CN114220935A - 一种Micro OLED显示结构及其制备方法 - Google Patents
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Abstract
本发明公开了Micro OLED显示结构及其制备方法，包括驱动背板，在所述驱动背板上设有阳极及空穴传输功能层，其特征在于：所述空穴传输功能层上设有平坦层，所述平坦层上设有与所述阳极相对的间隙图案，所述间隙图案内设有介孔发光层。本发明Micro OLED显示结构及其制备方法，结构简单，可有效减少光学串扰发生，提升整体的显示效果，具有较强的实用性和较好的应用前景。
Description
技术领域
本发明属于显示屏技术领域，更具体地说，涉及一种Micro OLED显示结构及其制备方法。
背景技术
随着科技的进步与科技的发展，人们在追求显示效果的体验上也有着更高的需求，加之穿戴配套显示设备使其物理意义上的方法路径可行，5G时代的到来会解决数据量传输的问题，因此近年来Micro OLED(Organic Light Emitting Display)被称为下一代显示技术的黑马，现已广泛应用于机戴头盔、枪瞄、夜视仪等军用市场，并且随着AR/VR以及自动驾驶等新技术的应用，Micro OLED微显示器将迎来爆发式的增长。
在OLED显示中为非面光源，而是四面八方的发光。若两个像素距离太近，在观察者眼中，就会发生颜色的相互串扰，从而影响整体的显示效果。在手机显示器领域，还可以通过设置黑色矩阵来限制其他方向的光线，但在Micro OLED显示器中，由于受限于材料和设备的因素，在高分辨率情况下，目前是没有很好的方法来解决光学串扰的问题。
发明内容
本发明的目的是解决现有技术存在的问题，提供一种结构简单，可有效减少光学串扰发生的Micro OLED显示结构及其制备方法。
为了实现上述目的，本发明采取的技术方案为：所提供的这种Micro OLED显示结构，包括驱动背板，在所述驱动背板上设有阳极及空穴传输功能层，其特征在于：所述空穴传输功能层上设有平坦层，所述平坦层上设有与所述阳极相对的间隙图案，所述间隙图案内设有介孔发光层。
为使上述技术方案更加详尽和具体，本发明还提供以下更进一步的优选技术方案，以获得满意的实用效果：
所述介孔发光层上设有间隔布置的多个由上至下贯通的竖直孔。
所述平坦层的厚度与介孔发光层厚度一致。
所述平坦层间隙图案的面积比所述阳极的金属面积大10％。
所述平坦层及介孔发光层上设有电子传输功能层及阴极。
所述电子传输功能层及阴极上设有薄膜封装层。
在所述薄膜封装层上设有彩膜层，所述彩膜层上设有盖板玻璃。
Micro OLED显示结构其制备方法，步骤一：制备介孔层；步骤二：将步骤一制备的介孔层转移到空穴传输功能层上，制备Micro OLED显示结构。
在玻璃基底上使用旋涂的方法涂布平坦层；使用光刻和干刻的方式对平坦层进行图案化，去除部分大小与阳极匹配；将图案化后的平坦层浸泡在甘油醇中，并且加入Pluronic F127–TiO2单胶束，通过调整甘油醇的粘度控制二位介孔材料的孔径大小。
在驱动背板上，使用光刻和干刻的方法制备金属阳极；使用蒸镀的方式制备空穴传输功能层；在N2环境下，使用纳米压印的方式，将步骤一制备的介孔层转移到空穴传输功能层上；使用喷墨打印的方式，将所需要的发光层材料滴入介孔材质中，形成介孔发光层；使用蒸镀的方式制备电子传输功能层及阴极；在电子传输功能层及阴极上使用ALD及CVD制备薄膜封装层；在薄膜封装层上制备彩膜层；在彩膜层上制备玻璃盖板。
本发明与现有技术相比，具有以下优点：本发明Micro OLED显示结构及其制备方法，结构简单，可有效减少光学串扰发生，提升整体的显示效果，具有较强的实用性和较好的应用前景。
附图说明
下面对本说明书的附图所表达的内容及图中的标记作简要说明：
图1为本发明新型Micro OLED显示结构剖面示意图；
图2为本发明介孔层制备过程示意图；
图3为本发明介孔发光层截面示意图。
图中标记为：1、驱动背板，2、阳极，3、空穴传输功能层，4、介孔发光层，5、平坦层，6、电子传输功能层及阴极，7、薄膜封装层，8、彩膜层，9、盖板玻璃，10、玻璃基底。
具体实施方式
下面对照附图，通过对实施例的描述，对本发明的具体实施方式作进一步详细的说明。
在本发明的描述中，需要说明的是，术语“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本发明和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本发明的限制。
本发明这种Micro OLED显示结构，如图1中所示，包括驱动背板1，在驱动背板1上设有阳极2及空穴传输功能层3，空穴传输功能层3上设有平坦层5，平坦层5上设有与阳极2相对的间隙图案，间隙图案内设有介孔发光层4；平坦层5及介孔发光层4上设有电子传输功能层及阴极6。本发明通过在空穴传输功能层3与电子传输功能层之间，设置介孔发光层4，限制OLED出光方向，从而极大地减少了光学串扰的发生。
本发明中，如图3中所示，介孔发光层4上设有间隔布置的多个由上至下贯通的竖直孔，确保出光为垂直方向，减少了光学串扰的发生。
本发明中，如图1、2中所示，平坦层5的厚度与介孔发光层4厚度一致。平坦层5间隙图案的面积比所述阳极2的金属面积大10％。
本发明中，如图1中所示，电子传输功能层及阴极6上设有薄膜封装层7。在薄膜封装层7上设有彩膜层8，所述彩膜层8上设有盖板玻璃9。
本发明中，Micro OLED显示结构其制备方法，步骤一：制备介孔层，如图2中所示；步骤二：将步骤一制备的介孔层转移到空穴传输功能层3上，制备Micro OLED显示结构。
本发明中，步骤一：制备介孔层；在玻璃基底10上使用旋涂的方法涂布平坦层5；使用光刻和干刻的方式对平坦层5进行图案化，去除部分大小与阳极2匹配；将图案化后的平坦层浸泡在甘油醇中，并且加入Pluronic F127–TiO2单胶束，通过调整甘油醇的粘度控制二位介孔材料的孔径大小，优选直径为100nm将制备好的烘干备用。
在驱动背板1上，使用光刻和干刻的方法制备金属阳极2；使用蒸镀的方式制备空穴传输功能层3；在N2环境下，使用纳米压印的方式，将步骤一制备的介孔层转移到空穴传输功能层3上；使用喷墨打印的方式，将所需要的发光层材料滴入介孔材质中，形成介孔发光层；使用蒸镀的方式制备电子传输功能层及阴极6；在电子传输功能层及阴极上使用ALD及CVD制备薄膜封装层7；在薄膜封装层7上制备彩膜层8；在彩膜层8上制备玻璃盖板9。
Pluronic F127–TiO2单胶束是TiO2材料外围由Pluronic F127包裹，形成核壳结构，同时由于Pluronic F127可溶解于甘油醇中，当加入到甘油醇后，外围的Pluronic F127材料将被溶解，只剩下TiO2材料。除此之外，甘油醇粘度的不同可以影响到Pluronic F127材料的链状卷曲程度，即，影响两个相邻TiO2材料的距离，从而控制介孔材料的孔径大小。
Pluronic F127–TiO2单胶束制备方法：
Pluronic F127材料可在大化学材料门户网站购得，本实验购买于sigmaaldrich，CAS号：9003-11-6，MDL编号：MFCD00082049，PubChem化学物质编号:24897874。
Pluronic F127-TiO2单胶束制备方法∶配A、B液，A液由17ml钛酸丁酯、36ml无水乙醇组成；B液由36ml无水乙醇、2.58g Pluronic F127、1.5ml冰醋酸、组成，然后用4mol/L盐酸将B液调制PH＝5左右。A液向B液中逐滴滴加，B液用磁子剧烈搅拌，在滴加过程中B液始终澄。滴加完毕后，在80℃下，继续搅拌20分钟，静置2小时，即可获得Pluronic F127-TiO2单胶束。通过调整甘油醇的粘度，粘度范围150-300m.Pa.s，控制介孔材料的孔径大小，优选直径为100nm将制备好的烘干备用。
使用喷墨打印的方式，将所需要的发光层材料滴入介孔材质中，形成介孔发光层。其中常见的红光材料:罗丹明类染料，DCM，DCT，DCJT，DCJTB，DCJTI和TPBD等,绿光材料：香豆素染料Coumarin6，奎丫啶酮(quinacridone,QA)，六苯并苯(Coronene)，苯胺类(naphthalimide)等，蓝光材料：N-芳香基苯并咪唑类；1，2，4-三唑衍生物(TAZ)；1，3-4-噁二唑的衍生物OXD-(P-NMe2)；双芪类(Distyrylarylene)；BPVBi等。
具体的制备方法：
步骤一：介孔层的制备方法
在玻璃基底上使用旋涂的方法涂布平坦层5，材料可选但不限于PDMS聚二甲基硅氧烷(也可选择聚酰亚胺，聚甲基丙烯酸之，环氧乙烷)，厚度可选50～100nm，优选地为100nm,可根据OLED发光层厚度调整，使之与OLED发光层厚度一致。
使用光刻+干刻的方式对平坦层5进行图案化，去除部分大小与阳极匹配，优选的为8um×4um，可根据阳极大小调整，需要比阳极金属面积大10％。
将图案化后的平坦层5浸泡在甘油醇中，并且加入自组装的Pluronic F127–TiO2单胶束，通过调整甘油醇的粘度控制二位介孔材料的孔径大小，优选直径为100nm将制备好的烘干备用。
步骤二：Micro OLED发光器件的制备方法。
在驱动背板1上，使用光刻+干刻的方法制备金属阳极2；使用蒸镀的方式制备空穴传输功能层3；在N2环境下，使用纳米压印的方式，将步骤一制备的转移到空穴传输功能层3上；使用喷墨打印的方式，将所需要的发光层材料滴入介孔材质中，形成介孔发光层4；使用蒸镀的方式制备电子传输功能层及阴极6；在电子传输功能层及阴上使用ALD及CVD制备薄膜封装层7；在薄膜封装层7上制备彩膜层8；在彩膜层8上制备玻璃盖板9。
本发明Micro OLED显示结构及其制备方法，结构简单，可有效减少光学串扰发生，提升整体的显示效果，具有较强的实用性和较好的应用前景。
在本发明的描述中，需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连。对于本领域的普通技术人员而言，可以具体情况理解上述术语在本发明中的具体含义。
上面结合附图对本发明进行了示例性描述，但是本发明并不受限于上述方式，只要采用本发明的方法构思和技术方案进行的各种非实质性的改进或直接应用于其它场合的，均落在本发明的保护范围内。
Claims (10)
1.一种Micro OLED显示结构，包括驱动背板，在所述驱动背板上设有阳极及空穴传输功能层，其特征在于：所述空穴传输功能层上设有平坦层，所述平坦层上设有与所述阳极相对的间隙图案，所述间隙图案内设有介孔发光层。
2.按照权利要求1所述的Micro OLED显示结构，其特征在于：所述介孔发光层上设有间隔布置的多个由上至下贯通的竖直孔。
3.按照权利要求2所述的Micro OLED显示结构，其特征在于：所述平坦层的厚度与介孔发光层厚度一致。
4.按照权利要求3所述的Micro OLED显示结构，其特征在于：所述平坦层间隙图案的面积比所述阳极的金属面积大10％。
5.按照权利要求1所述的Micro OLED显示结构，其特征在于：所述平坦层及介孔发光层上设有电子传输功能层及阴极。
6.按照权利要求5所述的Micro OLED显示结构，其特征在于：所述电子传输功能层及阴极上设有薄膜封装层。
7.按照权利要求6所述的Micro OLED显示结构，其特征在于：在所述薄膜封装层上设有彩膜层，所述彩膜层上设有盖板玻璃。
8.按照权利要求1至7任一项所述的Micro OLED显示结构其制备方法，其特征在于：步骤一：制备介孔层；步骤二：将步骤一制备的介孔层转移到空穴传输功能层上，制备MicroOLED显示结构。
9.按照权利要求8所述的Micro OLED显示结构制备方法，其特征在于：在玻璃基底上使用旋涂的方法涂布平坦层；使用光刻和干刻的方式对平坦层进行图案化，去除部分大小与阳极匹配；将图案化后的平坦层浸泡在甘油醇中，并且加入Pluronic F127–TiO2单胶束，通过调整甘油醇的粘度控制二位介孔材料的孔径大小。
10.按照权利要求9所述的Micro OLED显示结构制备方法，其特征在于：在驱动背板上，使用光刻和干刻的方法制备金属阳极；使用蒸镀的方式制备空穴传输功能层；在N2环境下，使用纳米压印的方式，将步骤一制备的介孔层转移到空穴传输功能层上；使用喷墨打印的方式，将所需要的发光层材料滴入介孔材质中，形成介孔发光层；使用蒸镀的方式制备电子传输功能层及阴极；在电子传输功能层及阴极上使用ALD及CVD制备薄膜封装层；在薄膜封装层上制备彩膜层；在彩膜层上制备玻璃盖板。
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