CN114068374A - 衬底处理装置 - Google Patents

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Screen Holdings Co Ltd
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Abstract

本发明提供一种衬底处理装置。衬底处理装置(1)具备第1搬送部(6a)及第2搬送部(6b)。第2搬送部(6b)设置在第1搬送部(6a)的下方。第1搬送部(6a)具有第1搬送空间(61a)、第1搬送FFU(11、12)及第1地板部(71)。第1搬送FFU(11、12)设置在第1搬送空间(61a)的上方。第1地板部(71)具有多个第1通过孔。第1地板部(71)设置在第1搬送空间(61a)的下方。第2搬送部(6b)具有第2搬送空间(61b)、第2搬送FFU(13、14)、第2地板部(72)及排气风扇(73)。第2搬送FFU(13、14)设置在第1地板部(71)的下方。第2地板部(72)具有多个第2通过孔。第2地板部(72)设置在第2搬送空间(61b)的下方。排气风扇(73)设置在第2地板部(72)的下方。

Description

衬底处理装置
技术领域
本发明涉及一种衬底处理装置。
背景技术
已知一种衬底处理装置，具备上段的处理块与下段的处理块(例如，参照专利文献1)。上段的处理块及下段的处理块分别具有处理衬底的处理单元，衬底处理装置具备将衬底搬送到上段侧的处理单元的搬送装置、及将衬底搬送到下段侧的处理单元的搬送装置。上段侧的搬送装置在与上段的处理块邻接的搬送空间内移行，下段侧的搬送装置在与下段的处理块邻接的搬送空间内移行。上段侧的搬送空间与下段侧的搬送空间由间隔壁等区隔。
[背景技术文献]
[专利文献]
[专利文献1]日本专利特开2016-201526号公报
发明内容
[发明要解决的问题]
然而，搬送装置在上段侧的搬送空间内移行有时会使上段侧的搬送空间内的气流混乱。同样地，搬送装置在下段侧的搬送空间内移行有时会使下段侧的搬送空间内的气流混乱。因此，必须抑制上段侧的搬送空间内的气流混乱。同样地，必须抑制下段侧的搬送空间内的气流混乱。
本发明是鉴于所述问题而完成的，目的在于提供一种能抑制上段侧的搬送空间内的气流混乱、及下段侧的搬送空间内的气流混乱的衬底处理装置。
[解决问题的技术手段]
根据本发明的一态样，衬底处理装置处理衬底。该衬底处理装置具备处理部、第1搬送部及第2搬送部。所述处理部处理所述衬底。所述第1搬送部与所述处理部邻接。所述第2搬送部与所述处理部邻接，设置在所述第1搬送部的下方。所述第1搬送部具有第1衬底搬送部、第1搬送空间、第1搬送风扇过滤单元及第1地板部。所述第1衬底搬送部搬送所述衬底。在所述第1搬送空间内，收容所述第1衬底搬送部。所述第1搬送风扇过滤单元设置在所述第1搬送空间的上方，从所述第1搬送空间的上方朝向下方供给气体。所述第1地板部具有多个第1通过孔。所述第1地板部设置在所述第1搬送空间的下方。所述第2搬送部具有第2衬底搬送部、第2搬送空间、第2搬送风扇过滤单元、第2地板部及排气风扇。所述第2衬底搬送部搬送所述衬底。在所述第2搬送空间内，收容所述第2衬底搬送部。所述第2搬送风扇过滤单元设置在所述第1地板部的下方，从所述第2搬送空间的上方朝向下方供给气体。所述第2地板部具有多个第2通过孔。所述第2地板部设置在所述第2搬送空间的下方。所述排气风扇设置在所述第2地板部的下方。所述排气风扇将通过所述多个第2通过孔的气体排出。
某实施方式中，所述第1搬送部还具有与所述处理部邻接的第1侧壁部。所述第2搬送部还具有与所述处理部邻接的第2侧壁部。所述第2侧壁部设置在所述第1侧壁部的下方。所述第1侧壁部与所述第2侧壁部中的至少一个还具有间隙形成部。所述间隙形成部在所述第1侧壁部与所述第2侧壁部之间形成间隙。
某实施方式中，所述第1搬送部与所述第2搬送部中的至少一个还具有开口率调整部件。所述开口率调整部件调整所述间隙的开口率。
某实施方式中，所述第1搬送部具有多个所述第1搬送风扇过滤单元。
某实施方式中，所述第1衬底搬送部包含在所述第1搬送空间内移动的第1搬送机器人。所述多个第1搬送风扇过滤单元以覆盖所述第1搬送机器人的移动范围的方式配置。
某实施方式中，所述第2搬送部具有多个所述第2搬送风扇过滤单元。
某实施方式中，所述第2衬底搬送部包含在所述第2搬送空间内移动的第2搬送机器人。所述多个第2搬送风扇过滤单元以覆盖所述第2搬送机器人的移动范围的方式配置。
某实施方式中，所述第1搬送部还具有设置在所述第1地板部的第1整流部。所述第1整流部将通过所述多个第1通过孔的气体整流。
某实施方式中，所述第2搬送风扇过滤单元具有风扇、箱状部件及第2整流部。所述箱状部件支持所述风扇。所述第2整流部设置在所述箱状部件。所述第2整流部将通过所述多个第1通过孔的气体整流。
某实施方式中，所述第2搬送部还具有顶壁与第3整流部。在所述顶壁，设置有所述第2搬送风扇过滤单元。所述第3整流部设置在所述顶壁。所述第3整流部将通过所述多个第1通过孔的气体整流。
某实施方式中，所述衬底处理装置还具备传载部、第1路径部及第2路径部。所述传载部进行所述衬底的搬入及搬出。所述第1路径部设置在所述传载部与所述第1搬送部之间。在所述第1路径部，暂时载置所述衬底。所述第2路径部设置在所述传载部与所述第2搬送部之间。在所述第2路径部，暂时载置所述衬底。所述传载部具有传载搬送部、传载空间及传载风扇过滤单元部。所述传载搬送部进行所述衬底的搬入及搬出。在所述传载空间内，收容所述传载搬送部。所述传载风扇过滤单元部设置在所述传载空间的上方，从所述传载空间的上方朝向下方供给气体。
某实施方式中，所述传载风扇过滤单元部具有第1传载风扇过滤单元与第2传载风扇过滤单元。所述第1传载风扇过滤单元配置在与所述第1路径部及所述第2路径部侧相反一侧。所述第2传载风扇过滤单元配置在所述第1路径部及所述第2路径部侧。
某实施方式中，所述传载部还具有第1开口与第2开口。所述第1开口与所述第1路径部连通。所述第2开口与所述第2路径部连通。所述第2开口设置在所述第1开口的下方。所述传载风扇过滤单元部还具有第3传载风扇过滤单元。所述第3传载风扇过滤单元在从正面观察所述第1开口及所述第2开口时，配置在所述第1传载风扇过滤单元及所述第2传载风扇过滤单元的一侧方。
某实施方式中，所述传载空间包含第1传载空间与第2传载空间。所述第2传载空间在从正面观察所述第1开口及所述第2开口时，位于所述第1传载空间的一侧方。所述第1传载空间的最上部位于比所述第2传载空间的最上部更靠上方。所述第1传载风扇过滤单元及所述第2传载风扇过滤单元从所述第1传载空间的上方朝向下方供给气体。所述第3传载风扇过滤单元从所述第2传载空间的上方朝向下方供给气体。
某实施方式中，所述传载搬送部包含传载搬送机器人与导轨。所述传载搬送机器人搬送所述衬底。所述导轨将所述传载搬送机器人在上下方向上引导。所述第3传载风扇过滤单元在从正面观察所述第1开口及所述第2开口时，配置在与所述导轨侧相反一侧。
某实施方式中，所述排气风扇产生从所述传载空间经由所述第2路径部流向所述第2搬送空间的气流。
[发明的效果]
根据本发明的衬底处理装置，能抑制上段侧的搬送空间内的气流混乱、及下段侧的搬送空间内的气流混乱。
附图说明
图1是表示本发明的实施方式1的衬底处理装置的整体构成的立体图。
图2是本发明的实施方式1的衬底处理装置的分解立体图。
图3是表示本发明的实施方式1的衬底处理装置的内部构成的侧视图。
图4是表示本发明的实施方式1的衬底处理装置的内部构成的俯视图。
图5是表示衬底处理装置的搬送块的内部构成的侧视图。
图6是表示衬底处理装置的传载块及路径块的立体图。
图7是表示本发明的实施方式1的衬底处理装置的内部构成的另一侧视图。
图8是表示衬底处理装置的传载块的内部构成的前视图。
图9是表示衬底处理装置的搬送块的立体图。
图10中，(a)是表示上段侧壁部及下段侧壁部的剖面的图。(b)是表示开口率调整部件的立体图。
图11中，(a)是表示上段侧壁部及下段侧壁部的剖面的另一图。(b)是表示开口率调整部件的另一状态的立体图。
图12是将本发明的实施方式2的衬底处理装置所具备的搬送块的一部分放大来表示的图。
图13是将本发明的实施方式2的衬底处理装置所具备的搬送块的一部分放大来表示的另一图。
具体实施方式
以下，参照附图(图1～图13)，对本发明的衬底处理装置的实施方式进行说明。但是，本发明并不限定于以下的实施方式。此外，针对说明重复的部位，有时会适当省略说明。另外，图中，对相同或相当的部分标注相同的参考符号，不重复进行说明。
本说明书中，为了便于理解，有时记载相互正交的X方向、Y方向及Z方向。典型来说，X方向及Y方向与水平方向平行，Z方向与铅直方向平行。但是，并不意图通过这些方向的定义，来限定本发明的衬底处理装置在使用时的朝向。
本实施方式中的“衬底”能应用半导体晶圆、光掩模用玻璃衬底、液晶显示用玻璃衬底、等离子体显示用玻璃衬底、FED(Field Emission Display，场发射显示器)用衬底、光盘用衬底、磁盘用衬底及磁光盘用衬底等各种衬底。以下，主要采用圆盘状的半导体晶圆的处理中所使用的衬底处理装置为例对本实施方式进行说明，但也能同样地应用于以上所例示的各种衬底的处理中。另外，衬底的形状也能应用各种形状。
[实施方式1]
以下，参照图1～图11，对本发明的实施方式1进行说明。首先，参照图1，对本实施方式的衬底处理装置1进行说明。图1是表示本实施方式的衬底处理装置1的整体构成的立体图。衬底处理装置1处理衬底W。如图1所示，衬底处理装置1具备传载块3、路径块4、处理块5、搬送块6及多功能块7。
传载块3具备载具载置部31。本实施方式中，传载块3具备4个载具载置部31。在载具载置部31，载置载具C。载具C将多片(例如，25片)衬底W以积层的方式收纳。载具C例如为FOUP(Front Opening Unified Pod，前开式晶圆传送盒)。以下，将载置于载具载置部31的载具C记载为“载具C”。
传载块3将收纳于载具C的处理前的衬底W搬入到传载块3的内部空间。另外，传载块3将处理后的衬底W从传载块3的内部空间搬出到外部。具体来说，传载块3将处理后的衬底W收纳于载具C。传载块3是传载部的一例。
路径块4设置在传载块3与搬送块6之间。传载块3、路径块4及搬送块6沿X方向配置。具体来说，路径块4配置在传载块3的-X侧，搬送块6配置在路径块4的-X侧。
在路径块4中，暂时载置处理前的衬底W及处理后的衬底W。传载块3将处理前的衬底W从载具C搬送到路径块4。另外，传载块3将处理后的衬底W从路径块4搬送到载具C。此外，路径块4也可具备使衬底W的正面及背面翻转的机构。
搬送块6与处理块5邻接。搬送块6将处理前的衬底W从路径块4搬送到处理块5。另外，搬送块6将处理后的衬底W从处理块5搬送到路径块4。
处理块5处理衬底W。处理块5例如将衬底W洗净。处理块5是处理部的一例。多功能块7将处理液供给到处理块5。处理液包含药液。处理液也可还包含DIW(deionized water，去离子水)。多功能块7还可进一步将例如氮气或空气等气体供给到处理块5。
本实施方式的衬底处理装置1具有2个处理块5。2个处理块5与搬送块6邻接。详细来说，2个处理块5中的一个相对于搬送块6配置在-Y侧，2个处理块5中的另一个相对于搬送块6配置在+Y侧。以下，将相对于搬送块6配置在-Y侧的处理块5记载为“-Y侧的处理块5”，将相对于搬送块6配置在+Y侧的处理块5记载为“+Y侧的处理块5”。
接着，参照图2，进一步对本实施方式的衬底处理装置1进行说明。图2是本实施方式的衬底处理装置1的分解立体图。
如图2所示，2个处理块5分别包含塔单元TW，该塔单元TW包含在上下方向(Z方向)上积层的多个处理单元2。本实施方式中，-Y侧的处理块5包含2个塔单元TW1、TW3，+Y侧的处理块5包含2个塔单元TW2、TW4。2个塔单元TW1、TW3沿X方向配置。具体来说，塔单元TW3配置在塔单元TW1的-X侧。2个塔单元TW2、TW4也同样，沿X方向配置。具体来说，塔单元TW4配置在塔单元TW2的-X侧。
本实施方式中，各塔单元TW1～TW4具有4个处理单元2。以下，有时将4个塔单元TW1～TW4分别记载为“第1塔单元TW1～第4塔单元TW4”。
接着，参照图3，进一步对本实施方式的衬底处理装置1进行说明。图3是表示本实施方式的衬底处理装置1的内部构成的侧视图。详细来说，图3表示从+Y侧观察时衬底处理装置1的内部构成。首先，参照图3对传载块3及路径块4进行说明。
如图3所示，传载块3具备传载空间3a与传载搬送部32。路径块4具备上段路径部41与下段路径部42。上段路径部41设置在下段路径部42的上方(+Z侧)。
在上段路径部41，暂时载置处理前的衬底W与处理后的衬底W。同样地，在下段路径部42，暂时载置处理前的衬底W与处理后的衬底W。此外，上段路径部41也可具备使衬底W的正面及背面翻转的机构。同样地，下段路径部42也可具备使衬底W的正面及背面翻转的机构。上段路径部41是第1路径部的一例，下段路径部42是第2路径部的一例。
传载搬送部32收容于传载空间3a。传载搬送部32将收纳于载具C的处理前的衬底W搬入传载空间3a。另外，传载搬送部32将处理后的衬底W从传载空间3a搬出到外部。具体来说，传载搬送部32将处理后的衬底W收纳于载具C。
另外，传载搬送部32将处理前的衬底W搬送到上段路径部41及下段路径部42。传载搬送部32将处理后的衬底W从上段路径部41及下段路径部42搬送到载具C。
更具体来说，传载搬送部32具有搬送衬底W的传载搬送机器人33、及导轨34。导轨34将传载搬送机器人33在上下方向(Z方向)上引导。
传载搬送机器人33沿导轨34升降。详细来说，传载搬送机器人33在能进出于载具C的位置、能进出于上段路径部41的位置、及能进出于下段路径部42的位置之间升降。
传载搬送机器人33移动到能进出于载具C的位置，从载具C取出处理前的衬底W。另外，传载搬送机器人33移动到能进出于载具C的位置，将处理后的衬底W收纳于载具C。
传载搬送机器人33移动到能进出于上段路径部41的位置，将处理前的衬底W载置于上段路径部41。另外，传载搬送机器人33移动到能进出于上段路径部41的位置，将处理后的衬底W从上段路径部41取出。
传载搬送机器人33移动到能进出于下段路径部42的位置，将处理前的衬底W载置于下段路径部42。另外，传载搬送机器人33移动到能进出于下段路径部42的位置，将处理后的衬底W从下段路径部42取出。
接着，参照图3，进一步对路径块4及搬送块6进行说明。如图3所示，搬送块6包含上段搬送部6a与下段搬送部6b。下段搬送部6b设置在上段搬送部6a的下方(-Z侧)。上段路径部41设置在传载块3与上段搬送部6a之间。下段路径部42设置在传载块3与下段搬送部6b之间。
如参照图1所说明，搬送块6与处理块5邻接。因此，上段搬送部6a及下段搬送部6b与处理块5邻接。上段搬送部6a是第1搬送部的一例，下段搬送部6b是第2搬送部的一例。
详细来说，上段搬送部6a与第1塔单元TW1的上两个处理单元2、及第3塔单元TW3的上两个处理单元2邻接。上段搬送部6a还与第2塔单元TW2的上两个处理单元2(参照图2)、及第4塔单元TW4的上两个处理单元2(参照图2)邻接。以下，有时将第1塔单元TW1～第4塔单元TW4所包含的上两个处理单元2记载为“上段的处理单元2”。
下段搬送部6b与第1塔单元TW1的下两个处理单元2、及第3塔单元TW3的下两个处理单元2邻接。下段搬送部6b还与第2塔单元TW2的下两个处理单元2(参照图2)、及第4塔单元TW4的下两个处理单元2(参照图2)邻接。以下，有时将第1塔单元TW1～第4塔单元TW4所包含的下两个处理单元2记载为“下段的处理单元2”。
上段搬送部6a具有搬送衬底W的上段衬底搬送部50a、及上段搬送空间61a。上段衬底搬送部50a收容于上段搬送空间61a。上段衬底搬送部50a在上段的处理单元2各自与上段路径部41之间搬送衬底W。上段衬底搬送部50a是第1衬底搬送部的一例，上段搬送空间61a是第1搬送空间的一例。
上段衬底搬送部50a具有上段搬送机器人51a、固定框52a及可动框53a。上段搬送机器人51a在上段搬送空间61a内移动。详细来说，上段搬送机器人51a以能进出于所有上段的处理单元2与上段路径部41的方式，由固定框52a及可动框53a支持而移动自如。具体来说，固定框52a支持可动框53a，使其在X方向上移动自如，可动框53a支持上段搬送机器人51a，使其在上下方向(Z方向)上移动自如。因此，上段搬送机器人51a在X方向及Z方向(上下方向)上移动。上段搬送机器人51a是第1搬送机器人的一例。
下段搬送部6b具有搬送衬底W的下段衬底搬送部50b、及下段搬送空间61b。下段衬底搬送部50b收容于下段搬送空间61b。下段衬底搬送部50b在下段的处理单元2各自与下段路径部42之间搬送衬底W。下段衬底搬送部50b是第2衬底搬送部的一例，下段搬送空间61b是第2搬送空间的一例。
下段衬底搬送部50b具有下段搬送机器人51b、固定框52b及可动框53b。下段搬送机器人51b在下段搬送空间61b内移动。详细来说，下段搬送机器人51b以能进出于所有下段的处理单元2、与下段路径部42的方式，由固定框52b及可动框53b支持而移动自如。具体来说，固定框52b支持可动框53b，使其在X方向上移动自如，可动框53b支持下段搬送机器人51b，使其在上下方向(Z方向)上移动自如。因此，下段搬送机器人51b在X方向及Z方向(上下方向)上移动。下段搬送机器人51b是第2搬送机器人的一例。
接着，参照图3，对上段搬送机器人51a及下段搬送机器人51b进行说明。上段搬送机器人51a具有基台部54、回转基座55及臂56。基台部54支持于可动框53a。回转基座55相对于基台部54在水平面内回转自如地支持于基台部54。臂56相对于回转基座55在水平面内进退自如地支持于回转基座55。下段搬送机器人51b也与上段搬送机器人51a同样地，具有基台部54、回转基座55及臂56。下段搬送机器人51b的构成与上段搬送机器人51a同样，因此省略它的说明。
接着，参照图4，进一步对本实施方式的衬底处理装置1进行说明。图4是表示本实施方式的衬底处理装置1的内部构成的俯视图。详细来说，图4表示从+Z侧观察时衬底处理装置1的内部构成。首先，参照图4对传载搬送部32进行说明。
如图4所示，导轨34配置在路径块4的附近。详细来说，导轨34配置在Y方向上的路径块4的中心的侧方。本实施方式中，导轨34相对于Y方向上的路径块4的中心配置在+Y侧。更具体来说，导轨34在从载具载置部31侧(+X侧)观察的情况下，配置在路径块4中不与衬底W的载置位置重叠的位置。
传载搬送机器人33具有基台部35、多关节臂36及手37。基台部35由导轨34支持而在上下方向(Z方向)上升降自如。基台部35沿导轨34在上下方向(Z方向)上升降。多关节臂36支持于基台部35。手37支持于多关节臂36的前端。多关节臂36使手37在X方向及Y方向上移动。
接着，参照图4对处理单元2进行说明。如图4所示，处理单元2例如具备吸盘(suction chuck)21、挡板23及处理喷嘴25。吸盘21通过抽真空而吸附衬底W。吸盘21通过未图示的电动马达而旋转驱动。由此，衬底W在水平面内旋转。处理喷嘴25通过对衬底W供给处理液，而对衬底W进行处理。挡板23以包围吸盘21的方式，配置在吸盘21的周围。挡板23防止从处理喷嘴25供给到衬底W的处理液向周围飞散。
接着，参照图5，进一步对本实施方式的衬底处理装置1进行说明。图5是表示衬底处理装置1的搬送块6的内部构成的侧视图。详细来说，图5表示从+Y侧观察时搬送块6的内部构成。此外，图5中，为了便于理解，未图示上段衬底搬送部50a及下段衬底搬送部50b。
如图5所示，上段搬送部6a还具有2个上段FFU(风扇过滤单元)11、12及多个上段冲孔板71。另外，下段搬送部6b还具有2个下段FFU13、14、多个下段冲孔板72及多个排气风扇73。
2个上段FFU11、12设置在上段搬送空间61a的上方。2个上段FFU11、12沿X方向配置。具体来说，2个上段FFU11、12以覆盖参照图3所说明的上段搬送机器人51a的移动范围的方式配置。详细来说，2个上段FFU11、12以覆盖X方向上的上段搬送机器人51a的移动范围的方式配置。
2个上段FFU11、12从上段搬送空间61a的上方朝向下方供给气体，而在上段搬送空间61a内产生降流。具体来说，2个上段FFU11、12抽吸设置衬底处理装置1的无尘室中的空气，供给到上段搬送空间61a。因上段搬送空间61a内产生降流，而上段搬送空间61a中的风速的均匀性提高。结果，上段搬送空间61a的洁净度提高。2个上段FFU11、12是第1搬送风扇过滤单元的一例。更详细来说，2个上段FFU11、12分别具有风扇112、箱状部件111及过滤器。风扇112支持于箱状部件111的上部。风扇112抽吸无尘室中的空气。风扇112所抽吸的空气在箱状部件111的内部空间中扩散，经由过滤器从箱状部件111流出。
多个上段冲孔板71设置在上段搬送空间61a的下方。上段冲孔板71具有在上下方向上贯通上段冲孔板71的多个通过孔。从2个上段FFU11、12供给到上段搬送空间61a的气体在上段搬送空间61a内从上方流向下方，然后通过上段冲孔板71的通过孔。多个上段冲孔板71是第1地板部的一例，上段冲孔板71的通过孔是第1通过孔的一例。
2个下段FFU13、14设置在下段搬送空间61b的上方。2个下段FFU13、14沿X方向配置。具体来说，2个下段FFU13、14以覆盖参照图3所说明的下段搬送机器人51b的移动范围的方式配置。详细来说，2个下段FFU13、14以覆盖X方向上的下段搬送机器人51b的移动范围的方式配置。
2个下段FFU13、14从下段搬送空间61b的上方朝向下方供给气体，而在下段搬送空间61b内产生降流。具体来说，2个下段FFU13、14抽吸通过多个上段冲孔板71的通过孔的气体，供给到下段搬送空间61b。因下段搬送空间61b内产生降流，而下段搬送空间61b中的风速的均匀性提高。结果，下段搬送空间61b的洁净度提高。另外，下段FFU13、14从上段搬送空间61a向下段搬送空间61b排出气体。因此，能在不使用设置衬底处理装置1的工厂的排气资源的情况下，从上段搬送空间61a排出气体。2个下段FFU13、14是第2搬送风扇过滤单元的一例。此外，2个下段FFU13、14分别与上段FFU11、12同样地，具有风扇、箱状部件及过滤器。下段FFU13、14的构成与上段FFU11、12同样，因此省略此处的说明。
多个下段冲孔板72设置在下段搬送空间61b的下方。下段冲孔板72具有在上下方向上贯通下段冲孔板72的多个通过孔。从2个下段FFU13、14供给到下段搬送空间61b的气体在下段搬送空间61b内从上方流向下方，然后通过下段冲孔板72的通过孔。多个下段冲孔板72是第2地板部的一例，下段冲孔板72的通过孔是第2通过孔的一例。
多个排气风扇73设置在多个下段冲孔板72的下方，将通过多个下段冲孔板72的通过孔的气体排出到搬送块6的外部。更具体来说，多个排气风扇73将气体排出到衬底处理装置1的外部。因此，能在不使用设置衬底处理装置1的工厂的排气资源的情况下，从下段搬送空间61b排出气体。
根据本实施方式，上段FFU11、12在上段搬送空间61a内产生的降流(气流)经由上段冲孔板71被下段FFU13、14抽吸，因此即使上段搬送机器人51a在上段搬送空间61a内移动，也能抑制上段搬送空间61a内产生的降流(气流)因上段搬送机器人51a的移动而混乱。同样地，下段FFU13、14在下段搬送空间61b内产生的降流(气流)经由下段冲孔板72被排气风扇73抽吸，因此即使下段搬送机器人51b在下段搬送空间61b内移动，也能抑制下段搬送空间61b中产生的降流(气流)因下段搬送机器人51b的移动而混乱。
另外，根据本实施方式，上段搬送部6a具备2个上段FFU11、12，因此能在上段搬送空间61a的较广范围内稳定地产生降流。同样地，下段搬送部6b具备2个下段FFU13、14，因此能在下段搬送空间61b的较广范围内稳定地产生降流。
另外，根据本实施方式，2个上段FFU11、12以覆盖上段搬送机器人51a的移动范围的方式配置，因此能进一步抑制上段搬送空间61a内产生的降流(气流)混乱。同样地，2个下段FFU13、14以覆盖下段搬送机器人51b的移动范围的方式配置，因此能进一步抑制下段搬送空间61b内产生的降流(气流)混乱。
接着，参照图6～图8，进一步对本实施方式的衬底处理装置1进行说明。图6是表示衬底处理装置1的传载块3及路径块4的立体图。
如图6所示，传载块3还具备传载FFU部15。传载FFU部15配置在参照图3所说明的传载空间3a的上方。传载FFU部15从传载空间3a的上方朝向下方供给气体，而在传载空间3a内产生降流。
更具体来说，传载FFU部15具有第1传载FFU16、第2传载FFU17及第3传载FFU18。第1传载FFU16及第2传载FFU17抽吸设置衬底处理装置1的无尘室中的空气，供给到传载空间3a。此外，第1传载FFU16、第2传载FFU17及第3传载FFU18各自与上段FFU11、12同样地，具有风扇112、箱状部件111及过滤器。第1传载FFU16、第2传载FFU17及第3传载FFU18的构成与上段FFU11、12相同，因此省略它的说明。
第1传载FFU16配置在与路径块4侧相反一侧，第2传载FFU17配置在路径块4侧。换句话说，第1传载FFU16配置在与参照图3所说明的上段路径部41及下段路径部42相反一侧。第2传载FFU17配置在参照图3所说明的上段路径部41及下段路径部42侧。关于第3传载FFU18，参照图8在下文中叙述。
图7是表示本实施方式的衬底处理装置1的内部构成的另一侧视图。详细来说，图7表示从+Y侧观察时衬底处理装置1的内部构成。此外，在图7中，为了便于理解，未图示传载搬送部32、上段衬底搬送部50a及下段衬底搬送部50b。
如图6及图7所示，上段路径部41具有上段开口41a与上段路径空间41b，下段路径部42具有下段开口42a与下段路径空间42b。上段路径空间41b经由上段开口41a与上段搬送空间61a连通。下段路径空间42b经由下段开口42a与下段搬送空间61b连通。
另外，如图7所示，传载块3具有第1开口3b与第2开口3c。第1开口3b与上段路径部41的上段路径空间41b连通。因此，传载空间3a经由第1开口3b与上段路径空间41b连通。第2开口3c设置在第1开口3b的下方，与下段路径部42的下段路径空间42b连通。因此，传载空间3a经由第2开口3c与下段路径空间42b连通。
根据本实施方式，传载块3具备第1传载FFU16及第2传载FFU17，因此在传载空间3a内，可在载具载置部31侧与路径块4侧产生降流。另外，通过利用第2传载FFU17在路径块4侧产生降流，可产生经由上段路径空间41b及下段路径空间42b从传载空间3a流向上段搬送空间61a及下段搬送空间61b的气流。
接着，参照图7，进一步对排气风扇73进行说明。本实施方式中，排气风扇73以抽吸下段路径部42的下段路径空间42b内的气体的排气量驱动。因此，通过排气风扇73的驱动，而下段路径部42的下段路径空间42b内的气体流向下段搬送空间61b。结果，气体经由下段路径空间42b从传载空间3a流向下段搬送空间61b。也就是说，排气风扇73产生经由下段路径空间42b从传载空间3a流向下段搬送空间61b的气流。根据本实施方式，能更确实地产生经由下段路径空间42b从传载空间3a流向下段搬送空间61b的气流。
接着，参照图6及图8，进一步对传载FFU部15进行说明。图8是表示衬底处理装置1的传载块3的内部构成的前视图。详细来说，图8表示从+X侧观察时传载块3的内部构成。此外，图8中，为了便于理解，未图示传载搬送机器人33。
如图6及图8所示，第3传载FFU18设置在传载块3的内部。具体来说，第3传载FFU18在从正面观察第1开口3b及第2开口3c时，配置在第1传载FFU16及第2传载FFU17的一侧方(-Y侧)。因此，根据本实施方式，通过传载FFU部15，能在传载空间3a的较广范围内产生降流。
详细来说，传载块3还具备电气零件群38。另外，传载空间3a包含第1传载空间3a1与第2传载空间3a2。
电气零件群38包含多个电气零件。电气零件群38在从正面观察第1开口3b及第2开口3c时，设置在第1开口3b及第2开口3c的一侧方(-Y侧)。
第2传载空间3a2为电气零件群38下方的空间，第1传载空间3a1为其余空间。因此，第2传载空间3a2在从正面观察第1开口3b及第2开口3c时，位于第1传载空间3a1的一侧方(-Y侧)，第1传载空间3a1的最上部位于比第2传载空间3a2的最上部更靠上方。
第1传载FFU16及第2传载FFU17设置在第1传载空间3a1的上方。第1传载FFU16及第2传载FFU17从第1传载空间3a1的上方朝向下方供给气体，而在第1传载空间3a1内产生降流。
通过第1传载FFU16及第2传载FFU17而产生的气流(降流)难以到达电气零件群38下方的空间(第2传载空间3a2)。第3传载FFU18配置在电气零件群38的下方。所述第3传载FFU18从第2传载空间3a2的上方朝向下方供给气体，而在第2传载空间3a2内产生降流。
根据本实施方式，传载块3具备第3传载FFU18，因此能够在传载空间3a中通过第1传载FFU16及第2传载FFU17而产生的气流(降流)难以到达的空间(第2传载空间3a2)内，更确实地产生降流。
另外，本实施方式中，从正面观察第1开口3b及第2开口3c时，第3传载FFU18配置在与导轨34相反一侧。具体来说，如图8所示，导轨34在从正面观察第1开口3b及第2开口3c时，以与第1开口3b及第2开口3c的一(+Y侧)端重叠的方式设置。导轨34沿上下方向(Z方向)延伸，因此通过第1传载FFU16及第2传载FFU17而产生的气流容易沿导轨34在上下方向(Z方向)上流动。另一方面，在第2传载空间3a2(与导轨34相反一侧的空间)内，即使通过第1传载FFU16及第2传载FFU17而产生的气流流入，气流也会扩散，而难以产生降流。
根据本实施方式，由于第3传载FFU18在第2传载空间3a2内产生降流，所以在传载空间3a内，能减少难以产生降流的空间。
接着，参照图5、图7及图9～图11，进一步对本实施方式的衬底处理装置1进行说明。图9是表示衬底处理装置1的搬送块6的立体图。如图9所示，上段搬送部6a具有上段侧壁部611，下段搬送部6b具有下段侧壁部612。下段侧壁部612设置在上段侧壁部611的下方，上段侧壁部611及下段侧壁部612与参照图1及图2所说明的处理块5邻接。上段侧壁部611是第1侧壁部的一例，下段侧壁部612是第2侧壁部的一例。更具体来说，上段侧壁部611包含+Y侧的上段侧壁部611与-Y侧的上段侧壁部611。+Y侧的上段侧壁部611构成上段搬送部6a的+Y侧的侧壁，-Y侧的上段侧壁部611构成上段搬送部6a的-Y侧的侧壁。同样地，下段侧壁部612包含+Y侧的下段侧壁部612与-Y侧的下段侧壁部612。+Y侧的下段侧壁部612构成下段搬送部6b的+Y侧的侧壁，-Y侧的下段侧壁部612构成下段搬送部6b的-Y侧的侧壁。
图10(a)是表示上段侧壁部611及下段侧壁部612的剖面的图。详细来说，图10(a)表示+Y侧的上段侧壁部611的剖面及+Y侧的下段侧壁部612的剖面。
如图10(a)所示，上段侧壁部611具有上段间隙形成部611a，下段侧壁部612具有下段间隙形成部612a。上段间隙形成部611a与下段间隙形成部612a在上下方向(Z方向)上对向，在上段间隙形成部611a与下段间隙形成部612a之间形成间隙63。间隙63与配置参照图5所说明的下段FFU13、14的空间连通。另外，间隙63与搬送块6的外部连通。详细来说，间隙63经由搬送块6与处理块5的间隙，与衬底处理装置1的外部连通。
更具体来说，+Y侧的上段侧壁部611具有多个上段间隙形成部611a，+Y侧的下段侧壁部612具有多个下段间隙形成部612a。同样地，-Y侧的上段侧壁部611具有多个上段间隙形成部611a，-Y侧的下段侧壁部612具有多个下段间隙形成部612a。+Y侧的多个上段间隙形成部611a及+Y侧的多个下段间隙形成部612a沿X方向设置。-Y侧的多个上段间隙形成部611a及-Y侧的多个下段间隙形成部612a也同样，沿X方向设置。
根据本实施方式，能使从上段搬送空间61a流入配置下段FFU13、14的空间内的气体的一部分，经由多个间隙63逸出到搬送块6的外部。结果，气体容易从参照图7所说明的上段路径空间41b流向上段搬送空间61a，气体不易滞留在上段路径空间41b内。因此，能更确实地产生经由上段路径空间41b从传载空间3a流向上段搬送空间61a的气流。
进而，本实施方式中，如图9所示，上段搬送部6a具有多个开口率调整部件62。多个开口率调整部件62与多个间隙63一一对应。开口率调整部件62调整对应的间隙63的开口率。
具体来说，开口率调整部件62各自以从Y方向观察时与对应的间隙63的重叠状态改变的方式，相对于上段侧壁部611在上下方向(Z方向)上滑动自如地支持于上段侧壁部611上。通过使开口率调整部件62滑动，能调整对应的间隙63的开口率。例如，作业人员使开口率调整部件62在上下方向(Z方向)上滑动，来调整对应的间隙63的开口率。
图10(b)是表示开口率调整部件62的立体图。详细来说，图10(b)表示使间隙63敞开一半的开口率调整部件62。此外，图10(a)也同样，表示使间隙63敞开一半的开口率调整部件62。
如图10(b)所示，开口率调整部件62具有板部62a与遮蔽部62b。板部62a沿Z方向延伸。遮蔽部62b沿X方向延伸。遮蔽部62b连接于板部62a的下端。
开口率调整部件62通过未图示的固定部，在间隙63的上方固定于上段侧壁部611。在固定部，设置有在Z方向上贯通的贯通孔，开口率调整部件62的板部62a滑动自如地插入于固定部的贯通孔。
在固定部，例如也可设置用于将板部62a固定于贯通孔的螺丝机构。或者，也可在板部62a设置正齿轮，在固定部设置齿轮，通过板部62a与固定部，构成所谓的齿条与小齿轮机构。在该情况下，也可通过手动或利用马达使设置在固定部的齿轮旋转，而使开口率调整部件62在Z方向上滑动。
固定部理想的是设置在如下位置，即通过使板部62a相对于固定部滑动，能使从Y方向观察时遮蔽部62b与间隙63的重叠情况更大幅度地变化。例如，理想的是以如下方式配置固定部，即在开口率调整部件62为某一状态的情况下，从Y方向观察时遮蔽部62b完全遮蔽间隙63，在开口率调整部件62为另一状态的情况下，遮蔽部62b使间隙63完全敞开。
图11(a)是表示上段侧壁部611及下段侧壁部612的剖面的另一图。图11(b)是表示开口率调整部件62的另一状态的立体图。详细来说，图11(a)表示将间隙63封闭的开口率调整部件62。图11(b)也同样，表示将间隙63封闭的开口率调整部件62。
如图10(a)及图10(b)所示，开口率调整部件62使间隙63敞开，由此气体经由间隙63从配置下段FFU13、14的空间(参照图5)向搬送块6的外部流出。另一方面，如图11(a)及图11(b)所示，开口率调整部件62遮断间隙63，由此经由间隙63的气体流出被阻止。
根据本实施方式，搬送块6具备开口率调整部件62，由此能调整间隙63的开口率，而调整气体从配置下段FFU13、14的空间向搬送块6的外部的流出容易度。因此，能调整气体每单位时间从配置下段FFU13、14的空间向搬送块6的外部的流出量。由此，能调整间隙63的开口率，而更确实地产生经由上段路径空间41b从传载空间3a流向上段搬送空间61a的气流。
以上，参照图1～图11对本发明的实施方式1进行说明。根据本实施方式，能抑制上段搬送空间61a内产生的降流(气流)混乱、及下段搬送空间61b内产生的降流(气流)混乱。
此外，本实施方式中，上段侧壁部611具有上段间隙形成部611a，下段侧壁部612具有下段间隙形成部612a，但也可仅使上段侧壁部611具有形成间隙63的结构或形状，还可仅使下段侧壁部612具有形成间隙63的结构或形状。
另外，本实施方式中，搬送块6具有多个间隙63，但搬送块6也可具有1个间隙63。
另外，本实施方式中，搬送块6在+Y侧及-Y侧这两侧具有间隙63，但搬送块6也可仅在+Y侧及-Y侧中的一侧具有间隙63。
另外，本实施方式中，开口率调整部件62在上下方向上滑动，但开口率调整部件62滑动的方向并不限定于上下方向。开口率调整部件62只要能以可调整对应的间隙63的开口率的方式滑动即可。例如，开口率调整部件62也可由上段侧壁部611支持而在X方向上滑动自如。
另外，本实施方式中，上段搬送部6a具有开口率调整部件62，但也可使下段搬送部6b具有开口率调整部件62，还可使上段搬送部6a及下段搬送部6b两者具有开口率调整部件62。
[实施方式2]
接着，参照图12及图13对本发明的实施方式2进行说明。但是，对与实施方式1不同的事项进行说明，省略对于与实施方式1相同的事项的说明。实施方式2与实施方式1不同，在搬送块6中设置第1整流部81～第3整流部83。
图12是将本实施方式的衬底处理装置1所具备的搬送块6的一部分放大来表示的图。详细来说，图12是将从+Y侧观察时的搬送块6的一部分放大来表示。如图12所示，本实施方式中，上段搬送部6a还具有设置在上段冲孔板71的第1整流部81。第1整流部81从上段冲孔板71向下方突出。第1整流部81也可由上段冲孔板71的框体的弯折部构成。
第1整流部81将通过上段冲孔板71的通过孔的气体整流。详细来说，第1整流部81以使通过上段冲孔板71的通过孔的气体朝向下段FFU13或下段FFU14流动的方式，将通过上段冲孔板71的通过孔的气体整流。因此，根据本实施方式，下段FFU13及下段FFU14能高效率地抽吸通过上段冲孔板71的通过孔的气体。
本实施方式中，下段FFU13、14还具有第2整流部82。具体来说，下段FFU13、14分别具有风扇112、箱状部件111、第2整流部82及过滤器。第2整流部82设置在箱状部件111。第2整流部82从箱状部件111向上方突出。
第2整流部82将通过上段冲孔板71的通过孔的气体整流。详细来说，第2整流部82以使通过上段冲孔板71的通过孔的气体朝向风扇112流动的方式，将通过上段冲孔板71的通过孔的气体整流。因此，根据本实施方式，下段FFU13及下段FFU14能高效率地抽吸通过上段冲孔板71的通过孔的气体。
此外，箱状部件111支持风扇112。具体来说，风扇112支持于箱状部件111的上部。过滤器收容于箱状部件111的内部。风扇112所抽吸的空气在箱状部件111的内部空间中扩散，经由过滤器从箱状部件111流出。
图13是将本实施方式的搬送块6的一部分放大来表示的另一图。详细来说，图13将从-X侧观察时的搬送块6的一部分放大来表示。如图13所示，下段搬送部6b还具有顶壁613及第3整流部83。在顶壁613，设置有下段FFU13、14及第3整流部83。
第3整流部83将通过上段冲孔板71的通过孔的气体整流。详细来说，第3整流部83以使通过上段冲孔板71的通过孔的气体朝向下段FFU13、14流动的方式，将通过上段冲孔板71的通过孔的气体整流。因此，根据本实施方式，下段FFU13及下段FFU14能高效率地抽吸通过上段冲孔板71的通过孔的气体。
以上，参照图12及图13对本发明的实施方式2进行说明。根据本实施方式，下段FFU13及下段FFU14能高效率地抽吸通过上段冲孔板71的通过孔的气体。
此外，本实施方式中，在搬送块6中设置有第1整流部81～第3整流部83，但也可将第1整流部81～第3整流部83中的1个或2个设置在搬送块6中。
以上，参照附图(图1～图13)对本发明的实施方式进行说明。但是，本发明并不限定于所述实施方式，可在不脱离其主旨的范围内以各种形态实施。另外，能适当改变所述实施方式所公开的多个构成要素。例如，也可将某实施方式所示的全部构成要素中的某一构成要素追加为另一实施方式的构成要素，或者也可将某实施方式所示的全部构成要素中的若干构成要素从实施方式中删除。
附图是为了便于理解发明，而以各构成要素为主体示意性地表示，图示的各构成要素的厚度、长度、个数、间隔等有时为了便于制作附图而与实物不同。另外，所述实施方式所示的各构成要素的构成为一例，并无特别限定，当然能在实质上不脱离本发明的效果的范围内进行各种变更。
例如，在参照图1～图13所说明的实施方式中，上段搬送部6a具备2个上段FFU11、12，但上段搬送部6a也可具备1个上段FFU，还可具备3个以上的上段FFU。同样地，下段搬送部6b具备2个下段FFU13、14，但下段搬送部6b也可具备1个下段FFU，还可具备3个以上的下段FFU。
另外，在参照图1～图13所说明的实施方式中，上段搬送部6a具备多个上段冲孔板71，但上段搬送部6a也可具备1个上段冲孔板。同样地，下段搬送部6b具备多个下段冲孔板72，但下段搬送部6b也可具备1个下段冲孔板。
另外，在参照图1～图13所说明的实施方式中，下段搬送部6b具备2个排气风扇73，但下段搬送部6b也可具备1个排气风扇73，还可具备3个以上的排气风扇73。
[产业上的可利用性]
本发明可用于处理衬底的装置。
[符号的说明]
1 衬底处理装置
3 传载块
3a 传载空间
3a1 第1传载空间
3a2 第2传载空间
3b 第1开口
3c 第2开口
5 处理块
6a 上段搬送部
6b 下段搬送部
11 上段FFU
12 上段FFU
13 下段FFU
14 下段FFU
15 传载FFU部
16 第1传载FFU
17 第2传载FFU
18 第3传载FFU
32 传载搬送部
33 传载搬送机器人
34 导轨
41 上段路径部
42 下段路径部
50a 上段衬底搬送部
50b 下段衬底搬送部
51a 上段搬送机器人
51b 下段搬送机器人
61a 上段搬送空间
61b 下段搬送空间
62 开口率调整部件
63 间隙
71 上段冲孔板
72 下段冲孔板
73 排气风扇
81 第1整流部
82 第2整流部
83 第3整流部
111 箱状部件
112 风扇
611 上段侧壁部
611a 上段间隙形成部
612 下段侧壁部
612a 下段间隙形成部
613 顶壁
W 衬底。

Claims (16)

1.一种衬底处理装置，处理衬底，且具备：
处理部，处理所述衬底；
第1搬送部，与所述处理部邻接；及
第2搬送部，与所述处理部邻接，设置在所述第1搬送部的下方；
所述第1搬送部具有：
第1衬底搬送部，搬送所述衬底；
第1搬送空间，收容所述第1衬底搬送部；
第1搬送风扇过滤单元，设置在所述第1搬送空间的上方，从所述第1搬送空间的上方朝向下方供给气体；及
第1地板部，具有多个第1通过孔，设置在所述第1搬送空间的下方；
所述第2搬送部具有：
第2衬底搬送部，搬送所述衬底；
第2搬送空间，收容所述第2衬底搬送部；
第2搬送风扇过滤单元，设置在所述第1地板部的下方，从所述第2搬送空间的上方朝向下方供给气体；
第2地板部，具有多个第2通过孔，设置在所述第2搬送空间的下方；及
排气风扇，设置在所述第2地板部的下方，将通过所述多个第2通过孔的气体排出。
2.根据权利要求1所述的衬底处理装置，其中所述第1搬送部还具有与所述处理部邻接的第1侧壁部，
所述第2搬送部还具有与所述处理部邻接且设置在所述第1侧壁部的下方的第2侧壁部，
所述第1侧壁部与所述第2侧壁部中的至少一个还具有在所述第1侧壁部与所述第2侧壁部之间形成间隙的间隙形成部。
3.根据权利要求2所述的衬底处理装置，其中所述第1搬送部与所述第2搬送部中的至少一个还具有调整所述间隙的开口率的开口率调整部件。
4.根据权利要求1至3中任一项所述的衬底处理装置，其中所述第1搬送部具有多个所述第1搬送风扇过滤单元。
5.根据权利要求4所述的衬底处理装置，其中所述第1衬底搬送部包含在所述第1搬送空间内移动的第1搬送机器人，
所述多个第1搬送风扇过滤单元以覆盖所述第1搬送机器人的移动范围的方式配置。
6.根据权利要求1至3中任一项所述的衬底处理装置，其中所述第2搬送部具有多个所述第2搬送风扇过滤单元。
7.根据权利要求6所述的衬底处理装置，其中所述第2衬底搬送部包含在所述第2搬送空间内移动的第2搬送机器人，
所述多个第2搬送风扇过滤单元以覆盖所述第2搬送机器人的移动范围的方式配置。
8.根据权利要求1至3中任一项所述的衬底处理装置，其中所述第1搬送部还具有设置在所述第1地板部的第1整流部，
所述第1整流部将通过所述多个第1通过孔的气体整流。
9.根据权利要求1至3中任一项所记载的衬底处理装置，其中所述第2搬送风扇过滤单元具有风扇、支持所述风扇的箱状部件、及设置在所述箱状部件的第2整流部，
所述第2整流部将通过所述多个第1通过孔的气体整流。
10.根据权利要求1至3中任一项所述的衬底处理装置，其中所述第2搬送部还具有：
顶壁，设置有所述第2搬送风扇过滤单元；及
第3整流部，设置在所述顶壁；且
所述第3整流部将通过所述多个第1通过孔的气体整流。
11.根据权利要求1至3中任一项所述的衬底处理装置，还具备：
传载部，进行所述衬底的搬入及搬出；
第1路径部，设置在所述传载部与所述第1搬送部之间，暂时载置所述衬底；以及
第2路径部，设置在所述传载部与所述第2搬送部之间，暂时载置所述衬底；且
所述传载部具有：
传载搬送部，进行所述衬底的搬入及搬出；
传载空间，收容所述传载搬送部；及
传载风扇过滤单元部，设置在所述传载空间的上方，从所述传载空间的上方朝向下方供给气体。
12.根据权利要求11所述的衬底处理装置，其中所述传载风扇过滤单元部具有：
第1传载风扇过滤单元，配置在与所述第1路径部及所述第2路径部侧相反一侧；及
第2传载风扇过滤单元，配置在所述第1路径部及所述第2路径部侧。
13.根据权利要求12所述的衬底处理装置，其中所述传载部还具有：
第1开口，与所述第1路径部连通；及
第2开口，设置在所述第1开口的下方，与所述第2路径部连通；且
所述传载风扇过滤单元部还具有第3传载风扇过滤单元，该第3传载风扇过滤单元在从正面观察所述第1开口及所述第2开口时，配置在所述第1传载风扇过滤单元及所述第2传载风扇过滤单元的一侧方。
14.根据权利要求13所述的衬底处理装置，其中所述传载空间包含：
第1传载空间；及
第2传载空间，在从正面观察所述第1开口及所述第2开口时，位于所述第1传载空间的一侧方；且
所述第1传载空间的最上部位于比所述第2传载空间的最上部更靠上方，
所述第1传载风扇过滤单元及所述第2传载风扇过滤单元从所述第1传载空间的上方朝向下方供给气体，
所述第3传载风扇过滤单元从所述第2传载空间的上方朝向下方供给气体。
15.根据权利要求13所述的衬底处理装置，其中所述传载搬送部包含：
传载搬送机器人，搬送所述衬底；及
导轨，将所述传载搬送机器人在上下方向上引导；且
所述第3传载风扇过滤单元在从正面观察所述第1开口及所述第2开口时，配置在与所述导轨侧相反一侧。
16.根据权利要求11所述的衬底处理装置，其中所述排气风扇产生从所述传载空间经由所述第2路径部流向所述第2搬送空间的气流。
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