CN114096412A - 密封用多层树脂片 - Google Patents

Abstract

密封用多层树脂片11朝向厚度方向上的一侧依次具备第1密封用树脂片1和第2密封用树脂片12。第1密封用树脂片1包含层状硅酸盐化合物和第1无机填充材料。第2密封用树脂片12包含第2无机填充材料。第1无机填充材料相对于第1密封用树脂片1的含有比例(B)为50质量％以上。第2无机填充材料相对于第2密封用树脂片12的含有比例(A)为60质量％以上。第1无机填充材料相对于第1密封用树脂片1的含有比例(B)与第2无机填充材料相对于第2密封用树脂片12的含有比例(A)为规定的关系。

Description

密封用多层树脂片

技术领域

本发明涉及密封用多层树脂片，详细而言，涉及用于对元件进行密封的密封用多层树脂片。

背景技术

以往，已知使用包含热固性树脂的密封用片，通过压制将安装于基板的半导体元件、电子部件密封，然后，使热固性树脂热固化而由密封用片形成固化体(例如，参照下述专利文献1。)。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开2016-162909号公报

发明内容

发明要解决的课题

近年来，随着电子设备的高功能化，对其所具备的半导体元件、电子部件也要求小型化。与此相伴，对于保护半导体元件、电子部件的树脂(固化体)也要求提高固化时的尺寸精度。具体而言，有想要进一步降低固化体从半导体元件、电子部件的侧端缘侵入到半导体元件、电子部件和基板间的侵入量的要求。

本发明提供一种能够降低固化体向以半导体元件、电子部件为代表的元件和基板间的侵入的密封用多层树脂片。

用于解决课题的手段

本发明[1]为一种密封用多层树脂片，朝向厚度方向上的一侧依次具备第1密封用树脂片和第2密封用树脂片，上述第1密封用树脂片包含层状硅酸盐化合物和第1无机填充材料，上述第2密封用树脂片包含第2无机填充材料，上述第1无机填充材料相对于上述第1密封用树脂片的含有比例(B)为50质量％以上，上述第2无机填充材料相对于上述第2密封用树脂片的含有比例(A)为60质量％以上，上述第1无机填充材料相对于上述第1密封用树脂片的含有比例(B)与上述第2无机填充材料相对于上述第2密封用树脂片的含有比例(A)满足下述式(1)。

0.4A+1.7B＜160 (1)

本发明[2]包括上述[1]记载的密封用多层树脂片，上述第1密封用树脂片的厚度为30μm以上且100μm以下，上述第2密封用树脂片的厚度为50μm以上且500μm以下。

本发明[3]包括上述[1]或[2]记载的密封用多层树脂片，上述第1密封用树脂片的线膨胀系数为80ppm/℃以下，上述第2密封用树脂片的线膨胀系数为50ppm/℃以下。

发明的效果

在本发明的密封用多层树脂片中，第1密封用树脂片包含层状硅酸盐化合物和第1无机填充材料，第2密封用树脂片包含第2无机填充材料。

另外，第1无机填充材料相对于第1密封用树脂片的含有比例(B)与第2无机填充材料相对于第2密封用树脂片的含有比例(A)为规定的比例。

另外，第1无机填充材料相对于第1密封用树脂片的含有比例(B)与第2无机填充材料相对于第2密封用树脂片的含有比例(A)为规定的关系。

因此，在将该密封用多层树脂片配置于元件并对其进行加热而形成固化体时，能够降低固化体向元件和基板间的侵入量。

附图说明

在图1中，图1A～图1D是使用本发明的密封用多层树脂片的一个实施方式将多个电子元件密封而制造电子元件封装体的工序截面图，图1A是准备密封用多层树脂片的工序，图1B是准备电子元件的工序，图1C是对密封用多层树脂片进行压制而形成密封体的工序，图1D是对密封体进行加热而形成固化体的工序。

图2是表示第1无机填充材料相对于第1密封用树脂片1的含有比例(B)与第2无机填充材料相对于第2密封用树脂片12的含有比例(A)的关系的图表。

在图3中，图3A～图3D是对实施例中的固化体侵入长度Y进行测定的方法的工序截面图，图3A是准备密封用多层树脂片的工序(步骤A)，图3B是准备电子元件(虚设元件)的工序(步骤B)，图3C是对密封用多层树脂片进行压制而形成密封体的工序(步骤C)，图3D是对密封体进行加热而形成固化体的工序(步骤D)。

图4是表示实施例1～33和比较例1～比较例23中的第1无机填充材料相对于第1材料的含有比例(B)与第2无机填充材料相对于第2材料的含有比例(A)的关系的图表。

具体实施方式

本发明的密封用多层树脂片是用于对元件进行密封的树脂片，具有在与厚度方向正交的面方向上延伸的大致板形状(膜形状)。

该密封用多层树脂片朝向厚度方向上的一侧依次具备第1密封用树脂片和第2密封用树脂片。

详细而言，密封用多层树脂片具备第1密封用树脂片和形成于第1密封用树脂片的厚度方向一个面的第2密封用树脂片。优选密封用多层树脂片由第1密封用树脂片和第2密封用树脂片构成。

第1密封用树脂片具有在与厚度方向正交的面方向上延伸的大致板形状(膜形状)。

第1密封用树脂片的材料(以下，称为第1材料。)包含层状硅酸盐化合物和第1无机填充材料。

在第1材料包含后述的第1树脂成分(树脂基质)的情况下，层状硅酸盐化合物分散于第1树脂成分中。另外，层状硅酸盐化合物是由第1密封用树脂片形成密封体和固化体(后述)时的流动调节剂。具体而言，是在对第1密封用树脂片进行加热而形成固化体时降低固化体的流动性的固化时流动降低剂。

层状硅酸盐化合物例如为具有二维(在面方向上)扩展的层在厚度方向上重叠而成的结构(三维结构)的硅酸盐，被称为页硅酸盐(phyllosilicate)。

具体而言，作为层状硅酸盐化合物，例如可举出蒙脱石、贝得石、绿脱石、皂石、水辉石、锌皂石(Sauconite)、斯皂石(Stevensite)等蒙皂石、例如高岭石、例如埃洛石、例如滑石、例如云母等。作为层状硅酸盐化合物，从提高与热固性树脂的混合性的观点出发，优选举出蒙皂石，更优选举出蒙脱石。

层状硅酸盐化合物可以是表面未被改性的未改性物，另外，也可以是利用有机成分对表面进行了改性的改性物。从得到与热固性树脂和热塑性树脂的优异的亲和性的观点出发，优选利用有机成分对层状硅酸盐化合物的表面进行了改性。具体而言，作为层状硅酸盐化合物，可举出利用有机成分对表面进行了改性的有机化蒙皂石，进一步优选举出利用有机成分对表面进行了改性的有机化膨润土。

作为有机成分，可举出铵、咪唑鎓、吡啶鎓、鏻等有机阳离子(鎓离子)。

作为铵，例如可举出二甲基二硬脂基铵、二硬脂基铵、十八烷基铵、己基铵、辛基铵、2-己基铵、十二烷基铵、三辛基铵等。作为咪唑鎓，例如可举出甲基硬脂基咪唑鎓、二硬脂基咪唑鎓、甲基己基咪唑鎓、二己基咪唑鎓、甲基辛基咪唑鎓、二辛基咪唑鎓、甲基十二烷基咪唑鎓、二(十二烷基)咪唑鎓等。作为吡啶鎓，例如可举出硬脂基吡啶鎓、己基吡啶鎓、辛基吡啶鎓、十二烷基吡啶鎓等。作为鏻，例如可举出二甲基二硬脂基鏻、二硬脂基鏻、十八烷基鏻、己基鏻、辛基鏻、2-己基鏻、十二烷基鏻、三辛基鏻等。有机阳离子可以单独使用或并用2种以上。优选举出铵，更优选举出二甲基二硬脂基铵。

作为有机化层状硅酸盐化合物，优选举出表面被铵改性的有机化蒙皂石，更优选举出表面被二甲基二硬脂基铵改性的有机化膨润土。

层状硅酸盐化合物的平均粒径的下限例如为1nm，优选为5nm，更优选为10nm。层状硅酸盐化合物的平均粒径的上限例如为100μm，优选为50μm，更优选为10μm。需要说明的是，层状硅酸盐化合物的平均粒径例如是基于通过激光散射法中的粒度分布测定法求出的粒度分布，以D50值(累积50％中值粒径)的形式而求出的。

作为层状硅酸盐化合物，可以使用市售品。例如，作为有机化膨润土的市售品，可以使用S-BEN系列(HOJUN公司制)等。

第1材料中的层状硅酸盐化合物的含有比例的下限例如为1质量％，优选为3质量％。第1材料中的层状硅酸盐化合物的含有比例的上限例如为15质量％，优选为10质量％。

第1无机填充材料为除了层状硅酸盐化合物以外的无机填料，例如可举出原硅酸盐、俦硅酸盐(sorosilicate)、链状硅酸盐(inosilicate)等层状硅酸盐化合物以外的硅酸盐化合物、例如石英(硅酸)、二氧化硅(硅酸酐)、氮化硅等硅化合物(层状硅酸盐化合物以外的硅化合物)等。另外，作为第1无机填充材料，例如还可举出氧化铝、氮化铝、氮化硼等。这些可以单独使用或并用2种以上。优选举出层状硅酸盐化合物以外的硅化合物，更优选举出二氧化硅。

第1无机填充材料的形状没有特别限定，例如可举出大致球形状、大致板形状、大致针形状、不定形状等。优选举出大致球形状。

第1无机填充材料的最大长度的平均值(如果为大致球形状则与平均粒径同义。)的上限例如为50μm，优选为20μm，更优选为10μm。第1无机填充材料的最大长度的平均值的下限例如为0.1μm，优选为0.5μm。需要说明的是，第1无机填充材料的平均粒径例如是基于通过激光散射法中的粒度分布测定法求出的粒度分布，以D50值(累积50％中值粒径)的形式而求出的。

另外，第1无机填充材料可以包含第1填料和具有比第1填料的最大长度的平均值小的最大长度的平均值的第2填料。

第1填料的最大长度的平均值的下限例如为1μm，优选为3μm。第1填料的最大长度的平均值的上限例如为50μm，优选为30μm。

第2填料的最大长度的平均值的上限例如为0.9μm，优选为0.8μm。第2填料的最大长度的平均值的下限例如为0.01μm，优选为0.1μm。

第1填料的最大长度的平均值相对于第2填料的最大长度的平均值之比的下限例如为2，优选为5。第1填料的最大长度的平均值相对于第2填料的最大长度的平均值之比的上限例如为50，优选为20。

如果上述比为上述范围内，则能够进一步降低固化体向元件和基板间的侵入量。

第1填料和第2填料的材料可以均相同或不同。

此外，第1无机填充材料其表面可以部分或全部地用硅烷偶联剂等进行了表面处理。

关于第1无机填充材料相对于第1材料的含有比例(B)，在后文中描述。

另外，第1无机填充材料相对于第1材料的含有比例(B)与第2无机填充材料相对于第2材料(后述)的含有比例(A)具有规定的关系，详细情况在后文中描述。

第1无机填充材料相对于层状硅酸盐化合物100质量份的含有份数的下限例如为1000质量份，优选为1050质量份，更优选为1100质量份，进一步优选为1150质量份，尤其优选为1200质量份，最优选为1250质量份。第1无机填充材料相对于层状硅酸盐化合物100质量份的含有份数的上限例如为1500质量份，优选为1450质量份，更优选为1400质量份，进一步优选为1350质量份。

如果上述第1无机填充材料的含有份数相对于层状硅酸盐化合物100质量份为上述范围内(例如1000～1500质量份)，则能够进一步降低固化体向元件和基板间的侵入量。另外，如果第1无机填充材料的含有份数相对于层状硅酸盐化合物100质量份为上述范围内(例如1000～1500质量份)，则能够将固化体向元件和基板间的侵入量控制为适当的值。

在第1无机填充材料包含第1填料和第2填料的情况下，第1材料中的第1填料的含有比例的下限例如为32.5质量％，优选为33质量％，更优选为36质量％，进一步优选为40质量％。第1材料中的第1填料的含有比例的上限例如为52质量％，优选为50质量％，更优选为47质量％，进一步优选为43质量％。第1材料中的第2填料的含有比例的下限例如为1质量％，优选为18质量％，更优选为20质量％，进一步优选为22质量％。第1材料中的第2填料的含有比例的上限例如为26.5质量％，优选为25质量％，更优选为24质量％。相对于第1填料100质量份，第2填料的含有份数的下限例如为30质量份，优选为40质量份，更优选为50质量份。相对于第1填料100质量份，第2填料的含有份数的上限例如为70质量份，优选为60质量份，更优选为55质量份。

第1材料优选包含作为树脂基质的第1树脂成分。

第1树脂成分包含热固性树脂和热塑性树脂。优选第1树脂成分由热固性树脂和热塑性树脂构成。

作为热固性树脂，例如可举出环氧树脂、有机硅树脂、氨基甲酸酯树脂、聚酰亚胺树脂、脲树脂、三聚氰胺树脂、不饱和聚酯树脂等。

热固性树脂可以单独使用或并用2种以上。

作为热固性树脂，优选举出环氧树脂。需要说明的是，环氧树脂以含有主剂、固化剂和固化促进剂的环氧树脂组合物的形式制备。

作为主剂，例如可举出双酚A型环氧树脂、双酚F型环氧树脂、改性双酚A型环氧树脂、改性双酚F型环氧树脂、联苯型环氧树脂等2官能环氧树脂，例如苯酚线性酚醛型环氧树脂、甲酚线性酚醛型环氧树脂、三羟基苯基甲烷型环氧树脂、四酚基乙烷型环氧树脂、二环戊二烯型环氧树脂、环氧丙基胺型环氧树脂(例如三环氧丙基氨基苯酚)等3官能以上的多官能环氧树脂等。这些主剂可以单独使用或并用2种以上。作为主剂，优选举出2官能环氧树脂，更优选举出双酚F型环氧树脂。

主剂的环氧当量的下限例如为10g/eq.，优选为80g/eq.。主剂的环氧当量的上限例如为300g/eq.，优选为250g/eq.。

主剂的软化点的下限例如为50℃，优选为70℃，更优选为72℃，进一步优选为75℃。主剂的软化点的上限例如为130℃，优选为110℃，更优选为90℃。

如果主剂的软化点为上述下限以上，则在图1C所示的工序中，密封用树脂片1能够流动。因此，能够使图1C所示的工序中的密封用树脂片1的厚度方向一个面平坦。

第1材料中的主剂的比例的下限例如为1质量％，优选为2质量％。第1材料中的主剂的比例的上限例如为30质量％，优选为15质量％。环氧树脂组合物中的主剂的比例的下限例如为30质量％，优选为50质量％。环氧树脂组合物中的主剂的比例的上限例如为80质量％，优选为70质量％。

固化剂是通过加热使上述主剂固化的潜伏性固化剂。作为固化剂，例如可举出苯酚线性酚醛树脂、三羟基苯基甲烷型酚醛树脂等酚醛树脂。如果固化剂为酚醛树脂，则酚醛树脂和主剂它们的固化体均具有高耐热性和高耐化学试剂性。因此，固化体的密封可靠性优异。

这些固化剂可以单独使用或并用2种以上。作为固化剂，优选并用苯酚线性酚醛树脂和三羟基苯基甲烷型酚醛树脂。

在并用苯酚线性酚醛树脂和三羟基苯基甲烷型酚醛树脂的情况下，相对于苯酚线性酚醛树脂和三羟基苯基甲烷型酚醛树脂的总量100质量份，苯酚线性酚醛树脂的含有比例的下限例如为10质量份。相对于苯酚线性酚醛树脂和三羟基苯基甲烷型酚醛树脂的总量100质量份，苯酚线性酚醛树脂的含有比例的上限例如为30质量份。相对于苯酚线性酚醛树脂和三羟基苯基甲烷型酚醛树脂的总量100质量份，三羟基苯基甲烷型酚醛树脂的含有比例的下限例如为70质量份。相对于苯酚线性酚醛树脂和三羟基苯基甲烷型酚醛树脂的总量100质量份，三羟基苯基甲烷型酚醛树脂的含有比例的上限例如为90质量份。

对固化剂的比例进行设定以使得成为下述当量比。具体而言，相对于主剂中的环氧基1当量，酚醛树脂中的羟基的合计的下限例如为0.7当量，优选为0.9当量。相对于主剂中的环氧基1当量，酚醛树脂中的羟基的合计的上限例如为1.5当量，优选为1.2当量。具体而言，相对于主剂100质量份，固化剂的含有份数的下限例如为20质量份，优选为40质量份。相对于主剂100质量份，固化剂的含有份数的上限例如为80质量份，优选为60质量份。

固化促进剂是通过加热来促进主剂的固化的催化剂(热固化催化剂)。作为固化促进剂，例如可举出有机磷系化合物、例如2-苯基-4，5-二羟基甲基咪唑(2PHZ-PW)等咪唑化合物等。优选举出咪唑化合物。相对于主剂100质量份，固化促进剂的含有份数的下限例如为0.05质量份。相对于主剂100质量份，固化促进剂的含有份数的上限例如为5质量份。

第1材料中的热固性树脂的含有比例的下限例如为10质量％，优选为13质量％，更优选为16质量％，进一步优选为20质量％。第1材料中的热固性树脂的含有比例的上限例如为37质量％，优选为33质量％，更优选为30质量％，进一步优选为25质量％。

作为热塑性树脂，例如可举出天然橡胶、丁基橡胶、异戊二烯橡胶、氯丁橡胶、乙烯-乙酸乙烯酯共聚物、乙烯-丙烯酸共聚物、乙烯-丙烯酸酯共聚物、聚丁二烯树脂、聚碳酸酯树脂、热塑性聚酰亚胺树脂、聚酰胺树脂(6-尼龙、6，6-尼龙等)、苯氧树脂、丙烯酸系树脂、饱和聚酯树脂(PET等)、聚酰胺酰亚胺树脂、氟树脂、苯乙烯-异丁烯-苯乙烯嵌段共聚物等。这些热塑性树脂可以单独使用或并用2种以上。

作为热塑性树脂，从提高与热固性树脂的分散性的观点出发，优选举出丙烯酸系树脂。

作为丙烯酸系树脂，例如可举出将包含具有直链或支链的烷基的(甲基)丙烯酸烷基酯和其他单体(共聚性单体)的单体成分聚合而成的(甲基)丙烯酸酯共聚物(优选为含羧基的丙烯酸酯共聚物)等。

作为烷基，例如可举出甲基、乙基、丙基、异丙基、正丁基、叔丁基、异丁基、戊基、己基等碳原子数1～6的烷基等。

作为其他单体，例如可举出丙烯酸、甲基丙烯酸、丙烯酸羧基乙酯、丙烯酸羧基戊酯、衣康酸、马来酸、富马酸、巴豆酸等含羧基的单体、例如丙烯酸环氧丙酯、甲基丙烯酸环氧丙酯等含环氧丙基的单体、例如马来酸酐、衣康酸酐等酸酐单体、例如(甲基)丙烯酸2-羟基乙酯、(甲基)丙烯酸2-羟基丙酯、(甲基)丙烯酸4-羟基丁酯、(甲基)丙烯酸6-羟基己酯、(甲基)丙烯酸8-羟基辛酯、(甲基)丙烯酸10-羟基癸酯、(甲基)丙烯酸12-羟基月桂酯或丙烯酸(4-羟基甲基环己基)甲酯等含羟基的单体、例如苯乙烯磺酸、烯丙基磺酸、2-(甲基)丙烯酰胺-2-甲基丙磺酸、(甲基)丙烯酰胺丙磺酸、(甲基)丙烯酸磺丙酯、(甲基)丙烯酰氧基萘磺酸等含磺酸基的单体、2-羟基乙基丙烯酰基磷酸酯等含磷酸基的单体、例如苯乙烯单体、例如丙烯腈等。这些可以单独使用或并用2种以上。

优选举出含羧基的单体、含羟基的单体，更优选举出含羧基的单体。

其他单体可以单独使用或并用2种以上。

作为热塑性树脂，更优选举出含有羧基的丙烯酸系树脂，进一步优选热塑性树脂由含有羧基的丙烯酸系树脂构成。

热塑性树脂的玻璃化转变温度Tg的下限例如为-70℃，优选为-50℃，更优选为-30℃。热塑性树脂的玻璃化转变温度Tg的上限例如为0℃，优选为5℃，更优选为-5℃。玻璃化转变温度Tg例如是通过Fox式求出的理论值，其具体的计算方法例如记载于日本特开2016-1976号公报等中。

热塑性树脂的重均分子量的下限例如为100,000，优选为300,000，更优选为1,000,000，进一步优选为1,100,000。热塑性树脂的重均分子量的上限例如为1,400,000。需要说明的是，重均分子量是通过凝胶渗透色谱(GPC)并基于标准聚苯乙烯换算值而测定的。

第1材料中的热塑性树脂的比例的下限例如为1质量％，优选为2质量％，更优选为3质量％。第1材料中的热塑性树脂的比例的上限例如为7质量％，优选为6质量％，更优选为5质量％。

另外，在第1密封用树脂片中，相对于热塑性树脂和热固性树脂的总量，热塑性树脂的比例的下限例如为5质量％，优选为10质量％。

在第1密封用树脂片中，相对于热塑性树脂和热固性树脂的总量，热塑性树脂的比例的上限例如为30质量％，优选为20质量％。

在第1材料中可以进一步添加颜料、硅烷偶联剂、其他添加剂。

作为颜料，例如可举出炭黑等黑色颜料。颜料的粒径的下限例如为0.001μm。颜料的粒径的上限例如为1μm。颜料的粒径是用电子显微镜观察颜料而求出的算术平均直径。颜料相对于第1材料的比例的下限例如为0.1质量％。颜料相对于第1材料的比例的上限例如为2质量％。

作为硅烷偶联剂，例如可举出含有环氧基的硅烷偶联剂。作为含有环氧基的硅烷偶联剂，例如可举出3-环氧丙氧基丙基甲基二甲氧基硅烷、3-环氧丙氧基丙基甲基二乙氧基硅烷等3-环氧丙氧基二烷基二烷氧基硅烷、例如3-环氧丙氧基丙基三甲氧基硅烷、3-环氧丙氧基丙基三乙氧基硅烷等3-环氧丙氧基烷基三烷氧基硅烷。优选举出3-环氧丙氧基烷基三烷氧基硅烷。第1材料中的硅烷偶联剂的含有比例的下限例如为0.1质量％，优选为0.5质量％。第1材料中的硅烷偶联剂的含有比例的上限例如为10质量％，优选为5质量％，更优选为2质量％。

第1材料的玻璃化转变温度的下限例如为100℃，优选为120℃，更优选为145℃，进一步优选为150℃。第1材料的玻璃化转变温度的上限例如为180℃，优选为160℃。

第2密封用树脂片具有在与厚度方向正交的面方向上延伸的大致板形状(膜形状)。

第2密封用树脂片以第2密封用树脂片的厚度方向另一个面整面与第1密封用树脂片的厚度方向一个面整面接触的方式粘接于第1密封用树脂片。

第2密封用树脂片的材料(以下，称为第2材料。)不含层状硅酸盐化合物而包含第2无机填充材料。

作为第2无机填充材料，可举出与上述第1无机填充材料同样的材料，优选举出二氧化硅。

第2无机填充材料的最大长度的平均值(如是为大致球形状则为平均粒径。下同。)与上述第1无机填充材料的最大长度的平均值相同。

另外，第2无机填充材料与第1无机填充材料同样地，可以包含第1填料和具有比第1填料的最大长度的平均值小的最大长度的平均值的第2填料。

在第2无机填充材料中，第1填料的最大长度的平均值和第2填料的最大长度的平均值与第1无机填充材料中的第1填料的最大长度的平均值和第2填料的最大长度的平均值相同。

此外，第2无机填充材料其表面可以部分或全部地用硅烷偶联剂等进行了表面处理。

关于第2无机填充材料相对于第2材料的含有比例(A)，在后文中描述。

另外，第1无机填充材料相对于第1材料的含有比例(B)与第2无机填充材料相对于第2材料的含有比例(A)具有规定的关系，详细情况在后文中描述。

在第2无机填充材料包含第1填料和第2填料的情况下，第2材料中的第1填料的含有比例的下限例如为38质量％，优选为40质量％，更优选为50质量％，进一步优选为52质量％，尤其优选为54质量％。第2材料中的第1填料的含有比例的上限例如为60质量％，优选为56质量％。第2材料中的第2填料的含有比例的下限例如为20质量％，优选为22质量％，更优选为25质量％，进一步优选为28质量％。第2材料中的第2填料的含有比例的上限例如为35质量％，优选为30质量％。相对于第1填料100质量份，第2填料的含有份数的下限例如为30质量份，优选为40质量份，更优选为50质量份。相对于第1填料100质量份，第2填料的含有份数的上限例如为70质量份，优选为60质量份，更优选为55质量份。

第2材料优选包含作为树脂基质的第2树脂成分。

第2树脂成分包含热固性树脂和热塑性树脂。优选第2树脂成分由热固性树脂和热塑性树脂构成。

作为热固性树脂，可举出上述第1树脂成分中例示的热固性树脂，优选举出环氧树脂。需要说明的是，环氧树脂以含有主剂、固化剂和固化促进剂的环氧树脂组合物的形式制备。热固性树脂可以单独使用或并用2种以上。

作为主剂，可举出上述第1树脂成分中例示的主剂。

主剂可以单独使用或并用2种以上，优选并用2官能环氧树脂和3官能以上的多官能环氧树脂，更优选并用2官能环氧树脂和3官能环氧树脂，进一步优选并用双酚F型环氧树脂和环氧丙基胺型环氧树脂。

在并用2官能环氧树脂和3官能环氧树脂作为主剂的情况下，相对于2官能环氧树脂和3官能环氧树脂的总量100质量份，2官能环氧树脂的比例的下限例如为40质量份。相对于2官能环氧树脂和3官能环氧树脂的总量100质量份，2官能环氧树脂的比例的上限例如为60质量份。另外，相对于2官能环氧树脂和3官能环氧树脂的总量100质量份，3官能环氧树脂的比例的下限例如为40质量份。相对于2官能环氧树脂和3官能环氧树脂的总量100质量份，3官能环氧树脂的比例的上限例如为60质量份。

主剂的环氧当量和软化点与上述第1树脂成分中例示的范围相同。

第2材料中的主剂的比例的下限例如为4质量％，优选为6质量％。第2材料中的主剂的比例的上限例如为20质量％，优选为15质量％，更优选为10质量％，进一步优选为8质量％。环氧树脂组合物中的主剂的比例的下限例如为30质量％，优选为50质量％。环氧树脂组合物中的主剂的比例的上限例如为80质量％，优选为70质量％。

作为固化剂，可举出上述第1树脂成分中例示的固化剂，优选举出苯酚线性酚醛树脂。

对固化剂的比例进行设定以使得成为下述当量比。具体而言，相对于主剂中的环氧基1当量，酚醛树脂中的羟基的合计的下限例如为0.7当量，优选为0.9当量。相对于主剂中的环氧基1当量，酚醛树脂中的羟基的合计的上限例如为1.5当量，优选为1.2当量。具体而言，相对于主剂100质量份，固化剂的含有份数的下限例如为20质量份，优选为40质量份，更优选为60质量份。相对于主剂100质量份，固化剂的含有份数的上限例如为85质量份。

作为热塑性树脂，可举出上述第1树脂成分中例示的热塑性树脂，优选举出丙烯酸系树脂，更优选举出含有羧基的丙烯酸系树脂。

第2材料中的热塑性树脂的比例的下限例如为0.1质量％，优选为0.6质量％。第2材料中的热塑性树脂的比例的上限例如为1.5质量％，优选为5质量％。

另外，在第2密封用树脂片中，相对于热塑性树脂和热固性树脂的总量，热塑性树脂的比例的下限例如为1质量％，优选为5质量％。在第2密封用树脂片中，相对于热塑性树脂和热固性树脂的总量，热塑性树脂的比例的上限例如为20质量％，优选为10质量％。

在第2材料中可以进一步添加颜料、硅烷偶联剂、其他添加剂。

作为颜料，可举出在上述第1材料中例示的颜料。

颜料的粒径与上述第1材料中例示的范围相同。

颜料相对于第2材料的比例的下限例如为0.1质量％。颜料相对于第2材料的比例的上限例如为2质量％。

作为硅烷偶联剂，可举出上述第1材料中例示的硅烷偶联剂，优选举出3-环氧丙氧基烷基三烷氧基硅烷。第2材料中的硅烷偶联剂的含有比例的下限例如为0.1质量％，优选为0.5质量％。第2材料中的硅烷偶联剂的含有比例的上限例如为10质量％，优选为5质量％，更优选为2质量％。

第2材料的玻璃化转变温度低于第1材料的玻璃化转变温度，第2材料的玻璃化转变温度的下限例如为100℃，优选为130℃。第2材料的玻璃化转变温度的上限例如为160℃，优选为150℃。

并且，为了得到密封用多层树脂片，分别制造第1密封用树脂片和第2密封用树脂片。

为了制造第1密封用树脂片，将上述各成分以上述比例配合，制备第1材料。优选充分搅拌上述成分，使层状硅酸盐化合物均匀地分散于第1树脂成分(热固性树脂和热塑性树脂)中。

另外，根据需要，进一步配合溶剂(甲乙酮等酮系等)而制备清漆。然后，将清漆涂布于未图示的剥离片，然后，通过加热使其干燥，制造具有片形状的第1密封用树脂片。另一方面，也可以不制备清漆，而通过混炼挤出，由第1材料形成第1密封用树脂片。

需要说明的是，所形成的第1密封用树脂片为乙阶(半固化状态)，具体而言，为丙阶前的状态。即，为完全固化前的状态。第1密封用树脂片通过上述干燥中的加热、挤出混炼中的加热而由甲阶的第1材料形成为乙阶片。

为了制造第2密封用树脂片，将上述各成分以上述比例配合，制备第2材料。

另外，根据需要，进一步配合溶剂(甲乙酮等酮系等)而制备清漆。然后，将清漆涂布于未图示的剥离片，然后，通过加热使其干燥，制造具有片形状的第2密封用树脂片。另一方面，也可以不制备清漆，而通过混炼挤出，由第2材料形成第2密封用树脂片。

需要说明的是，所形成的第2密封用树脂片为乙阶(半固化状态)，具体而言，为丙阶前的状态。即，为完全固化前的状态。第2密封用树脂片通过上述干燥中的加热、挤出混炼中的加热而由甲阶的第1材料形成为乙阶片。

接下来，为了得到密封用多层树脂片，在第1密封用树脂片的厚度方向上的一侧配置(转印)第2密封用树脂片。

由此，得到密封用多层树脂片。

在这样的密封用多层树脂片中，第1密封用树脂片的厚度的下限例如为10μm，优选为25μm，更优选为30μm。第1密封用树脂片的厚度的上限例如为3000μm，优选为1000μm，更优选为500μm，进一步优选为300μm，尤其优选为100μm。

另外，第2密封用树脂片的厚度的下限例如为10μm，优选为30μm，更优选为50μm。第2密封用树脂片的厚度的上限例如为3000μm，优选为1000μm，更优选为500μm。

另外，第2密封用树脂片的厚度相对于第1密封用树脂片的厚度的比例的下限例如为0.5，优选为1，更优选超过1。第2密封用树脂片的厚度相对于第1密封用树脂片的厚度的比例的上限例如为20，优选为10，更优选为5。

另外，这样的密封用多层树脂片的厚度的下限例如为20μm，优选为30μm，更优选为50μm。密封用多层树脂片的厚度的上限例如为6000μm，优选为3000μm，更优选为1500μm，进一步优选为1000μm，尤其优选为500μm，最优选为300μm。

优选第1密封用树脂片的厚度为上述范围中的特定范围，且第2密封用树脂片的厚度为上述范围中的特定范围。

具体而言，第2密封用树脂片的厚度大于第1密封用树脂片的厚度，详细而言，在第1密封用树脂片的厚度的下限例如为30μm，优选为40μm、第1密封用树脂片的厚度的上限例如为100μm、优选为70μm的情况下，第2密封用树脂片的厚度的下限例如为50μm，第2密封用树脂片的厚度的上限为500μm，优选为300μm。密封用多层树脂片的厚度的下限例如为80μm，优选为100μm，更优选为200μm。密封用多层树脂片的厚度的上限例如为600μm，优选为300μm。

在这样的情况下，能够抑制密封用多层树脂片的翘曲。另外，能够抑制第1无机填充材料从第1密封用树脂片排出。

另外，第1密封用树脂片的线膨胀系数的上限为90ppm/℃，优选为80ppm/℃，更优选为75ppm/℃，进一步优选为70ppm/℃，尤其优选为60ppm/℃。第1密封用树脂片的线膨胀系数的上限优选较低。需要说明的是，如果第1密封用树脂片的线膨胀系数的上限过低，则第1无机填充材料的量变得过多，因此片的成形性降低。第1密封用树脂片的线膨胀系数的下限例如可以为20ppm/℃。

另外，第2密封用树脂片的线膨胀系数的上限例如为50ppm/℃，优选为40ppm/℃，更优选为20ppm/℃。第2密封用树脂片的线膨胀系数的上限优选较低。需要说明的是，如果第2密封用树脂片的线膨胀系数的上限过低，则第2无机填充材料的量变得过多，因此片的成形性降低。

第2密封用树脂片的线膨胀系数的下限例如可以为5ppm/℃。

如果第1密封用树脂片的线膨胀系数为上述上限以下且第2密封用树脂片的线膨胀系数为上述上限以下，则能够抑制密封用多层树脂片的翘曲。

需要说明的是，上述的线膨胀系数的测定方法在后述的实施例中详述。

接下来，参照图1A～图1D对通过密封用多层树脂片将作为元件的一个例子的电子元件密封而制造电子元件封装体50的方法进行说明。

在该方法中，如图1A所示，首先，准备朝向厚度方向上的一侧依次具备第1密封用树脂片1和第2密封用树脂片12的密封用多层树脂片11(准备工序)。密封用多层树脂片11具有在厚度方向上相互对置的厚度方向一个面及另一个面。

另外，如图1B所示，准备电子元件21。

电子元件21包含电子部件，例如在基板22安装有多个。多个电子元件21和基板22与凸块23一起被设置在元件安装基板24上。即，该元件安装基板24具备多个电子元件21、基板22和凸块23。

基板22具有沿面方向延伸的大致平板形状。在基板22的厚度方向一个面25设置有与电子元件21的电极(未图示)电连接的端子(未图示)。

多个电子元件21分别具有沿面方向延伸的大致平板形状(芯片形状)。多个电子元件21相互在面方向上隔开间隔地配置。多个电子元件21的厚度方向另一个面28与基板22的厚度方向一个面25平行。在多个电子元件21各自的厚度方向另一个面28设置有电极(未图示)。电子元件21的电极藉由接下来说明的凸块23与基板22的端子电连接。需要说明的是，电子元件21的厚度方向另一个面28与基板22的厚度方向一个面25之间可以隔着间隙(空间)26。

相邻的电子元件21的间隔的下限例如为50μm，优选为100μm，更优选为200μm。相邻的电子元件21的间隔的上限例如为10mm，优选为5mm，更优选为1mm。如果相邻的电子元件21的间隔为上述上限以下，则能够在基板22上安装更多的电子元件21，能够省空间化。

凸块23将多个电子元件21各自的电极(未图示)与基板22各自的端子电连接。凸块23配置于电子元件21的电极与基板22的端子之间。作为凸块23的材料，例如可举出焊料、金等金属等。凸块23的厚度相当于间隙26的厚度(高度)。凸块23的厚度根据元件安装基板24的用途和目的适当设定。

接下来，如图1B所示，将密封用多层树脂片11配置于多个电子元件21(配置工序)。具体而言，使密封用多层树脂片11的厚度方向另一个面(第1密封用树脂片1侧)与多个电子元件21的厚度方向一个面接触。

接下来，如图1C所示，对密封用多层树脂片11和元件安装基板24进行压制(密封工序)。优选对密封用多层树脂片11和元件安装基板24进行热压。

例如，通过具备2个平板的压制机27，一边在厚度方向上夹持密封用多层树脂片11和元件安装基板24，一边对它们进行压制。需要说明的是，在压制机27的平板例如可以具备未图示的热源。

通过密封用多层树脂片11的压制，第1密封用树脂片1与电子元件21的外形对应地塑性变形。第1密封用树脂片1的厚度方向另一个面变形为与多个电子元件21的厚度方向一个面和周侧面对应的形状。

需要说明的是，第1密封用树脂片1在维持乙阶的同时进行塑性变形。

由此，第1密封用树脂片1被覆多个电子元件21各自的周侧面，并且在俯视时与不与电子元件21重复的基板22的厚度方向一个面25接触。

另一方面，第2密封用树脂片12由于不含有层状硅酸盐化合物，所以即使被压制，流动性也不会提高，保持低的状态，从而抑制其侵入到相邻的电子元件21间。

压制条件(压力、时间以及温度等)没有特别限定，选择第1密封用树脂片1能够侵入到多个电子元件21间，另一方面，元件安装基板24不受损伤的条件。更具体而言，对压制条件进行设定，以使得：第1密封用树脂片1能够流动而侵入到相邻的电子元件21间，被覆多个电子元件21各自的周侧面，并且与俯视时不与电子元件21重复的基板22的厚度方向一个面25接触。

具体而言，压制压力的下限例如为0.01MPa，优选为0.05MPa。压制压力的上限例如为10MPa，优选为5MPa。压制时间的下限例如为0.3分钟，优选为0.5分钟。压制时间的上限例如为10分钟，优选为5分钟。

具体而言，加热温度的下限例如为40℃，优选为60℃。加热温度的上限例如为100℃，优选为95℃。

由此，由密封用多层树脂片11形成(制作)对多个电子元件21进行密封的密封体31。密封体31的厚度方向一个面为平坦面。

此时，允许密封体31稍微侵入间隙(电子元件21与基板22间的间隙)26。具体而言，密封体31以电子元件21的侧端缘75为基准，被允许具有密封体31侵入间隙26的密封体侵入长度X(参照图3C)。

具体而言，密封体侵入长度X的上限可以根据固化体侵入长度Y的目标上限值适当设定。具体而言，例如，密封体侵入长度X的上限可以为50μm，优选可以为30μm。需要说明的是，密封体侵入长度X的下限例如为-15μm是重要的。

然后，如图1D所示，对密封体31进行加热而由密封体31形成固化体41(固化工序)。

具体而言，将密封体31和元件安装基板24从压制机27取出，接下来，利用干燥机在大气压下对密封体31和元件安装基板24进行加热。

加热温度(固化(cure)温度)的下限例如为100℃，优选为120℃。加热温度(固化温度)的上限例如为200℃，优选为180℃。加热时间的下限例如为10分钟，优选为30分钟。加热时间的上限例如为180分钟，优选为120分钟。

通过上述密封体31的加热，由密封体31形成丙阶化(完全固化)的固化体41。固化体41的厚度方向一个面为露出面。

需要说明的是，允许稍微侵入间隙的密封体31的端缘进一步稍微侵入间隙26的内部而形成固化体41是可以接受的，详情后述，由于第1无机填充材料相对于第1密封用树脂片1的含有比例(B)与第2无机填充材料相对于第2密封用树脂片12的含有比例(A)为规定的比例和规定的关系，因此其程度被抑制得尽可能小。具体而言，可以减小固化体41以电子元件21的侧端缘为基准，从固化体41侵入到间隙26的固化体侵入长度Y(参照图3D)中减去密封体侵入长度X而得到的值(Y-X)(以下，设为密封体侵入量(Y-X)。)。

固化体侵入长度Y的上限在芯片用于SAW滤波器用途的情况下，可以在不与芯片背面的布线接触的范围内适当设定。具体而言，固化体侵入长度Y的上限例如可以为30μm，优选为25μm。需要说明的是，固化体侵入长度Y的下限例如为-10μm是重要的。

并且，在该密封用多层树脂片11中，第1无机填充材料相对于第1密封用树脂片1的含有比例(B)与第2无机填充材料相对于第2密封用树脂片12的含有比例(A)为规定的比例和规定的关系。因此，在将该密封用多层树脂片11配置于电子元件21并对该密封用多层树脂片11(密封体31)进行加热，如图1D所示形成固化体41时，能够降低固化体41向电子元件21和基板22间即间隙26的侵入量。

详细而言，第1无机填充材料相对于第1材料的含有比例(B)的下限为50质量％，优选为52质量％，更优选为55质量％，进一步优选为57质量％，尤其优选为60质量％，最优选为62质量％。第1无机填充材料相对于第1材料的含有比例(B)的上限例如为80质量％，优选为75质量％，更优选为72质量％，进一步优选为70质量％，尤其优选为68质量％。

如果第1无机填充材料相对于第1材料的含有比例(B)为上述下限以上，则图1C所示的工序中的密封用树脂片1能够流动。

另外，第2无机填充材料相对于第2材料的含有比例(A)的下限为60质量％，优选为65质量％，更优选为70质量％，进一步优选为质量％，尤其优选为82质量％。第2无机填充材料相对于第2材料的含有比例(A)的上限例如为95质量％，优选90质量％，更优选为87质量％，进一步优选为86质量％。

如果第2无机填充材料相对于第2材料的含有比例(A)为上述下限以上，则图1C所示的工序中的第2密封用树脂片12能够流动。

另外，第1无机填充材料相对于第1密封用树脂片1的含有比例(B)与第2无机填充材料相对于第2密封用树脂片12的含有比例(A)满足述式(1)。

0.4A+1.7B＜160 (1)

综上，第1无机填充材料相对于第1密封用树脂片1的含有比例(B)与第2无机填充材料相对于第2密封用树脂片12的含有比例(A)为规定的比例和规定的关系是指，上述第1无机填充材料的含有比例(B)的下限为上述下限以上，且上述第2无机填充材料的含有比例(A)的下限为上述下限以上，并且上述第1无机填充材料的含有比例(B)与上述第2无机填充材料的含有比例(A)满足上述式(1)，具体而言，是指第1无机填充材料相对于第1密封用树脂片1的含有比例(B)与第2无机填充材料相对于第2密封用树脂片12的含有比例(A)为图2的斜线部分的范围。

如果第1无机填充材料相对于第1密封用树脂片1的含有比例(B)和第2无机填充材料相对于第2密封用树脂片12的含有比例(A)为这样的范围内，则在形成固化体41时，能够降低固化体41向电子元件21和基板22间即间隙26的侵入量。此外，能够将固化体向电子元件21和基板22间的侵入量控制为适当的值。

另一方面，如果第1无机填充材料相对于第1材料的含有比例(B)小于上述下限(详细而言，图2中的区域A)，则可靠性降低。

另外，如果第2无机填充材料相对于第2材料的含有比例(A)的下限小于上述下限(详细而言，图2中的区域B)，则可靠性降低。

另外，在第1无机填充材料相对于第1密封用树脂片1的含有比例(B)与第2无机填充材料相对于第2密封用树脂片12的含有比例(A)满足下述式(2)的情况下(详细而言，图2中的区域C)，则第1密封用树脂片1和第2密封用树脂片12的成型性降低。

0.4A+1.7B≥160 (2)

尤其是，如果密封用树脂片1和第2密封用树脂片12含有具有50℃以上且130℃以下的软化点的环氧树脂的主剂，则在图1C所示的工序中，密封用树脂片1和第2密封用树脂片12能够流动。因此，能够缩短图1C所示的工序的时间、以及使图1C所示的工序中的第2密封用树脂片12的厚度方向一个面平坦。

此外，如果密封用树脂片1和第2密封用树脂片12含有环氧树脂的主剂和酚醛树脂作为固化剂，则固化体41具有高耐热性和高耐化学试剂性。因此，固化体41的密封可靠性优异。

需要说明的是，在图1C所示的工序中，第2密封用树脂片12受到按压力而流动化，厚度方向一个面变得平坦。另外，在图1C所示的工序中，在密封用多层树脂片11中，如上所述，密封用树脂片1与第2密封用树脂片12一起受到按压力而软化流动，追随电子元件21的外形而变形。在图1C所示的工序中，允许密封用树脂片1稍微进入间隙26。

变形例

在以下的各变形例中，对与上述的一个实施方式相同的构件和工序标注相同的参照符号，省略其详细的说明。另外，各变形例除了特别记载以外，能够起到与一个实施方式相同的作用效果。此外，能够适当组合一个实施方式、其变形例。

密封用多层树脂片11中的第1密封用树脂片1和/或第2密封用树脂片12可以为多层。

作为元件的一个例子，列举相对于基板22的厚度方向一个面25隔开间隙26地配置的电子元件21，将其用密封用多层树脂片11进行了密封，但是，虽未图示，例如可举出与基板22的厚度方向一个面25接触的电子元件21，可以将其用密封用多层树脂片11密封。

另外，作为元件的一个例子，列举电子元件21，但也可以举出半导体元件。需要说明的是，作为电子元件，具体而言，可举出表面弹性波滤波器(SAW滤波器)等。

实施例

以下示出制备例、比较制备例、实施例和比较例，进一步具体地说明本发明。需要说明的是，本发明不受任何制备例、比较制备例、实施例和比较例限定。另外，以下的记载中使用的配合比例(含有比例)、物性值、参数等具体的数值可以替换为上述的“具体实施方式”中记载的、与它们对应的配合比例(含有比例)、物性值、参数等该记载的上限(以“以下”、“小于”的形式定义的数值)或下限(以“以上”、“超过”的形式定义的数值)。

将制备例和比较制备例中使用的各成分示于以下。

层状硅酸盐化合物：HOJUN公司制的S-BEN NX(表面经二甲基二硬脂基铵改性的有机化膨润土)

环氧树脂1：新日铁化学公司制的YSLV-80XY(双酚F型环氧树脂，高分子量环氧树脂，环氧当量200g/eq.，固体，软化点80℃)

环氧树脂2：Mitsubishi Chemical公司制的JER630(三环氧丙基氨基苯酚(环氧丙基胺型环氧树脂))，环氧当量90g/eq.～105g/eq.，液态

酚醛树脂1：群荣化学公司制的LVR-8210DL(线性酚醛型酚醛树脂，潜伏性固化剂，羟基当量：104g/eq.，固体，软化点：60℃)

酚醛树脂2：群荣化学公司制的TPM-100(三羟基苯基甲烷型酚醛树脂)，羟基当量：98g/eq.

丙烯酸系树脂1：根上工业公司制的HME-2006M，含羧基的丙烯酸酯共聚物(丙烯酸系树脂)，酸值：32，官能团数：736，重均分子量：1290000，玻璃化转变温度(Tg)：-13.9℃，固体成分浓度20质量％的甲乙酮溶液

硅烷偶联剂：信越化学公司制的KBM-403(3-环氧丙氧基丙基三甲氧基硅烷)

第1填料：FB-8SM(球状熔融二氧化硅粉末)，平均粒径7.0μm)

第2填料：将Admatechs公司制的SC220G-SMJ(平均粒径0.5μm)用3-甲基丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷(信越化学公司制的制品名：KBM-503)进行了表面处理而得的无机填料(非晶二氧化硅和经表面处理的非晶二氧化硅)、相对于无机填料的100质量份，用l质量份的硅烷偶联剂进行了表面处理而得的无机粒子

固化促进剂：四国化成工业公司制的2PHZ-PW(2-苯基-4，5-二羟基甲基咪唑)

溶剂：甲乙酮(MEK)

炭黑：三菱化学公司制的#20，粒径50nm

<第1密封用树脂片的制备>

制备例1～制备例10

按照表1中记载的配合配方，制备材料的清漆。将清漆涂布于剥离片的表面后，在120℃干燥2分钟，制作厚度50μm的密封用树脂片1。第1密封用树脂片1为乙阶。

<第2密封用树脂片的制备>

制备例11～制备例17

按照表2中记载的配合配方，制备材料的清漆。将清漆涂布于剥离片的表面后，在120℃干燥2分钟，制作厚度52.5μm的第2密封用树脂片12用前体，层叠4片该第2密封用树脂片12用前体，制作厚度210μm的第2密封用树脂片12。第2密封用树脂片12为乙阶。

实施例1～33和比较例1～比较例23

以表3所示那样的制备例的组合，在第1密封用树脂片1的厚度方向一侧配置第2密封用树脂片12，制作厚度260μm的密封用多层树脂片11。

需要说明的是，比较例22和比较例23的可靠性低，从侵入量以外的特性的观点出发，不能使用。

评价

<固化体侵入长度的测定>

实施下述的步骤A～步骤E，测定固化体侵入长度Y。

步骤A：如图3A所示，从各实施例和各比较例的密封用多层树脂片11准备纵10mm、横10mm、厚度260μm的样品片61。

步骤B：如图3B所示，准备纵3mm、横3mm、厚度200μm的虚设元件71藉由厚度20μm的凸块23安装于玻璃基板72的虚设元件安装基板74。

步骤C：如图3C所示，利用样品片61，利用真空平板压制机，以温度65℃、压力0.1MPa、真空度1.6kPa、压制时间1分钟密封虚设元件安装基板74中的虚设元件71，由样品片61形成密封体31。

步骤D：如图3D所示，通过在150℃、大气压下加热1小时而使密封体31热固化，由密封体31形成固化体41。

步骤E：如图3D的放大图所示，以虚设元件71的侧端缘为基准，对固化体41从侧端缘侵入到虚设元件71与玻璃基板72的间隙26的固化体侵入长度Y进行测定。

将所得到的固化体侵入长度Y示于表3。

需要说明的是，评价中，“负”意味着形成比虚设元件71的侧端缘更向外侧突出的空间(参照图1D的粗虚线)。“负”的绝对值相当于该空间的突出长度。

<玻璃化转变温度的测定>

通过使用动态粘弹性测定装置(DMA，频率1Hz，拉伸模式，升温速度10℃/min)测定的损耗角正切(tanδ)的极大值，对各实施例和各比较例的第1密封用树脂片1和第2密封用树脂片12的玻璃化转变温度进行测定。

将其结果示于表3。

<线膨胀系数的测定>

利用热机械测定装置(TMA)，基于以下的条件对各实施例和各比较例的第1密封用树脂片1和第2密封用树脂片12的线膨胀系数进行测定。将其结果示于表3。

(测定条件)

热机械测定装置(TMA)：TMA(TA Instruments Japan公司制

样品尺寸：4.5mm×20mm

模式：拉伸模式

升温速度：5℃/分钟

测定温度范围：25℃至260℃

考察

将表示实施例1～33和比较例1～比较例23中的第1无机填充材料相对于第1材料的含有比例(B)与第2无机填充材料相对于第2材料的含有比例(A)的关系的图表示于图4。

此时，可知能够降低固化体侵入长度的第1无机填充材料的含有比例(B)与第2无机填充材料相对于第2材料的含有比例(A)的范围(图4的斜线部分)由图4的关系式(B≥50，A≥60，0.4A+1.7B＜160)确定。

详细而言，在包含于上述范围内的实施例1～33中，与未包含于上述范围的比较例1～比较例23相比，所得到的电子元件封装体以适度的固化体侵入长度进行了成型。

[表1]

[表2]

[表3]

需要说明的是，上述发明是作为本发明的例示的实施方式而提供的，但这只不过是例示，不作限定性解释。对于该技术领域的本领域技术人员而言显而易见的本发明的变形例包括在本申请的技术方案中。

产业上的可利用性

密封用多层树脂片可以用于元件的密封。

附图标记说明

1：第1密封用树脂片

11：密封用多层树脂片

12：第2密封用树脂片。

Claims (3)

1.一种密封用多层树脂片，其特征在于，朝向厚度方向上的一侧依次具备第1密封用树脂片和第2密封用树脂片，

所述第1密封用树脂片包含层状硅酸盐化合物和第1无机填充材料，

所述第2密封用树脂片包含第2无机填充材料，

所述第1无机填充材料相对于所述第1密封用树脂片的含有比例(B)为50质量％以上，

所述第2无机填充材料相对于所述第2密封用树脂片的含有比例(A)为60质量％以上，

所述第1无机填充材料相对于所述第1密封用树脂片的含有比例(B)与所述第2无机填充材料相对于所述第2密封用树脂片的含有比例(A)满足下述式(1)，

0.4A+1.7B＜160 (1)。

2.根据权利要求1所述的密封用多层树脂片，其特征在于，所述第1密封用树脂片的厚度为30μm以上且100μm以下，所述第2密封用树脂片的厚度为50μm以上且500μm以下。

3.根据权利要求1所述的密封用多层树脂片，其特征在于，所述第1密封用树脂片的线膨胀系数为80ppm/℃以下，所述第2密封用树脂片的线膨胀系数为50ppm/℃以下。

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