CN114277337B - 蒸镀装置和蒸镀装置的制作方法 - Google Patents

蒸镀装置和蒸镀装置的制作方法 Download PDF

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Abstract

本申请提供了一种蒸镀装置和蒸镀装置的制作方法。其中,蒸镀装置,包括蒸镀腔,吸附组件,所述吸附组件用于吸附所述蒸镀腔中的粒子,所述吸附组件包括位于所述蒸镀腔内的第一部分和位于所述蒸镀腔外的第二部分;传送组件,所述传送组件上设置有所述第一部分和所述第二部分,当满足预设条件时,所述传送组件驱动所述第一部分移动至所述蒸镀腔外,并驱动所述第二部分移动至所述蒸镀腔内。本申请实施例通过传送组件自动更换吸附组件以使新的吸收组件吸收粒子,以防止粒子沉积到蒸镀腔中的防着板上,从而避免了在制备显示面板时基板上引入粒子的情况,解决了加热蒸发的方式导致基板上留有粒子的问题,进而提高有机显示器件的显示性能。

Description

蒸镀装置和蒸镀装置的制作方法
技术领域
本申请涉及显示技术领域,尤其涉及一种蒸镀装置和蒸镀装置的制作方法。
背景技术
OLED器件制作的主要方式是加热蒸发镀膜,主要是使用加热容器在真空环境下加热蒸镀材料,使升华型或者熔融型的蒸镀材料在高温状态下气化,沉积在有TFT结构或者阳极结构的基板上。
但是这种加热蒸发的方式会导致基板上留有粒子,影响有机显示器件的显示性能。
发明内容
本申请实施例提供一种蒸镀装置和蒸镀装置的制作方法,解决了现有的加热蒸发的方式导致基板上留有粒子的问题。
本申请实施例提供一种蒸镀装置,所述蒸镀装置包括蒸镀腔,包括:
吸附组件,所述吸附组件用于吸附所述蒸镀腔中的粒子,所述吸附组件包括位于所述蒸镀腔内的第一部分和位于所述蒸镀腔外的第二部分;
传送组件,所述传送组件上设置有所述第一部分和所述第二部分,当满足预设条件时,所述传送组件驱动所述第一部分移动至所述蒸镀腔外,并驱动所述第二部分移动至所述蒸镀腔内。
可选的,所述吸附组件包括:
第一吸附膜,所述第一吸附膜用于吸附所述蒸镀腔中的磁性粒子;
第二吸附膜,所述第二吸附膜用于吸附所述蒸镀腔中的非磁性粒子。
可选的,所述吸附组件还包括:
质量感应器,所述质量感应器用于检测所述第一吸附膜吸附的磁性粒子的质量和所述第二吸附膜吸附非磁性粒子的质量;
当所述磁性粒子的质量和所述非磁性粒子的质量之和满足预设条件时,所述传送组件驱动所述第一部分移动至所述蒸镀腔外,并驱动所述第二部分移动至所述蒸镀腔内。
可选的,所述第一吸附膜和所述第二吸附膜设置在所述质量感应器的两侧。
可选的,所述蒸镀装置还包括防着板,所述防着板设置在所述蒸镀腔中,所述防着板的一侧设置有所述质量感应器,所述质量感应器远离所述防着板的一侧设置有所述第一吸附膜和所述第二吸附膜。
可选的,所述吸附组件还包括第一基板和第二基板,所述第一基板和所述第二基板设置在所述质量感应器的两侧,且所述第一基板和所述第二基板上均设置有所述第一吸附膜和所述第二吸附膜,其中,位于所述第一基板的所述第一吸附膜在所述第一基板上的正投影与位于所述第二基板的所述第二吸附膜在所述第一基板上的正投影错开设置。
可选的,所述传送组件包括滚轮和传送带,所述传送带上设置有多个所述吸附组件,所述滚轮滚动带动所述传送带运动,以将所述第一部分移动至所述蒸镀腔外,并驱动所述第二部分移动至所述蒸镀腔内。
可选的,所述第一吸附膜的组成材料包括Fe、Co或Ni中的一种或组合。
本申请实施例还提供一种蒸镀装置的制作方法,所述制作方法包括:
提供一传送组件;
在所述传送组件上设置多个吸附组件,所述吸附组件用于吸收粒子,所述吸附组件包括位于所述蒸镀腔内的第一部分和位于所述蒸镀腔外的第二部分;
当满足预设条件时,所述传送组件驱动所述第一部分移动至所述蒸镀腔外,并驱动所述第二部分移动至所述蒸镀腔内。
可选的,所述在所述传送组件上设置多个吸附组件包括:
在所述传送组件上设置第一吸附膜,所述第一吸附膜用于吸附磁性粒子;
在所述第一吸附膜远离所述传送组件的一侧设置质量感应器;
在所述质量感应器远离所述传送组件的一侧设置第二吸附膜,所述第二吸附膜用于吸附非磁性粒子;
所述当满足预设条件时,所述传送组件驱动所述第一部分移动至所述蒸镀腔外,并驱动所述第二部分移动至所述蒸镀腔内包括:
当所述磁性粒子的质量和所述非磁性粒子的质量之和大于预设条件时,所述传送组件驱动所述第一部分移动至所述蒸镀腔外,并驱动所述第二部分移动至所述蒸镀腔内。
本申请的有益效果在于:本申请实施例提供一种蒸镀装置,蒸镀装置包括吸收组件和传送组件,吸附组件用于吸附蒸镀腔中的粒子,通过将吸收组件设置在传送组件上,当满足预设条件时,传送组件驱动位于蒸镀腔内的第一部分移动至蒸镀腔外,并驱动位于蒸镀腔外的第二部分移动至蒸镀腔内,通过自动更换吸收组件可以使得蒸镀腔中的粒子更好的吸附到吸收组件上,以避免粒子沉积到蒸镀腔中的防着板上,从而避免了在制备显示面板时基板上引入粒子的情况,因此,解决了加热蒸发的方式导致基板上留有粒子的问题,进而提高有机显示器件的显示性能。
附图说明
为了更清楚地说明本申请实施例中的技术方案,下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单的介绍。显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本申请的一些实施例,对本领域技术人员来说,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。
为了更完整地理解本申请及其有益效果,下面将结合附图来进行说明。其中,在下面的描述中相同的附图标号表示相同部分。
图1为本申请实施例提供的蒸镀装置的第一种结构示意图;
图2为本申请实施例提供的蒸镀装置的第二种结构示意图;
图3为图2所示的蒸镀装置中吸附组件的第一种结构示意图;
图4为图2所示的蒸镀装置中吸附组件的第二种结构示意图;
图5为图2所示的蒸镀装置中吸附组件的第三种结构示意图;
图6为图2所示的蒸镀装置中吸附组件的第四种结构示意图;
图7为本申请实施例提供的蒸镀装置的制作方法的流程示意图。
具体实施方式
下面将结合本申请实施例中的附图,对本申请实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述。显然,所描述的实施例仅仅是本申请一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本申请中的实施例,本领域技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本申请保护的范围。
在本申请的描述中,需要理解的是,术语“中心”、“纵向”、“横向”、“长度”、“宽度”、“厚度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”、“顺时针”、“逆时针”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系,仅是为了便于描述本申请和简化描述,而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作,因此不能理解为对本申请的限制。此外,术语“第一”、“第二”仅用于描述目的,而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此,限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个所述特征。在本申请的描述中,“多个”的含义是两个或两个以上,除非另有明确具体的限定。
OLED器件制作的主要方式是加热蒸发镀膜,主要是使用加热容器在真空环境下加热蒸镀材料,使升华型或者熔融型的蒸镀材料在高温状态下气化,沉积在有TFT结构或者阳极结构的基板上。但是这种加热蒸发的方式也会把蒸镀材料蒸镀到蒸镀腔体中和位于蒸镀腔内的防着板上,造成防着板和腔体中有蒸镀材料的沉积,当再次蒸镀材料时就会在基板上引入粒子,影响有机显示器件成品的最终显示性能。同时也会造成防着板沉积更多材料,并且在拆卸和装防着板会浪费大量的人力和时间。
因此,为了解决上述问题,本申请提出了一种蒸镀装置和蒸镀装置的制作方法。下面结合附图和实施方式对本申请作进一步说明。
请参阅图1,图1为本申请实施例提供的蒸镀装置的第一种结构示意图。本申请实施例提供一种蒸镀装置100,蒸镀装置100包括蒸镀腔以及设置于蒸镀腔内的防着板10、吸附组件20和传送组件30,其中,吸附组件20用于吸附蒸镀腔中防着板10上和蒸镀腔体中的粒子,吸附组件20包括位于蒸镀腔内的第一部分和位于蒸镀腔外的第二部分。传送组件30上设置有吸附组件20,当满足预设条件时,传送组件30驱动位于蒸镀腔内的第一部分移动至蒸镀腔外,并驱动位于蒸镀腔外的第二部分移动至蒸镀腔内,实现自动更换吸附组件20。通过自动更换吸收组件可以使得蒸镀腔中的粒子更好的吸附到吸收组件上,以避免粒子沉积到蒸镀腔中的防着板10上,从而避免了在制备显示面板时基板上引入粒子的情况,因此,解决了加热蒸发的方式导致基板上留有粒子的问题,进而提高有机显示器件的显示性能。
可以理解的是,满足预设条件可以是当前吸附组件20吸附一段时间后,即当前吸附组件20工作时间达到预设值后,传送组件30更换新的吸附组件20,通过预设时间来判断是否需要更换新的吸附组件20,可以防止吸附组件20时间过长没有了吸附能力,或者防止当前的吸附组件20因为时间过长吸附能力下降的问题。在一些实施例中,当满足预设条件时可以是当前吸附组件20的吸附的粒子达到了预设值,示例性的,可以是粒子的数量或者粒子的质量达到了预设条件,通过吸附的粒子的数量或者粒子的重量来进行判断是否需要跟换新的吸附组件20,可以防止当前的吸附组件20吸附的粒子过多,达到了当前吸附组件20的吸附能力,以致当前的吸附组件20不能再继续吸附其他粒子。本申请实施例通过判断是否满足预设条件来更换吸附组件20,可以使当前工作中的吸附组件20处于最好的状态,以吸附更多蒸镀腔体中的粒子,防止粒子沉积到防着板10上。
请继续参阅图2和图3,图2为本申请实施例提供的蒸镀装置的第二种结构示意图,图3为图2所示的蒸镀装置中吸附组件的第一种结构示意图。本申请实施例提供的蒸镀装置100中的吸附组件20包括第一吸附膜210和第二吸附膜220。其中,第一吸附膜210用于吸附蒸镀腔中防着板10上和蒸镀腔体中的磁性粒子;第二吸附膜220用于吸附蒸镀腔中防着板10上和蒸镀腔中的非磁性粒子。通过第一吸附膜210和第二吸附膜220可以将加热蒸发过程中产生的粒子状的蒸镀材料吸附住,避免粒子在蒸镀腔和蒸镀腔内的防着板10上沉积。
可以理解的是,第一吸附膜210包括Fe、Co、Ni中的一种或组合。但不限于这些材料。第二吸附膜220包括ZSM-5分子筛,但不限于这些材料。
吸附组件20还包括质量感应器230,质量感应器230用于检测第一吸附膜210吸附的磁性粒子的质量和第二吸附膜220吸附非磁性粒子的质量。质量感应器230通过检测第一吸附膜210吸附的磁性粒子的质量和第二吸附膜220吸附非磁性粒子的质量是否满足预设值,进而判断是否需要更换当前的吸附组件20。示例性的,当磁性粒子的质量和非磁性粒子的质量之和大于阈值时,传送组件30更换第一吸附膜210和第二吸附膜220。
第一吸附膜210和第二吸附膜220设置在质量感应器230的两侧。示例性的,在一些实施例中,第一吸附膜210设置在质量感应器230靠近防着板10的一侧,第二吸附膜220设置在质量感应器230远离防着板10的一侧。在其他一些实施例中,第二吸附膜220设置在质量感应器230靠近防着板10的一侧,第一吸附膜210设置在质量感应器230远离防着板10的一侧。通过将第一吸附膜210和第二吸附膜220设置在质量感应器230的两侧可以更好的吸附蒸镀腔中的粒子。
请继续参阅图4,图4为图2所示的蒸镀装置中吸附组件的第二种结构示意图。第一吸附膜210和第二吸附膜220均设置在质量感应器230远离防着板10的一侧。示例性的,质量感应器230设置在防着板10的一侧,在质量感应器230远离防着板10的一侧设置有第一吸附膜210,在第一吸附膜210远离防着板10的一侧设置有第二吸附膜220。在一些实施例中,在质量感应器230远离防着板10的一侧设置有第二吸附膜220,在第二吸附膜220远离防着板10的一侧设置有第一吸附膜210。在一些实施例中,在质量感应器230远离防着板10的一侧同层设置有第一吸附膜210和第二吸附膜220,且第一吸附膜210和第二吸附膜220的比例不作限制,根据实际情况设计。通过将质量传感器设置在第一吸附膜210和第二吸附膜220上,可以更好地测量吸附的粒子的质量,以此提高质量传感器的准确率。
请继续参阅图5,图5为图2所示的蒸镀装置中吸附组件的第三种结构示意图。质量感应器230的一侧设置有第一吸附膜210和第二吸附膜220,质量感应器230的另一侧设置有第二吸附膜220或第一吸附膜210。示例性的,质量感应器230靠近防着板10的一侧设置有第一吸附膜210和第二吸附膜220,质量感应器230远离防着板10的一侧设置有第二吸附膜220。在一些实施例中,质量感应器230靠近防着板10的一侧设置有第一吸附膜210和第二吸附膜220,质量感应器230远离防着板10的一侧设置有第一吸附膜210。在一些实施例中,质量感应器230靠近防着板10的一侧设置有第一吸附膜210,质量感应器230远离防着板10的一侧设置有第一吸附膜210和第二吸附膜220。在一些实施例中,质量感应器230靠近防着板10的一侧设置有第二吸附膜220,质量感应器230远离防着板10的一侧设置有第一吸附膜210和第二吸附膜220。通过在质量传感器的一侧设置有第一吸附膜210和第二吸附膜220,可以更好的吸附蒸镀腔中的粒子,以防止蒸镀腔中的磁性粒子或非磁性粒子的个数过多,导致吸附组件20吸附的不够全的情况。
请继续参阅图6,图6为图2所示的蒸镀装置中吸附组件的第四种结构示意图,质量感应器230的两侧均设置有第一吸附膜210和第二吸附膜220,例如,在一些实施例中,吸附组件还包括第一基板和第二基板,第一基板和第二基板设置在质量感应器230的两侧。质量感应器230的一侧的第一基板上设置有第一吸附膜210和第二吸附膜220,质量感应器230的第二基板上也设置有第二吸附膜220和第一吸附膜210。在一些实施例中,位于第一基板上的第一吸附膜210在第一基板上的正投影与位于质量感应器230另一侧即第二基板上的第二吸附膜220在第一基板上的正投影不完全重合,即位于第一基板的第一吸附膜210在第一基板上的正投影与位于第二基板的第二吸附膜220在第一基板上的正投影错开设置。在一些实施例中,位于质量感应器230一侧的第一吸附膜210在第一基板上的正投影与位于质量感应器230另一侧即第二基板上的第二吸附膜220在第一基板上的正投影完全重合。在一些实施例中,位于质量感应器230一侧的第一吸附膜210在第一基板上的正投影与位于质量感应器230另一侧即第二基板上的第二吸附膜220在第一基板上的正投影不重合。通过量感应器的两侧均设置有第一吸附膜210和第二吸附膜220,可以提高吸附组件20对粒子的吸附能力,以减少粒子在基板上沉积的可能。
传送组件30包括滚轮310和传送带320,传送带320上设置有多个吸附组件20,滚轮310滚动带动传送带320运动,以将当前的吸附组件20更换为待吸附的吸附组件20,多个吸附组件20的存在可以更好的保证每个吸附组件20在有效时间内的吸附能力,避免因为时间过久而导致吸附能力下降的问题,从而提高了吸附组件20的吸附效率。在一些实施例中,传送带320上相对设置有两个吸附组件20,即待吸附的吸附组件20和当前的吸附组件20,通过质量感应器230判断是否满足更换的条件,当满足条件时,则滚轮310滚动带动传送带320运动,以将设置在对侧的待吸附的吸附组件20运作到当前的吸附组件20位置,以进行吸附组件20的更换,实现了吸附组件20的自动更换。传送带320上相对设置两个吸附组件20可以在有限的空间内设置的吸附面积更大,以使得吸附能力更好。
可以理解的是,传送组件30也可以是齿轮联动装置,通过齿轮之间的运转带动吸附组件20的运动,以此更换吸附组件20的位置。
请继续参阅7,图7为本申请实施例提供的蒸镀装置的制作方法的流程示意图。本申请实施例提供一种蒸镀装置的制作方法,用于制作上述的蒸镀装置100,其中,具体的制作流程如下:
101、提供一传送组件。
传送组件30包括滚轮310和传送带320,滚轮310滚动带动传送带320运动。
在一些实施例中,传送组件30也可以是齿轮联动装置。
需要说明的是,本申请实施例以传送组件30包括滚轮310和传送带320为例进行说明,而不应理解为对传送组件30的限制。
102、在传送组件上设置多个吸附组件,吸附组件用于吸收粒子,吸附组件包括位于蒸镀腔内的第一部分和位于蒸镀腔外的第二部分。
在传送组件30的传送带320上设置多个吸附组件20,通过吸附组件20吸附蒸镀腔中的粒子,以避免粒子沉积到蒸镀腔中的防着板10上,从而避免了在制备显示面板时基板上引入粒子的情况。
其中,在传送组件30上设置多个吸附组件20的具体步骤可以根据世纪星空进行设置,本申请实施例以第一吸附膜210设置在质量感应器230靠近防着板10的一侧,第二吸附膜220设置在质量感应器230远离防着板10的一侧为例进行说明,具体的制备流程如下:
在传送组件30上设置第一吸附膜210,第一吸附膜210用于吸附磁性粒子。其中,可以通过真空蒸发法、外延生长法或化学镀膜法在传送组件30上设置第一吸附膜210。
然后在第一吸附膜210远离传送组件30的一侧设置质量感应器230。其中,可以在第一吸附膜210上通过粘接的方式粘置质量感应器230。
然后在质量感应器230远离传送组件30的一侧设置第二吸附膜220,第二吸附膜220用于吸附非磁性粒子。
103、当满足预设条件时,传送组件驱动第一部分移动至蒸镀腔外,并驱动第二部分移动至蒸镀腔内。
当磁性粒子的质量和非磁性粒子的质量之和满足预设条件时,传送组件30驱动第一部分移动至蒸镀腔外,并驱动第二部分移动至蒸镀腔内,即传送组件30更换第一吸附膜210和第二吸附膜220。
本申请实施例通过将吸收组件设置在传送组件30上,当满足预设条件时,传送组件30自动更换吸附组件20以使新的吸收组件吸收粒子,通过自动更换吸收组件可以使得蒸镀腔中的粒子更好的吸附到吸收组件上,以避免粒子沉积到蒸镀腔中的防着板10上,从而避免了在制备显示面板时基板上引入粒子的情况,因此,解决了加热蒸发的方式导致基板上留有粒子的问题,进而提高有机显示器件的显示性能。
以上对本申请实施例提供的一种蒸镀装置和蒸镀装置的制作方法进行了详细介绍。本文中应用了具体条例对本申请的原理及实施方式进行了阐述,以上实施例的说明只是用于帮助理解本申请。同时,对于本领域的技术人员,依据本申请的思想,在具体实施方式及应用范围上均会有改变之处,综上,本说明书内容不应理解为对本申请的限制。

Claims (7)

1.一种蒸镀装置,所述蒸镀装置包括蒸镀腔,其特征在于,包括:
吸附组件,所述吸附组件用于吸附所述蒸镀腔中的粒子,所述吸附组件包括位于所述蒸镀腔内的第一部分和位于所述蒸镀腔外的第二部分;所述吸附组件包括第一吸附膜和第二吸附膜,所述第一吸附膜用于吸附所述蒸镀腔中的磁性粒子,所述第二吸附膜用于吸附所述蒸镀腔中的非磁性粒子,所述第二吸附膜包括ZSM-5分子筛;
传送组件,所述传送组件上设置有所述第一部分和所述第二部分,当满足预设条件时,所述传送组件驱动所述第一部分移动至所述蒸镀腔外,并驱动所述第二部分移动至所述蒸镀腔内;所述传送组件包括滚轮和传送带,所述传送带上设置有多个所述吸附组件,所述滚轮滚动带动所述传送带运动,以将所述第一部分移动至所述蒸镀腔外,并驱动所述第二部分移动至所述蒸镀腔内;
防着板,所述防着板设置在所述蒸镀腔中,所述第一吸附膜和所述第二吸附膜设置于所述防着板的一侧;
质量感应器,所述质量感应器用于检测所述第一吸附膜吸附的磁性粒子的质量和所述第二吸附膜吸附非磁性粒子的质量;
当所述磁性粒子的质量和所述非磁性粒子的质量之和大于阈值时,所述传送组件驱动所述第一部分移动至所述蒸镀腔外,并驱动所述第二部分移动至所述蒸镀腔内。
2.根据权利要求1所述的蒸镀装置,其特征在于,所述第一吸附膜和所述第二吸附膜设置在所述质量感应器的两侧。
3.根据权利要求1所述的蒸镀装置,其特征在于,所述防着板的一侧设置有所述质量感应器,所述质量感应器远离所述防着板的一侧设置有所述第一吸附膜和所述第二吸附膜。
4.根据权利要求1所述的蒸镀装置,其特征在于,所述吸附组件还包括第一基板和第二基板,所述第一基板和所述第二基板设置在所述质量感应器的两侧,且所述第一基板和所述第二基板上均设置有所述第一吸附膜和所述第二吸附膜,其中,位于所述第一基板的所述第一吸附膜在所述第一基板上的正投影与位于所述第二基板的所述第二吸附膜在所述第一基板上的正投影错开设置。
5.根据权利要求1所述的蒸镀装置,其特征在于,所述第一吸附膜的材料包括Fe、Co或Ni中的一种或组合。
6.一种蒸镀装置的制作方法,用于制作如权利要求1所述的蒸镀装置,其特征在于,所述制作方法包括:
提供一传送组件;
在所述传送组件上设置多个吸附组件,所述吸附组件用于吸收粒子,所述吸附组件包括位于所述蒸镀腔内的第一部分和位于所述蒸镀腔外的第二部分;
当满足预设条件时,所述传送组件驱动所述第一部分移动至所述蒸镀腔外,并驱动所述第二部分移动至所述蒸镀腔内。
7.根据权利要求6所述的制作方法,其特征在于,所述在所述传送组件上设置多个吸附组件包括:
在所述传送组件上设置第一吸附膜,所述第一吸附膜用于吸附磁性粒子;
在所述第一吸附膜远离所述传送组件的一侧设置质量感应器;
在所述质量感应器远离所述传送组件的一侧设置第二吸附膜,所述第二吸附膜用于吸附非磁性粒子;
所述当满足预设条件时,所述传送组件驱动所述第一部分移动至所述蒸镀腔外,并驱动所述第二部分移动至所述蒸镀腔内包括:
当所述磁性粒子的质量和所述非磁性粒子的质量之和大于预设条件时,所述传送组件驱动所述第一部分移动至所述蒸镀腔外,并驱动所述第二部分移动至所述蒸镀腔内。
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