CN114427082A - 一种连续式镀膜设备基片架 - Google Patents

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Abstract

本发明公开了一种连续式镀膜设备基片架，包括循环导轨，其与支架固定连接，所述循环导轨内侧设置有齿条；滑块机构，其可移动的设置在循环导轨上，所述滑块机构包括对称设置在循环导轨两侧的侧板，所述侧板之间通过下部的底板连接，所述底板上设置有用于驱动滑块机构沿循环导轨往复运动的第一电机。本发明通过设置能够沿循环导轨往复运动的滑块机构，并且每个滑块机构上均设置有独立的驱动电机，在相应位移传感器和位移的导轨的作用下，驱动电机驱动相应的滑块机构紧密跟随且贴合到前方的滑块机构上，使得在镀膜过程中，相邻的滑块机构之间没有间隙，从阴极溅射的膜层仅仅落在玻璃上，而不会在其他部件上累积，从根本上解决了膜层堆积的缺陷。

Description

一种连续式镀膜设备基片架
技术领域
本发明涉及玻璃镀膜设备技术领域，具体为一种连续式镀膜设备基片架。
背景技术
在现有玻璃镀膜过程中，由于待镀膜玻璃的规格尺寸大小不一，每片玻璃之间都有距离，从阴极溅射出的膜，也会在底板上沉积。当底板上的膜层堆积得很厚时，就会划伤玻璃底面，从而造成缺陷，或者堆积的膜层在某些位置挡住待镀膜玻璃，使待镀膜玻璃走斜，又或者堆积的膜层很厚，挡住待镀膜玻璃，使待镀膜玻璃根本无法通过。
中国专利公开号：CN103663997B，公开了一种玻璃镀膜装置，该玻璃镀膜装置包括镀膜舱、传送单元及底板模组，该传送单元位于该镀膜舱下端，该传送单元包括多个辊道，该底板模组设于该辊道之间，该待镀膜玻璃通过该辊道传送至该镀膜舱内，该底板模组包括底板及升降元件，该升降元件与该底板相连，从而通过该升降元件调节该底板与该待镀膜玻璃之间的相对距离。通过设置升降元件，使得正对阴极的底板具有可升降的特点，使得当底板上堆积膜层时，能够通过降低底板，降低堆积的膜层对玻璃的影响，但是，上述装置仅仅是通过下降底板来降低膜层对玻璃的影响，并没有从根本上解决膜层堆积缺陷，使得在长期使用之后，膜层依然会堆积过厚，依然需要进行清洁和更换相关部件，严重影响生产效率。
发明内容
本发明的目的在于提供一种连续式镀膜设备基片架，以解决上述背景技术中提出的问题。
为实现上述目的，本发明提供如下技术方案：
一种连续式镀膜设备基片架，包括
循环导轨，其与支架固定连接，所述循环导轨内侧设置有齿条；
滑块机构，其可移动的设置在循环导轨上，用于循环往复的输送需要进行镀膜的玻璃，所述滑块机构包括对称设置在循环导轨两侧的侧板，所述侧板之间通过下部的底板连接，所述底板上设置有用于驱动滑块机构沿循环导轨往复运动的第一电机，所述第一电机主轴上设置有与齿条相啮合的驱动轮，所述侧板之间通过转轴设置有下滚轮和上滚轮，所述下滚轮和上滚轮分别与循环导轨外壁和内壁紧密贴合；
横向导轨，其两端分别与两侧的侧板连接，且位于侧板上部，所述横向导轨上活动套接有滑套，所述滑套下端固定设置有连接块，所述连接块通过螺纹与两端设置在两侧侧板上的第一丝杆连接，所述第一丝杆延伸至一侧侧板之外的一端上连接有用于驱动其转动的第二电机；
纵向导轨，其与滑套固定连接，所述纵向导轨内部沿纵向方向上设置有第二丝杆，所述第二丝杆一端连接用于驱动其转动的第三电机，所述纵向导轨上活动设置有滑台，且滑台与下端的第二丝杆传动连接，所述滑台上连接连接架一端，所述连接架另一端设置有支撑台；
电动推杆，其固定端设置在滑台上，其伸缩端穿过支撑台之后连接吸盘，所述吸盘上阵列有多组用于吸附固定玻璃的吸嘴；
第二位移导轨，其通过支架设置在循环导轨的一侧，所述侧板上设置有与第二位移导轨相配合的第二位移传感器，所述第二位移传感器与第一电机和第三电机电性连接；以及
镀膜装置，其通过固定支架设置在循环导轨上部，用于对循环输送的玻璃进行镀膜作业。
优选的，所述循环导轨内壁和外壁上分别开设有内滑槽和外滑槽，所述内滑槽和外滑槽分别与下滚轮和上滚轮相配合。
优选的，所述下滚轮和上滚轮上均设置有橡胶套。
优选的，所述侧板之间设置有第一位移导轨，所述滑套上设置有与第一位移导轨相配合的第一位移传感器，所述第一位移传感器与第二电机电性连接。
优选的，所述支撑台支撑面上设置与玻璃外形相配合的容置槽。
与现有技术相比，本发明的有益效果是：
本发明通过设置能够沿循环导轨往复运动的滑块机构，并且每个滑块机构上均设置有独立的驱动电机，在相应位移传感器和位移的导轨的作用下，在镀膜过程中，驱动电机驱动相应的滑块机构紧密跟随且贴合到前方的滑块机构上，使得在镀膜过程中，相邻的滑块机构之间没有间隙，从阴极溅射的膜层仅仅落在玻璃上，而不会在其他部件上累积，从根本上解决了膜层堆积的缺陷，更为重要的是，通过设置不同方向的丝杆，使得吸盘能够沿横向和纵向移动，将不同尺寸的玻璃中轴线与镀膜装置中心相对应，极大的提高了整个装置的适应性。
附图说明
图1为本发明的结构示意图；
图2为本发明的正视图；
图3为本发明的滑块机构结构示意图；
图4为本发明的滑块机构侧视图；
图5为本发明的滑块机构剖视图；
图6为本发明的纵向导轨结构示意图。
图中：1循环导轨、2内滑槽、3外滑槽、4齿条、5滑块机构、6侧板、7底板、8第一电机、9驱动轮、10下滚轮、11上滚轮、12横向导轨、13滑套、14连接块、15第一丝杆、16第二电机、17第一位移传感器、18第一位移导轨、19纵向导轨、20第三电机、21第二丝杆、22滑台、23连接架、24支撑台、25容置槽、26电动推杆、27吸盘、28吸嘴、29第二位移传感器、30第二位移导轨、31镀膜装置。
具体实施方式
下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。
请参阅图1-6，本发明提供一种技术方案：
一种连续式镀膜设备基片架，包括
循环导轨1，其与支架固定连接，循环导轨1内侧固定设置有齿条4，在本实施例的技术方案中，循环导轨1为环形结构，其被分为上部水平段、下部水平段和两端的半圆端，滑块机构5从上部的水平段的左端吸附固定玻璃，驱动玻璃经过镀膜机构实现镀膜作业，并在上部的水平段右端卸载玻璃，依次经过半圆端和下部的水平段再次回到上部水平段的左端，形成一个往复；
滑块机构5，其可移动的设置在循环导轨1上，用于循环往复的输送玻璃经过镀膜装置31实现镀膜作业，滑块机构5包括对称设置在循环导轨1两侧的侧板6，一侧的侧板6上开设有避让槽，使得滑块机构5在往复运动过程中不会与循环导轨1的支架之间产生运动干涉；侧板6之间通过下部的底板7固定连接，底板7上通过电机座设置有用于驱动滑块机构5沿循环导轨1往复运动的第一电机8，第一电机8主轴上设置有与齿条4相啮合的驱动轮9，驱动轮9为齿轮结构，通过第一电机8的转动，在驱动轮9和齿条4的作用下，滑块机构5沿循环导轨1往复运动，实现不断输送玻璃进行连续镀膜作业；更为重要的是，第一电机8会根据相应传感器的测量进行转速调整，通过转速调整实现在镀膜过程中(靠近上部的镀膜装置31时)，相邻的滑块机构5能够紧密贴合且不留间隙，最终实现溅射层仅溅落在玻璃上，而不会落到其他部件上，有效避免了镀膜层累积的缺陷；
侧板6之间通过转轴设置有下滚轮10和上滚轮11，在本实施例的技术方案中，下滚轮10和上滚轮11均对称设置，上滚轮11为2组，下滚轮10为4组，下滚轮10和上滚轮11分别与循环导轨1外壁和内壁紧密贴合，为了避免滑块机构5在循环运动过程中出现偏移，循环导轨1内壁和外壁上分别开设有内滑槽2和外滑槽3，下滚轮10和上滚轮11分别卡接在内滑槽2和外滑槽3内，下滚轮10和上滚轮11上均套接有橡胶套；通过设置橡胶套，一方面避免了滚轮与滑槽的直接接触，降低了两者之间的相互磨损，另一方面，橡胶套具有良好的静音性，能够有效降低在运动过程中产生的摩擦噪音；
横向导轨12，其两端分别与两侧的侧板6固定连接，且位于侧板6上部，横向导轨12上活动套接有滑套13，滑套13下端固定设置有连接块14，连接块14通过螺纹与两端设置在两侧侧板6上的第一丝杆15连接，第一丝杆15延伸至一侧侧板6之外的一端上连接有用于驱动其转动的第二电机16，侧板6之间设置有第一位移导轨18，滑套13上设置有与第一位移导轨18相配合的第一位移传感器17，第一位移传感器17与第二电机16电性连接；通过第二电机16的转动，联动第一丝杆15转动，在连接块14和螺纹的作用下，驱动滑套13沿横向导轨12方向移动，在移动过程中，第一位移传感器17和第一位移导轨18会实时精确测定滑套13移动的距离、位置，对于不同尺寸的玻璃，通过滑套13的横向移动实现微调，进而将玻璃中轴线与镀膜装置31溅射中心相对应，使得整个装置能够适应不同尺寸的玻璃，提高了整个装置的适应性；
纵向导轨19，其与滑套13固定连接，纵向导轨19保持与滑套13同步移动，在本实施例的技术方案中，纵向导轨19为“U”形结构，其内部用于容纳相应的驱动装置，其两侧构成移动支撑轨道；纵向导轨19内部沿纵向方向上活动设置有第二丝杆21，第二丝杆21一端连接用于驱动其转动的第三电机20，纵向导轨19上活动设置有滑台22，且滑台22与下端的第二丝杆21传动连接，滑台22上固定连接连接架23一端，连接架23另一端设置有支撑台24，需要进行镀膜的玻璃，其尺寸与支撑台24相同，当上方相邻玻璃紧密贴合时，下方相邻的支撑台24也紧密贴合，当相邻玻璃出现间隙误差时，镀膜层就会落在支撑台24上，而不会落入到其他部件上；支撑台24支撑面上设置与玻璃外形相配合的容置槽25；通过第三电机20转动，在第二丝杆21的作用下，驱动上部的支撑台24沿纵向导轨19方向移动，这样设置的优点在于：第三电机20和第二丝杆21构成微调机构，在第一电机8调速的作用下，当相邻的滑块机构5靠近而未接触时，再通过第三电机20和第二丝杆21调节，使得上部的相邻的玻璃能够缓慢靠近，一方面，实现了相邻玻璃能够紧密贴合且无间隙，另一方面，避免出现相邻玻璃冲击，而造成玻璃的损坏；
电动推杆26，其固定端设置在滑台22上，其伸缩端穿过支撑台24之后连接吸盘27，通过电动推杆26的升降动作，在循环导轨1上部水平段左端实现装载玻璃，并在其右端实现卸载玻璃，吸盘27上阵列有多组用于吸附固定玻璃的吸嘴28，吸嘴28与负压装置连接，需要进行镀膜操作的玻璃通过吸嘴28被吸附固定在吸盘27；
第二位移导轨30，其通过支架设置在循环导轨1的一侧，侧板6上设置有与第二位移导轨30相配合的第二位移传感器29，第二位移传感器29与第一电机8和第三电机20电性连接，在滑块机构5运动至循环导轨1上部水平段，第二位移传感器29结合到第二位移导轨30上，实现精确测量滑块机构5的实时位置，并根据控制器控制第一电机8转速，使得相邻的滑块机构5缓慢靠近且紧密贴合，使得在镀膜过程中相邻滑块机构5之间没有间隙；以及
镀膜装置31，其通过固定支架设置在循环导轨1上部，用于对循环输送的玻璃进行镀膜作业。
工作原理：首先传动装置将需要进行镀膜的玻璃输送至循环导轨1左端，电动推杆26驱动吸盘27上升，进而吸附固定玻璃，然后第一电机8驱动载有玻璃的滑块机构5依次经过镀膜装置31，在相应位移传感器和位移导轨的作用下，相邻滑块机构5缓慢靠近且紧密贴合依次经过镀膜装置31，实现溅射的镀膜层仅仅落到玻璃上，而不会落入到其他部件上，最终从根本上解决了镀膜层累积的缺陷，然后滑块机构5在循环导轨1右端实现卸载玻璃，在经过半圆端和下部水平段之后，再次回到起点，形成一个往复。
尽管已经示出和描述了本发明的实施例，对于本领域的普通技术人员而言，可以理解在不脱离本发明的原理和精神的情况下可以对这些实施例进行多种变化、修改、替换和变型，本发明的范围由所附权利要求及其等同物限定。

Claims (5)

1.一种连续式镀膜设备基片架，其特征在于：包括
循环导轨(1)，其与支架固定连接，所述循环导轨(1)内侧设置有齿条(4)；
滑块机构(5)，其可移动的设置在循环导轨(1)上，用于循环往复的输送需要进行镀膜的玻璃，所述滑块机构(5)包括对称设置在循环导轨(1)两侧的侧板(6)，所述侧板(6)之间通过下部的底板(7)连接，所述底板(7)上设置有用于驱动滑块机构(5)沿循环导轨(1)往复运动的第一电机(8)，所述第一电机(8)主轴上设置有与齿条(4)相啮合的驱动轮(9)，所述侧板(6)之间通过转轴设置有下滚轮(10)和上滚轮(11)，所述下滚轮(10)和上滚轮(11)分别与循环导轨(1)外壁和内壁紧密贴合；
横向导轨(12)，其两端分别与两侧的侧板(6)连接，且位于侧板(6)上部，所述横向导轨(12)上活动套接有滑套(13)，所述滑套(13)下端固定设置有连接块(14)，所述连接块(14)通过螺纹与两端设置在两侧侧板(6)上的第一丝杆(15)连接，所述第一丝杆(15)延伸至一侧侧板(6)之外的一端上连接有用于驱动其转动的第二电机(16)；
纵向导轨(19)，其与滑套(13)固定连接，所述纵向导轨(19)内部沿纵向方向上设置有第二丝杆(21)，所述第二丝杆(21)一端连接用于驱动其转动的第三电机(20)，所述纵向导轨(19)上活动设置有滑台(22)，且滑台(22)与下端的第二丝杆(21)传动连接，所述滑台(22)上连接连接架(23)一端，所述连接架(23)另一端设置有支撑台(24)；
电动推杆(26)，其固定端设置在滑台(22)上，其伸缩端穿过支撑台(24)之后连接吸盘(27)，所述吸盘(27)上阵列有多组用于吸附固定玻璃的吸嘴(28)；
第二位移导轨(30)，其通过支架设置在循环导轨(1)的一侧，所述侧板(6)上设置有与第二位移导轨(30)相配合的第二位移传感器(29)，所述第二位移传感器(29)与第一电机(8)和第三电机(20)电性连接；以及
镀膜装置(31)，其通过固定支架设置在循环导轨(1)上部，用于对循环输送的玻璃进行镀膜作业。
2.根据权利要求1所述的一种连续式镀膜设备基片架，其特征在于：所述循环导轨(1)内壁和外壁上分别开设有内滑槽(2)和外滑槽(3)，所述内滑槽(2)和外滑槽(3)分别与下滚轮(10)和上滚轮(11)相配合。
3.根据权利要求2所述的一种连续式镀膜设备基片架，其特征在于：所述下滚轮(10)和上滚轮(11)上均设置有橡胶套。
4.根据权利要求1所述的一种连续式镀膜设备基片架，其特征在于：所述侧板(6)之间设置有第一位移导轨(18)，所述滑套(13)上设置有与第一位移导轨(18)相配合的第一位移传感器(17)，所述第一位移传感器(17)与第二电机(16)电性连接。
5.根据权利要求1所述的一种连续式镀膜设备基片架，其特征在于：所述支撑台(24)支撑面上设置与玻璃外形相配合的容置槽(25)。
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