以使用在由Al或Al合金等金属或合金材料构成的基体上形成了由NiP或NiP合金构成的膜的非磁性基板等。
另外，作为基板11，可以使用由玻璃、陶瓷、硅、碳化硅、碳、树脂等非金属材料构成的非磁性基板，也可以使用在由这些非金属材料构成的基体上形成了NiP或NiP合金的膜的非磁性基板。
“附着层”
附着层12防止在将基板11与设置于附着层12上的软磁性层13相接触配置的情况下产生的基板11的腐蚀的进行。
附着层12的材料例如可以从Cr、Cr合金、Ti、Ti合金、CrTi、NiAl、AlRu合金等中适当选择。附着层12例如可以通过溅射法形成。
“软磁性层”
软磁性层13优选具有依次层叠有第1软磁性膜、由Ru膜构成的中间层和第2软磁性膜的结构。即，软磁性层13优选具有如下结构：通过在两层软磁性膜之间夹入由Ru膜构成的中间层，中间层上下的软磁性膜进行了反铁磁耦合(AFC)结合。
作为第1软磁性膜和第2软磁性膜的材料，例如可以列举CoZrTa合金、CoFe合金等。
第1软磁性膜和第2软磁性膜中使用的CoFe合金中，优选添加Zr、Ta、Nb中的任意之一。由此，第1软磁性膜和第2软磁性膜的非晶质化得到促进，能够提高第1基底层(晶种层)的取向性，同时能够降低磁头的上浮量。
软磁性层13例如可以通过溅射法形成。
“第1基底层”
第1基底层14是用于控制设置于其上的第2基底层15和磁性层16的取向、结晶尺寸的层。
作为第1基底层14，例如可以列举Cr层、Ta层、Ru层、或CrMo、CoW、CrW、CrV、CrTi合金层等。
第1基底层14例如可以通过溅射法形成。
“第2基底层”
第2基底层15是进行控制以使磁性层16的取向变得良好的层。第2基底层15优选为由Ru或Ru合金构成的层。
第2基底层15可以是由1层构成的层，也可以由多层构成。在第2基底层15由多层构成的情况下，可以是全部的层由相同的材料构成，也可以是至少一层由不同的材料构成。
第2基底层15例如可以通过溅射法形成。
“磁性层”
磁性层16由易磁化轴相对于基板面朝向垂直或水平方向的磁性膜构成。磁性层16例如是包含Co和Pt的层，为了进一步改善SNR特性，也可以是包含氧化物、Cr、B、Cu、Ta、Zr等的层。
作为磁性层16中所含的氧化物的例子，可以列举SiO2、SiO、Cr2O3、CoO、Ta2O3、TiO2等。
磁性层16可以由1层构成，也可以由包含组成不同的材料的多个磁性层构成。
例如，在磁性层16由从下方起依次层叠的第1磁性层、第2磁性层和第3磁性层这3层构成的情况下，第1磁性层优选为由包含Co、Cr、Pt，进而包含氧化物的材料构成的粒状结构。作为第1磁性层中所含的氧化物，例如优选使用Cr、Si、Ta、Al、Ti、Mg、Co等的氧化物。其中，特别优选使用TiO2、Cr2O3、SiO2等。另外，第1磁性层优选由添加有2种以上氧化物的复合氧化物形成。其中，可以特别优选使用Cr2O3-SiO2、Cr2O3-TiO2、SiO2-TiO2等。
第1磁性层，除了Co、Cr、Pt、氧化物以外，可以优选包含选自B、Ta、Mo、Cu、Nd、W、Nb、Sm、Tb、Ru、Re中的1种以上的元素。
第2磁性层可以使用与第1磁性层同样的材料。第2磁性层优选为粒状结构。
第3磁性层优选为由包含Co、Cr、Pt且不包含氧化物的材料形成的非粒状结构。第3磁性层，除了Co、Cr、Pt以外，可以优选包含选自B、Ta、Mo、Cu、Nd、W、Nb、Sm、Tb、Ru、Re、Mn中的1种以上的元素。
在磁性层16由多个磁性层形成的情况下，优选在相邻的磁性层之间设置非磁性层。在磁性层16由第1磁性层、第2磁性层和第3磁性层这3层构成的情况下，优选在第1磁性层与第2磁性层之间、以及第2磁性层与第3磁性层之间设置非磁性层。
设置于磁性层16的相邻磁性层间的非磁性层可以适当地使用例如Ru、Ru合金、CoCr合金、CoCrX1合金(X1表示选自Pt、Ta、Zr、Re、Ru、Cu、Nb、Ni、Mn、Ge、Si、O、N、W、Mo、Ti、V、B中的1种或2种以上的元素。)等。
设置于磁性层16的相邻磁性层间的非磁性层优选使用包含氧化物、金属氮化物或金属碳化物的合金材料。具体而言，作为氧化物，例如可以优选使用SiO2、Al2O3、Ta2O5、Cr2O3、MgO、Y2O3、TiO2等。作为金属氮化物，例如可以优选使用AlN、Si3N4、TaN、CrN等。作为金属碳化物，例如可以优选使用TaC、BC、SiC等。
非磁性层例如可以通过溅射法形成。
为了实现更高的记录密度，磁性层16优选为易磁化轴朝向与基板面垂直的方向的垂直磁记录的磁性层。磁性层16也可以是面内磁记录的磁性层。
磁性层16可以通过蒸镀法、离子束溅射法、磁控溅射法等以往公知的任何方法来形成。磁性层16通常通过溅射法形成。
“保护层”
保护层17保护磁性层16。保护层17可以由一层构成，也可以由多层构成。作为保护层17的材料，可以列举碳、含氮的碳、碳化硅等。
作为保护层17，可以优选使用碳类保护层，特别优选无定形碳保护层。如果保护层17为碳类保护层，则与润滑层18中的含氟醚化合物所包含的羟基的相互作用进一步提高，因此是优选的。
碳类保护层与润滑层18的附着力可以通过将碳类保护层设定为氢化碳和/或氮化碳，并调节碳类保护层中的氢含量和/或氮含量来控制。碳类保护层中的氢含量在通过氢前向散射法(HFS)测定时优选为3～20原子％。另外，碳类保护层中的氮含量在通过X射线光电子能谱分析法(XPS)测定时，优选为4～15原子％。
碳类保护层中所含的氢和/或氮不需要在碳类保护层整体中均匀地含有。碳类保护层优选设定为例如使保护层17的润滑层18一侧含有氮、使保护层17的磁性层16一侧含有氢的组成倾斜层。在这种情况下，磁性层16和润滑层18与碳类保护层的附着力更进一步提高。
保护层17的膜厚可以任意选择，可以设定为1nm～7nm。若保护层17的膜厚为1nm以上，则可充分获得作为保护层17的性能。保护层17的膜厚为7nm以下时，从保护层17薄膜化的角度考虑是优选的。
作为保护层17的成膜方法，可以采用使用含碳靶材的溅射法、使用乙烯、甲苯等烃原料的CVD(化学蒸镀法)法、IBD(离子束蒸镀)法等。
在形成碳类保护层作为保护层17的情况下，例如可以通过DC磁控溅射法进行成膜。特别是在形成碳类保护层作为保护层17的情况下，优选通过等离子体CVD法形成无定形碳保护层。通过等离子体CVD法成膜的无定形碳保护层的表面均匀，粗糙度小。
“润滑层”
润滑层18防止磁记录介质10的污染。另外，润滑层18使在磁记录介质10上滑动的磁记录再生装置的磁头的摩擦力降低，使磁记录介质10的耐久性提高。
润滑层18如图1中所示的那样，在保护层17上且与其进行接触地形成。润滑层18包含上述含氟醚化合物。
润滑层18，在配置于润滑层18之下的保护层17为碳类保护层的情况下，尤其与保护层17以高结合力结合。其结果是即使润滑层18的厚度薄，也容易得到以高被覆率被覆了保护层17的表面的磁记录介质10，可以有效地防止磁记录介质10的表面污染。
润滑层18的平均膜厚可以任意选择，优选为0.5nm
～3nm
更优选为0.5nm
～1nm
如果润滑层18的平均膜厚为0.5nm以上，则润滑层18不会成为岛状或网眼状而以均匀的膜厚形成。因此，通过润滑层18，能够以高被覆率被覆保护层17的表面。另外，通过使润滑层18的平均膜厚为3nm以下，能够使润滑层18充分薄膜化，可以充分减小磁头的上浮量。
在保护层17的表面没有被润滑层18以充分高的被覆率被覆的情况下，吸附于磁记录介质10的表面的环境物质穿过润滑层18的间隙而侵入到润滑层18之下。侵入到润滑层18的下层的环境物质与保护层17吸附、结合而生成污染物质。而且，在磁记录再生时，该污染物质(凝聚成分)以污点的形式附着(转印)于磁头，使磁头破损，或使磁记录再生装置的磁记录再生特性降低。
作为生成污染物质的环境物质，可以列举例如，硅氧烷化合物(环状硅氧烷、直链硅氧烷)、离子性杂质、二十八烷等分子量比较高的烃、邻苯二甲酸二辛酯等增塑剂等。作为离子性杂质中所含的金属离子，可以列举例如，钠离子、钾离子等。作为离子性杂质中所含的无机离子，可以列举例如，氯离子、溴离子、硝酸根离子、硫酸根离子、铵离子等。作为离子性杂质中所含的有机物离子，可以列举例如，草酸根离子、甲酸根离子等。
“润滑层的形成方法”
作为形成润滑层18的方法，可以任意选择，可以列举例如，准备在基板11上形成了直至保护层17为止的各层的制造中途的磁记录介质，在保护层17上涂布润滑层形成用溶液，并使其干燥的方法。
润滑层形成用溶液，例如，可以通过使上述的实施方式的磁记录介质用润滑剂根据需要分散溶解于溶剂，形成适于涂布方法的粘度和浓度而得到。
作为润滑层形成用溶液中使用的溶剂，可以列举例如バートレル(注册商标)XF(商品名，三井デュポンフロロケミカル社制)等氟类溶剂等。
润滑层形成用溶液的涂布方法没有特别限制，可以列举例如，旋涂法、喷涂法、纸涂法、浸渍法等。
在使用浸渍法的情况下，例如可以使用以下所示的方法。首先，在放入浸涂装置的浸渍槽中的润滑层形成用溶液中，浸渍形成了直到保护层17为止的各层的基板11。接着，以规定的速度从浸渍槽中提起基板11。由此，将润滑层形成用溶液涂布于基板11的保护层17的表面。
通过使用浸渍法，可以将润滑层形成用溶液均匀地涂布于保护层17的表面，可以在保护层17上以均匀的膜厚形成润滑层18。
在本实施方式中，优选对形成有润滑层18的基板11实施热处理。通过实施热处理，润滑层18与保护层17的密合性提高，润滑层18与保护层17的附着力提高。
热处理温度可以任意选择，优选设定为100～180℃。如果热处理温度为100℃以上，则可充分得到使润滑层18与保护层17的密合性提高的效果。另外，通过使热处理温度为180℃以下，能够防止润滑层18的热分解。热处理时间优选设定为10～120分钟。
在本实施方式中，为了进一步提高润滑层18对保护层17的附着力，也可以对热处理前或热处理后的基板11的润滑层18进行照射紫外线(UV)的处理。
本实施方式的磁记录介质10在基板11上至少依次设置有磁性层16、保护层17和润滑层18。在本实施方式的磁记录介质10中，在保护层17上相接触地形成了包含上述含氟醚化合物的润滑层18。该润滑层18即使厚度薄，也以高被覆率被覆保护层17的表面。因此，在本实施方式的磁记录介质10中，防止了生成离子性杂质等污染物质的环境物质从润滑层18的间隙侵入。因此，本实施方式的磁记录介质10的表面上存在的污染物质少。另外，本实施方式的磁记录介质10中的润滑层18不易产生异物(污渍)，可以抑制粘着。另外，本实施方式的磁记录介质10中的润滑层18具有优异的耐磨损性。因此，本实施方式的磁记录介质10具有优异的可靠性和耐久性。
实施例
以下，通过实施例及比较例对本发明进行更具体的说明。还有，本发明并不仅权限定于以下的实施例。
(实施例1)
通过以下所示的方法，制造下述式(5)所示的化合物。
(式(5)中，R2由上述式(2)表示。)
(式(2)中，p为3.0，q为3.0。)
使用1,3-二羟基苯和环氧氯丙烷，在丙酮溶剂中、碳酸钾存在下进行反应，由此合成下述式(6)所示的化合物。
然后，在氮气气氛下，在100mL茄形烧瓶中加入HOCH2CF2O(CF2CF2O)p(CF2O)qCF2CH2OH(式中的q为3.0，q为3.0。)所示的化合物(数均分子量650，分子量分布1.1)30.0g、式(6)所示的化合物1.35g(分子量222，6.1mmol)和叔丁醇(t-BuOH)20mL，在室温下搅拌至变得均匀。在该均匀的液体中进一步加入叔丁醇钾(t-BuOK)0.50g(分子量112，4.5mmol)，在70℃下搅拌16小时使其反应。
将得到的反应产物冷却至25℃，转移至加入了水40mL的分液漏斗中，使用乙酸乙酯100mL萃取2次。对有机层进行水洗，利用无水硫酸钠进行脱水。将干燥剂过滤分离后，浓缩滤液，将残渣用硅胶柱色谱精制，得到下述式(7)所示的化合物7.6g(数均分子量1669，4.6mmol)。
(式(7)中，R2由上述式(2)表示。)
(式(2)中，p为3.0，q为3.0。)
接着，加入式(7)所示的化合物7.5g、环氧溴丙烷1.25g(分子量137，9.1mmol)和t-BuOH 25mL，在室温下搅拌至变得均匀。在该均匀的液体中进一步加入t-BuOK 1.00g(分子量112，8.9mmol)，在70℃下搅拌6小时使其反应。
将得到的反应产物冷却至25℃，转移至加入了水30mL的分液漏斗中，用乙酸乙酯100mL萃取2次。对有机层进行水洗，利用无水硫酸钠进行脱水。将干燥剂过滤分离后，浓缩滤液，将残渣用硅胶柱色谱精制，得到下述式(8)所示的化合物6.3g(数均分子量1781，3.5mmol)。
(式(8)中，R2由上述式(2)表示。)
(式(2)中，p为3.0，q为3.0。)
接着，加入式(8)所示的化合物6.0g、乙二醇1.67g(分子量62，26.9mmol)和t-BuOH30mL，在室温下搅拌至变得均匀。在该均匀的液体中进一步加入t-BuOK 0.40g(分子量112，3.6mmol)，在70℃下搅拌6小时使其反应。
将得到的反应产物冷却至25℃，转移至加入了水30mL的分液漏斗中，用乙酸乙酯100mL萃取2次。将有机层水洗，利用无水硫酸钠进行脱水。将干燥剂过滤分离后，浓缩滤液，将残渣用硅胶柱色谱精制，得到上述式(5)所示的化合物4.3g。
对所得到的化合物(5)进行1H-NMR和19F-NMR测定，通过以下的结果鉴定了结构。
(鉴定数据)
1H-NMR(acetone-D6)：δ[ppm]3.3～4.2(36H)、6.6～6.8(4H)
19F-NMR(acetone-D6)：δ[ppm]＝-55.5～-51.5(12F)、-78.5(4F)、-80.5(4F)、-91.0～-88.5(24F)
(实施例2)
替代实施例1中使用的HOCH2CF2O(CF2CF2O)p(CF2O)qCF2CH2OH(式中的p为3.0，q为3.0。)所示的氟聚醚，使用HOCH2CF2O(CF2CF2O)p(CF2O)qCF2CH2OH(式中的p为4.5，q为0。)所示的氟聚醚(数均分子量650，分子量分布1.2)，除此以外，按照与实施例1相同的方式操作，得到下述式(9)所示的化合物4.4g。
(式(9)中，R2由上述式(2)表示。)
(式(2)中，p为4.5，q为0。)
对所得到的化合物(9)进行1H-NMR和19F-NMR测定，通过以下的结果鉴定了结构。
(鉴定数据)
1H-NMR(acetone-D6)：δ[ppm]3.3～4.2(36H)、6.6～6.8(4H)
19F-NMR(acetone-D6)：δ[ppm]＝-78.5(4F)、-81.3(4F)、-90.0～-88.5(36F)
(实施例3)
替代实施例1中使用的HOCH2CF2O(CF2CF2O)p(CF2O)qCF2CH2OH(式中的p为3.0，q为3.0。)所示的氟聚醚，使用HOCH2CF2CF2O(CF2CF2CF2O)rCF2CF2CH2OH(式中的r为2.5。)所示的氟聚醚(数均分子量650，分子量分布1.2)，除此以外，按照与实施例1相同的方式操作，得到下述式(10)所示的化合物4.4g。
(式(10)中，R2由上述式(3)表示。)
(式(3)中，r为2.5。)
对所得到的化合物(10)进行1H-NMR和19F-NMR测定，通过以下的结果鉴定了结构。
(鉴定数据)
1H-NMR(acetone-D6)：δ[ppm]3.3～4.2(36H)、6.6～6.8(4H)
19F-NMR(acetone-D6)：δ[ppm]＝-84.0～-83.0(20F)、-86.4(8F)、-124.3(8F)、-130.0～-129.0(10F)
(实施例4)
替代实施例1中使用的HOCH2CF2O(CF2CF2O)p(CF2O)qCF2CH2OH(式中的p为3.0，q为3.0。)所示的氟聚醚，使用HOCH2CF2CF2CF2O(CF2CF2CF2CF2O)sCF2CF2CF2CH2OH(式中的s为1.5。)所示的氟聚醚(数均分子量650，分子量分布1.2)，除此以外，按照与实施例1相同的方式操作，得到下述式(11)所示的化合物3.9g。
(式(11)中，R2由上述式(4)表示。)
(式(4)中，s为1.5。)
对所得到的化合物(11)进行1H-NMR和19F-NMR测定，通过以下的结果鉴定了结构。
(鉴定数据)
1H-NMR(acetone-D6)：δ[ppm]3.3～4.2(36H)、6.6～6.8(4H)
19F-NMR(acetone-D6)：δ[ppm]＝-84.0～-83.0(20F)、-122.5(8F)、-126.0(12F)、-129.0～-128.0(8F)
(实施例5)
使用1-3-丙二醇代替实施例1中使用的乙二醇，除此以外，按照与实施例1相同的方式操作，得到下述式(12)所示的化合物4.5g。
(式(12)中，R2由上述式(2)表示。)
(式(2)中，p为3.0，q为3.0。)
对所得到的化合物(12)进行1H-NMR和19F-NMR测定，通过以下的结果鉴定了结构。
(鉴定数据)
1H-NMR(acetone-D6)：δ[ppm]1.00～1.40(4H)、3.3～4.2(36H)、6.6～6.8(4H)
19F-NMR(acetone-D6)：δ[ppm]＝-55.5～-51.5(12F)、-78.5(4F)、-80.5(4F)、-91.0～-88.5(24F)
(实施例6)
使用1,4-丁二醇代替实施例1中使用的乙二醇，除此以外，按照与实施例1相同的方式操作，得到下述式(13)所示的化合物4.2g。
(式(13)中，R2由上述式(2)表示。)
(式(2)中，p为3.0，q为3.0。)
对所得到的化合物(13)进行1H-NMR和19F-NMR测定，通过以下的结果鉴定了结构。
(鉴定数据)
1H-NMR(acetone-D6)：δ[ppm]1.00～1.40(8H)、3.3～4.2(36H)、6.6～6.8(4H)
19F-NMR(acetone-D6)：δ[ppm]＝-55.5～-51.5(12F)、-78.5(4F)、-80.5(4F)、-91.0～-88.5(24F)
(实施例7)
通过使用1,3-二羟基苯和1,2-二溴乙烷，在碱性条件下进行取代反应的方法，合成下述式(14)所示的化合物。
然后，替代实施例1中使用的上述式(6)所示的化合物，使用上述式(14)所示的化合物，除此以外，按照与实施例1相同的方式操作，得到下述式(15)所示的化合物3.8g。
(式(15)中，R2由上述式(2)表示。)
(式(2)中，p为3.0，q为3.0。)
对所得到的化合物(15)进行1H-NMR和19F-NMR测定，通过以下的结果鉴定了结构。
(鉴定数据)
1H-NMR(acetone-D6)：δ[ppm]3.3～4.2(34H)、6.6～6.8(4H)
19F-NMR(acetone-D6)：δ[ppm]＝-55.5～-51.5(12F)、-78.5(4F)、-80.5(4F)、-91.0～-88.5(24F)
(实施例8)
替代实施例1中使用的HOCH2CF2O(CF2CF2O)p(CF2O)qCF2CH2OH(式中的p为3.0，q为3.0。)所示的氟聚醚，使用HOCH2CF2O(CF2CF2O)p(CF2O)qCF2CH2OH(式中的p为4.5，q为0。)所示的氟聚醚(数均分子量650，分子量分布1.2)，使用上述式(14)所示的化合物代替上述式(6)所示的化合物，除此以外，按照与实施例1相同的方式操作，得到下述式(16)所示的化合物3.9g。
(式(16)中，R2由上述式(2)表示。)
(式(2)中，p为4.5，q为0。)
对所得到的化合物(16)进行1H-NMR和19F-NMR测定，通过以下的结果鉴定了结构。
(鉴定数据)
1H-NMR(acetone-D6)：δ[ppm]3.3～4.2(34H)、6.6～6.8(4H)
19F-NMR(acetone-D6)：δ[ppm]＝-78.5(4F)、-81.3(4F)、-90.0～-88.5(36F)
(实施例9)
替代实施例1中使用的HOCH2CF2O(CF2CF2O)p(CF2O)qCF2CH2OH(式中的p为3.0，q为3.0。)所示的氟聚醚，使用HOCH2CF2CF2O(CF2CF2CF2O)rCF2CF2CH2OH(式中的r为2.5。)所示的氟聚醚(数均分子量650，分子量分布1.2)，使用上述式(14)所示的化合物代替上述式(6)所示的化合物，除此以外，按照与实施例1相同的方式操作，得到了下述式(17)所示的化合物3.9g。
(式(17)中，R2由上述式(3)表示。)
(式(3)中，r为2.5。)
对所得到的化合物(17)进行1H-NMR和19F-NMR测定，通过以下的结果鉴定了结构。
(鉴定数据)
1H-NMR(acetone-D6)：δ[ppm]3.3～4.2(34H)、6.6～6.8(4H)
19F-NMR(acetone-D6)：δ[ppm]＝-84.0～-83.0(20F)、-86.4(8F)、-124.3(8F)、-130.0～-129.0(10F)
(实施例10)
替代实施例1中使用的HOCH2CF2O(CF2CF2O)p(CF2O)qCF2CH2OH(式中的p为3.0，q为3.0。)所示的氟聚醚，使用HOCH2CF2CF2CF2O(CF2CF2CF2CF2O)sCF2CF2CF2CH2OH(式中的s为1.5。)所示的氟聚醚(数均分子量650，分子量分布1.2)，使用上述式(14)所示的化合物代替上述式(6)所示的化合物，除此以外，按照与实施例1相同的方式操作，得到下述式(18)所示的化合物4.1g。
(式(18)中，R2由上述式(4)表示。)
(式(4)中，s为1.5。)
对所得到的化合物(18)进行1H-NMR和19F-NMR测定，通过以下的结果鉴定了结构。
(鉴定数据)
1H-NMR(acetone-D6)：δ[ppm]3.3～4.2(34H)、6.6～6.8(4H)
19F-NMR(acetone-D6)：δ[ppm]＝-84.0～-83.0(20F)、-122.5(8F)、-126.0(12F)、-129.0～-128.0(8F)
(实施例11)
使用1,3,5-三羟基苯和环氧氯丙烷，除此以外，与实施例1的式(6)所示的化合物一样进行操作，合成下述式(19)所示的化合物。
然后，使用上述式(19)所示的化合物代替实施例1中使用的上述式(6)所示的化合物，除此以外，按照与实施例1相同的方式操作，得到下述式(20)所示的化合物3.4g。
(式(20)中，R2由上述式(2)表示。)
(式(2)中，p为3.0，q为3.0。)
对所得到的化合物(20)进行1H-NMR和19F-NMR测定，通过以下的结果鉴定了结构。
(鉴定数据)
1H-NMR(acetone-D6)：δ[ppm]3.3～4.2(54H)、6.6～6.8(3H)
19F-NMR(acetone-D6)：δ[ppm]＝-55.5～-51.5(18F)、-78.5(6F)、-80.5(6F)、-91.0～-88.5(36F)
(实施例12)
使用1,3,5-三羟基苯和1,3-二溴丙烷，除此以外，与实施例7的式(14)所示的化合物一样进行操作，合成下述式(21)所示的化合物。
然后，使用上述式(21)所示的化合物代替实施例1中使用的上述式(6)所示的化合物，除此以外，按照与实施例1相同的方式操作，得到下述式(22)所示的化合物4.7g。
(式(22)中，R2由上述式(2)表示。)
(式(2)中，p为3.0，q为3.0。)
对所得到的化合物(22)进行1H-NMR和19F-NMR测定，通过以下的结果鉴定了结构。
(鉴定数据)
1H-NMR(acetone-D6)：δ[ppm]3.3～4.2(57H)、6.6～6.8(3H)
19F-NMR(acetone-D6)：δ[ppm]＝-55.5～-51.5(18F)、-78.5(6F)、-80.5(6F)、-91.0～-88.5(36F)
(实施例13)
替代实施例1中使用的HOCH2CF2O(CF2CF2O)p(CF2O)qCF2CH2OH(式中的p为3.0，q为3.0。)所示的氟聚醚，使用HOCH2CF2O(CF2CF2O)p(CF2O)qCF2CH2OH(式中的p为4.5，q为0。)所示的氟聚醚(数均分子量650，分子量分布1.2)，使用上述式(21)所示的化合物代替上述式(6)所示的化合物，除此以外，按照与实施例1相同的方式操作，得到下述式(23)所示的化合物4.8g。
(式(23)中，R2由上述式(2)表示。)
(式(2)中，p为4.5，q为0。)
对所得到的化合物(23)进行1H-NMR和19F-NMR测定，通过以下的结果鉴定了结构。
(鉴定数据)
1H-NMR(acetone-D6)：δ[ppm]3.3～4.2(57H)、6.6～6.8(3H)
19F-NMR(acetone-D6)：δ[ppm]＝-78.5(6F)、-81.3(6F)、-90.0～-88.5(54F)
(实施例14)
替代实施例1中使用的HOCH2CF2O(CF2CF2O)p(CF2O)qCF2CH2OH(式中的p为3.0，q为3.0。)所示的氟聚醚，使用HOCH2CF2CF2O(CF2CF2CF2O)rCF2CF2CH2OH(式中的r为2.5。)所示的氟聚醚(数均分子量650，分子量分布1.2)，使用上述式(21)所示的化合物代替上述式(6)所示的化合物，除此以外，按照与实施例1相同的方式操作，得到下述式(24)所示的化合物4.7g。
(式(24)中，R2由上述式(3)表示。)
(式(3)中，r为2.5。)
对所得到的化合物(24)进行1H-NMR和19F-NMR测定，通过以下的结果鉴定了结构。
(鉴定数据)
1H-NMR(acetone-D6)：δ[ppm]3.3～4.2(57H)、6.6～6.8(3H)
19F-NMR(acetone-D6)：δ[ppm]＝-84.0～-83.0(30F)、-86.4(12F)、-124.3(12F)、-130.0～-129.0(15F)
(实施例15)
替代实施例1中使用的HOCH2CF2O(CF2CF2O)p(CF2O)qCF2CH2OH(式中的p为3.0，q为3.0。)所示的氟聚醚，使用HOCH2CF2CF2CF2O(CF2CF2CF2CF2O)sCF2CF2CF2CH2OH(式中的s为1.5。)表示的氟聚醚(数均分子量650，分子量分布1.2)，使用上述式(21)所示的化合物代替上述式(6)所示的化合物，除此以外，按照与实施例1相同的方式操作，得到下述式(25)所示的化合物4.2g。
(式(25)中，R2由上述式(4)表示。)
(式(4)中，s为1.5。)
对所得到的化合物(25)进行1H-NMR和19F-NMR测定，通过以下的结果鉴定了结构。
(鉴定数据)
1H-NMR(acetone-D6)：δ[ppm]3.3～4.2(57H)、6.6～6.8(3H)
19F-NMR(acetone-D6)：δ[ppm]＝-84.0～-83.0(30F)、-122.5(12F)、-126.0(18F)、-129.0～-128.0(12F)
(实施例16)
使用上述式(21)所示的化合物代替实施例1中使用的上述式(6)所示的化合物，使用1,3-丙二醇代替乙二醇，除此之外，按照与实施例1相同的方式操作，得到下述式(26)所示的化合物4.6g。
(式(26)中，R2由上述式(2)表示。)
(式(2)中，p为3.0，q为3.0。)
对所得到的化合物(26)进行1H-NMR和19F-NMR测定，通过以下的结果鉴定了结构。
(鉴定数据)
1H-NMR(acetone-D6)：δ[ppm]1.00～1.40(6H)、3.3～4.2(57H)、6.6～6.8(3H)
19F-NMR(acetone-D6)：δ[ppm]＝-55.5～-51.5(18F)、-78.5(6F)、-80.5(6F)、-91.0～-88.5(36F)
(实施例17)
使用上述式(21)所示的化合物代替实施例1中使用的上述式(6)所示的化合物，使用1,4-丁二醇代替乙二醇，除此以外，按照与实施例1相同的方式操作，得到下述式(27)所示的化合物4.6g。
(式(27)中，R2由上述式(2)表示。)
(式(2)中，p为3.0，q为3.0。)
对所得到的化合物(27)进行1H-NMR和19F-NMR测定，通过以下的结果鉴定了结构。
(鉴定数据)
1H-NMR(acetone-D6)：δ[ppm]1.00～1.40(12H)、3.3～4.2(57H)、6.6～6.8(3H)
19F-NMR(acetone-D6)：δ[ppm]＝-55.5～-51.5(18F)、-78.5(6F)、-80.5(6F)、-91.0～-88.5(36F)
(比较例1)
利用专利文献1中记载的方法合成下述式(28)所示的化合物。
(式(28)中，R2由上述式(4)表示。)
(式(4)中，s为1.5。)
(比较例2)
利用专利文献1中记载的方法合成下述式(29)所示的化合物。
(式(29)中，R2由上述式(4)表示。)
(式(4)中，s为1.5。)
(比较例3)
利用专利文献2中记载的方法合成下述式(30)所表示的化合物。
(式(30)中，R2由上述式(4)表示。)
(式(4)中，s为1.5。)
(比较例4)
利用专利文献3中记载的方法合成下述式(31)所示的化合物。
(式(31)中，p为9.0，q为9.0。)
将这样得到的实施例1～17的化合物中式(1)中的n的数值(苯取代基数)、R3的m的数值、R1～R2的结构示于表1中。
表1
通过上述1H-NMR和19F-NMR的测定求出如此得到的实施例1～17和比较例1～4的化合物的数均分子量。将其结果示于表2。
表2
表2中，◎是指优异的结果，○是指良好的结果，△是指合格的结果，×是指差的结果。
接着，通过以下所示的方法，使用实施例1～17和比较例1～4中得到的化合物配制润滑层形成用溶液。然后，使用得到的润滑层形成用溶液，通过以下所示的方法，形成磁记录介质的润滑层，得到实施例1～17和比较例1～4的磁记录介质。
“润滑层形成用溶液”
将实施例1～17和比较例1～4中得到的化合物分别溶解于作为氟类溶剂的バートレル(注册商标)XF(商品名，三井デュポンフロロケミカル社制)，以使涂布在保护层上时的膜厚成为
的方式进一步用バートレルXF稀释，制成润滑层形成用溶液。
“磁记录介质”
准备在直径65mm的基板上依次设置有附着层、软磁性层、第1基底层、第2基底层、磁性层和保护层的磁记录介质。保护层由碳构成。
在形成了直至保护层为止的各层的磁记录介质的保护层上，采用浸渍法涂布实施例1～17和比较例1～4的润滑层形成用溶液。另外，浸渍法在浸渍速度10mm/sec，浸渍时间30sec，提拉速度1.2mm/sec的条件下进行。
然后，将涂布了润滑层形成用溶液的磁记录介质放入120℃的恒温槽中，加热10分钟将润滑层形成用溶液中的溶剂除去，由此在保护层上形成润滑层，得到磁记录介质。
使用FT-IR(商品名Nicolet iS50，Thermo Fisher Scientific公司制)测定如此得到的实施例1～17和比较例1～4的磁记录介质所具有的润滑层的膜厚。其结果示于表2中。
此外，对于实施例1～17和比较例1～4的磁记录介质，进行以下所示的润滑层与保护层的密合性(结合率)测定、以及粘着抑制试验和耐磨损性试验。其结果示于表2中。
(润滑层与保护层的密合性(结合率)测定)
通过将形成了润滑层的磁记录介质在作为溶剂的バートレルXF中浸渍10分钟并提起的方法进行清洗。将磁记录介质浸渍于溶剂中的速度设定为10mm/sec，提起的速度设定为1.2mm/sec。
然后，采用与清洗前进行的润滑层的膜厚测定相同的方法，测定润滑层的膜厚。
然后，将清洗前的润滑层的膜厚视为A，将清洗后(溶剂浸渍后)的润滑层的膜厚视为B，由A与B之比((B/A)×100(％))算出润滑剂的结合率(ボンド率)。使用算出的结合率，按照以下所示的标准，评价润滑层与保护层的密合性。
“密合性(结合率)评价”
○(良)：结合率为65％以上
△(合格)：结合率为50％以上且小于65％
×(不合格)：结合率小于50％
(粘着抑制试验)
在旋转架上安装磁记录介质和磁头，在常温减压下(约250torr)，一边使磁记录介质旋转，一边使磁头定点悬浮10分钟。然后，使用ESCA(Electron Spectroscopy forChemical Analysis)分析装置对磁头的与磁记录介质相对的面(润滑层的表面)进行分析。然后，根据用ESCA测定的来自氟的峰的强度(信号强度(a.u。))，按照表3所示的标准评价润滑剂在磁头上的附着量。
表3
| 评价 | 信号强度 | ESCA信号强度 |
| ◎ | 500以下 | 磁头上无润滑剂粘着，信号强度无变化。 |
| ○ | 超过500且1000以下 | 磁头上有少许润滑剂粘着，但信号强度小。 |
| × | 超过1000 | 磁头上有大量润滑剂粘着，信号强度大。 |
表3中，◎是指优异的结果，○是指良好的结果，×是指差的结果。
(耐磨损性试验)
使用销盘式摩擦磨损试验机，使作为触头的直径2mm的氧化铝球以载荷40gf，滑动速度0.25m/sec在磁记录介质的润滑层上滑动，测定润滑层的表面的摩擦系数。然后，测定直至润滑层的表面摩擦系数急剧增大为止的滑动时间。对于直到摩擦系数急剧增大为止的滑动时间，对各磁记录介质的润滑层各测定4次，将其平均值(时间)作为润滑剂涂膜的耐磨损性的指标。
在实施例1～17和比较例1～4的磁记录介质中，基于直到摩擦系数急剧增大为止的滑动时间的耐磨损性的评价如下所述。
“耐磨损性(滑动时间)评价”
◎(优)：650秒以上
○(良)：550sec以上且小于650sec
△(合格)：450sec以上且小于550sec
×(不合格)：小于450秒
另外，根据以下所示的理由，直到摩擦系数急剧增大为止的时间可以作为润滑层的耐磨损性的指标使用。这是因为，磁记录介质的润滑层由于使用磁记录介质而发生磨损，如果因磨损导致润滑层消失，则触头与保护层直接接触，摩擦系数急剧增大。可以认为直到该摩擦系数急剧增大为止的时间也与摩擦试验相关。
如表2中所示的那样，在实施例1～17中，润滑层与保护层的密合性(结合率)的评价结果、粘着抑制试验和耐磨损性试验的结果均为良好。与此相对，使用端基不是-OCH2CH(OH)CH2O(CH2)mOH(式中m为2～4的整数。)，而是-OCH2CH(OH)CH2OH的化合物的比较例1～比较例2中，粘着抑制试验的评价为×(不合格)。
而且，在使用了端基为-OH的化合物的比较例3中，结合率及粘着抑制试验的评价为×(不合格)。
另外，在使用了在分子的中央配置有全氟聚醚链的化合物的比较例4中，结合率和粘着抑制试验的评价为×(不合格)。
比较例1～4与实施例1～17相比，接合率、粘着抑制试验、耐磨损性试验均为差的结果。
由以上结果可知，通过在磁记录介质的保护层上形成包含实施例1～17的化合物的润滑层，即使厚度薄至
也可得到与保护层的密合性优异、不易发生粘着、耐磨损性优异的润滑层。
产业上可利用性
本发明提供一种含氟醚化合物，可以形成即使减薄厚度，也具有优异的耐磨损性，粘着得到抑制的润滑层，适合用作磁记录介质用润滑剂的材料。通过使用包含本发明的含氟醚化合物的磁记录介质用润滑剂，可以形成即使厚度薄也具有优异的耐磨损性、粘着得到抑制的润滑层。
符号说明
10···磁记录介质
11···基板
12···附着层
13···软磁性层
14···第1基底层
15···第2基底层
16···磁性层
17···保护层
18···润滑层。
Claims (7)
1.一种含氟醚化合物，其特征在于由下述式(1)表示；
C6H6-n-[O-R1-O-CH2-R2-CH2-R3]n (1)
式(1)中，n为2或3的整数，R1为-CH2CH2-、-CH2CH2CH2-、-CH2CH(OH)CH2-中的任意之一，R2为全氟聚醚链，R3为-OCH2CH(OH)CH2O(CH2)mOH且式中的m为2～4的整数。
2.根据权利要求1所述的含氟醚化合物，其特征在于，所述式(1)中的R2由下述式(2)～(4)中的任一个表示；
式(2)中，p表示1～30，q表示0～30；
式(3)中，r表示1～30；
式(4)中，s表示1～20。
3.根据权利要求2所述的含氟醚化合物，其特征在于是由下述式(A)～(N)表示的任一种化合物：
式(A)中，R2由上述式(2)表示；
式(B)中，R2由上述式(3)表示；
式(C)中，R2由上述式(4)表示；
式(D)中，R2由上述式(2)表示；
式(E)中，R2由上述式(2)表示；
式(F)中，R2由上述式(2)表示；
式(G)中，R2由上述式(3)表示；式(H)中，R2由上述式(4)表示；
式(I)中，R2由上述式(2)表示；
式(J)中，R2由上述式(2)表示；
式(K)中，R2由上述式(3)表示；
式(L)中，R2由上述式(4)表示；
式(M)中，R2由上述式(2)表示；
式(N)中，R2由上述式(2)表示。
4.根据权利要求1～3中任一项所述的含氟醚化合物，数均分子量在500～10000的范围内。
5.一种磁记录介质用润滑剂，其特征在于，包含权利要求1～4中任一项所述的含氟醚化合物。
6.一种磁记录介质，其为在基板上至少依次设置有磁性层、保护层和润滑层的磁记录介质，其特征在于，所述润滑层包含权利要求1～4中任一项所述的含氟醚化合物。
7.根据权利要求6所述的磁记录介质，所述润滑层的平均膜厚为0.5nm～3nm。
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