CN114192253A - 一种球形硅微粉的高频等离子法生产装置 - Google Patents

一种球形硅微粉的高频等离子法生产装置 Download PDF

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Abstract

本发明公开了一种球形硅微粉的高频等离子法生产装置，包括球形硅微粉生产设备，包括球形硅微粉生产设备按照球形硅微粉处理流程依次设置有磨粉机体、安装架、下料漏斗、选料磨粉机构、旋转导料器和降尘盛料容器，安装架包括立柱和安装于立柱左上角的托板，立柱垂直安装于地面，磨粉机体安装于托板上，下料漏斗位于磨粉机体的正下方且下方与选料磨粉机构相连接，选料磨粉机构由选料室、碎料辊、分选板和传送磨粉器组成，选料室的上端开设有入料口。本发明在下料的过程中对球形硅微粉的细密度进行检测并通过内置的选料磨粉机构对球形硅微粉进行分选以及二次处理，提高球形硅微粉的合格率并利用降尘盛料容器对球形硅微粉进无扬尘处理。

Description

一种球形硅微粉的高频等离子法生产装置
技术领域
本发明涉及球形硅微粉生产设备技术领域，具体为一种球形硅微粉的高频等离子法生产装置。
背景技术
球形硅微粉技术是以价格低廉的天然优质粉石英矿物为基本原料，现采用两种主要工艺制成：1、采用溶胶-凝胶技术，在分散剂和球形催化剂存在的条件下，制备出符合电子封装材料要求的高纯球形纳米非晶态硅微粉；2、采用火焰法或离子火焰法熔融成球型的非晶态硅微粉。在高端用户市场，如集成电路封装都采用第二种工艺制成，需要通过专门的球形硅微粉的高频等离子法生产设备对球形硅微粉进行生产处理。
然而，现有的球形硅微粉设备在使用的过程中存在以下的问题：(1)球形硅微粉设备在对球形硅微粉生产磨粉的过程中成品中容易出现细密度不合格的情况，导致成品质量不合格；(2)在对成品球形硅微粉进行下料的过程中，容易出现粉尘扬起的情况，导致污染。为此，需要设计相应的技术方案解决存在的技术问题。
发明内容
本发明的目的在于提供一种球形硅微粉的高频等离子法生产装置，解决了球形硅微粉设备在对球形硅微粉生产磨粉的过程中成品中容易出现细密度不合格的情况，导致成品质量不合格，这一技术问题。
为实现上述目的，本发明提供如下技术方案：一种球形硅微粉的高频等离子法生产装置，包括球形硅微粉生产设备，包括球形硅微粉生产设备按照球形硅微粉处理流程依次设置有磨粉机体、安装架、下料漏斗、选料磨粉机构、旋转导料器和降尘盛料容器，所述安装架包括立柱和安装于立柱左上角的托板，所述立柱垂直安装于地面，所述磨粉机体安装于托板上，所述下料漏斗位于磨粉机体的正下方且下方与选料磨粉机构相连接，所述选料磨粉机构由选料室、碎料辊、分选板和传送磨粉器组成，所述选料室的上端开设有入料口，所述入料口与下料漏斗相连通，所述碎料辊安装于入料口处，所述分选板呈倾斜状安装于选料室的内部且表面开设有若干组筛选孔，所述传送磨粉器安装于分选板的下端，所述旋转导料器安装于选料室的末端且包括支撑架和安装于支撑架上的螺旋管，所述支撑架上安装有驱动电机，所述驱动电机的动力输出端与螺旋管相连接，所述螺旋管的末端与降尘盛料容器相连接。
作为本发明的一种优选实施方式，所述下料漏斗的内部呈倾斜状开设有下料腔道，所述下料腔道的左上角安装有导料管，所述导料管的上端与磨粉机体的下料口相连接。
作为本发明的一种优选实施方式，所述碎料辊包括主辊和安装于主辊一端的伺服电机，所述伺服电机的动力输出端与主辊相连接，所述主辊的表面上均匀安装有若干组碎料刀片。
作为本发明的一种优选实施方式，所述传送磨粉器由主轮、导向轮、皮带、磨粉筒和卷料垫组成，所述主轮对称设置有两组，所述导向轮分设有四组且均匀安装于两组主轮的外围，所述导向轮与主轮之间通过两组皮带相连接，所述磨粉筒安装于两组主轮之间，所述磨粉筒的下沿与卷料垫相连接，所述卷料垫的下端位于分选板上。
作为本发明的一种优选实施方式，所述磨粉筒为双层结构且包括外筒和内筒，所述外筒与内筒之间形成有磨粉腔道，所述磨粉腔道的内部安装有研磨片，相邻两组所述研磨片对称设置，所述内筒的一端设置有电机一，所述电机一的动力输出端与内筒的端部相连接。
作为本发明的一种优选实施方式，所述外筒的表面加工成型有若干组凸块，所述凸块的表面均匀开设有若干组槽孔，所述槽孔与磨粉腔道相连通。
作为本发明的一种优选实施方式，所述螺旋管为三段式结构且从左至右依次设置有活动环、主管和喇叭状漏斗，所述活动环上安装有从动轮，所述从动轮的下端啮合连接有驱动轮，所述主管的末端与喇叭状漏斗相连接。
作为本发明的一种优选实施方式，所述降尘盛料容器包括盛纳容器和安装于盛纳容器顶部的顶部，所述盛纳容器的一侧安装有抽气管，所述抽气管连接有真空泵。
与现有技术相比，本发明的有益效果如下：
1.本发明设计了一种专门用于球形硅微粉的生产设备，该生产设备按照球形硅微粉处理流程依次设置有磨粉机体、安装架、下料漏斗、选料磨粉机构、旋转导料器和降尘盛料容器，通过磨粉机体进行磨粉处理，并将处理好的球形硅微粉导入下方的下料漏斗内，通过下料漏斗对球形硅微粉进行收纳并利用选料磨粉机构内置的筛网对球形硅微粉进行细密度筛选处理，筛选合格的通过下方的导流道外排，不达标的则下流至下方的粉料器内，通过粉料器对球形硅微粉进行二次处理并最终合格的球形硅微粉导入至旋转导料器内，通过旋转导料器内置对球形硅微粉进行走料处理，并利用降尘盛料容器对球形硅微粉进行下料，避免在下料的过程中粉尘扬起的可能性。
2.本发明所设计的球形硅微粉生产设备，采用全自动的下料处理方式，在下料的过程中对球形硅微粉的细密度进行检测并通过内置的选料磨粉机构对球形硅微粉进行分选以及二次处理，提高球形硅微粉的合格率并利用降尘盛料容器对球形硅微粉进无扬尘处理。
附图说明
图1为本发明的整体结构图；
图2为本发明所述传送磨粉器结构图；
图3为本发明所述磨粉筒结构图；
图4为本发明所述研磨片结构图；
图5为本发明所述旋转导料器结构图。
图中:1、磨粉机体；2、下料漏斗；3、立柱；4、托板；5、选料室；6、碎料辊；7、分选板；8、传送磨粉器；9、入料口；10、筛选孔；11、支撑架；12、螺旋管；13、驱动电机；14、下料腔道；15、导料管；16、主辊；17、伺服电机；18、碎料刀片；19、主轮；20、导向轮；21、皮带；22、磨粉筒；23、卷料垫；24、外筒；25、内筒；26、磨粉腔道；27、研磨片；28、电机一；29、凸块；30、槽孔；31、活动环；32、主管；33、喇叭状漏斗；34、从动轮；35、驱动轮；36、盛纳容器；37、顶板；38、抽气管；39、真空泵。
具体实施方式
下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。
实施例1：请参阅图1-5，本发明提供一种技术方案：一种球形硅微粉的高频等离子法生产装置，包括球形硅微粉生产设备，包括球形硅微粉生产设备按照球形硅微粉处理流程依次设置有磨粉机体1、安装架、下料漏斗2、选料磨粉机构、旋转导料器和降尘盛料容器，安装架包括立柱3和安装于立柱3左上角的托板4，立柱3垂直安装于地面，磨粉机体1安装于托板4上，下料漏斗2位于磨粉机体1的正下方且下方与选料磨粉机构相连接，选料磨粉机构由选料室5、碎料辊6、分选板7和传送磨粉器8组成，选料室5的上端开设有入料口9，入料口9与下料漏斗2相连通，碎料辊6安装于入料口9处，分选板7呈倾斜状安装于选料室5的内部且表面开设有若干组筛选孔10，传送磨粉器8安装于分选板7的下端，旋转导料器安装于选料室5的末端且包括支撑架11和安装于支撑架11上的螺旋管12，支撑架11上安装有驱动电机13，驱动电机13的动力输出端与螺旋管12相连接，螺旋管12的末端与降尘盛料容器相连接。
实施例2，如图1，本实施例的技术方案为安装在上述球形硅微粉生产设备上的下料漏斗2，下料漏斗2的内部呈倾斜状开设有下料腔道14，下料腔道14的左上角安装有导料管15，导料管15的上端与磨粉机体1的下料口相连接。
实施例3，如图1，本实施例的技术方案为安装在上述球形硅微粉生产设备上的碎料辊6，碎料辊6包括主辊16和安装于主辊16一端的伺服电机17，伺服电机17的动力输出端与主辊16相连接，主辊16的表面上均匀安装有若干组碎料刀片18，碎料刀片18对下流的球形硅微粉进行进一步处理避免成块。
实施例4，如图2、3，本实施例的技术方案为安装在上述球形硅微粉生产设备上的传送磨粉器8，传送磨粉器8由主轮19、导向轮20、皮带21、磨粉筒22和卷料垫23组成，主轮19对称设置有两组，导向轮20分设有四组且均匀安装于两组主轮19的外围，导向轮20与主轮19之间通过两组皮带21相连接，磨粉筒22安装于两组主轮19之间，磨粉筒22的下沿与卷料垫23相连接，卷料垫23的下端位于分选板7上。
磨粉筒22为双层结构且包括外筒24和内筒25，外筒24与内筒25之间形成有磨粉腔道26，磨粉腔道26的内部安装有研磨片27，相邻两组研磨片27对称设置，内筒25的一端设置有电机一28，电机一28的动力输出端与内筒25的端部相连接，通过电机一28带动主筒25转动从而达到研磨片27转动，研磨片27在转动的过程中对球形硅微粉进行进一步的处理。
外筒24的表面加工成型有若干组凸块29，凸块29的表面均匀开设有若干组槽孔30，槽孔30与磨粉腔道26相连通，将不达标的球形硅微粉导入磨粉腔道26内。
实施例5，如图2，本实施例的技术方案为安装在上述球形硅微粉生产设备上的螺旋管12，螺旋管12为三段式结构且从左至右依次设置有活动环31、主管32和喇叭状漏斗33，活动环31上安装有从动轮34，从动轮34的下端啮合连接有驱动轮35，主管32的末端与喇叭状漏斗33相连接，这样的设计方式便于驱动螺旋管12转动并将球形硅微粉外导处理。
具体地，降尘盛料容器包括盛纳容器36和安装于盛纳容器36顶部的顶部，盛纳容器36的一侧安装有抽气管38，抽气管38连接有真空泵39，减小扬尘的可能性。
在使用时：本发明设计了一种专门用于球形硅微粉的生产设备，该生产设备按照球形硅微粉处理流程依次设置有磨粉机体1、安装架、下料漏斗2、选料磨粉机构、旋转导料器和降尘盛料容器，通过磨粉机体1进行磨粉处理，并将处理好的球形硅微粉导入下方的下料漏斗2内，通过下料漏斗2对球形硅微粉进行收纳并利用选料磨粉机构内置的筛网对球形硅微粉进行细密度筛选处理，筛选合格的通过下方的导流道外排，不达标的则下流至下方的粉料器内，通过粉料器对球形硅微粉进行二次处理并最终合格的球形硅微粉导入至旋转导料器内，通过旋转导料器内置对球形硅微粉进行走料处理，并利用降尘盛料容器对球形硅微粉进行下料，避免在下料的过程中粉尘扬起的可能性。
最后应说明的是：以上所述仅为本发明的优选实施例而已，并不用于限制本发明，尽管参照前述实施例对本发明进行了详细的说明，对于本领域的技术人员来说，其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分技术特征进行等同替换。凡在本发明的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本发明的保护范围之内。

Claims (8)

1.一种球形硅微粉的高频等离子法生产装置，包括球形硅微粉生产设备，其特征在于：包括球形硅微粉生产设备按照球形硅微粉处理流程依次设置有磨粉机体(1)、安装架、下料漏斗(2)、选料磨粉机构、旋转导料器和降尘盛料容器，所述安装架包括立柱(3)和安装于立柱(3)左上角的托板(4)，所述立柱(3)垂直安装于地面，所述磨粉机体(1)安装于托板(4)上，所述下料漏斗(2)位于磨粉机体(1)的正下方且下方与选料磨粉机构相连接，所述选料磨粉机构由选料室(5)、碎料辊(6)、分选板(7)和传送磨粉器(8)组成，所述选料室(5)的上端开设有入料口(9)，所述入料口(9)与下料漏斗(2)相连通，所述碎料辊(6)安装于入料口(9)处，所述分选板(7)呈倾斜状安装于选料室(5)的内部且表面开设有若干组筛选孔(10)，所述传送磨粉器(8)安装于分选板(7)的下端，所述旋转导料器安装于选料室(5)的末端且包括支撑架(11)和安装于支撑架(11)上的螺旋管(12)，所述支撑架(11)上安装有驱动电机(13)，所述驱动电机(13)的动力输出端与螺旋管(12)相连接，所述螺旋管(12)的末端与降尘盛料容器相连接。
2.根据权利要求1所述的一种球形硅微粉的高频等离子法生产装置，其特征在于：所述下料漏斗(2)的内部呈倾斜状开设有下料腔道(14)，所述下料腔道(14)的左上角安装有导料管(15)，所述导料管(15)的上端与磨粉机体(1)的下料口相连接。
3.根据权利要求1所述的一种球形硅微粉的高频等离子法生产装置，其特征在于：所述碎料辊(6)包括主辊(16)和安装于主辊(16)一端的伺服电机(17)，所述伺服电机(17)的动力输出端与主辊(16)相连接，所述主辊(16)的表面上均匀安装有若干组碎料刀片(18)。
4.根据权利要求1所述的一种球形硅微粉的高频等离子法生产装置，其特征在于：所述传送磨粉器(8)由主轮(19)、导向轮(20)、皮带(21)、磨粉筒(22)和卷料垫(23)组成，所述主轮(19)对称设置有两组，所述导向轮(20)分设有四组且均匀安装于两组主轮(19)的外围，所述导向轮(20)与主轮(19)之间通过两组皮带(21)相连接，所述磨粉筒(22)安装于两组主轮(19)之间，所述磨粉筒(22)的下沿与卷料垫(23)相连接，所述卷料垫(23)的下端位于分选板(7)上。
5.根据权利要求4所述的一种球形硅微粉的高频等离子法生产装置，其特征在于：所述磨粉筒(22)为双层结构且包括外筒(24)和内筒(25)，所述外筒(24)与内筒(25)之间形成有磨粉腔道(26)，所述磨粉腔道(26)的内部安装有研磨片(27)，相邻两组所述研磨片(27)对称设置，所述内筒(25)的一端设置有电机一(28)，所述电机一(28)的动力输出端与内筒(25)的端部相连接。
6.根据权利要求5所述的一种球形硅微粉的高频等离子法生产装置，其特征在于：所述外筒(24)的表面加工成型有若干组凸块(29)，所述凸块(29)的表面均匀开设有若干组槽孔(30)，所述槽孔(30)与磨粉腔道(26)相连通。
7.根据权利要求1所述的一种球形硅微粉的高频等离子法生产装置，其特征在于：所述螺旋管(12)为三段式结构且从左至右依次设置有活动环(31)、主管(32)和喇叭状漏斗(33)，所述活动环(31)上安装有从动轮(34)，所述从动轮(34)的下端啮合连接有驱动轮(35)，所述主管(32)的末端与喇叭状漏斗(33)相连接。
8.根据权利要求1所述的一种球形硅微粉的高频等离子法生产装置，其特征在于：所述降尘盛料容器包括盛纳容器(36)和安装于盛纳容器(36)顶部的顶部，所述盛纳容器(36)的一侧安装有抽气管(38)，所述抽气管(38)连接有真空泵(39)。
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