CN114437642A - 电子设备的复合膜片及加工方法、玻璃盖板和电子设备 - Google Patents
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Abstract
本申请公开了一种电子设备的复合膜片及加工方法、玻璃盖板和电子设备，复合膜片包括第一膜片和第二膜片，第一膜片包括第一基体和增亮膜层，增亮膜层设置在第一基体一侧表面；第二膜片包括第二基体和颜色膜层，第二基体与第一基体的远离增亮膜层的一侧表面相连，颜色膜层设置在第二基体的远离第一基体的一侧表面。根据本申请实施例的复合膜片，通过设置第一膜片和第二膜片，并在第一膜片上设置增亮膜层，在第二膜片上设置颜色膜层，可以避免增亮膜层对后续形成颜色膜层的工艺造成影响，既提高了玻璃盖板的亮度和通透性，又保证了颜色膜层的显示效果。同时，极大地降低了生产成本，保证了玻璃盖板的抗冲击能力。
Description
技术领域
本申请涉及电子设备技术领域，尤其是涉及一种电子设备的复合膜片及加工方法、玻璃盖板和电子设备。
背景技术
相关技术中，电子设备的玻璃盖板(例如后盖)的CMF(色彩、材料、工艺)主要路线都是纯色或渐变色，其中实现纯色或者渐变色的主要工艺路线为在膜片上形成纯色或渐变镀膜，或者通过胶印在膜片上形成纯色或渐变膜。然而，上述工艺路线加工形成的玻璃盖板的亮度和通透性较差。
发明内容
本申请旨在至少解决现有技术中存在的技术问题之一。为此，本申请的一个目的在于提出一种电子设备的复合膜片，所述复合膜片可以提高电子设备的玻璃盖板的亮度和通透性，且相对于相关技术中，为提高玻璃盖板的亮度，在玻璃盖板的内表面镀膜的工艺，极大地降低了生产成本且有效地避免了因在玻璃盖板的内表面镀膜引起的玻璃盖板的抗冲击能力严重下降的问题。
本申请还提出一种具有上述电子设备的复合膜片的玻璃盖板。
本申请还提出一种具有上述玻璃盖板的电子设备。
根据本申请第一方面实施例的电子设备的复合膜片，包括：第一膜片，所述第一膜片包括第一基体和增亮膜层，所述增亮膜层设置在所述第一基体一侧表面；和第二膜片，所述第二膜片包括第二基体和颜色膜层，所述第二基体与所述第一基体的远离所述增亮膜层的一侧表面相连，所述颜色膜层设置在所述第二基体的远离所述第一基体的一侧表面。
根据本申请实施例的电子设备的复合膜片，通过设置第一膜片和第二膜片，并在第一膜片上设置增亮膜层，在第二膜片上设置颜色膜层，可以避免增亮膜层对后续形成颜色膜层的工艺造成影响，既提高了玻璃盖板的亮度和通透性，又保证了颜色膜层的显示效果。同时，相对于相关技术中，为提高玻璃盖板的亮度，在玻璃盖板的内表面镀膜的工艺，极大地降低了生产成本且有效地避免了因在玻璃盖板的内表面镀膜引起的玻璃盖板的抗冲击能力严重下降的问题，保证了玻璃盖板的抗冲击能力。
根据本申请的一些实施例，所述增亮膜层的反射率大于40％。
根据本申请的一些实施例，所述第一膜片还包括第一光学胶层，所述第一光学胶层设置在所述增亮膜层的远离所述第一基体的一侧表面。
根据本申请的一些实施例，所述第一膜片还包括离型膜，所述离型膜覆盖在所述第一光学胶层上。
根据本申请的一些实施例，所述第一基体的远离所述增亮膜层的一侧表面设有光油层。
根据本申请的一些实施例，所述第二膜片还包括第二光学胶层，所述第二光学胶层设置在所述第二基体的远离所述颜色膜层的一侧表面，所述第一膜片和所述第二膜片通过所述第二光学胶层粘接。
根据本申请的一些实施例，所述颜色膜层包括：UV转印层，所述UV转印层设置在所述第二基体的远离所述第一基体的一侧表面；镀膜层，所述镀膜层设置在所述UV转印层远离所述第二基体的一侧表面；和遮光层，所述遮光层设置在所述色彩层的远离所述镀膜层的一侧表面。
根据本申请的一些实施例，所述第一基体和所述第二基体中的至少一个为PET件。
根据本申请的一些实施例，所述第一膜片的厚度为50μm～400μm。
根据本申请第二方面实施例的电子设备的复合膜片的加工方法，包括：提供第一基体，所述第一基体包括相对设置的第一表面和第二表面，在所述第一表面上形成增亮膜层；提供第二基体，所述第二基体包括相对设置的第三表面和第四表面，在所述第三表面上形成颜色膜层；将所述第四表面贴附在所述第二表面上。
根据本申请第二方面实施例的电子设备的复合膜片的加工方法，通过在第一基体上形成增亮膜层、在第二基体上形成颜色膜层，即将增亮膜层和颜色膜层分别设置在第一基体和第二基体上，可以避免增亮膜层对后续形成颜色膜层的工艺造成影响，既提高了玻璃盖板的亮度和通透性，又保证了颜色膜层的显示效果。同时，极大地降低了生产成本，保证了玻璃盖板的抗冲击能力。
根据本申请的一些实施例，还包括：在所述增亮膜层的表面形成第一光学胶层。
根据本申请的一些实施例，所述颜色膜层的形成方法为：在所述第三表面上依次形成UV转印层、镀膜层和遮光层。
根据本申请第三方面实施例的电子设备的玻璃盖板，包括：玻璃基板；复合膜片，所述复合膜片为根据本申请上述实施例的复合膜片，所述复合膜片粘接在所述玻璃基板的内侧表面。
根据本申请第三方面实施例的玻璃盖板，通过设置根据本申请上述第一方面实施例的电子设备的复合膜片，提高了玻璃盖板的亮度和通透性，且降低了玻璃盖板的整体成本。
根据本申请第四方面实施例的电子设备，包括根据本申请上述第三方面实施例所述的玻璃盖板。
根据本申请第四方面实施例的电子设备，通过设置根据本申请上述第三方面实施例的玻璃盖板，有效地提升了电子设备的外观美观性，且降低了电子设备的整体成本。
本申请的附加方面和优点将在下面的描述中部分给出，部分将从下面的描述中变得明显，或通过本申请的实践了解到。
附图说明
本申请的上述和/或附加的方面和优点从结合下面附图对实施例的描述中将变得明显和容易理解，其中：
图1是根据本申请实施例的电子设备的复合膜片的示意图；
图2是根据本申请实施例的电子设备的复合膜片的第一膜片的示意图；
图3是根据本申请实施例的电子设备的复合膜片的第二膜片的示意图；
图4是根据本申请实施例的电子设备的复合膜片的加工方法的流程图；
图5是根据本申请另一个实施例的电子设备的复合膜片的加工方法的流程图
图6是根据本申请实施例的电子设备的玻璃盖板的示意图；
图7是根据本申请实施例的电子设备的示意图。
附图标记：
复合膜片100，
第一膜片1，第一基体11，增亮膜层12，第一光学胶层13，离型膜14，光油层15，
第二膜片2，第二基体21，颜色膜层22，UV转印层221，镀膜层222，遮光层223，第二光学胶层23，
玻璃盖板200，玻璃基板201，
电子设备1000。
具体实施方式
下面详细描述本申请的实施例，所述实施例的示例在附图中示出，其中自始至终相同或类似的标号表示相同或类似的组件或具有相同或类似功能的组件。下面通过参考附图描述的实施例是示例性的，仅用于解释本申请，而不能理解为对本申请的限制。
下面参考附图描述根据本申请实施例的电子设备1000的复合膜片100。复合膜片100可以用于电子设备1000的玻璃盖板200，具体地，复合膜片100可以贴附在玻璃盖板200的内侧表面。可以理解的是，本申请中的复合膜片100可以由下述的复合膜片100的加工方法加工而成，也可以通过其他加工方法加工而成，本申请对此不作限定。
如图1所示，根据本申请实施例的电子设备1000的复合膜片100，包括第一膜片1和第二膜片2。
具体地，第一膜片1包括第一基体11和增亮膜层12，增亮膜层12设置在第一基体11一侧表面(例如，图2中第一基体11的上表面)。第一膜片1可以为顶镀膜片。当复合膜片100贴附在电子设备1000的玻璃盖板200上时，第一膜片1的增亮膜层12所在一侧表面可以与玻璃盖板200相连。由此，可以增亮玻璃盖板200的亮度，提高玻璃盖板200的通透性。
在本申请的一些实施例中，增亮膜层12可以通过溅射镀或者蒸发镀形成在第一基体11的上述一侧表面。工艺简单，加工方便。
第二膜片2包括第二基体21和颜色膜层22，第二基体21与第一基体11的远离增亮膜层12的一侧表面(例如，图2中第一基体11的下表面)相连，颜色膜层22设置在第二基体21的远离第一基体11的一侧表面(例如，图2中第二基体21的下表面)。
其中，本申请中的“颜色膜层22”指的是可以显示颜色的膜层，可以理解的是，颜色膜层22可以为单层膜，可以为多层膜。颜色膜层22可以显示为纯色，也可以显示为渐变色。颜色膜层22可以采用蒸发镀或溅射镀形成在第二基体21上。颜色膜层22的厚度可以在500nm以内。
由于增亮膜层12和颜色膜层22分别形成在第一膜片1和第二膜片2上，可以避免增亮膜层12对后续形成颜色膜层22的工艺造成影响，既提高了玻璃盖板200的亮度和通透性，又保证了颜色膜层22的显示效果。另外，由于增亮膜层12形成在第一膜片1上，相对于相关技术中，为提高玻璃盖板200的亮度，在玻璃盖板200的内表面镀膜的工艺，极大地降低了生产成本且有效地避免了因在玻璃盖板200的内表面镀膜引起的玻璃盖板200的抗冲击能力严重下降的问题。研究表明，在玻璃盖板200的内表面镀膜会显着降低玻璃的抗冲击强度，其中，当镀膜的膜厚大于300nm时，抗冲击强度下降幅度超过50％。
根据本申请实施例的电子设备1000的复合膜片100，通过设置第一膜片1和第二膜片2，并在第一膜片1上设置增亮膜层12，在第二膜片2上设置颜色膜层22，可以避免增亮膜层12对后续形成颜色膜层22的工艺造成影响，既提高了玻璃盖板200的亮度和通透性，又保证了颜色膜层22的显示效果。同时，相对于相关技术中，为提高玻璃盖板200的亮度，在玻璃盖板200的内表面镀膜的工艺，极大地降低了生产成本且有效地避免了因直接在玻璃盖板200的内表面镀膜引起的玻璃盖板200的抗冲击能力严重下降的问题，保证了玻璃盖板200的抗冲击能力。
根据本申请的一些实施例，增亮膜层12的反射率不低于40％。也就是说，增亮膜层12的厚度可以，可以保证增亮膜层12的增亮效果，有利于提高设置该复合膜片100的玻璃盖板200的亮度和通透性。
可以理解的是，可以通过调整增亮膜层12的材质和厚度来调整增亮膜层12的反射率。
例如，在本申请的一些实施例中，增亮膜层12由Nb2O5(五氧化二铌)和SiO2(二氧化硅)组合而成。具体地，增亮膜层12包括第一二氧化硅层、第一五氧化二铌层、第二二氧化硅层、第二五氧化二铌层、第三二氧化硅层、第三五氧化二铌层。第一二氧化硅层、第一五氧化二铌层、第二二氧化硅层、第二五氧化二铌层、第三二氧化硅层、第三五氧化二铌层自上之下依次层叠设置。其中，第一二氧化硅层的厚度为10±1nm、第一五氧化二铌的厚度为13.4±2nm、第二二氧化硅层的厚度为22.08±2nm、第二五氧化二铌的厚度为112±3nm、第三二氧化硅层的厚度为128.8±3nm、第三五氧化二铌层的厚度为32.2±2nm。由此可将增亮膜层12的反射率控制为40％。
又如，在本申请的另一些实施例中，增亮膜层12由Ti3O5(五氧化三钛)和SiO2(二氧化硅)组合而成。具体地，增亮膜层12包括第一二氧化硅层、第一五氧化三钛层、第二二氧化硅层、第二五氧化三钛层、第三二氧化硅层、第三五氧化三钛层。第一二氧化硅层、第一五氧化三钛层、第二二氧化硅层、第二五氧化三钛层、第三二氧化硅层、第三五氧化三钛层自上之下依次层叠设置。其中，第一二氧化硅层的厚度为10±1nm、第一五氧化三钛的厚度为13.3±2nm、第二二氧化硅层的厚度为22±2nm、第二五氧化三钛的厚度为111±3nm、第三二氧化硅层的厚度为128.8±3nm、第三五氧化三钛层的厚度为31.9±2nm。由此同样可将增亮膜层12的反射率控制为40％。根据本申请的一些实施例，如图2所示，第一膜片1还包括第一光学胶层13，第一光学胶层13设置在增亮膜层12的远离第一基体11的一侧表面(例如，图2中增亮膜层12的上表面)。参照图2，在自上之下的方向上，第一光学胶层13、增亮膜层12和第一基体11层叠设置。第一光学胶层13具有无色透明、光透过率在90％以上、胶结强度良好，可在室温或中温下固化，且有固化收缩小等特点。由此，通过在第一膜片1上设置第一光学胶层13，可以方便地将第一膜片1粘接在玻璃盖板200上，连接可靠性高。
可选地，第一光学胶层13为OCA(Optically Clear Adhesive)。OCA是具有光学透明的一层特种无基材的双面胶，胶结强度高且透光率好，可以提高第一膜片1与玻璃基板201之间的粘接强度，且可以保证玻璃盖板200的透光性。
根据本申请的一些实施例，第一膜片1还包括离型膜14，离型膜14覆盖在第一光学胶层13上。在将第一膜片1贴附在玻璃盖板200上时，只需将离型膜14揭开即可。由此，在未将第一膜片1贴附在玻璃盖板200上时，可以通过离型膜14对第一光学胶层13进行保护，保证了第一光学胶层13的胶结强度。
根据本申请的一些实施例，第一基体11的远离增亮膜层12的一侧表面设有光油层15。可选地，光油层15为植物光油。由此，可以增加第一膜片1与第二膜片2之间的附着力，有利于提高第一膜片1和第二膜片2之间的连接强度。
根据本申请的一些实施例，第二膜片2还包括第二光学胶层23，第二光学胶层23设置在第二基体21的远离颜色膜层22的一侧表面(例如，图3中第二基体21的上表面)，第一膜片1和第二膜片2通过第二光学胶层23粘接。可选地，第二光学胶层23为OCA。由此，可以方便地将第二膜片2连接在第一膜片1上。
根据本申请的一些实施例，颜色膜层22包括UV转印层221、镀膜层222和遮光层223。UV转印层221设置在第二基体21的远离第一基体11的一侧表面；镀膜层222设置在UV转印层221远离第二基体21的一侧表面；遮光层223设置在色彩层的远离镀膜层222的一侧表面。
UV转印层221可以为转印在第二基体21上的色彩层。UV转印层221的厚度宜5-8um，转印时LED固化能量400-600mj/cm2。
镀膜层222可以通过真空电镀的方法，在UV转印层221上电镀一层NCVM(不导电真空金属镀膜)，电镀的材料可为In/Sn、TiO2、NbO2、Nb2O3、Nb2O2、Nb2O5、SiO2、ZrO2、Ti3O5或者其他不导电氧化物。镀膜层222可以为单层，也可以为这些氧化物的组合多层。镀膜层222的反射率可以为10％-40％。镀膜层222可以使得复合膜片100的颜色更加多样、丰富，使得复合膜片100绚丽多彩，有利于提高复合膜片100的外观表现力。
例如，在本申请的一些具体实施例中，镀膜层222包括第一二氧化硅层、第一五氧化三钛层、第二二氧化硅层、第二五氧化三钛层、第三二氧化硅层、第三五氧化三钛层、第四二氧化硅层、第四五氧化三钛层。第一二氧化硅层、第一五氧化三钛层、第二二氧化硅层、第二五氧化三钛层、第三二氧化硅层、第三五氧化三钛层、第四二氧化硅层、第四五氧化三钛层自上之下依次层叠设置。其中，第一二氧化硅层的厚度为10±1μm、第一五氧化三钛的厚度为40±2μm、第二二氧化硅层的厚度为21±2μm、第二五氧化三钛的厚度为118±3μm、第三二氧化硅层的厚度为78±3μm、第三五氧化三钛层的厚度为42±2μm、第四二氧化硅层的厚度为87±3μm、第四五氧化三钛层的厚度为39±2μm。
遮光层223可以为在镀膜层222表面印刷的盖底油墨，保证复合膜片100不会透光。盖底油墨为黑色或者白色。可以通过往复涂多层干燥的方法防止漏光。例如，在本申请的一些实施例中，遮光层223包括第一油墨层、第二油墨层和第三油墨层。其中，第一油墨层的厚度可以为10±2um，第二油墨层的厚度可以为9±2μm，第三油墨层的厚度可以为9±2μm。第一油墨层、第二油墨层和第三油墨层的材质的成分可以包括碳粉和树脂。
可选地，第一油墨层和第二油墨层之间设有光油。由此，可以提高复合膜片100的防水性能，避免水汽渗透导致复合膜片100失效。
根据本申请的一些实施例，第一基体11和第二基体21中的至少一个为PET(聚对苯二甲酸乙二醇酯)件。具体而言，第一基体11和第二基体21中的其中一个为PET件，或者第一基体11和第二基体21均为PET件。PET的透明度高，可以保证复合膜片100的透光性。
根据本申请的一些实施例，第一膜片1的厚度为50μm～400μm。例如，在本申请的一些具体实施例中，第一基体11的厚度为23μm，增亮膜层12的厚度为1μm，第一光学胶层13的厚度为25μm，离型膜14的厚度为125μm。由此，可以合理控制复合膜片100的整体厚度，提高玻璃盖板200的外观美观性。
本方案巧妙的利用了双层顶镀膜片的结构，替代了在玻璃盖板200内表面镀膜的工艺，降低了工艺成本，保证了玻璃盖板200的强度。
如图5所示，根据本申请第二方面实施例的电子设备1000的复合膜片100的加工方法，包括：
S10：提供第一基体11，第一基体11包括相对设置的第一表面和第二表面，在第一表面上形成增亮膜层12；在本申请的一些实施中，增亮膜层12可以通过溅射镀或者蒸发镀形成在第一基体11的第一表面上。增亮膜层12可以贴附在玻璃盖板200的内侧表面。可选地，增亮膜层12的反射率不低于40％。由此，可以显著地提高玻璃盖板200的亮度和通透性。另外，由于增亮膜层12形成在第一基体11上，再贴附在玻璃盖板200上，相对于相关技术中，为提高玻璃盖板200的亮度，在玻璃盖板200的内表面镀膜的工艺，极大地降低了生产成本且有效地避免了因在玻璃盖板200的内表面镀膜引起的玻璃盖板200的抗冲击能力严重下降的问题。
S20：提供第二基体21，第二基体21包括相对设置的第三表面和第四表面，在第三表面上形成颜色膜层22；
S30：将第四表面贴附在第二表面上。在本申请的一些实施例中，可以在第四表面上形成第二光学胶层23，通过第二光学胶层23将第二基体12粘接在第一基体11上。
“颜色膜层22”指的是可以显示颜色的膜层，可以理解的是，颜色膜层22可以为单层膜，可以为多层膜。颜色膜层22可以显示为纯色，也可以显示为渐变色。颜色膜层22可以采用蒸发镀或溅射镀形成在第二基体21上。颜色膜层22的厚度可以在500nm以内。
由于增亮膜层12和颜色膜层22分别形成在第一基体11和第二基体21上，可以避免增亮膜层12对后续形成颜色膜层22的工艺造成影响，既提高了玻璃盖板200的亮度和通透性，又保证了颜色膜层22的显示效果。
根据本申请第二方面实施例的电子设备1000的复合膜片100的加工方法，通过在第一基体11上形成增亮膜层12、在第二基体21上形成颜色膜层22，即将增亮膜层12和颜色膜层22分别设置在第一基体11和第二基体21上，可以避免增亮膜层12对后续形成颜色膜层22的工艺造成影响，既提高了玻璃盖板200的亮度和通透性，又保证了颜色膜层22的显示效果。同时，极大地降低了生产成本，保证了玻璃盖板200的抗冲击能力。
如图6所示，根据本申请的一些实施例，复合膜片100的加工方法还包括：S40：在增亮膜层12的表面形成第一光学胶层13。第一光学胶层13具有无色透明、光透过率在90％以上、胶结强度良好，可在室温或中温下固化，且有固化收缩小等特点。由此，通过在增亮膜层12上设置第一光学胶层13，可以方便地将复合膜片100粘接在玻璃盖板200上，且连接可靠性高。
可以理解的是，可以在将第二基体12贴附在第一基体11之前在增亮膜层12的表面形成第一光学胶层13，也可以在将第二基体12贴附在第一基体11之后在增亮膜层12的表面形成第一光学胶层13，本申请对此不作限定。
根据本申请的一些实施例，颜色膜层22的形成方法为：在第三表面上依次形成UV转印层221、镀膜层222和遮光层223。
UV转印层221可以为转印在第二基体21上的色彩层。UV转印层221的厚度宜5-8um，转印时LED固化能量400-600mj/cm2。
镀膜层222可以通过真空电镀的方法，在UV转印层221上电镀一层NCVM(不导电真空金属镀膜)，电镀的材料可为In/Sn、TiO2、NbO2、Nb2O3、Nb2O2、Nb2O5、SiO2、ZrO2、Ti3O5或者其他不导电氧化物。镀膜层222可以为单层，也可以为这些氧化物的组合多层。镀膜层222的反射率可以为10％-40％。镀膜层222可以使得复合膜片100的颜色更加多样、丰富，使得复合膜片100绚丽多彩，有利于提高复合膜片100的外观表现力。
遮光层223可以为在镀膜层222表面印刷的盖底油墨，保证复合膜片100不会透光。盖底油墨为黑色或者白色。可以通过往复涂多层干燥的方法防止漏光。例如，在本申请的一些实施例中，遮光层223包括第一油墨层、第二油墨层和第三油墨层。其中，第一油墨层的厚度可以为10±2um，第二油墨层的厚度可以为9±2μm，第三油墨层的厚度可以为9±2μm。第一油墨层、第二油墨层和第三油墨层的材质的成分可以包括碳粉和树脂。
根据本申请的一些实施例，增亮膜层12的反射率不低于40％。也就是说，增亮膜层12的厚度可以，可以保证增亮膜层12的增亮效果，有利于提高设置该复合膜片100的玻璃盖板200的亮度和通透性。可以理解的是，可以通过调整增亮膜层12的材质和厚度来调整增亮膜层12的反射率。
如图4所示，根据本申请第三方面实施例的电子设备1000的玻璃盖板200，包括：玻璃基板201和复合膜片100，复合膜片100粘接在玻璃基板201的内侧表面。复合膜片100为根据本申请上述实施例所述的复合膜片100。其中，“玻璃基板201的内侧表面”指的是玻璃基板201邻近电子设备1000中心的一侧表面。
根据本申请第三方面实施例的电子设备1000的玻璃盖板200，通过设置根据本申请上述第一方面实施例的复合膜片100，提高了玻璃盖板200的亮度和通透性，且降低了玻璃盖板200的整体成本。
根据本申请第四方面实施例的电子设备1000，包括根据本申请上述第三方面实施例的玻璃盖板200。
根据本申请第四方面实施例的电子设备1000，通过设置根据本申请上述第三方面实施例的玻璃盖板200，有效地提升了电子设备1000的外观美观性，且降低了电子设备1000的整体成本。
示例性的，电子设备1000可以为移动或便携式并执行无线通信的各种类型的计算机系统设备中的任何一种(图7中只示例性的示出了一种形态)。具体的，电子设备1000可以为移动电话或智能电话(例如，基于iPhone TM，基于Android TM的电话)，便携式游戏设备(例如Nintendo DS TM，PlayStation Portable TM，Gameboy Advance TM，iPhone TM)、膝上型电脑、PDA、便携式互联网设备、音乐播放器以及数据存储设备，其他手持设备以及诸如手表、入耳式耳机、吊坠、头戴式耳机等，电子设备1000还可以为其他的可穿戴设备(例如，诸如电子眼镜、电子衣服、电子手镯、电子项链、电子纹身、电子设备1000或智能手表的头戴式设备(HMD))。
电子设备1000还可以是多个电子设备1000中的任何一个，多个电子设备1000包括但不限于蜂窝电话、智能电话、其他无线通信设备、个人数字助理、音频播放器、其他媒体播放器、音乐记录器、录像机、照相机、其他媒体记录器、收音机、医疗设备、车辆运输仪器、计算器、可编程遥控器、寻呼机、膝上型计算机、台式计算机、打印机、上网本电脑、个人数字助理(PDA)、便携式多媒体播放器(PMP)、运动图像专家组(MPEG-1或MPEG-2)音频层3(MP3)播放器，便携式医疗设备以及数码相机及其组合。
在一些情况下，电子设备1000可以执行多种功能(例如，播放音乐，显示视频，存储图片以及接收和发送电话呼叫)。如果需要，电子设备1000可以是诸如蜂窝电话、媒体播放器、其他手持设备、腕表设备、吊坠设备、听筒设备或其他紧凑型便携式设备的便携式设备。
在本申请的描述中，需要理解的是，术语“中心”、“上”、“下”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本申请和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或组件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本申请的限制。
在本说明书的描述中，参考术语“一个实施例”、“一些实施例”、“示意性实施例”、“示例”、“具体示例”、或“一些示例”等的描述意指结合该实施例或示例描述的具体特征、结构、材料或者特点包含于本申请的至少一个实施例或示例中。在本说明书中，对上述术语的示意性表述不一定指的是相同的实施例或示例。而且，描述的具体特征、结构、材料或者特点可以在任何的一个或多个实施例或示例中以合适的方式结合。
尽管已经示出和描述了本申请的实施例，本领域的普通技术人员可以理解：在不脱离本申请的原理和宗旨的情况下可以对这些实施例进行多种变化、修改、替换和变型，本申请的范围由权利要求及其等同物限定。
Claims (14)
1.一种电子设备的复合膜片，其特征在于，包括：
第一膜片，所述第一膜片包括第一基体和增亮膜层，所述增亮膜层设置在所述第一基体一侧表面；和
第二膜片，所述第二膜片包括第二基体和颜色膜层，所述第二基体与所述第一基体的远离所述增亮膜层的一侧表面相连，所述颜色膜层设置在所述第二基体的远离所述第一基体的一侧表面。
2.根据权利要求1所述的电子设备的复合膜片，其特征在于，所述增亮膜层的反射率不低于40％。
3.根据权利要求1所述的电子设备的复合膜片，其特征在于，所述第一膜片还包括第一光学胶层，所述第一光学胶层设置在所述增亮膜层的远离所述第一基体的一侧表面。
4.根据权利要求3所述的电子设备的复合膜片，其特征在于，所述第一膜片还包括离型膜，所述离型膜覆盖在所述第一光学胶层上。
5.根据权利要求1所述的电子设备的复合膜片，其特征在于，所述第一基体的远离所述增亮膜层的一侧表面设有光油层。
6.根据权利要求1所述的电子设备的复合膜片，其特征在于，所述第二膜片还包括第二光学胶层，所述第二光学胶层设置在所述第二基体的远离所述颜色膜层的一侧表面，所述第一膜片和所述第二膜片通过所述第二光学胶层粘接。
7.根据权利要求1所述的电子设备的复合膜片，其特征在于，所述颜色膜层包括：
UV转印层，所述UV转印层设置在所述第二基体的远离所述第一基体的一侧表面；
镀膜层，所述镀膜层设置在所述UV转印层远离所述第二基体的一侧表面；和
遮光层，所述遮光层设置在所述色彩层的远离所述镀膜层的一侧表面。
8.根据权利要求1所述的电子设备的复合膜片，其特征在于，所述第一基体和所述第二基体中的至少一个为PET件。
9.根据权利要求1所述的电子设备的复合膜片，其特征在于，所述第一膜片的厚度为50μm～400μm。
10.一种电子设备的复合膜片的加工方法，其特征在于，包括：
提供第一基体，所述第一基体包括相对设置的第一表面和第二表面，在所述第一表面上形成增亮膜层；
提供第二基体，所述第二基体包括相对设置的第三表面和第四表面，在所述第三表面上形成颜色膜层；
将所述第四表面贴附在所述第二表面上。
11.根据权利要求10中所述的电子设备的复合膜片的加工方法，其特征在于，还包括：
在所述增亮膜层的表面形成第一光学胶层。
12.根据权利要求10中所述的电子设备的复合膜片的加工方法，其特征在于，所述颜色膜层的形成方法为：在所述第三表面上依次形成UV转印层、镀膜层和遮光层。
13.一种电子设备的玻璃盖板，其特征在于，包括：
玻璃基板；
复合膜片，所述复合膜片为根据权利要求1-9中任一项所述的电子设备的复合膜片，所述复合膜片粘接在所述玻璃基板的内侧表面。
14.一种电子设备，其特征在于，包括根据权利要求14中所述的电子设备的玻璃盖板。
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