CN114185247A - 固化性着色组合物 - Google Patents

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Abstract

本发明提供一种对表面粗糙度降低的滤色器的制造有用的固化性着色组合物。本发明的固化性着色组合物包含着色剂(A)、树脂(B)、有机硅化合物(C)、聚合性化合物(D)和聚合引发剂(E)，上述有机硅化合物(C)满足条件(1)。〈条件(1)〉将混合物(H)旋涂于玻璃基板，以230℃烘烤20分钟，由此形成的涂膜与离子交换水的接触角为70°以上，所述混合物(H)包含具有式(1)的结构单元的树脂(B－1)、上述有机硅化合物(C)、流平剂(F)和溶剂(G)且在固体成分的总量100质量％中上述有机硅化合物(C)的含量为21质量％。

Description

固化性着色组合物
技术领域
本发明涉及一种固化性着色组合物。
背景技术
液晶显示装置、电致发光显示装置和等离子显示器等显示装置、CCD、CMOS传感器等固体摄像元件中使用的滤色器由固化性着色组合物来制造。作为这样的固化性着色组合物，已知含有具有聚氧化烯的二甲基聚硅氧烷等表面调节剂和有机溶剂的液体着色组合物(专利文献1)。
现有技术文献
专利文献
专利文献1：日本特开2007－186683号公报
发明内容
本发明的课题在于提供一种对与以往相比表面粗糙度降低的固化膜(例如，滤色器)的制造有用的固化性着色组合物。
本发明包含以下的发明。
[1]一种固化性着色组合物，其特征在于，包含着色剂(A)、树脂(B)、有机硅化合物(C)、聚合性化合物(D)和聚合引发剂(E)，
上述有机硅化合物(C)满足条件(1)。
〈条件(1)〉
将混合物(H)旋涂于玻璃基板，以230℃烘烤20分钟，由此形成的涂膜与离子交换水的接触角为70°以上，所述混合物(H)包含具有式(1)的结构单元的树脂(B－1)、上述有机硅化合物(C)、流平剂(F)和溶剂(G)且在固体成分的总量100质量％中上述有机硅化合物(C)的含量为21质量％。
Figure BDA0003254189920000021
[2]根据[1]所述的固化性着色组合物，其中，上述着色剂(A)包含染料。
[3]根据[2]所述的固化性着色组合物，其中，上述染料为成盐化合物和/或呫吨染料。
[4]根据[3]所述的固化性着色组合物，其中，上述成盐化合物为三芳基甲烷系成盐化合物。
[5]根据[1]～[4]中任一项所述的固化性着色组合物，其中，上述有机硅化合物(C)相对于上述固化性着色组合物的总量的含有率为2.0质量％以下。
[6]根据[1]～[5]中任一项所述的固化性着色组合物，其能够形成表面的算术平均粗糙度Ra为6.0以下的固化膜。
[7]一种滤色器，是由[1]～[6]中任一项所述的固化性着色组合物形成的。
[8]一种显示装置，包含[7]所述的滤色器。
由本发明的固化性着色组合物形成的固化膜的表面粗糙度降低。
具体实施方式
本发明的固化性着色组合物包含着色剂(以下，有时称为“着色剂(A)”)、树脂(以下，有时称为“树脂(B)”)、有机硅化合物(以下，有时称为“有机硅化合物(C)”)、聚合性化合物(以下，有时称为“聚合性化合物(D)”)和聚合引发剂(以下，有时称为“聚合引发剂(E)”)。进而，有机硅化合物(C)满足条件(1)。
〈条件(1)〉
将混合物(H)旋涂于玻璃基板，以230℃烘烤20分钟，由此形成的涂膜与离子交换水的接触角为70°以上，所述混合物(H)包含具有式(1)的结构单元的树脂(B－1)、有机硅化合物(C)、流平剂(F)和溶剂(G)且在固体成分的总量100质量％中有机硅化合物(C)的含量为21质量％。
Figure BDA0003254189920000031
通过使固化性着色组合物含有满足上述条件(1)的有机硅化合物(C)，能够降低由该固化性着色组合物形成的固化膜的表面粗糙度。
本发明的固化性着色组合物优选进一步含有流平剂(以下，有时称为流平剂(F))。本发明的固化性着色组合物优选进一步含有溶剂(以下，有时称为溶剂(G))。
以下对各成分进行详述。本说明书中，作为各成分而例示的化合物只要没有特别说明，就可以单独或组合多种使用。
＜着色剂(A)＞
着色剂(A)优选包含染料。由于有机硅化合物(C)容易作用于染料，因此容易发挥后述的由有机硅化合物(C)所带来的表面粗糙度的降低效果。另外，该染料优选为成盐化合物。成盐化合物具有离子键。
作为染料，可优选举出三芳基甲烷染料、香豆素染料、花青染料、方酸
Figure BDA0003254189920000032
染料、呫吨染料，更优选三芳基甲烷染料、呫吨染料。从提高对比度的观点考虑，进一步优选三芳基甲烷染料，从降低表面粗糙度的观点考虑，进一步优选呫吨染料。这些染料可以分别单独使用，也可以并用2种以上。
作为成盐化合物，可优选举出三芳基甲烷系成盐化合物、香豆素系成盐化合物、花青系成盐化合物、方酸
Figure BDA0003254189920000033
系成盐化合物、呫吨系成盐化合物，更优选呫吨系成盐化合物、三芳基甲烷系成盐化合物，进一步优选三芳基甲烷系成盐化合物。这些成盐化合物可以分别单独使用，也可以并用2种以上。作为香豆素系成盐化合物、花青系成盐化合物、方酸
Figure BDA0003254189920000034
系成盐化合物，可优选举出日本特开2018－194747号公报中记载的香豆素系成盐化合物、花青系成盐化合物、方酸
Figure BDA0003254189920000035
系成盐化合物。作为呫吨染料，可举出日本特开2013－234319号公报中记载的呫吨染料，作为呫吨系成盐化合物，可优选举出呫吨染料中的具有离子键的化合物。以下，对三芳基甲烷系成盐化合物和呫吨染料进行详述。
＜三芳基甲烷系成盐化合物＞
三芳基甲烷系成盐化合物可以是由具有三芳基甲烷骨架的阳离子和不具有三芳基甲烷骨架的阴离子构成的化合物，也可以是由具有三芳基甲烷骨架的阴离子和不具有三芳基甲烷骨架的阳离子构成的化合物。三芳基甲烷骨架是指1个碳键合有3个芳香族环的骨架，优选该3个芳香族环中的2个为芳香族烃环、1个为芳香族杂环的骨架。
三芳基甲烷系成盐化合物优选为选自式(A1)表示的化合物(以下，有时称为化合物(A1))和式(A2)表示的化合物(以下，有时称为化合物(A2))中的至少1种，更优选为化合物(A1)。
＜＜化合物(A1)＞＞
Figure BDA0003254189920000041
[式(A1)中，
R41b～R44b各自独立地表示氢原子、碳原子数1～20的饱和烃基、可具有取代基的碳原子数6～20的芳香族烃基、或者可具有取代基的碳原子数7～30的芳烷基，该芳香族烃基和该芳烷基可具有的取代基可以是－SO3 －或－SO2－N－－SO2－Rf，该饱和烃基中含有的氢原子可以被取代为取代或非取代的氨基或卤素原子，该饱和烃基的碳原子数为2～20时，该饱和烃基中含有的－CH2－可以取代为－O－或－CO－。但是，该碳原子数2～20的饱和烃基中，邻接的－CH2－不同时取代为－O－。R41b和R42b可以键合并与它们所键合的氮原子一起形成环，R43b和R44b可以键合并与它们所键合的氮原子一起形成环。
R47b～R54b各自独立地表示氢原子、卤素原子、硝基、羟基、－SO3 －、－SO2－N－－SO2－Rf或碳原子数1～8的烷基，构成该烷基的－CH2－可以取代为－O－或－CO－，R48b和R52b可以相互键合而形成－NH－、－S－或－SO2－。但是，该烷基中，邻接的－CH2－不同时取代为－O－。
环T2b表示碳原子数3～10的芳香族杂环或碳原子数6～10的芳香族烃环，该芳香族杂环和该芳香族烃环可以具有碳原子数1～20的饱和烃基、取代或非取代的氨基或可具有取代基的碳原子数6～20的芳香族烃基。该芳香族烃基可具有的取代基可以是－SO3 －或－SO2－N－－SO2－Rf。
Mr+表示r价的金属离子。
k表示R41b～R44b、R47b～R54b和环T2b所具有的－SO3 －的个数与－SO2－N－－SO2－Rf的个数之和。
r表示1以上的整数。
Rf表示碳原子数1～12的氟烷基。
其中，R41b～R44b、R47b～R54b和环T2b具有至少1个－SO3 －或－SO2－N－－SO2－Rf。
应予说明，1分子中含有多个下述式表示的结构时，它们可以是相同的结构，也可以是不同的结构。
Figure BDA0003254189920000051
[式中，环T2b、R41b～R44b和R47b～R54b分别与上述含义相同。]]
环T2b表示的芳香族杂环可以是单环或稠合环。环T2b表示的芳香族杂环的碳原子数优选为3～10，更优选为3～8。另外，芳香族杂环优选为5～10元环，更优选为5～9元环。作为单环的芳香族杂环，例如，可举出吡咯环、
Figure BDA0003254189920000052
唑环、吡唑环、咪唑环、噻唑环等含有氮原子的5元环；呋喃环、噻吩环等不含有氮原子的5元环；吡啶环、嘧啶环、哒嗪环、吡嗪环等含有氮原子的6元环；等，作为稠合环的芳香族杂环，可举出吲哚环、苯并咪唑环、苯并噻唑环、喹啉环等含有氮原子的稠合环；苯并呋喃环等不含有氮原子的稠合环；等。
其中，作为环T2b的芳香族杂环，优选含有氮原子的芳香族杂环，更优选含有氮原子的5元环的芳香族杂环。
作为环T2b的芳香族杂环可具有的取代基，可举出卤素原子、氰基、可具有取代基的碳原子数1～20的饱和烃基、取代或非取代的氨基或可具有取代基的碳原子数6～20的芳香族烃基等，可优选举出碳原子数1～20的饱和烃基、取代或非取代的氨基、或者可具有取代基的碳原子数6～20的芳香族烃基。环T2b优选具有可具有取代基的氨基，作为该氨基可具有的取代基，优选碳原子数1～20的饱和烃基、可具有取代基的碳原子数6～10的芳香族烃基、可具有取代基的碳原子数7～30的芳烷基等。
环T2b优选为式(A1－t1)表示的环。
Figure BDA0003254189920000061
[式(A1－t1)中，
R56b表示氢原子、碳原子数1～20的饱和烃基、或可具有取代基的碳原子数6～20的芳香族烃基。
X2b表示氧原子、－N(R57b)－或硫原子。
R57b表示氢原子或碳原子数1～10的烷基。
R45b和R46b各自独立地表示氢原子、可具有取代基的碳原子数1～20的饱和烃基、可具有取代基的碳原子数6～20的芳香族烃基或可具有取代基的碳原子数7～30的芳烷基，该饱和烃基的碳原子数为2～20时，该饱和烃基中含有的－CH2－可以取代为－O－或－CO－。但是，该碳原子数2～20的饱和烃基中，邻接的－CH2－不同时取代为－O－。R45b和R46b可以键合并与它们所键合的氮原子一起形成环。
＊表示与碳正离子的键合位点。]
另外，环T2b优选为式(A1－t2)表示的环。
Figure BDA0003254189920000062
[式(A1－t2)中，
R59b表示氢原子、可具有取代基的碳原子数1～20的饱和烃基、可具有取代基的碳原子数6～20的芳香族烃基、或可具有取代基的碳原子数7～30的芳烷基。
R60b表示氢原子、碳原子数1～20的饱和烃基、或可具有取代基的碳原子数6～20的芳香族烃基。
R61b表示氢原子、－SO3 －、或－SO2－N－－SO2－Rf。
＊表示与碳正离子的键合位点。]
作为环T2b表示的芳香族烃环，可举出苯环、萘环等。作为环T2b表示的芳香族烃环可具有的取代基，可举出上述的芳香族杂环可具有的取代基。
R41b～R46b、R56b和R59b～R60b表示的碳原子数1～20的饱和烃基、以及环T2b可具有的氨基可具有的碳原子数1～20的饱和烃基可以是直链状、支链状和环状中的任一者。作为直链状或支链状的饱和烃基，可举出甲基、乙基、丙基、丁基、戊基、己基、庚基、辛基、壬基、癸基、十二烷基、十六烷基、二十烷基等直链状烷基；异丙基、异丁基、异戊基、新戊基、2－乙基己基等支链状烷基等。该饱和烃基的碳原子数优选为1～10，更优选为1～8，进一步优选为1～6。
R41b～R46b、R56b和R59b～R60b表示的环状的饱和烃基、以及环T2b可具有的氨基可具有的环状的饱和烃基可以是单环或多环。作为该环状的饱和烃基，可举出环丙基、环丁基、环戊基、环己基、金刚烷基等脂环式饱和烃基。该环状的饱和烃基的碳原子数优选为3～10，更优选为6～10。
R41b～R46b、R56b和R59b～R60b表示的饱和烃基、以及环T2b可具有的氨基可具有的饱和烃基可以具有取代或非取代的氨基或者卤素原子作为取代基。作为取代氨基，例如，可举出甲基氨基、二甲基氨基、二乙基氨基等烷基氨基。另外，作为卤素原子，可举出氟原子、氯原子、溴原子、碘原子。另外，卤素原子为氟原子时，具有氟原子作为取代基的饱和烃基优选为三氟甲基、全氟乙基、全氟丙基等全氟烷基。
作为R47b～R54b表示的碳原子数1～8的烷基，可举出作为R41b表示的饱和烃基所例示的直链状或支链状的饱和烃基中的碳原子数1～8的基团。
另外，作为R57b表示的碳原子数1～10的烷基，可举出作为R41b表示的饱和烃基所例示的直链状或支链状的饱和烃基中的碳原子数1～10的基团。
R41b～R46b表示的饱和烃基的碳原子数为2～20时，该饱和烃基中含有的－CH2－可以取代为－O－或－CO－。但是，该碳原子数2～20的饱和烃基中，邻接的－CH2－不同时取代为－O－。该情况下，作为饱和烃基，优选直链状或支链状的饱和烃基(即直链状或支链状烷基)，更优选直链状的饱和烃基(即直链状烷基)。－CH2－可取代为－O－或－CO－的饱和烃基所优选的碳原子数为2～10，更优选为2～8。另外，－CH2－被取代为－O－或－CO－时，末端与－O－或－CO－之间或者－O－或－CO－与－O－或－CO－之间的碳原子数优选为1～5，更优选为2～3，进一步优选为2。
另外，R41b～R46b、R56b和R59b～R60b表示的可具有取代基的芳香族烃基、以及环T2b可具有的氨基可具有的芳香族烃基(其中，该芳香族烃基可以具有取代基)的碳原子数优选为6～20，更优选为6～15，进一步优选为6～12。作为该芳香族烃基，可举出苯基、甲苯基、二甲苯基、萘基、蒽基、菲基、联苯基、三联苯基等，优选苯基、甲苯基、二甲苯基、萘基，特别优选苯基、甲苯基、二甲苯基。另外，该芳香族烃基可以具有1个或2个以上的取代基。作为该取代基，可举出氟原子、氯原子、碘原子、溴原子等卤素原子；甲氧基、乙氧基等碳原子数1～6的烷氧基；羟基；氨磺酰基；甲基磺酰基等碳原子数1～6的烷基磺酰基；甲氧基羰基、乙氧基羰基等碳原子数1～6的烷氧基羰基；－SO3 －；－SO2－N－－SO2－Rf；等，优选为氟原子、氯原子、碘原子、溴原子等卤素原子；－SO3 －；－SO2－N－－SO2－Rf，更优选为氟原子或－SO3 －。其中，优选－SO3 －和－SO2－N－－SO2－Rf直接键合于芳香族烃基的芳香族烃环，即，将键合于芳香族烃环的氢原子取代。
作为可具有取代基的芳香族烃基的具体例，例如，可举出下述式表示的基团。下述式中，＊表示键合位点。
Figure BDA0003254189920000091
作为R41b～R46b、R59b表示的可具有取代基的芳烷基、以及环T2b可具有的氨基可具有的芳烷基(其中，该芳烷基可以具有取代基)，可举出作为上述芳香族烃基所说明的基团键合有亚甲基、亚乙基、亚丙基等碳原子数1～10(优选碳原子数1～5)的链烷二基的基团等。该芳烷基的碳原子数优选为7～30，更优选为7～20，进一步优选为7～17。
作为R41b和R42b键合并与它们键合的氮原子一起形成的环、R43b和R44b键合并与它们键合的氮原子一起形成的环、以及R45b和R46b键合并与它们键合的氮原子一起形成的环，可举出吡咯烷环、吗啉环、哌啶环、哌嗪环等含氮非芳香族4～7元环，可优选举出吡咯烷环、哌啶环等仅具有1个氮原子作为杂原子的4～7元环。
其中，作为R41b～R44b、R56b、R59b～R60b，优选各自独立地为碳原子数1～20的饱和烃基或可具有取代基的芳香族烃基，更优选各自独立地为碳原子数1～8的饱和烃基或下述式表示的基团，R41b和R43b进一步优选各自独立地为碳原子数1～20的饱和烃基，R42b和R44b进一步优选各自独立地为可具有取代基的芳香族烃基，R56b进一步优选为可具有取代基的芳香族烃基。
R56b、R59b～R60b更进一步优选为下述式表示的基团。下述式中，＊表示键合位点。
Figure BDA0003254189920000101
R45b～R46b优选各自独立地为构成碳原子数1～20的饱和烃基、碳原子数2～20的烷基的－CH2－被取代为－O－或－CO－的基团、或者可具有取代基的芳香族烃基，或者R45b和R46b键合并与它们键合的氮原子一起形成环。R45b～R46b更优选各自独立地为碳原子数1～8的饱和烃基、烷氧基烷基、下述式表示的基团，或者为可具有取代基的芳香族烃基，或者R45b和R46b键合而形成仅具有1个氮原子作为杂原子的4～7元环，进一步优选各自独立地为碳原子数1～8的饱和烃基、或具有取代基的芳香族烃基，或者为烷氧基烷基或下述式表示的基团。其中，更进一步优选R45b为碳原子数1～4的饱和烃基、R46b为甲苯基。下述式中，＊表示与氮原子的键合位点。
Figure BDA0003254189920000111
另外，作为构成R47b～R54b表示的碳原子数2～8的烷基的－CH2－被取代为－O－或－CO－的基团(但是，该烷基中，邻接的－CH2－不同时取代为－O－)，可举出构成上述R41b～R46b表示的碳原子数2～20的烷基的－CH2－被取代为－O－或－CO－的基团中的碳原子数8以下的基团。
R47b～R54b优选各自独立地为氢原子、卤素原子或碳原子数1～8的烷基，更优选各自独立地为氢原子、甲基、氟原子或氯原子，进一步优选各自独立地为氢原子。
另外，作为R57b，优选氢原子或碳原子数1～5的烷基。
作为R61b，优选氢原子。
作为X2b，优选为－S－。
作为Mr+表示的r价的金属离子，可举出锂离子、钠离子、钾离子等碱金属离子；铍离子、镁离子、钙离子、锶离子、钡离子等碱土金属离子；钛离子、锆离子、铬离子、锰离子、铁离子、钴离子、镍离子、铜离子等过渡金属离子；锌离子、镉离子、铝离子、铟离子、锡离子、铅离子、铋离子等典型金属离子等。r为1以上，优选为2以上，优选为5以下，更优选为4以下，进一步优选为3以下。
作为Mr+，更优选碱土金属离子、典型金属离子等，进一步优选碱土金属离子、锌离子，更进一步优选碱土金属离子。
式(A1)中，Mr+的个数是比R41b～R44b、R47b～R54b和环T2b所具有的－SO3 －的个数与－SO2－N－－SO2－Rf的个数之和(k)少1的数。因此化合物(A1)的价数为0，即，为电中性化合物。
作为Rf表示的碳原子数1～12的氟烷基，可举出单氟甲基、二氟甲基、全氟甲基、单氟乙基、二氟乙基、三氟乙基、四氟乙基、全氟乙基、单氟丙基、二氟丙基、三氟丙基、四氟丙基、五氟丙基、六氟丙基、全氟丙基、单氟丁基、二氟丁基、三氟丁基、四氟丁基、五氟丁基、六氟丁基、七氟丁基、八氟丁基、全氟丁基等。其中，作为Rf表示的氟烷基，优选全氟烷基。另外，Rf表示的氟烷基的碳原子数优选为1～10，更优选为1～5，进一步优选为1～3。
式(A1)中，R41b～R44b、R47b～R54b和环T2b具有至少1个－SO3 －或－SO2－N－－SO2－Rf，优选具有至少1个－SO3 －。R41b～R44b、R47b～R54b和环T2b所具有的－SO3 －和－SO2－N－－SO2－Rf的个数之和(k)优选为1～7，更优选为2～7，进一步优选为2～4，更进一步优选为2或3，特别优选为2。
－SO3 －或－SO2－N－－SO2－Rf优选满足选自以下的(Ia)～(Id)中的至少1个以上的条件，更优选满足选自(Ia)和(Ib)中的至少1个以上的条件。
(Ia)作为上述R47b～R54b中的任一者而含有
(Ib)键合于R41b～R44b表示的可具有取代基的碳原子数6～20的芳香族烃基中的任一者
(Ic)键合于R41b～R44b表示的可具有取代基的碳原子数7～30的芳烷基中的任一者
(Id)键合于取代T2b表示的芳香族杂环的氢原子的碳原子数6～20的芳香族烃基中的任一者
其中，－SO3 －或－SO2－N－－SO2－Rf键合于芳香族烃基或芳烷基时，－SO3 －或－SO2－N－－SO2－Rf优选直接键合于芳香族烃基或芳烷基的芳香族烃环。即，－SO3 －或－SO2－N－－SO2－Rf优选取代键合于芳香族烃环的氢原子。
－SO3 －或－SO2－N－－SO2－Rf优选在R41b～R44b表示的可具有取代基的碳原子数6～20的芳香族烃基或R41b～R44b表示的可具有取代基的碳原子数7～30的芳烷基中的芳香族烃环(例如苯环)中相对于与氮原子的键合位置键合于对位。
化合物(A1)含有多个－SO3 －或－SO2－N－－SO2－Rf时，多个－SO3 －或－SO2－N－－SO2－Rf可以键合于同一芳香族烃环，优选键合于不同的芳香族烃环。
化合物(A1)优选不具有烯键式不饱和键。
化合物(A1)优选为下述式(II－1)表示的化合物(以下，有时称为化合物(II－1))。
Figure BDA0003254189920000131
[式(II－1)中，
R81b～R90b各自独立地表示氢原子、碳原子数1～20的饱和烃基、卤素原子、－SO3 －或－SO2－N－－SO2－Rf。
k1表示R41b、R43b、R47b～R54b、R81b～R90b和环T2b所具有的－SO3 －的个数与－SO2－N－－SO2－Rf的个数之和。
R41b、R43b、R47b～R54b、T2b、Mr+、r、Rf与上述含义相同。
其中，R41b、R43b、R47b～R54b、R81b～R90b和环T2b具有至少1个－SO3 －或－SO2－N－－SO2－Rf。]
作为R81b～R90b表示的碳原子数1～20的饱和烃基，可举出与作为R41b表示的饱和烃基所例示的基团相同的基团。作为R81b～R90b，优选氢原子、碳原子数1～8的饱和烃基、－SO3 －或－SO2－N－－SO2－Rf，更优选氢原子、碳原子数1～4的饱和烃基、－SO3 －或－SO2－N－－SO2－Rf，进一步优选氢原子、碳原子数1～4的饱和烃基或－SO3 －。
－SO3 －或－SO2－N－－SO2－Rf优选满足选自(Ie)～(Ig)中的至少1个以上的条件，更优选满足选自(If)和(Ig)中的至少1个以上的条件，进一步优选满足(If)的条件。
(Ie)作为R47b～R54b中的任一者而含有
(If)作为R81b～R90b中的任一者而含有
(Ig)键合于取代T2b表示的芳香族杂环的氢原子的碳原子数6～20的芳香族烃基
－SO3 －或－SO2－N－－SO2－Rf更进一步优选满足(If’)的条件。
(If’)包含于R86b和R89b中的任一者或两者
式(II－1)中，R41b、R43b、R47b～R54b、R81b～R90b和环T2b所具有的－SO3 －和－SO2－N－－SO2－Rf的个数之和(k1)优选为1～7，更优选为1～4，进一步优选为1或2。
作为化合物(A1)，例如，可举出以下所示的化合物(式(A1－1)～式(A1－13)表示的化合物)。
Figure BDA0003254189920000141
Figure BDA0003254189920000151
Figure BDA0003254189920000161
Figure BDA0003254189920000171
式(A1－1)～式(A1－13)表示的化合物中，优选式(A1－7)、式(A1－11)或式(A1－13)表示的化合物，特别优选式(A1－7)表示的化合物。
＜＜化合物(A2)＞＞
Figure BDA0003254189920000181
[式(A2)中，
R11b～R14b各自独立地表示氢原子、碳原子数1～20的饱和烃基、可具有取代基的碳原子数6～20的芳香族烃基或可具有取代基的碳原子数7～30的芳烷基，该碳原子数1～20的饱和烃基中，该饱和烃基中含有的氢原子可以被取代为取代或非取代的氨基或者卤素原子，该饱和烃基的碳原子数为2～20时，该饱和烃基中含有的－CH2－可以被取代为－O－或－CO－。但是，该碳原子数2～20的饱和烃基中，邻接的－CH2－不同时取代为－O－。R11b和R12b可以键合并与它们所键合的氮原子一起形成环，R13b和R14b可以键合并与它们所键合的氮原子一起形成环。
R17b～R24b各自独立地表示氢原子、卤素原子、硝基、羟基、碳原子数1～8的烷基，构成该烷基的－CH2－可以被取代为－O－或－CO－。R18b和R22b可以相互键合而形成－NH－、－O－、－S－或－SO2－。
环T1b表示可具有取代基的碳原子数3～10的芳香族杂环或可具有取代基的碳原子数6～10的芳香族烃环。
[Y]m－表示含有选自钨、钼、硅和磷中的至少1个元素和氧的任意的m价阴离子。
m表示任意的自然数。
应予说明，1分子中含有多个下述式表示的结构时，它们可以是相同的结构，也可以是不同的结构。
Figure BDA0003254189920000191
[式中，环T1b、R11b～R14b和R17b～R24b分别与上述含义相同。]]
环T1b的芳香族杂环可以是单环或稠合环。
作为环T1b的芳香族杂环可具有的取代基，可举出卤素原子、氰基、可具有取代基的碳原子数1～20的烷基、可具有取代基的碳原子数6～20的芳香族烃基、可具有取代基的氨基等。环T1b优选具有可具有碳原子数1～10的烷基等取代基的氨基。
其中，环T1b的芳香族杂环优选为含有氮原子的芳香族杂环，更优选为含有氮原子的5元环的芳香族杂环。
进而，环T1b特别优选式(A2－t1)表示的环。
Figure BDA0003254189920000192
[式(A2－t1)中，
R26b表示氢原子、碳原子数1～20的饱和烃基、或可具有取代基的芳香族烃基。
X1b表示氧原子、－NR27b－或硫原子。
R27b表示氢原子或碳原子数1～10的烷基。
R15b和R16b相互独立地表示可具有取代基的碳原子数1～20的饱和烃基、碳原子数2～20的烷基且该烷基中含有的－CH2－可以由－O－取代的基团、可具有取代基的芳香族烃基、可具有取代基的芳烷基、或氢原子。R15b和R16b可以键合并与它们所键合的氮原子一起形成环。
但是，邻接的－CH2－不同时取代为－O－，另外，键合于氮原子的－CH2－也不取代为－O－。
＊表示与碳正离子的键合位点。]
作为环T1b的芳香族烃环，可举出苯环、萘环等。
作为环T1b的芳香族烃环可具有的取代基，可举出卤素原子、氰基、可具有取代基的碳原子数1～20的烷基、可具有取代基的碳原子数6～20的芳香族烃基、可具有取代基的氨基等。
R11b～R16b和R26b表示的碳原子数1～20的饱和烃基可以是直链、支链和环状中的任一种。作为直链或支链的饱和烃基，可举出甲基、乙基、丙基、丁基、戊基、己基、辛基、壬基、癸基、十二烷基、十六烷基、二十烷基等直链状烷基；异丙基、异丁基、异戊基、新戊基、2－乙基己基等支链状烷基等。该饱和烃基优选为碳原子数1～10，更优选为碳原子数1～8，进一步优选为碳原子数1～6。
R11b～R16b和R26b表示的环状的饱和烃基可以是单环或多环。作为该环状的饱和烃基，可举出环丙基、环丁基、环戊基、环己基、金刚烷基等。该环状的饱和烃基优选为碳原子数3～10，更优选为碳原子数6～10。
R11b～R16b和R26b的饱和烃基可以被卤素原子或可被取代的氨基所取代。作为可被取代的氨基，例如，可举出氨基；甲基氨基、二甲基氨基、二乙基氨基等烷基氨基。另外，作为卤素原子，可举出氟原子、氯原子、溴原子、碘原子等。另外，卤素原子为氟原子时，优选如形成三氟甲基单元、五氟乙基单元、七氟丙基单元等全氟烷基单元那样取代有卤素原子。
作为R17b～R24b表示的碳原子数1～8的烷基，可举出作为R11b表示的饱和烃基所例示的直链或支链的饱和烃基中的碳原子数1～8的基团。
另外，作为R27b表示的碳原子数1～10的烷基，可举出作为R11b表示的饱和烃基所例示的直链或支链的饱和烃基中的碳原子数1～10的基团。
R11b～R16b表示的饱和烃基(优选烷基)的碳原子数为2以上时，该饱和烃基(优选烷基)中含有的－CH2－可以被取代为－O－或－CO－，可以优选被取代为－O－。该饱和烃基(优选烷基)的优选的碳原子数为2～10，更优选为2～8。另外，－CH2－被取代为－O－或－CO－时，末端与－O－或－CO－之间或者－O－或－CO－与－O－或－CO－之间的碳原子数例如为1～5，优选为2～3，更优选为2。但是，邻接的－CH2－不同时取代为－O－。
另外，作为R11b～R16b和R26b表示的可具有取代基的芳香族烃基，优选为碳原子数6～20，更优选为碳原子数6～15，进一步优选为碳原子数6～12。作为该芳香族烃基，可举出苯基、甲苯基、二甲苯基、萘基、蒽基、菲基、联苯基、三联苯基等芳基，优选苯基、萘基、甲苯基、二甲苯基，特别优选苯基、甲苯基。另外，该芳香族烃基可以具有1个或2个以上的取代基，作为该取代基，可举出氟原子、氯原子、碘原子、溴原子等卤素原子；甲氧基、乙氧基等碳原子数1～6的烷氧基；羟基；氨磺酰基；甲基磺酰基等碳原子数1～6的烷基磺酰基；甲氧基羰基、乙氧基羰基等碳原子数1～6的烷氧基羰基；等。
作为R11b～R16b表示的可具有取代基的芳烷基，可举出上述作为芳香族烃基所说明的基团键合有亚甲基、亚乙基、亚丙基等碳原子数1～5的链烷二基的基团等。
作为R11b和R12b键合并与它们键合的氮原子一起形成的环、R13b和R14b键合并与它们键合的氮原子一起形成的环、以及R15b和R16b键合并与它们键合的氮原子一起形成的环，可举出吡咯烷环、吗啉环、哌啶环、哌嗪环等含氮非芳香族4～7元环，可优选举出吡咯烷环、哌啶环等仅具有1个氮原子作为杂原子的4～7元环。
其中，作为R11b～R14b和R26b，优选碳原子数1～20的饱和烃基或可具有取代基的芳香族烃基，更优选各自独立地为碳原子数1～8的饱和烃基或下述式表示的基团。下述式中，＊表示键合位点，Me表示甲基。
Figure BDA0003254189920000221
R11b和R13b优选各自独立地为碳原子数1～10的饱和烃基，R12b和R14b优选各自独立地为可具有取代基的芳香族烃基，R26b优选为可具有卤素原子的芳香族烃基。
R11b和R13b更优选各自独立地为碳原子数1～6的饱和烃基，R12b和R14b更优选各自独立地为芳香族烃基，R26b更优选为可具有氟原子的芳香族烃基。
R11b和R13b进一步优选各自独立地为甲基或乙基，R12b和R14b更优选各自独立地为苯基，R26b更优选为具有氟原子的苯基。
优选R15b和R16b各自独立地为碳原子数1～20的饱和烃基、碳原子数2～20的烷基的碳原子间插入了－O－的基团、或可具有取代基的芳香族烃基、或者R15b和R16b键合并与它们键合的氮原子一起形成环。更优选的方式为如下方式：R15b和R16b各自独立地为碳原子数1～8的饱和烃基、烷氧基烷基、或下述式表示的基团，或者R15b和R16b键合而形成仅具有1个氮原子作为杂原子的4～7元环。下述式中，＊表示与氮原子的键合位点，Me表示甲基。
Figure BDA0003254189920000231
另外，作为R17b～R24b表示的碳原子数1～8的烷基和碳原子数2～8的烷基的－CH2－被取代为－O－或－CO－的基团，可以例示从上述R11b～R16b所对应的基团中选择碳原子数8以下的烷基的基团。
从容易合成的方面考虑，R17b～R24b优选各自独立地为氢原子、卤素原子或碳原子数1～8的烷基，更优选各自独立地为氢原子、甲基、氟原子或氯原子，进一步优选各自独立地为氢原子。
X1b优选为硫原子。
作为式(A2)的阳离子部分，例如，如下述表1所示，可举出式(I－1)表示的阳离子1～阳离子14。
Figure BDA0003254189920000232
【表1】
Figure BDA0003254189920000241
表1中，Ph1～Ph9表示下述式所示的基团。式中，＊表示键合位点。
Figure BDA0003254189920000242
其中，作为式(A2)的阳离子部分，优选阳离子1～阳离子6、阳离子11～阳离子14，更优选阳离子1、阳离子2、或阳离子12～阳离子14，进一步优选为阳离子12。
[Y]m－是含有选自钨、钼、硅和磷中的至少1个元素和氧的任意的m价阴离子。含有这样的阴离子的化合物存在耐热性、耐溶剂性良好的趋势。
m优选为1～20，更优选为1～14，进一步优选为2～8，更进一步优选为2～6。
作为[Y]m－表示的阴离子，优选含有钨的杂多酸的阴离子、或含有钨的同多酸的阴离子。
作为含有钨的杂多酸或同多酸的阴离子，例如，可举出Keggin型磷钨酸离子α－[PW12O40]3－、Dawson型磷钨酸离子α－[P2W18O62]6－、β－[P2W18O62]6－、Keggin型硅钨酸离子α－[SiW12O40]4－、β－[SiW12O40]4－、γ－[SiW12O40]4－、[P2W17O61]10－、[P2W15O56]12－、[H2P2W12O48]12－、[NaP5W30O110]14－、α－[SiW9O34]10－、γ－[SiW10O36]8－、α－[SiW11O39]8－、β－[SiW11O39]8－、[W6O19]2－、[W10O32]4－、WO4 2－和它们的混合物。
作为[Y]m－表示的阴离子，还优选由选自硅和磷中的至少1个元素和氧构成的阴离子。
作为由选自硅和磷中的至少1个元素和氧构成的阴离子，可举出SiO3 2－、PO4 3－。
从合成和后处理的容易性出发，优选Keggin型磷钨酸离子、Dawson型磷钨酸离子等磷钨酸阴离子；Keggin型硅钨酸离子等硅钨酸阴离子；[W10O32]4－等钨系同多酸阴离子。其中，特别优选Keggin型磷钨酸阴离子、钨系同多酸阴离子。
作为化合物(A2)，例如，可举出下述表2～3的式(A2－1)～式(A2－52)表示的化合物。
【表2】
化合物(A2) 阳离子 m 阴离子
(A2-1) 阳离子1 3 [PW<sub>12</sub>O<sub>40</sub>]<sup>3-</sup>
(A2-2) 阳离子1 6 [P<sub>2</sub>W<sub>18</sub>O<sub>62</sub>]<sup>6-</sup>
(A2-3) 阳离子1 4 [SiW<sub>12</sub>O<sub>40</sub>]<sup>4-</sup>
(A2-4) 阳离子1 4 [W<sub>10</sub>O<sub>32</sub>]<sup>4-</sup>
(A2-5) 阳离子2 3 [PW<sub>12</sub>O<sub>40</sub>]<sup>3-</sup>
(A2-6) 阳离子2 6 [P<sub>2</sub>W<sub>18</sub>O<sub>62</sub>]<sup>6-</sup>
(A2-7) 阳离子2 4 [SiW<sub>12</sub>O<sub>40</sub>]<sup>4-</sup>
(A2-8) 阳离子2 4 [W<sub>10</sub>O<sub>32</sub>]<sup>4-</sup>
(A2-9) 阳离子4 3 [PW<sub>12</sub>O<sub>40</sub>]<sup>3-</sup>
(A2-10) 阳离子4 6 [P<sub>2</sub>W<sub>18</sub>O<sub>62</sub>]<sup>6-</sup>
(A2-11) 阳离子4 4 [SiW<sub>12</sub>O<sub>40</sub>]<sup>4-</sup>
(A2-12) 阳离子4 4 [W<sub>10</sub>O<sub>32</sub>]<sup>4-</sup>
(A2-13) 阳离子5 3 [PW<sub>12</sub>O<sub>40</sub>]<sup>3-</sup>
(A2-14) 阳离子5 6 [P<sub>2</sub>W<sub>18</sub>O<sub>62</sub>]<sup>6-</sup>
(A2-15) 阳离子5 4 [SiW<sub>12</sub>O<sub>40</sub>]<sup>4-</sup>
(A2-16) 阳离子5 4 [W<sub>10</sub>O<sub>32</sub>]<sup>4-</sup>
(A2-17) 阳离子6 3 [PW<sub>12</sub>O<sub>40</sub>]<sup>3-</sup>
(A2-18) 阳离子6 6 [P<sub>2</sub>W<sub>18</sub>O<sub>62</sub>]<sup>6-</sup>
(A2-19) 阳离子6 4 [SiW<sub>12</sub>O<sub>40</sub>]<sup>4-</sup>
(A2-20) 阳离子6 4 [W<sub>10</sub>O<sub>32</sub>]<sup>4-</sup>
(A2-21) 阳离子7 3 [PW<sub>12</sub>O<sub>40</sub>]<sup>3-</sup>
(A2-22) 阳离子7 6 [P<sub>2</sub>W<sub>18</sub>O<sub>62</sub>]<sup>6-</sup>
(A2-23) 阳离子7 4 [SiW<sub>12</sub>O<sub>40</sub>]<sup>4-</sup>
(A2-24) 阳离子7 4 [W<sub>10</sub>O<sub>32</sub>]<sup>4-</sup>
(A2-25) 阳离子8 3 [PW<sub>12</sub>O<sub>40</sub>]<sup>3-</sup>
(A2-26) 阳离子8 6 [P<sub>2</sub>W<sub>18</sub>O<sub>62</sub>]<sup>6-</sup>
(A2-27) 阳离子8 4 [SiW<sub>12</sub>O<sub>40</sub>]<sup>4-</sup>
(A2-28) 阳离子8 4 [W<sub>10</sub>O<sub>32</sub>]<sup>4-</sup>
表3
化合物(A2) 阳离子 m 阴离子
(A2-29) 阳离子9 3 [PW<sub>12</sub>O<sub>40</sub>]<sup>3-</sup>
(A2-30) 阳离子9 6 [P<sub>2</sub>W<sub>18</sub>O<sub>62</sub>]<sup>6-</sup>
(A2-31) 阳离子9 4 [SiW<sub>12</sub>O<sub>40</sub>]<sup>4-</sup>
(A2-32) 阳离子9 4 [W<sub>10</sub>O<sub>32</sub>]<sup>4-</sup>
(A2-33) 阳离子10 3 [PW<sub>12</sub>O<sub>40</sub>]<sup>3-</sup>
(A2-34) 阳离子10 6 [P<sub>2</sub>W<sub>18</sub>O<sub>62</sub>]<sup>6-</sup>
(A2-35) 阳离子10 4 [SiW<sub>12</sub>O<sub>40</sub>]<sup>4-</sup>
(A2-36) 阳离子10 4 [W<sub>10</sub>O<sub>32</sub>]<sup>4-</sup>
(A2-37) 阳离子11 3 [PW<sub>12</sub>O<sub>40</sub>]<sup>3-</sup>
(A2-38) 阳离子11 6 [P<sub>2</sub>W<sub>18</sub>O<sub>62</sub>]<sup>6-</sup>
(A2-39) 阳离子11 4 [SiW<sub>12</sub>O<sub>40</sub>]<sup>4-</sup>
(A2-40) 阳离子11 4 [W<sub>10</sub>O<sub>32</sub>]<sup>4-</sup>
(A2-41) 阳离子12 3 [PW<sub>12</sub>O<sub>40</sub>]<sup>3-</sup>
(A2-42) 阳离子12 6 [P<sub>2</sub>W<sub>18</sub>O<sub>62</sub>]<sup>6-</sup>
(A2-43) 阳离子12 4 [SiW<sub>12</sub>O<sub>40</sub>]<sup>4-</sup>
(A2-44) 阳离子12 4 [W<sub>10</sub>O<sub>32</sub>]<sup>4-</sup>
(A2-45) 阳离子13 3 [PW<sub>12</sub>O<sub>40</sub>]<sup>3-</sup>
(A2-46) 阳离子13 6 [P<sub>2</sub>W<sub>18</sub>O<sub>62</sub>]<sup>6-</sup>
(A2-47) 阳离子13 4 [SiW<sub>12</sub>O<sub>40</sub>]<sup>4-</sup>
(A2-48) 阳离子13 4 [W<sub>10</sub>O<sub>32</sub>]<sup>4-</sup>
(A2-49) 阳离子14 3 [PW<sub>12</sub>O<sub>40</sub>]<sup>3-</sup>
(A2-50) 阳离子14 6 [P<sub>2</sub>W<sub>18</sub>O<sub>62</sub>]<sup>6-</sup>
(A2-51) 阳离子14 4 [SiW<sub>12</sub>O<sub>40</sub>]<sup>4-</sup>
(A2-52) 阳离子14 4 [W<sub>10</sub>O<sub>32</sub>]<sup>4-</sup>
作为化合物(A2)，优选式(A2-41)～式(A2-44)表示的化合物，更优选式(A2-41)表示的化合物。
化合物(A2)可以根据日本特开2015-28121号公报中记载的方法来制造。
化合物(A1)和/或化合物(A2)的含有率在着色剂(A)的固体成分的总量100质量％中，优选50～100质量％，更优选70～100质量％，进一步优选90～100质量％，更进一步优选95～100质量％，最优选100质量％。在并用化合物(A1)和化合物(A2)的情况下，该含有率为它们的合计含有率。
<呫吨染料>
呫吨染料为分子内具有呫吨骨架的染料。作为呫吨染料，优选包含式(1a)表示的化合物(以下，有时称为“化合物(1a)”)的染料。化合物(1a)也可以是其互变异构体。使用化合物(1a)时，呫吨染料中的化合物(1a)的含量优选为50质量％以上，更优选为70质量％以上，进一步优选为90质量％以上。特别是，作为呫吨染料，优选仅使用化合物(1a)。
Figure BDA0003254189920000281
[式(1a)中，R1～R4各自独立地表示氢原子、可具有取代基的碳原子数1～20的1价饱和烃基或可具有取代基的碳原子数6～10的1价芳香族烃基，该饱和烃基中含有的－CH2－可以由－O－、－CO－或－NR11－取代。R1和R2可以键合并与邻接的氮原子一起形成环，R3和R4可以键合并与邻接的氮原子一起形成环。
R5表示－OH、－SO3 －、－SO3H、－SO3 －Z+、－CO2H、－CO2 －Z+、－CO2R8、－SO3R8或－SO2NR9R10。
R6和R7相互独立地表示氢原子或碳原子数1～6的烷基。
m表示0～5的整数。m为2以上时，多个R5可以相同或不同。
a表示0或1的整数。
X表示卤素原子。
Z+表示+N(R11)4、Na+或K+，4个R11可以相同或不同。
R8表示碳原子数1～20的1价饱和烃基，该饱和烃基中含有的氢原子可以被卤素原子取代。
R9和R10各自独立地表示氢原子或可具有取代基的碳原子数1～20的1价饱和烃基，该饱和烃基中含有的－CH2－可以由－O－、－CO－、－NH－或－NR8－取代，R9和R10可以键合并与邻接的氮原子一起形成3～10元环的杂环。
R11表示氢原子、碳原子数1～20的1价饱和烃基或碳原子数7～10的芳烷基。]
作为R1～R4中的碳原子数1～20的1价饱和烃基，例如，可举出甲基、乙基、丙基、丁基、戊基、己基、庚基、辛基、壬基、癸基、十二烷基、十六烷基、二十烷基等直链状烷基；异丙基、异丁基、异戊基、新戊基、2－乙基己基等支链状烷基；环丙基、环戊基、环己基、环庚基、环辛基、三环癸基等碳原子数3～20的脂环式饱和烃基。其中，优选碳原子数1～10的1价饱和烃基，更优选碳原子数1～5的1价饱和烃基，进一步优选碳原子数1～3的1价饱和烃基。
R1～R4中的该饱和烃基所含有的氢原子可以被例如羧基、碳原子数6～10的芳香族烃基或卤素原子取代。
作为R1～R4中的碳原子数6～10的1价芳香族烃基，例如，可举出苯基、甲苯基、二甲苯基、均三甲苯基、丙基苯基和丁基苯基。其中，优选甲苯基、二甲苯基、均三甲苯基，更优选二甲苯基。
作为上述饱和烃基或芳香族烃基可具有的取代基，可举出卤素原子、－R8、－OH、－OR8、－SO3 －、－SO3H、－SO3 －Z+、－CO2H、－CO2R8、－SR8、－SO2R8、－SO3R8和－SO2NR9R10。其中，作为取代基，优选－CO2H、－SO3 －、－SO3H、－SO3 －Z+和－SO2NR9R10。作为－SO3 －Z+，优选－SO3 －+N(R11)4。
作为R1和R2键合并与邻接的氮原子一起形成的环、以及R3和R4键合并与邻接的氮原子一起形成的环，例如，可举出以下的例子。
Figure BDA0003254189920000291
作为R8～R11中的碳原子数1～20的1价饱和烃基，例如，可举出甲基、乙基、丙基、丁基、戊基、己基、庚基、辛基、壬基、癸基、十二烷基、十六烷基、二十烷基等直链状烷基；异丙基、异丁基、异戊基、新戊基、2－乙基己基等支链状烷基；环丙基、环戊基、环己基、环庚基、环辛基、三环癸基等碳原子数3～20的脂环式饱和烃基。
作为R9和R10中的该饱和烃基可具有的取代基，可举出羟基和卤素原子。
作为－OR8，例如，可举出甲氧基、乙氧基、丙氧基、丁氧基、戊氧基、己氧基、庚氧基、辛氧基、2－乙基己氧基和二十烷氧基。
作为－CO2R8，例如，可举出甲氧基羰基、乙氧基羰基、丙氧基羰基、叔丁氧基羰基、己氧基羰基和二十烷氧基羰基。
作为－SR8，例如，可举出甲硫基、乙硫基、丁硫基、己硫基、癸硫基和二十烷硫基。
作为－SO2R8，例如，可举出甲基磺酰基、乙基磺酰基、丁基磺酰基、己基磺酰基、癸基磺酰基和二十烷基磺酰基。
作为－SO3R8，例如，可举出甲氧基磺酰基、乙氧基磺酰基、丙氧基磺酰基、叔丁氧基磺酰基、己氧基磺酰基和二十烷氧基磺酰基。
作为－SO2NR9R10，例如，可举出氨磺酰基；N－甲基氨磺酰基、N－乙基氨磺酰基、N－丙基氨磺酰基、N－异丙基氨磺酰基、N－丁基氨磺酰基、N－异丁基氨磺酰基、N－仲丁基氨磺酰基、N－叔丁基氨磺酰基、N－戊基氨磺酰基、N－(1－乙基丙基)氨磺酰基、N－(1,1－二甲基丙基)氨磺酰基、N－(1,2－二甲基丙基)氨磺酰基、N－(2,2－二甲基丙基)氨磺酰基、N－(1－甲基丁基)氨磺酰基、N－(2－甲基丁基)氨磺酰基、N－(3－甲基丁基)氨磺酰基、N－环戊基氨磺酰基、N－己基氨磺酰基、N－(1,3－二甲基丁基)氨磺酰基、N－(3,3－二甲基丁基)氨磺酰基、N－庚基氨磺酰基、N－(1－甲基己基)氨磺酰基、N－(1,4－二甲基戊基)氨磺酰基、N－辛基氨磺酰基、N－(2－乙基己基)氨磺酰基、N－(1,5－二甲基)己基氨磺酰基、N－(1,1,2,2－四甲基丁基)氨磺酰基等N－1取代氨磺酰基；N,N－二甲基氨磺酰基、N,N－乙基甲基氨磺酰基、N,N－二乙基氨磺酰基、N,N－丙基甲基氨磺酰基、N,N－异丙基甲基氨磺酰基、N,N－叔丁基甲基氨磺酰基、N,N－丁基乙基氨磺酰基、N,N－双(1－甲基丙基)氨磺酰基、N,N－庚基甲基氨磺酰基等N,N－2取代氨磺酰基等。
R5优选－CO2H、－CO2 －Z+、－CO2R8、－SO3 －、－SO3 －Z+、－SO3H或－SO2NHR9，更优选－SO3 －、－SO3 －Z+、－SO3H或－SO2NHR9。
m优选1～4，更优选1或2。
作为R6和R7中的碳原子数1～6的烷基，可举出上述所举出的烷基中的碳原子数1～6的烷基。
作为R11中的碳原子数7～10的芳烷基，可举出苄基、苯基乙基和苯基丁基。
Z+为+N(R11)4、Na+或K+，优选为+N(R11)4。
优选+N(R11)4中的4个R11中至少2个为碳原子数5～20的1价饱和烃基优。另外，4个R11的合计碳原子数优选为20～80，更优选为20～60。
作为化合物(1a)，优选式(2a)表示的化合物(以下，有时称为“化合物(2a)”)。化合物(2a)也可以是其互变异构体。
Figure BDA0003254189920000311
[式(2a)中，R21～R24各自独立地表示氢原子、－R26a或可具有取代基的碳原子数6～10的1价芳香族烃基。R21和R22可以键合并与邻接的氮原子一起形成环，R23和R24可以键合并与邻接的氮原子一起形成环。
R25表示－SO3 －、－SO3H、－SO3 －Z1+或－SO2NHR26。
m1表示0～5的整数。m1为2以上时，多个R25可以相同或不同。
a1表示0或1的整数。
X1表示卤素原子。
R26a表示可具有取代基的碳原子数1～20的1价饱和烃基。
R26表示碳原子数1～20的1价饱和烃基。
Z1+表示+N(R27)4、Na+或K+，4个R27可以相同或不同。
R27表示碳原子数1～20的1价饱和烃基或苄基。]
作为R21～R24中的碳原子数6～10的1价芳香族烃基，可举出与作为上述R1～R4的芳香族烃基所举出的基团相同的基团。该芳香族烃基中含有的氢原子可以被－CO2H、－SO3 －、－SO3H、－SO3 －Z1+、－SO3R26或－SO2NHR26取代。
作为R26a中的饱和烃基可具有的取代基，可举出卤素原子、－OH、－OR27、－CO2H、－CO2R27和－SR27。
作为R21和R22键合并与邻接的氮原子一起形成的环、以及R23和R24键合并与邻接的氮原子一起形成的环，可举出与R1和R2键合并与邻接的氮原子一起形成的环相同的环。其中，优选脂肪族杂环。作为该脂肪族杂环，例如，可举出下述的例子。
Figure BDA0003254189920000321
作为R26和R27中的碳原子数1～20的1价饱和烃基，可举出与R8～R11中作为饱和烃基所举出的基团相同的基团。
R21～R24为－R26时，－R26优选各自独立地为甲基或乙基。另外，作为－SO3R26和－SO2NHR26中的R26，优选碳原子数3～20的支链状烷基，更优选碳原子数6～12的支链状烷基，进一步优选2－乙基己基。
Z1+为+N(R27)4、Na+或K+，优选为+N(R27)4。
优选上述+N(R27)4中的4个R27中的至少2个为碳原子数5～20的1价饱和烃基。另外，4个R27的合计碳原子数优选为20～80，更优选为20～60。
m1优选1～4，更优选1或2。
另外，作为化合物(1a)，优选由上述式(2a)表示且R21～R24全部各自独立地为碳原子数1～20、特别是碳原子数1～10的1价饱和烃基的化合物、或者式(3a)表示的化合物(以下有时称为“化合物(3a)”)。
化合物(3a)也可以是其互变异构体。
Figure BDA0003254189920000322
[式(3a)中，R31和R32各自独立地表示碳原子数1～10的1价饱和烃基，该饱和烃基中含有的氢原子可以被碳原子数6～10的芳香族烃基或卤素原子取代，该芳香族烃基中含有的氢原子可以被碳原子数1～3的烷氧基取代，上述饱和烃基中含有的－CH2－可以由－O－、－CO－或－NR11－取代。
R33和R34各自独立地表示羧基、碳原子数1～4的烷基、碳原子数1～4的烷硫基或碳原子数1～4的烷基磺酰基。
R31和R33可以键合并与邻接的氮原子和苯环上的碳原子一起形成环，R32和R34可以键合并与邻接的氮原子和苯环上的碳原子一起形成环。
p和q各自独立地表示0～5的整数。p为2以上时，多个R33可以相同或不同，q为2以上时，多个R34可以相同或不同。
R11表示与上述相同的含义。]
作为R31和R32中的碳原子数1～10的1价饱和烃基，可举出R8中的1价饱和烃基中的碳原子数1～10的基团。
该饱和烃基中含有的－CH2－可以2个以上连续被取代，例如，通过一个－CH2－被取代为－CO－且邻接的另一个－CH2－被取代为－O－而形成－COOH。
作为可以以取代基的形式所具有的碳原子数6～10的芳香族烃基，可举出与R1中的碳原子数6～10的芳香族烃基相同的基团。
作为碳原子数1～3的烷氧基，例如，可举出甲氧基、乙氧基和丙氧基。
R31和R32优选各自独立地为碳原子数1～3的1价饱和烃基。
作为R33和R34中的碳原子数1～4的烷基，可举出甲基、乙基、丙基、丁基、异丙基、异丁基、仲丁基和叔丁基。
作为R33和R34中的碳原子数1～4的烷硫基，可举出甲硫基、乙硫基、丙硫基、丁硫基和异丙硫基。
作为R33和R34中的碳原子数1～4的烷基磺酰基，可举出甲基磺酰基、乙基磺酰基、丙基磺酰基、丁基磺酰基和异丙基磺酰基。
R33和R34优选各自独立地为碳原子数1～4的烷基，更优选两者为甲基。
p和q各自独立地优选为0～2的整数，优选为1或2。
作为化合物(1a)，例如，可举出式(1－1)～式(1－70)表示的化合物。应予说明，式中，R40表示碳原子数1～20的1价饱和烃基，优选碳原子数6～12的支链状烷基，进一步优选为2－乙基己基。
Figure BDA0003254189920000341
Figure BDA0003254189920000351
Figure BDA0003254189920000361
Figure BDA0003254189920000371
Figure BDA0003254189920000381
Figure BDA0003254189920000391
Figure BDA0003254189920000401
Figure BDA0003254189920000411
Figure BDA0003254189920000421
上述化合物中，式(1－1)～式(1－23)或式(1－37)～式(1－63)表示的化合物相当于化合物(2a)，式(1－24)～式(1－36)或式(1－64)～式(1－70)中的任一者表示的化合物相当于化合物(3a)。
其中，优选式(1－24)～式(1－33)或式(1－37)～式(1－63)或式(1－64)～式(1－70)中的任一者表示的化合物，更优选式(1－24)～式(1－33)中的任一者表示的化合物。
呫吨染料可以使用市售的呫吨染料(例如，中外化成(株)制的“Chugai AminolFast Pink R-H/C”、田冈化学工业(株)制的“Rhodamin 6G”)。另外，也可以将市售的呫吨染料作为起始原料，以日本特开2010－32999号公报为参考而进行合成。
化合物(1a)的含有率在着色剂(A)的固体成分的总量100质量％中，优选50～100质量％，更优选70～100质量％，进一步优选90～100质量％，更进一步优选95～100质量％，最优选100质量％。
在制造本发明的固化性着色组合物时，优选使成盐化合物分散于溶剂而制备着色剂分散液。可以将该着色剂分散液与树脂(B)、有机硅化合物(C)、聚合性化合物(D)、聚合引发剂(E)等混合来制备着色树脂组合物。另外，也可以不制作着色剂分散液，将染料与树脂(B)、有机硅化合物(C)、聚合性化合物(D)、聚合引发剂(E)等混合来制备着色树脂组合物。
作为制备该着色剂分散液时的溶剂，只要是可作为着色树脂组合物的溶剂(G)使用的溶剂，则都可以使用。作为溶剂，例如，可举出后述的醚酯溶剂和酮溶剂。该着色剂分散液中，溶剂的含量相对于成盐化合物1质量份，例如为1～50质量份，优选为2～30质量份，更优选为3～15质量份。
在使成盐化合物分散于溶剂来制备着色剂分散液时，优选使用分散剂。作为分散剂，例如，可举出阳离子系、阴离子系、非离子系、两性、聚酯系、多胺系、丙烯酸系等表面活性剂等。这些分散剂可以单独使用，也可以组合2种以上使用。作为分散剂，用商品名表示，可举出KP(信越化学工业(株)制)、FLOWLEN(共荣社化学(株)制)、Solsperse(Zeneca(株)制)、EFKA(BASF公司制)、AJISPER(味之素精细化学(株)制)等。
该着色剂分散液中，分散剂的含量相对于成盐化合物100质量份，例如为1～1000质量份，优选为3～200质量份，更优选为5～100质量份，特别优选为10～50质量份。
着色剂分散液可以含有树脂。作为树脂，可举出后述的树脂(B)。着色剂分散液含有树脂(B)时，树脂(B)的含量相对于着色剂分散液的总量，优选为1质量％以上，更优选为2质量％以上，优选为15质量％以下，更优选为7质量％以下。树脂(B)的含量在上述范围内时，存在分散状态变得稳定的趋势。
成盐化合物的含有率在着色剂(A)的固体成分的总量100质量％中，优选50～100质量％，更优选70～100质量％，进一步优选90～100质量％，更进一步优选95～100质量％，最优选100质量％。
本发明的固化性着色组合物可以含有上述成盐化合物以外的染料(以下，有时称为染料(AA))和/或颜料(以下，有时称为颜料(AB))作为着色剂(A)。着色剂(A)优选包含成盐化合物和/或染料(AA)，更优选包含成盐化合物。这些是有机硅化合物(C)容易作用的物质。
成盐化合物和/或染料(AA)的含有率在着色剂(A)的固体成分的总量100质量％中，优选50～100质量％，更优选70～100质量％，进一步优选90～100质量％，更进一步优选95～100质量％，最优选100质量％。并用成盐化合物和染料(AA)时，该含有率为它们的合计含有率。
染料(AA)没有特别限定，可以使用公知的染料，例如，可举出溶剂染料、酸性染料、直接染料、媒染染料等。作为染料(AA)，例如，可举出颜色索引(The Society of Dyers andColourists出版)中分类为除了颜料以外的具有色调的物质的化合物、染色指南(色染公司)中记载的公知的染料。另外，根据化学结构，可举出偶氮染料、花青染料、三苯基甲烷染料、呫吨染料、酞菁染料、蒽醌染料、萘醌染料、醌亚胺染料、次甲基染料、偶氮甲碱染料、方酸
Figure BDA0003254189920000441
染料、吖啶染料、苯乙烯基染料、香豆素染料、喹啉染料、硝基染料等。其中，优选有机溶剂可溶性染料。
作为颜料(AB)，没有特别限定，可以使用公知的颜料，例如，可举出颜色索引(TheSociety of Dyers and Colourists出版)中分类为颜料(pigment)的颜料。
作为颜料(AB)，例如，可举出C.I.颜料黄1、3、12、13、14、15、16、17、20、24、31、53、83、86、93、94、109、110、117、125、128、137、138、139、147、148、150、153、154、166、173、194、214等黄色颜料；
C.I.颜料橙13、31、36、38、40、42、43、51、55、59、61、64、65、71、73等橙色的颜料；
C.I.颜料红9、97、105、122、123、144、149、166、168、176、177、180、192、209、215、216、224、242、254、255、264、265等红色颜料；
C.I.颜料蓝15、15：3、15：4、15：6、60等蓝色颜料；
C.I.颜料紫1、19、23、29、32、36、38等紫色颜料；
C.I.颜料绿7、36、58等绿色颜料；
C.I.颜料棕23、25等棕色颜料；
C.I.颜料黑1、7等黑色颜料等。
其中，优选蓝色颜料、紫色颜料，更优选蓝色颜料。
固化性着色组合物包含颜料(AB)时，颜料(AB)的含有率在着色剂(A)的固体成分的总量100质量％中，优选1～50质量％，更优选为1～20质量％，进一步优选为1～10质量％。
颜料可以根据需要实施松香处理、使用导入了酸性基团或碱性基团的颜料衍生物等的表面处理、利用高分子化合物等对颜料表面的接枝处理、基于硫酸微粒化法等的微粒化处理、或者用于除去杂质的基于有机溶剂、水等的清洗处理、离子性杂质的基于离子交换法等的除去处理等。
颜料优选粒径均匀，通过含有颜料分散剂而进行分散处理，能够得到颜料在溶液中均匀分散的状态的颜料分散液。
作为颜料分散剂，可举出与前述的可以在使成盐化合物分散于溶剂而制备着色剂分散液时使用的分散剂相同的分散剂。
颜料分散液中，颜料分散剂的含有率相对于颜料的总量，优选为1质量％～100质量％，更优选为5质量％～50质量％。颜料分散剂的含有率在上述范围时，存在得到均匀的分散状态的颜料分散液的趋势。
固化性着色组合物中的着色剂(A)的固体成分的含有率在固体成分的总量中，优选为2～60质量％，更优选为5～50质量％，进一步优选为8～40质量％。如果着色剂(A)的含有率在上述的范围内，则制成滤色器时的颜色浓度充分，且能够使组合物中含有所需量的树脂、聚合性化合物，因此能够形成机械强度充分的图案。
这里，本说明书中的“固体成分的总量”是指从着色固化性树脂组合物的总量中除去溶剂的含量而得的量。固体成分的总量和各成分的含量例如可以利用液相色谱或气相色谱等公知的分析手段进行测定。
＜树脂(B)＞
树脂(B)优选为碱可溶性树脂，更优选具有来自选自不饱和羧酸和不饱和羧酸酐中的至少1种单体(a)(以下有时称为“单体(a)”)的结构单元的树脂。树脂(B)优选具有选自如下结构单元中的至少一种结构单元：来自单体(a)的结构单元、来自具有碳原子数2～4的环状醚结构和烯键式不饱和键的单体(b)(以下有时称为“单体(b)”)的结构单元、来自可与单体(a)共聚的单体(c)(但是，与单体(a)和单体(b)不同)(以下有时称为“单体(c)”)的结构单元、以及侧链具有烯键式不饱和键的结构单元，更优选具有选自来自单体(a)的结构单元、来自单体(b)的结构单元和来自单体(c)的结构单元，进一步优选具有来自单体(a)的结构单元、来自单体(b)的结构单元和来自单体(c)的结构单元。
作为单体(a)，具体而言，例如，可举出丙烯酸、甲基丙烯酸、马来酸酐、衣康酸酐、3,4,5,6－四氢邻苯二甲酸酐、琥珀酸单〔2－(甲基)丙烯酰氧基乙基〕酯等，优选丙烯酸、甲基丙烯酸、马来酸酐，更优选为丙烯酸、甲基丙烯酸，进一步优选为丙烯酸。
来自单体(a)的结构单元在全部结构单元100质量份中，例如为2质量份以上，优选为5质量份以上，更优选为10质量份以上，例如为40质量份以下，优选为30质量份以下，更优选为25质量份以下。
单体(b)优选具有碳原子数2～4的环状醚结构(例如，选自氧杂环丙烷环、氧杂环丁烷环和四氢呋喃环中的至少1种)和(甲基)丙烯酰氧基的单体。
应予说明，本说明书中，“(甲基)丙烯酸”是指选自丙烯酸和甲基丙烯酸中的至少1种。“(甲基)丙烯酰基”和“(甲基)丙烯酸酯”等表述也具有同样的含义。
作为单体(b)，例如，可举出(甲基)丙烯酸缩水甘油酯、乙烯基苄基缩水甘油醚、(甲基)丙烯酸3,4－环氧三环[5.2.1.02,6]癸酯、3－乙基－3－(甲基)丙烯酰氧基甲基氧杂环丁烷、(甲基)丙烯酸四氢糠酯等，优选(甲基)丙烯酸缩水甘油酯、(甲基)丙烯酸3,4－环氧三环[5.2.1.02,6]癸酯、3－乙基－3－(甲基)丙烯酰氧基甲基氧杂环丁烷，更优选为(甲基)丙烯酸缩水甘油酯、(甲基)丙烯酸3,4－环氧三环[5.2.1.02,6]癸酯，进一步优选为(甲基)丙烯酸3,4－环氧三环[5.2.1.02,6]癸酯。
来自单体(b)的结构单元在全部结构单元100质量份中，例如为1质量份以上，优选5质量份以上，更优选为7质量份以上，例如为30质量份以下，优选为25质量份以下，更优选为20质量份以下。
作为单体(c)，例如，可举出(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸丁酯、(甲基)丙烯酸环己酯、(甲基)丙烯酸2－甲基环己酯、三环[5.2.1.02,6]癸烷－8－基(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸苄酯、(甲基)丙烯酸2－羟基乙酯等(甲基)丙烯酸酯类；N－苯基马来酰亚胺、N－环己基马来酰亚胺、N－苄基马来酰亚胺等马来酰亚胺类；苯乙烯、乙烯基甲苯等苯乙烯系单体等，优选苯乙烯、乙烯基甲苯、(甲基)丙烯酸2－羟基乙酯、N－苯基马来酰亚胺、N－环己基马来酰亚胺、N－苄基马来酰亚胺，更优选为(甲基)丙烯酸2－羟基乙酯、N－苯基马来酰亚胺、N－环己基马来酰亚胺，进一步优选为(甲基)丙烯酸2－羟基乙酯、N－环己基马来酰亚胺。(甲基)丙烯酸酯类、马来酰亚胺类、苯乙烯系单体等可以适当地组合，优选(甲基)丙烯酸酯类与马来酰亚胺类的组合。
来自单体(c)的结构单元在全部结构单元100质量份中，例如为30质量份以上，优选为50质量份以上，更优选为60质量份以上，例如为95质量份以下，优选为90质量份以下，更优选为80质量份以下。
侧链具有烯键式不饱和键的结构单元可以通过如下方式构成：使单体(b)加成到单体(a)与单体(c)的共聚结构，或者使单体(a)加成到单体(b)与单体(c)的共聚结构，或者使单体(a)加成到单体(b)与单体(c)的共聚结构进而与羧酸酐反应。
树脂(B)的按聚苯乙烯换算的重均分子量优选为3000～100000，更优选为5000～50000，进一步优选为5000～30000。
树脂(B)的分散度[重均分子量(Mw)/数均分子量(Mn)]优选为1.1～6，更优选为1.2～4。
树脂(B)的酸值以固体成分换算计，优选为20～170mg－KOH/g，更优选为30～150mg－KOH/g，进一步优选为40～135mg－KOH/g。这里，酸值是作为用于中和树脂(B)1g所需的氢氧化钾的量(mg)而测定的值，例如，可以通过使用氢氧化钾水溶液进行滴定而求出。
树脂(B)(固体成分)在固化性着色组合物的固体成分的总量100质量％中，优选为5～70质量％，更优选为10～50质量％，进一步优选为12～40质量％。
＜有机硅化合物(C)＞
有机硅化合物(C)为满足条件(1)的有机硅化合物(以下，有时称为有机硅化合物(C1))。
〈条件(1)〉
将混合物(H)旋涂于玻璃基板，以230℃烘烤20分钟，由此形成的涂膜与离子交换水的接触角为70°以上，所述混合物(H)包含具有式(1)的结构单元的树脂(B－1)、有机硅化合物(C)、流平剂(F)和溶剂(G)且在固体成分的总量100质量％中有机硅化合物(C)的含量为21质量％。在形成涂膜时，可以以涂膜的厚度为0.5μm～4μm的方式进行调整。
Figure BDA0003254189920000481
条件(1)的涂膜与离子交换水的接触角根据离子交换水的表面张力和涂膜的表面粗糙度等而变化，因此该接触角与涂膜的表面的算术平均粗糙度Ra存在相关关系。因此，通过使用能够形成条件(1)的接触角为70°以上的涂膜的有机硅化合物(C1)，能够降低所得到的固化膜的表面粗糙度。如上所述，条件(1)为与混合物(H)的关系中的有机硅化合物(C1)的条件，通过设定这样的与混合物(H)的关系中的条件(1)，从而与设定有机硅化合物(C)单独的条件时相比，能够更容易地控制所得到的固化膜的表面粗糙度。具体而言，通过使用满足条件(1)的有机硅化合物(C1)，能够特别减少在显影工序中随着着色剂向显影液溶出所导致的表面凹凸的产生。
条件(1)的接触角优选为73°以上，更优选为80°以上，进一步优选为86°以上，更进一步优选为95°以上，优选为120°以下，更优选为110°以下，进一步优选为100°以下。
条件(1)中，在混合物(H)100质量％中，树脂(B－1)的含量优选为11～13质量％，更优选为12质量％，有机硅化合物(C)的含量优选为2～4质量％，更优选为3质量％，流平剂(F)的含量优选为0.01～0.03质量％，更优选为0.02质量％，溶剂(G)的含量优选为84～86质量％，更优选为85质量％。
条件(1)中，作为树脂(B－1)，可举出上述树脂(B)中的具有式(1)的结构单元的树脂。作为流平剂(F)、溶剂(G)，可举出后述的流平剂(F)、溶剂(G)。
作为有机硅化合物(C1)，可举出具有式(2)的结构单元的有机硅化合物(C)，优选聚醚改性聚甲基烷基硅氧烷。具体而言，可举出BYK-Chemie Japan株式会社制的BYK－320、BYK－325N、BYK－330、BYK－378等。
Figure BDA0003254189920000491
[式(2)中，
Ra1、Ra2各自独立地表示氢原子或碳原子数1～10的饱和烃基，
Rax各自独立地表示可具有取代基的碳原子数2～30的饱和烃基，该饱和烃基中含有的至少一部分－CH2－被取代为－O－或－COO－，不会全部的－CH2－被取代为－O－或－COO－，
Ray各自独立地表示碳原子数1～20的饱和烃基，
m、n表示有机硅化合物(C1)中的－O－Si(Ra1)(Rax)－与－O－Si(Ra2)(Ray)－的摩尔比。
＊表示键合位点。其中，不形成Si－Si键，不形成O－O键。]
Ra1、Ra2表示的碳原子数1～10的饱和烃基可以是直链、支链和环状中的任一种，优选为直链。作为直链或支链的饱和烃基，可举出甲基、乙基、丙基、丁基、戊基、己基、辛基、壬基、癸基等直链状烷基；异丙基、异丁基、异戊基、新戊基、2－乙基己基等支链状烷基等。该饱和烃基优选为碳原子数1～8，更优选为碳原子数1～4，进一步优选为碳原子数1～2，特别优选碳原子数1。存在多个Ra1时，多个Ra1可以是相同的基团，也可以是不同的基团，优选为相同的基团。另外，存在多个Ra2时，多个Ra2可以是相同的基团，也可以是不同的基团，优选为相同的基团。
Rax表示的可具有取代基的碳原子数2～30的饱和烃基可以是直链、支链和环状中的任一种，优选为支链。作为饱和烃基，可举出与上述Ra1等相同的基团。该饱和烃基优选为碳原子数1～25，更优选为碳原子数3～20，进一步优选为碳原子数4～15，更进一步优选为碳原子数5～12。进而，Rax表示的饱和烃基中含有的至少一部－CH2－被取代为－O－或－COO－，优选被取代为－O－。另外，Rax表示的饱和烃基中含有的至少一部分－CH2－可以被取代为除了－O－、－COO－以外的其它2价基团。上述碳原子数为该取代后的碳原子数。作为Rax，具体而言，可举出具有碳原子数2～5的氧亚烷基单元的基团、含有聚酯的基团等。氧亚烷基单元的碳原子数优选为2～4，更优选为2～3。Rax可以是具有氧亚烷基单元连续2个以上的聚氧亚烷基的基团。氧亚烷基单元的重复数优选为2～8，更优选为2～5，进一步优选为2～3。另外，Rax表示的饱和烃基可以具有取代基。作为取代基，可举出－OH或－COOH，优选－OH。该饱和烃基优选末端具有取代基。另外，存在多个Rax时，多个Rax可以是相同的基团，也可以是不同的基团。
作为Rax，具体而言，可举出下述式(3)表示的基团。
Figure BDA0003254189920000501
[式(3)中，
Rx1表示氢原子或碳原子数1的饱和烃基，
Rx2表示氢原子或碳原子数1～3的饱和烃基，
p表示0～6的整数。
q表示1～7的整数。
＊表示键合位点。]
作为Rx1表示的碳原子数1的饱和烃基，可举出甲基。q为2以上时，多个Rx1可以是相同的基团，也可以是不同的基团。为不同的基团时，作为多个Rx1的组合，优选氢原子与碳原子数1的饱和烃基的组合。
Rx2表示的碳原子数1～3的饱和烃基可以是直链、支链和环状中的任一种，优选为直链。作为饱和烃基，可举出与上述Rx1相同的基团。Rx2优选为氢原子或碳原子数1的饱和烃基，更优选为氢原子。
p优选为0～4，更优选为0～2，进一步优选为0～1，特别优选为0。q优选为1～6，更优选为1～4，进一步优选为2～3，特别优选为2。
式(2)中，Ray表示的碳原子数1～20的饱和烃基可以是直链、支链和环状中的任一种，优选为直链。作为直链或支链的饱和烃基，可举出甲基、乙基、丙基、丁基、戊基、己基、辛基、壬基、癸基、十二烷基、十六烷基、二十烷基等直链状烷基；异丙基、异丁基、异戊基、新戊基、2－乙基己基等支链状烷基等。该饱和烃基优选为碳原子数2～18，更优选为碳原子数3～12，进一步优选为碳原子数6～10，特别优选碳原子数8。另外，Ray的碳原子数优选多于Ra2的碳原子数。另外，存在多个Ray时，多个Ray可以是相同的基团，也可以是不同的基团，优选为相同的基团。
式(2)中，m：n为1～2：1～4，优选为1：1～3，更优选为1：1～2，进一步优选为1：2。另外，优选n大于m。应予说明，－O－Si(Ra1)(Rax)－的单元可以连续存在，也可以不连续。另外，－O－Si(Ra2)(Rax)－的单元可以连续存在，也可以不连续。构成有机硅化合物(C1)的构成单元中的不包括末端基团在内的全部构成单元100摩尔％中，－O－Si(Ra1)(Rax)－的构成单元与－O－Si(Ra2)(Rax)－的构成单元的合计优选为50摩尔％以上，更优选为70摩尔％以上，进一步优选为80摩尔％以上，更进一步优选为90摩尔％以上。
有机硅化合物(C1)优选在一个末端具有下述式(4)表示的基团、在另一末端具有式(5)表示的基团。
Figure BDA0003254189920000511
[式(4)、(5)中，Ra3～Ra8表示的基团各自独立地表示氢原子或碳原子数1～10的饱和烃基，＊表示键合位点。其中，不形成Si－Si键，不形成O－O键。]
Ra3～Ra8表示的基团优选为碳原子数1～10的饱和烃基，更优选为碳原子数1～3的饱和烃基，进一步优选为碳原子数1的饱和烃基。作为该饱和烃基，可举出与上述Ra1、Ra2的饱和烃基相同的基团。
有机硅化合物(C)的数均分子量优选为500以上，优选为30000以下，更优选为15000以下。
有机硅化合物(C)相对于固化性着色组合物的总量的含有率优选为2.0质量％以下。更优选为1.0质量％以下，进一步优选为0.3质量％以下，更进一步优选为0.1质量％以下。另一方面，通过使有机硅化合物(C)的含有率为0.001质量％以上，固化膜的表面粗糙度降低。优选为0.001质量％以上，更优选为0.005质量％以上，进一步优选为0.008质量％以上。有机硅化合物(C)的含量相对于固化性着色组合物中的着色剂(A)的固体成分100质量份，优选为0.1～2.0质量份，更优选为0.2～1.0质量份，进一步优选为0.3～0.8质量份。
＜聚合性化合物(D)＞
聚合性化合物(D)为可以通过由聚合引发剂(E)产生的活性自由基和/或酸进行聚合的化合物，例如为具有聚合性的烯键式不饱和键的化合物等，优选为(甲基)丙烯酸酯化合物。
其中，聚合性化合物(D)优选为具有3个以上烯键式不饱和键的聚合性化合物。作为这样的聚合性化合物，例如，可举出三羟甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇五(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯等。
聚合性化合物(D)的重均分子量优选为150～2900，更优选为250～1500。
聚合性化合物(D)的含有率在固化性着色组合物的固体成分的总量100质量％中，优选为5～65质量％，更优选为15～60质量％，进一步优选为20～50质量％。
＜聚合引发剂(E)＞
聚合引发剂(E)只要是能够在光、热的作用下产生活性自由基、酸等并引发聚合的化合物，就没有特别限定，可以使用公知的聚合引发剂。作为产生活性自由基的聚合引发剂，例如，可举出N－苯甲酰氧基－1－(4－苯基硫烷基苯基)丁烷－1－酮－2－亚胺、N－苯甲酰氧基－1－(4－苯基硫烷基苯基)辛烷－1－酮－2－亚胺、N－苯甲酰氧基－1－(4－苯基硫烷基苯基)－3－环戊基丙烷－1－酮－2－亚胺、N－乙酰氧基－1－(4－苯基硫烷基苯基)－3－环己基丙烷－1－酮－2－亚胺、2－甲基－2－吗啉代－1－(4－甲基硫烷基苯基)丙烷－1－酮、2－二甲基氨基－1－(4－吗啉代苯基)－2－苄基丁烷－1－酮、1－羟基环己基苯基酮、2,4－双(三氯甲基)－6－胡椒基－1,3,5－三嗪、2,4,6－三甲基苯甲酰基二苯基氧化膦、2,2’－双(2－氯苯基)－4,4’,5,5’－四苯基联咪唑等。
聚合引发剂(E)的含量相对于树脂(B)和聚合性化合物(D)的合计量100质量份，优选为0.1～30质量份，更优选为1～10质量份。聚合引发剂(E)的含量在上述范围内时，存在高灵敏度化而缩短曝光时间的趋势，因此滤色器的生产率提高。
＜聚合引发助剂(E1)＞
本发明的固化性着色组合物可以含有聚合引发助剂(E1)。聚合引发助剂(E1)为用于促进由聚合引发剂引发聚合的聚合性化合物的聚合的化合物或敏化剂。作为聚合引发助剂(E1)，可举出4,4’－双(二甲基氨基)二苯甲酮(通称米氏酮)、4,4’－双(二乙基氨基)二苯甲酮、9,10－二甲氧基蒽、2,4－二乙基噻吨酮、N－苯基甘氨酸等。
使用这些的聚合引发助剂(E1)时，其含量相对于树脂(B)和聚合性化合物(D)的合计量100质量份，优选为0.1～30质量份，更优选为1～20质量份。聚合引发助剂(E1)的含量在该范围内时，能够以更高灵敏度形成滤色器，存在滤色器的生产率提高的趋势。
＜流平剂(F)＞
固化性着色组合物优选含有流平剂(F)。作为流平剂(F)，可举出有机硅系表面活性剂、氟系表面活性剂和具有氟原子的有机硅系表面活性剂等。其中，优选氟系表面活性剂。它们可以在侧链具有聚合性基团。
作为有机硅系表面活性剂，可举出分子内具有硅氧烷键的表面活性剂等。具体而言，可举出Toray Silicone DC3PA、Toray Silicone SH7PA、Toray Silicone DC11PA、Toray Silicone SH21PA、Toray Silicone SH28PA、Toray Silicone SH29PA、ToraySilicone SH30PA、Toray Silicone SH8400(商品名：Dow Corning Toray(株)制)、KP321、KP322、KP323、KP324、KP326、KP340、KP341(信越化学工业(株)制)、TSF400、TSF401、TSF410、TSF4300、TSF4440、TSF4445、TSF4446、TSF4452和TSF4460(Momentive PerformanceMaterials Japan合同会社制)等。应予说明，有机硅系表面活性剂中不包括有机硅化合物(C)。
作为氟系表面活性剂，可举出分子内具有氟碳链的表面活性剂等。具体而言，可举出FLUORAD(注册商标)FC430、FLUORAD FC431(住友3M(株)制)、MEGAFAC(注册商标)F142D、MEGAFAC F171、MEGAFAC F172、MEGAFAC F173、MEGAFAC F177、MEGAFAC F183、MEGAFACF554、MEGAFAC R30、MEGAFAC RS－718－K(DIC(株)制)、F-top(注册商标)EF301、F-topEF303、F-top EF351、F-top EF352(三菱材料电子化成(株)制)、Surflon(注册商标)S381、Surflon S382、Surflon SC101、Surflon SC105(旭硝子(株)制)和E5844((株)大金精细化学研究所制)等。
作为具有氟原子的有机硅系表面活性剂，可举出分子内具有硅氧烷键和氟碳链的表面活性剂等。具体而言，可举出MEGAFAC(注册商标)R08、MEGAFAC BL20、MEGAFAC F475、MEGAFAC F477和MEGAFAC F443(DIC(株)制)等。
含有流平剂(F)时，流平剂(F)的含有率在固化性着色组合物的总量中，优选为0.001～0.2质量％，更优选为0.005～0.1质量％。流平剂(F)的含有率在上述范围内时，能够使滤色器的平坦性变得良好。
＜溶剂(G)＞
固化性着色组合物优选含有溶剂(G)。溶剂(G)没有特别限定，可以使用该领域通常使用的溶剂。例如，可举出酯溶剂(分子内含有－COO－、不含有－O－的溶剂)、醚溶剂(分子内含有－O－、不含有－COO－的溶剂)、醚酯溶剂(分子内含有－COO－和－O－的溶剂)、酮溶剂(分子内含有－CO－、不含有－COO－的溶剂)、醇溶剂(分子内含有OH、不含有－O－、－CO－和－COO－的溶剂)、芳香族烃溶剂、酰胺溶剂、二甲基亚砜等。
作为溶剂(G)，可优选举出：
乳酸乙酯、乳酸丁酯、2－羟基异丁酸甲酯、乙酸正丁酯、丁酸乙酯、丁酸丁酯、丙酮酸乙酯、乙酰乙酸甲酯、环己醇乙酸酯和γ－丁内酯等酯溶剂(分子内含有－COO－、不含有－O－的溶剂)；
乙二醇单丁基醚、二乙二醇单甲基醚、丙二醇单甲基醚、3－甲氧基－1－丁醇、二乙二醇二甲基醚、二乙二醇甲基乙基醚等醚溶剂(分子内含有－O－、不含有－COO－的溶剂)；
3－甲氧基丙酸甲酯、3－乙氧基丙酸乙酯、甲氧基丙基乙酸酯、3－甲氧基丁基乙酸酯、丙二醇单甲基醚乙酸酯、乙二醇单乙基醚乙酸酯、二乙二醇单乙基醚乙酸酯等醚酯溶剂(分子内含有－COO－和－O－的溶剂)；
4－羟基－4－甲基－2－戊酮(二丙酮醇)、庚酮、4－甲基－2－戊酮、环己酮等酮溶剂(分子内含有－CO－、不含有－COO－的溶剂)；
丁醇、环己醇、丙二醇等醇溶剂(分子内含有OH、不含有－O－、－CO－和－COO－的溶剂)；
N,N－二甲基甲酰胺、N,N－二甲基乙酰胺和N－甲基吡咯烷酮等酰胺溶剂；等。
作为溶剂(G)，优选酯溶剂、醚溶剂、醚酯溶剂、酮溶剂。具体而言，更优选丙二醇单甲基醚乙酸酯、丙二醇单甲基醚、甲氧基丙基乙酸酯。溶剂(G)进一步优选还包含乳酸乙酯、4－羟基－4－甲基－2－戊酮等。
含有溶剂(G)时，溶剂(G)的含有率在本发明的固化性着色组合物的总量中，优选为30～95质量％，更优选为40～80质量％，进一步优选为45～70质量％。另一方面，固化性着色组合物的固体成分的总量在本发明的固化性着色组合物的总量100质量％中，优选为5～30质量％，更优选为10～20质量％。溶剂(G)的含有率在上述范围内时，涂布时的平坦性变得良好，而且形成滤色器时颜色浓度不会不足，因而存在显示特性变得良好的趋势。
＜其它成分＞
本发明的固化性着色组合物根据需要可以含有填充剂、高分子化合物、密合促进剂、抗氧化剂、光稳定剂、链转移剂等该技术领域中公知的添加剂。
本发明的固化性着色组合物优选可以形成表面的算术平均粗糙度Ra为6.0以下的固化膜。通过使固化膜的表面的算术平均粗糙度Ra为6.0以下，能够减少亮度的不均。进而，如果固化膜的表面的Ra较大，则有时导致ITO蒸镀工序中的不良，但通过使Ra为6.0以下，能够减少这样的不良的产生。Ra优选为5.0以下，更优选为4.5以下。另一方面，Ra的下限可以是0.1以上，也可以是0.5以上，还可以是1.0以上。
＜滤色器、显示装置＞
本发明还包含由上述固化性着色组合物形成的固化膜、例如滤色器。这样的滤色器由于降低了表面粗糙度，因此能够减少亮度的不均。进而通过使Ra为6.0以下，能够减少ITO蒸镀工序中的不良的产生。滤色器作为显示装置(例如，液晶显示装置、有机EL装置、电子纸张等)和固体摄像元件中使用的滤波器是有用的。
＜固化性着色组合物的制造方法＞
本发明的固化性着色组合物可以通过将着色剂(A)、树脂(B)、有机硅化合物(C)、聚合性化合物(D)、聚合引发剂(E)、以及根据需要使用的聚合引发助剂(E1)、流平剂(F)、溶剂(G)、其它成分混合来制备。
着色剂(A)可以使用上述着色剂分散液、颜料分散液来制备。可以通过将剩余的成分以达到规定浓度的方式混合到着色剂分散液、颜料分散液中来制备目标着色树脂组合物。
＜滤色器的制造方法＞
作为由本发明的固化性着色组合物来制造着色图案(滤色器)的方法，可举出光刻法、喷墨法、印刷法等。其中，优选光刻法。光刻法是将固化性着色树脂组合物涂布于基板使其干燥而形成组合物层、并隔着光掩模将该组合物层曝光、进行显影的方法。光刻法中，通过在曝光时不使用光掩模和/或不进行显影，能够形成作为上述着色组合物层的固化物的着色涂膜。作为滤色器的例子，可举出这样形成的着色图案、着色涂膜。
滤色器(固化膜)的膜厚优选为20μm以下，更优选为6μm以下，进一步优选为3μm以下，优选为0.1μm以上，更优选为1.0μm以上，进一步优选为1.5μm以上。
作为基板，可使用石英玻璃、硼硅酸玻璃、铝硅酸盐玻璃、表面被覆有二氧化硅的钠钙玻璃等玻璃板、聚碳酸酯、聚甲基丙烯酸甲酯、聚对苯二甲酸乙二醇酯等树脂板、硅、在上述基板上形成有铝、银、银/铜/钯合金薄膜等的基板。可以在这些基板上形成其它滤色器层、树脂层、晶体管、电路等。另外，也可以使用在硅基板上实施了HMDS处理的基板。
基于光刻法的各色像素的形成可以利用公知或惯用的装置、条件进行。例如，可以如下所述地进行制作。首先，将固化性着色树脂组合物涂布于基板上，进行加热干燥(预烘)和/或减压干燥，由此除去溶剂等挥发成分而使其干燥，得到平滑的组合物层。作为涂布方法，可举出旋转涂布法、狭缝涂布法、狭缝和旋转涂布法等。进行加热干燥时的温度优选为30～120℃，更优选为50～110℃。另外，作为加热时间，优选为10秒～60分钟，更优选为30秒～30分钟。进行减压干燥时，优选在50～150Pa的压力下以20～25℃的温度范围进行。组合物层的膜厚没有特别限定，只要根据目标滤色器的膜厚而适当地选择即可。
接下来，组合物层隔着用于形成目标着色图案的光掩模进行曝光。该光掩模上的图案没有特别限定，使用与目标用途对应的图案。作为曝光中使用的光源，优选产生250～450nm的波长的光的光源。例如，可以对小于350nm的光使用截止该波长区域的滤波器进行截止，或者可以对436nm附近、408nm附近、365nm附近的光使用提取这些波长区域的带通滤波器进行选择性提取。具体而言，可举出汞灯、发光二极管、金属卤化物灯和卤素灯等。为了能够对整个曝光面均匀地照射平行光线、进行光掩模与基板的精确对准，优选使用掩模对准器和步进器等缩小投影曝光装置或接近式曝光装置。
使曝光后的组合物层与显影液接触而进行显影，由此在基板上形成着色图案。通过显影，组合物层的未曝光部溶解于显影液而被除去。作为显影液，例如，优选氢氧化钾、碳酸氢钠、碳酸钠和四甲基氢氧化铵等碱性化合物的水溶液。这些碱性化合物在水溶液中的浓度优选为0.01～10质量％，更优选为0.03～5质量％。进而，显影液可以含有表面活性剂。显影方法可以是旋覆浸没法(Paddle method)、浸渍法和喷雾法等中的任一种。进而，在显影时可以使基板以任意角度倾斜。显影后优选进行水洗。
优选进一步对得到的着色图案进行后烘。后烘温度优选80～250℃，更优选100～245℃。后烘时间优选1～120分钟，更优选2～30分钟。
[实施例]
以下，举出实施例对本发明进行更具体的说明，但本发明不受下述实施例的限制，也可以在能适合于上述和后述的主旨的范围内加入适当变更而实施，这些均包含在本发明的技术范围内。实施例中的“％”和“份”只要没有特别说明，就为质量％和质量份。化合物的结构通过质谱(LC；Agilent制1200型，MASS；Agilent制LC/MSD型)来鉴定。
制造例1：树脂(B－1)
向具备回流冷凝器、滴液漏斗和搅拌机的烧瓶内流入适量氮而置换为氮气氛，装入乳酸乙酯141份、丙二醇单甲基醚乙酸酯178份，一边搅拌一边加热至85℃。接着，用5小时滴加丙烯酸38份、丙烯酸3,4－环氧三环[5.2.1.02,6]癸烷－8－基酯和丙烯酸3,4－环氧三环[5.2.1.02,6]癸烷－9－基酯的混合物(含有比以摩尔比计为1：1)25份、N－环己基马来酰亚胺137份、甲基丙烯酸2－羟基乙酯50份、丙二醇单甲基醚乙酸酯338份的混合溶液。另一方面，用6小时滴加将2,2－偶氮二异丁腈5份溶解于丙二醇单甲基醚乙酸酯88份而得的溶液。滴加结束后，在85℃保持4小时后，冷却至室温，得到由B型粘度计(23℃)测定的粘度23mPas、固体成分25.6质量％的共聚物(树脂B－1)溶液。生成的共聚物的重均分子量Mw为8.0×103，分散度2.1，固体成分换算的酸值为109mg－KOH/g。树脂B－1具有以下的结构单元。
Figure BDA0003254189920000581
制造例1中得到的树脂B－1的重均分子量(Mw)和数均分子量(Mn)的测定利用GPC法按照以下条件进行。
装置：K2479((株)岛津制作所制)
柱子：SHIMADZU Shim－pack GPC－80M
柱温：40℃
溶剂：THF(四氢呋喃)
流速：1.0mL/min
检测器：RI
校正用标准物质：TSK STANDARD POLYSTYRENE F－40、F－4、F－228、A－2500、A－500(东曹公司制)
将上述所得到的按聚苯乙烯换算的重均分子量与数均分子量之比(Mw/Mn)作为分子量分布。
制造例2：式(1a－1)表示的化合物(1a－1)的制造
与日本特开2018－127596号公报的实施例7中记载的方法同样地制造下述式(1a－1)表示的化合物(1a－1)。
Figure BDA0003254189920000591
制造例3：树脂(B－2)的制造
将具备回流冷凝器、滴液漏斗和搅拌机的烧瓶内置换为氮气氛，装入乳酸乙酯141份、丙二醇单甲基醚乙酸酯178份，一边搅拌一边加热到85℃。接着，用5小时滴加丙烯酸38份、丙烯酸3,4－环氧三环[5.2.1.02,6]癸烷－8－基酯和丙烯酸3,4－环氧三环[5.2.1.02 ,6]癸烷－9－基酯的混合物25份、N－环己基马来酰亚胺137份、甲基丙烯酸2－羟基乙酯50份、丙二醇单甲基醚乙酸酯338份而得的混合溶液。另一方面，用6小时滴加将2,2－偶氮二异丁腈5份溶解于丙二醇单甲基醚乙酸酯88份的溶液。滴加结束后，将混合物在85℃保持4小时后，冷却至室温，得到共聚物(以下记载为“树脂(B2－2)”)溶液(固体成分25.6％)。树脂(B－2)溶液的由B型粘度计测定的23℃下的粘度为23mPa·s。另外，树脂(B－2)的酸值(固体成分换算值)为111mgKOH/g，其重均分子量(Mw)为8.0×103，其多分散度(Mw/Mn)为2.1。
制造例4：含有化合物(1a－1)的着色剂分散液(A－1)的制造
将化合物(1a－1)7份、分散剂(DISPERBYK(注册商标)－2050(BYK-Chemie Japan公司制))3份、树脂(B－2)(固体成分换算)3份、丙二醇单甲基醚乙酸酯81份、4－羟基－4-甲基－2－戊酮6份和0.2mm的氧化锆珠300份混合，使用油漆调节器(Paint Conditioner)(LAU公司制)振荡3小时。其后，通过过滤除去氧化锆珠而得到着色剂分散液(A－1)。
制造例5：式(1a－2)表示的化合物(1a－2)的制造
根据日本特开2016－176075号公报的合成例2中记载的方法来制造下述式(1a－2)表示的化合物(1a－2)。
Figure BDA0003254189920000601
＜混合物(H)的制造＞
使用下述树脂(B)、有机硅化合物(C)、流平剂(F)和溶剂(G)，将各成分以成为下述表4所示的组成的方式混合而得到混合物(H－1)～(H－5)。应予说明，表4中，树脂(B)、有机硅化合物(C)的数值为固体成分换算的数值。
＜树脂(B)＞
(B－1)：制造例1中得到的树脂(B－1)
＜有机硅化合物(C)＞
(C－1)：BYK－320(BYK-Chemie Japan株式会社制)
(C－2)：BYK－325N(BYK-Chemie Japan株式会社制)
(C－3)：BYK－330(BYK-Chemie Japan株式会社制)
(C－4)：BYK－378(BYK-Chemie Japan株式会社制)
(C－5)：Toray Silicone SH8400(Dow Corning Toray公司制)
＜流平剂(F)＞
(F－1)：氟系表面活性剂(MEGAFAC(注册商标)F554；DIC公司制)
＜溶剂(G)＞
(G－1)：丙二醇单甲基醚乙酸酯
(G－2)：甲氧基丙基乙酸酯
(G－3)：乳酸乙酯
(G－4)：4－羟基－4-甲基－2－戊酮
＜混合物(H)的涂膜的形成＞
在2英寸见方的玻璃基板(EAGLE 2000；CORNING公司制)上，将得到的混合物(H)用旋涂法以厚度成为2μm的方式涂布于玻璃基板，在烘箱中，以230℃进行20分钟烘烤，由此分别得到由混合物(H-1)～(H-5)形成的涂膜。
<接触角测定>
对于得到的混合物(H-1)～(H-5)的涂膜，分别使用接触角测定装置(PCA-1；协和界面科学株式会社制))利用液滴法测定与离子交换水的接触角。将室温23℃下的将直径2μm的液滴滴加于涂膜时的静态接触角的结果示于表4。
【表4】
Figure BDA0003254189920000611
如表4所示，由含有有机硅化合物(C-1)～(C-4)的混合物(H-1)～(H-4)形成的涂膜是涂膜与离子交换水的接触角为70°以上且满足条件(1)的例子。另一方面，使用含有有机硅化合物(C-5)的混合物(H-5)时，产生凝聚而无法形成涂膜。
<实施例1～7、比较例1>
使用下述着色剂分散液、着色剂、上述树脂(B)、上述有机硅化合物(C)、下述聚合性化合物(D)、下述聚合引发剂(E)、上述流平剂(F)和上述溶剂(G)，将各成分以成为下述表5所示的组成的方式混合而得到固化性着色组合物。应予说明，表5中，树脂(B)、有机硅化合物(C)的数值为固体成分换算的数值。
<着色剂分散液>
含有化合物(1a-1)的着色剂分散液(A-1)
<着色剂>
由化合物(1a-2)构成的着色剂(A-2)
＜聚合性化合物(D)＞
(D－1)：二季戊四醇六丙烯酸酯(日本化药公司制“KAYARAD(注册商标)DPHA”)
＜聚合引发剂(E)＞
(E－1)：下述式(D－1)表示的化合物(常州强力电子新材料公司制“TR－PBG327”)
Figure BDA0003254189920000621
＜固化膜的形成＞
将得到的固化性着色组合物分别利用旋涂法涂布到2英寸见方的玻璃基板(EAGLE2000；CORNING公司制)上后，以100℃预烘3分钟，形成组合物层。冷却后，使用曝光机(TME－150RSK；TOPCON公司制)，在大气气氛下，以60mJ/cm2的曝光量(365nm基准)对组合物层进行光照射。将光照射后的着色树脂组合物层在含有非离子系表面活性剂0.12％和氢氧化钾0.04％的水系显影液中以24℃浸渍显影60秒，水洗后，在烘箱中，以230℃进行20分钟后烘，由此得到固化膜。
＜膜厚测定＞
使用膜厚测定装置(DEKTAK3；日本真空技术(株)制))对得到的固化膜测定膜厚。
＜色度评价＞
使用测色仪(OSP－SP－200；奥林巴斯(株)制)对得到的固化膜测定分光光谱，使用C光源的特征函数来测定CIE的XYZ表色系统中的xy色度坐标(x，y)和Y。Y的值越大，表示亮度越高。
＜对比度评价＞
不进行显影，除此以外，进行与固化膜的形成同样的操作，制作玻璃基板上的固化膜。使用对比度测色仪(CT－1：壶坂电机社制，检测器：BM－5A，光源：F－10)对该固化膜测定使空白值为30000的对比度。将用偏光膜(POLAX－38S；LUCEO公司制)夹住玻璃基板上的固化膜的物体作为测定样品。
＜固化膜的表面粗糙度的评价＞
使用扫描型探针显微镜装置(SPM；Bruker公司制Dimension Icon)对所得到的固化膜的表面的算术平均粗糙度Ra(nm)进行测定。Ra越小，意味着表面粗糙度越小。将它们的结果示于表5。
Figure BDA0003254189920000641
根据表4、5所示的结果可知，含有上述满足条件(1)的有机硅化合物(C－1)～(C－4)的实施例1～7的固化性着色组合物与含有不满足条件(1)的有机硅化合物(C－5)的比较例1的固化性树脂组合物相比，能够在不损害色度的情况下抑制后烘后的固化膜的表面粗糙度。应予说明，该评价虽然用固化膜进行测定，但固化膜中示为良好结果的样品用着色图案进行测定也同样得到了良好的结果。
产业上的可利用性
如果使用本发明的固化性着色组合物，则能够降低滤色器的形成(特别是后烘)中的表面粗糙度。由本发明的固化性着色组合物制造的固化膜、滤色器作为显示装置(例如，液晶显示装置、有机EL装置、电子纸张等)和固体摄像元件中使用的滤色器是有用的。

Claims (8)

1.一种固化性着色组合物，其特征在于，包含着色剂A、树脂B、有机硅化合物C、聚合性化合物D和聚合引发剂E，
所述有机硅化合物C满足条件(1)，
条件(1)：
将混合物H旋涂于玻璃基板，以230℃烘烤20分钟，由此形成的涂膜与离子交换水的接触角为70°以上，所述混合物H含有具有式(1)的结构单元的树脂B－1、所述有机硅化合物C、流平剂F和溶剂G且在固体成分的总量100质量％中所述有机硅化合物C的含量为21质量％，
Figure FDA0003254189910000011
2.根据权利要求1所述的固化性着色组合物，其中，所述着色剂A包含染料。
3.根据权利要求2所述的固化性着色组合物，其中，所述染料为成盐化合物和/或呫吨染料。
4.根据权利要求3所述的固化性着色组合物，其中，所述成盐化合物为三芳基甲烷系成盐化合物。
5.根据权利要求1～4中任一项所述的固化性着色组合物，其中，所述有机硅化合物C相对于所述固化性着色组合物的总量的含有率为2.0质量％以下。
6.根据权利要求1～5中任一项所述的固化性着色组合物，其能够形成表面的算术平均粗糙度Ra为6.0以下的固化膜。
7.一种滤色器，是由权利要求1～6中任一项所述的固化性着色组合物形成的。
8.一种显示装置，包含权利要求7所述的滤色器。
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