CN114047293B - 用于线内监测空气污染及工艺健康的系统及方法 - Google Patents

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Abstract

本申请涉及用于线内监测空气污染及工艺健康的系统及方法。本发明描述一种空气分子污染AMC监测装置的实施例。所述AMC装置包含具有多个进口及一或多个出口的歧管。取样管总线流体耦合到所述歧管，所述取样管总线包括多个个别取样管，每一个别取样管流体耦合到所述多个进口的一者。一或多个分析器的每一者流体耦合到所述歧管的所述一或多个出口的一者以分析通过所述多个个别取样管的一或多者抽取到所述歧管中的流体。控制和通信系统耦合到所述一或多个分析器。描述并主张其它实施例。

Description

用于线内监测空气污染及工艺健康的系统及方法
分案申请的相关信息
本案是分案申请。该分案的母案是申请日为2017年04月26日、申请号为201780026637.X、发明名称为“用于线内监测空气污染及工艺健康的系统及方法”的发明专利申请案。
相关申请案的交叉参考
本申请案依据专利合作条约(PCT)第8条主张2017年4月25日申请的美国申请案第15/496,931号以及2016年4月29日申请的美国临时申请案第62/329,791号的优先权。
技术领域
揭示的实施例大体上涉及空气污染监测，且特定来说但非排它地涉及一种用于线内监测空气污染及工艺健康的系统及方法。
背景技术
空气质量及空气分子污染(AMC)在半导体、内存及其它类似的高科技产业(例如，显示器)中随着其工艺发展而获得愈来愈多关注。在这些产业以及其它产业中，AMC已经被认为是制造故障率的主要因素，且AMC对制造工艺良率的影响随着制造技术能够实现较小组件大小而变糟。长期暴露于AMC也已经被认为对人类健康存在可能的风险。
制造商已使用现场或脱机AMC感测设备将大量努力投入到现场连续监测中且投入到控制设施环境清洁度中。已实施详细研究及持续改进来发现污染源及预防措施以减少设施的环境空气中的AMC。
但是，尽管已作出大量努力来控制设施环境空气质量，并未充分研究例如工艺设备模块及可移动载具(例如，用作半导体产业中的衬底/晶片运送容器的前开式晶片盒(FOUP))等制造设备内的清洁度。特定工艺设备模块或可移动载具也可能造成AMC，但在大多数情境中，工艺设备模块及衬底具有其自身的围封微环境，此意味着现场设施环境监测无法捕获与工艺设备模块或可移动载具相关联的AMC相关问题。此外，当一个工艺设备模块或一个可移动载具被污染时，在制造线上可能发生AMC交叉污染，其中可移动载具充当将污染散布到各个位置的AMC载体。因此，即使随后在一个可移动载具或工艺设备模块中发现AMC，追踪污染源也变得极难。
发明内容
本申请的一个方面涉及一种空气分子污染AMC监测装置，其包括：歧管，其包含：进口管，其适于在取样管总线中流体耦合多个个别取样管，其中每一个别取样管经由多通阀流体耦合到所述进口管，缓冲槽，其经由多通阀流体耦合到所述进口管，及多个出口管，每一出口管流体耦合到所述缓冲槽且每一出口管经由多通阀流体耦合到分析器，其中将所述个别取样管流体耦合到所述进口管的所述多通阀、将所述进口管流体耦合到所述缓冲槽的所述多通阀及将所述出口管流体耦合到所述分析器的所述多通阀能经配置以使得所述歧管能被清空；一或多个分析器，每一分析器流体耦合到所述歧管的所述一或多个出口的一者以分析通过所述多个个别取样管的一或多者抽取到所述歧管中的流体；及控制及通信系统，其耦合到所述一或多个分析器。
本申请的另一个方面涉及一种环境监测系统，其包括：两个或更多个取样总线，每一取样总线包括多个个别取样管，每一取样总线对应于工艺设备模块，其中取样总线中的每一个别取样管适于流体耦合到对应的所述工艺设备模块的一或多个腔室；单个空气分子污染AMC装置，其经配置以流体耦合到所述两个或更多个取样总线中的一者且与所述两个或更多个取样总线中的一者解耦合，所述空气污染装置包括：歧管，其具有多个进口及一或多个出口，其中来自所述AMC装置耦合到的所述取样总线的每一个别取样管适于流体耦合到所述歧管的所述多个进口中的一者，一或多个分析器，每一分析器流体耦合到所述歧管的所述一或多个出口的一者以分析通过所述多个个别取样管的一或多者抽取到所述歧管中的流体，及控制及通信系统，其耦合到所述一或多个分析器；及远程服务器，其无线地或通过导线通信耦合到所述控制及通信系统；其中所述单个AMC装置是可移动的，以使其能从其流体耦合到一个取样总线的位置移动到其能流体耦合到另一个取样总线的位置。
本申请的另一个方面涉及一种环境监测系统，其包括：两个或更多个取样总线，每一取样总线包括多个个别取样管，每一取样总线对应于一组工艺设备模块，其中取样总线中的每一个别取样管适于流体耦合到对应组工艺设备模块中的工艺设备模块的腔室；单个空气分子污染AMC装置，其经配置以流体耦合到所述两个或更多个取样总线中的一者且与所述两个或更多个取样总线中的一者解耦合，所述空气污染装置包括：歧管，其具有多个进口及一或多个出口，其中来自所述AMC装置所耦合到的所述取样总线的每一个别取样管流体耦合到所述歧管的所述多个进口中的一者，一或多个分析器，每一分析器流体耦合到所述歧管的所述一或多个出口的一者以分析通过所述多个个别取样管的一或多者抽取到所述歧管中的流体，及控制及通信系统，其耦合到所述一或多个分析器；及远程服务器，其无线地或通过导线通信耦合到所述控制及通信系统；其中所述单个AMC装置是可移动的，以使得其能从其流体耦合到一个取样总线的位置移动到其能流体耦合到另一个取样总线的位置。
本申请的又一个方面涉及一种环境监测系统，其包括：空气分子污染AMC装置，其经配置以流体耦合到所述两个或更多个取样总线中的一者且与所述两个或更多个取样总线中的一者解耦合，所述空气污染装置包括：歧管，其具有多个进口及一或多个出口，其中所述歧管的每一进口适于经由多通阀流体耦合到所述多个个别取样管中的一者，所述多个个别取样管中的所述一者流体耦合到至少一个工艺设备模块的一或多个腔室，一或多个分析器，每一分析器流体耦合到所述歧管的所述一或多个出口的一者以分析通过所述多个个别取样管的一或多者抽取到所述歧管中的流体，及控制及通信系统，其耦合到所述一或多个分析器；远程服务器，其无线地或通过导线通信耦合到所述控制及通信系统；AMC装载端口，其附接到所述AMC装置且流体耦合到所述歧管的至少一个进口，其中所述装载端口能接收可移动载具。
附图说明
参考下列图描述非限制及非穷尽实施例，其中除非另有指定，否则相同参考符号贯穿各图指代相同零件。
图1A到1B是用于半导体制造的制造工艺的实施例的图式。
图2是说明总空气分子污染(TAMC)装置在半导体制造中的线内监测应用的实施例的图式。
图3A是TAMC装置的实施例的框图。
图3B到3D是可用于图3A中展示的TAMC装置的实施例中的歧管的实施例的框图。
图4是使用TAMC装置的实施例的线内监测应用的另一实施例的框图。
图5是使用TAMC装置的实施例的线内监测应用的另一实施例的框图。
图6是使用TAMC装置的实施例的线内监测应用的另一实施例的框图。
图7是使用TAMC装置的实施例的线内监测应用的另一实施例的框图。
图8是使用TAMC装置的实施例的线内监测应用的另一实施例的框图。
图9是使用TAMC装置的实施例的线内监测应用的另一实施例的框图。
具体实施方式
描述用于线内监测空气污染及工艺健康的系统及方法的实施例。描述特定细节来提供对实施例的理解，但所属领域的技术人员将认识到，本发明可在没有一或多个所描述细节的情况下或使用其它方法、组件、材料等实践。在一些例项中，众所周知的结构、材料、连接或操作未详细展示或描述但仍涵盖于本发明的范围内。
贯穿本说明书对“一个实施例”或“实施例”的引用意味着所描述特征、结构或特性可包含在至少一个所描述实施例中，使得出现“在一个实施例中”或“在实施例中”不一定是指代同一实施例。此外，特定特征、结构或特性可在一或多个实施例中以任何适合的方式组合。
图1A到1B说明制造线100的实施例。例如，制造线100可用于半导体制造中，但在其它实施例中可用于其它目的且结合与所展示不同的设备使用。
制造线100定位在围封体102中，所述围封体102可以是建筑、建筑内的房间或隔区或某一其它类型的围封体。一或多个工艺设备模块104定位在围封体102内。每一工艺设备模块104包含装载端口且可包含一或多个腔室，所述腔室的每一者执行与由所述特定工艺设备模块实行的制造步骤相关的不同功能。
制造工艺通常涉及许多步骤，且每一工艺设备模块仅执行整个制造工艺中的一些步骤。因此，在制造线100上制造的物品(半导体制造设施中的具有处理器、存储器、MEMS芯片、光学芯片等的半导体晶片)必须从一个工艺设备模块移动到另一工艺设备模块，直到执行工艺中的全部步骤。使用可移动载具106来完成移动所制造的物品，所述可移动载具106在内部(通常在密封微环境中)携载所制造的物品。在例如所展示的半导体设施实施例中，可移动载具106称为前开式晶片盒(FOUP)、晶片容器或衬底容器，这是因为其用于运送半导体晶片。但在其它实施例中，可使用其它类型的可移动载具。
运送系统将每一可移动载具106从一个工艺设备模块104的装载端口携载到另一工艺设备模块的装载端口，使得可对在可移动载具内部携载的所制造的物品执行不同步骤。在所说明的实施例中，运送系统是悬吊式轨道及升降机系统。轮式及机动化托架110沿着轨道108运行。将升降机112安装到每一轮式托架110以在z方向上提升可移动载具106，也可能在y方向上(即，进出页面)移动可移动载具，使得可移动载具106可被放置在可容纳多个载具的装载端口上。
如图1B中最佳所见，轨道108迂回穿过设施102以将可移动载具106(及因此在可移动载具内部携载的所制造物品)运送到多个工艺设备模块；所说明的实施例具有七个处理设备模块P1到P7，但其它实施例可具有不同数量。在所制造物品移动穿过特定围封体102中的全部工艺设备模块104后，运送系统与可移动载具一起离开围封体102。
已进行大量努力及研究来控制围封体102中的设施环境空气质量，但并未充分研究工艺设备模块104内部及可移动载具106内部的环境的清洁度。除设施环境污染物(即，来自设施的整体空气处置系统(例如通风及空气调节)的污染物)以外，工艺设备模块104或可移动载具/FOUP 106也可能造成空气分子污染(AMC)。由于工艺设备模块104及可移动载具106包含具有其自身的内部微环境的闭合腔室，因此现场整体设施环境监测无法捕获与工艺设备模块或可移动载具相关联的AMC问题。例如，当一个工艺设备模块或一个可移动载具被污染时，交叉污染可能使AMC散布遍及制造线，其中可移动载具106充当将AMC传输到各个位置的AMC载体。但使用现有整体设施环境监测，即使随后在一个可移动载具或工艺设备模块中发现AMC，也极难追踪污染源。
替代方法是安装现场仅可移动载具AMC监测系统。在此类系统中，当晶片在一个工艺设备模块中完成且存储在可移动载具中以供运送到另一工艺设备模块时，可移动载具绕开其正常工艺序列且被发送到现场AMC可移动载具监测系统以对内部的空气进行分析。但尽管此AMC监测系统可以是现场监测工具，其实际是工艺外监测方法，这是因为可移动载具不再遵循常规工艺序列。且由于可移动载具必须绕开正常制造以进行分析，因此方法引入归因于正常工艺序列中的干扰的额外不确定性。此外，在此方法中，现场仅可移动载具AMC监测系统具有有限能力且仅可测试有限数目个可移动载具(再者，依此方式这不能显著影响工艺产出率)。且即使监测系统可增强其筛选能力，使可移动载具绕开的需求仍向制造过程添加额外工艺序列，这继而减缓工艺产出率。因此，此方法仅限于筛选可移动载具。其不用于对可移动载具及工艺设备模块进行线内AMC监测的目的。
图2说明使用流体耦合到工艺设备模块202的总空气分子污染(TAMC)装置226的线内监测系统200的实施例。在所说明的实施例中，工艺设备模块202包含装载端口204，一或多个可移动载具206(此实施例中的FOUP)可装载于所述装载端口204上；所说明的实施例展示能够接收四个可移动载具的装载端口，但在其它实施例中，装载端口可容纳与所展示不同的数目的可移动载具。除装载端口204以外，工艺设备模块202还包含三个腔室：前接口208紧邻装载端口204，工艺装载锁腔室210紧邻前接口208，且最后，工艺腔室212(其中对所制造物品执行相关制造步骤)紧邻装载锁腔室210。
个别取样管流体耦合到工艺设备模块202内的每一腔室。如本文中使用，当组件“流体耦合”时，这意味着其经耦合，使得流体可从一个组件流动到另一组件或流动穿过另一组件。个别取样管216流体耦合到工艺腔室212，个别取样管218流体耦合到装载锁腔室210，且个别取样管220流体耦合到前接口208。个别取样管216、218及220形成取样管总线214。个别取样管222流体耦合到装载端口204(或，更明确来说，耦合到装载端口204内的将流体耦合到可移动载具206的内部的组件)。在所说明的实施例中，存在四个个别取样管222，这是因为装载端口204可容纳四个可移动载具，但在其它实施例中，个别取样管的数目可匹配装载端口可容纳的可移动载具的数目。接着，取样管总线214及个别取样管222形成流体耦合到TAMC 226的另一取样管总线224。
TAMC 226通过导线230或无线地通信耦合到远程数据/控制服务器228。工艺设备模块202也通过导线232或无线地通信耦合到远程数据控制服务器228及/或直接耦合到TAMC 226。远程数据控制服务器228也可通过导线232或无线地直接通信耦合到工艺设备模块202。
在线内监测系统200的操作中，将可移动载具/FOUP转移到装载端口，使得其底部空气进口及出口流体耦合到装载端口中的配合进口/出口，这将吹扫N2或清洁空气(XCDA)以将空气/AMC从可移动载具206的内部冲出到装载端口下方的排气出口。在一个实施例中，个别取样管222可连接到装载端口吹扫系统的排气装置，其中其可接着收集、分析及报告来自每一可移动载具206的经吹扫空气清洁度。排出空气清洁度表示每一可移动载具中的微环境的污染等级，所述污染等级可与其在另一位置处的先前工艺的清洁度关联。在短暂吹扫工艺之后，可移动载具的前门敞开且将内部的晶片转移到工艺设备模块的其它腔室(前接口208、装载锁210及工艺腔室212，依所述序列)中以进行所需制造步骤。
除监测可移动载具206内部的AMC以外，系统200还可额外地或同时地监测前接口(FI)腔室208、装载锁腔室210或工艺腔室212的内部的AMC，所述AMC可通过TAMC装置226取样并分析以了解每一腔室的清洁度。在等待在工艺设备模块202的腔室中处理每一晶片(通常FOUP中的25个晶片)时，TAMC装置226可持续取样并分析从每一通道(即，每一个别取样管)收集的空气以记录AMC等级的变化。此AMC监测过程提供特定工艺步骤及位置的线内实时AMC结果，而不更改现有制造程序，这是因为系统可经由对应线内管通道从特定目标直接收集空气样本而不干扰正常工艺序列。使用系统200，不需要将可移动载具/FOUP 206从其正常工艺拉出来进行AMC分析。
TAMC 226及工艺设备模块202的一者或两者可与远程数据/控制服务器228有线或无线地通信，使得其可接收关于何时且哪个通道(即，个别取样管)取样并分析的命令。同时，TAMC 226可将测试结果报告回到远程服务器228作为制造工艺控制的反馈，服务器228可接着通过导线或无线地将其传达到工艺设备模块202以引起调整，例如制造配方的修改。在另一实施例中，TAMC装置226可经编程以通过导线或无线地与工艺设备直接通信，以基于由TAMC装置测量的线内AMC结果控制制造工艺。装载端口204、前接口208、装载锁210或工艺腔室212处的取样及分析可依时间序列或并行，且可在TAMC装置226中经预编程或使用从远程数据/控制服务器228发送的命令来完成。
图3A到3D一起说明可在用于空气污染及工艺健康监测的线内监测系统及方法(例如图2及4到9中展示)中使用的TAMC装置300的实施例。图3A是TAMC装置300的实施例的框图，其包括用以收集、分析并报告AMC检测结果的数个器件的组合。
将TAMC 300容置在外壳302内，所述外壳302可为固定或可移动的。例如，外壳302可为固定或可移动柜，或在一些实施例中其可为可移动载具，例如可移动载具206(例如，参见图9)。TAMC 300包含具有流体耦合到来自取样管总线224的个别取样管的进口的歧管304(参见图3B到3C)。歧管304还包含经由管306流体耦合到各种分析器的一或多个出口。管306包含阀307，使得来自歧管的输出可选择性地引导到任何分析器或分析器的组合。管306对于全部AMC化合物是惰性的且也不吸引AMC化合物。其可以是经钝化或涂覆的金属管，或惰性塑料管(例如，PFA或铁氟龙(Teflon))。
分析器308到328可包含用于其特定类型的检测的传感器或传感器阵列，但在一些实施例中其还可包含额外组件，包含气相层析仪、预浓缩器、捕集器、过滤器、阀等等。在不同实施例中可使用各种气体分析器(VOC、酸、碱等)、粒子计数器、湿度传感器、温度传感器、离子分析器。除其它外，且不限于列出的分析器，TAMC 300的实施例可包含以下类型的分析器的一或多者：
-分析器，其用以收集并分析特定(个别)挥发性有机化合物(VOC)(例如IPA)的浓度及/或检测VOC的总浓度。
-分析器，其用以收集并分析特定(个别)酸化合物(例如，HF、H2SO4、HCL等)的浓度及/或检测酸的总浓度。
-分析器，其用以收集并分析特定(个别)碱化合物(例如，NH4OH、NaOH等)的浓度及/或检测碱的总浓度。
-分析器，其用以收集并分析特定(个别)硫化物化合物的浓度及/或检测硫化物的总浓度。
-分析器，其用以收集并分析特定(个别)胺化合物的浓度及/或检测胺的总浓度。
-分析器，其连接到歧管装置以检测空气粒子或气溶胶计数。
-分析器，其用以检测样本湿度。
-分析器，其用以检测样本温度。
-分析器，其用以检测氟化物化合物，例如化学冷却剂试剂(例如，碳氟化物化合物(CxF))或干式蚀刻化学品(例如，CxFy)，及/或检测例如碳氟化物等化学冷却试剂的总浓度或干式蚀刻试剂的总浓度。
-分析器，其用以收集并分析特定(个别)阴离子(带负电荷离子)(例如F-、Cl-、PO43-、NOx-、SO22-)的浓度，及/或检测阴离子的总浓度。
-分析器，其用以收集并分析特定(个别)阳离子(带正电荷离子)(例如NH4+)的浓度，及/或检测阳离子的总浓度。
-分析器，其用以收集并分析特定(个别)金属离子的浓度及/或检测金属离子的总浓度。
-分析器，其用以收集并分析特定(个别)硅掺杂离子的浓度及/或检测掺杂物的总浓度。
分析器308到328通信耦合到控制及通信系统332，所述控制及通信系统332集成包含在TAMC装置300中的全部分析器及装置的操作。使用控制及通信系统332来接收、处理及/或解释从分析器308到328接收的数据，且每一分析器及其关联阀307可由控制及通信系统控制用于样本分析。在一个实施例中，控制及通信系统332的硬件可以是通用计算机，包含处理器、存储器、存储装置等等，连同具有致使列出的硬件执行所需功能的指令的软件。但是，在其它实施例中，控制及通信系统332可以是专用计算机，例如专用集成电路(ASIC)，也具有拥有致使其执行所需功能的指令的软件。
控制及通信系统332可通过导线或无线地通信耦合到一或多个工艺设备模块，及/或通信耦合到远程数据/控制服务器(例如，参见图2)，所述远程数据/控制服务器从每一TAMC搜集数据且可控制每一TAMC及其所耦合到的工艺设备。因此，TAMC系统可接收并传输实时测试结果更新或从服务器接收操作命令，例如在其上执行线内AMC分析的特定取样通道(即，特定个别取样管)。
如在别处展示且论述(参见图2及4到9)，可使用一或多个TAMC 300来监测多个可移动载具/FOUP、一或多个工艺设备模块中的多个腔室，或可移动载具及工艺设备模块的组合。TAMC 300的使用提供一种直接线内监测而不干扰正常制造工艺的方法。
图3B说明可用于TAMC系统300中的歧管350的实施例。歧管350包含经由三通阀356a到356e流体耦合到个别取样管352a到352e的一或多个进口管354。所说明的实施例具有五个个别取样管352a到352e，其具有对应阀356a到356e，但其它实施例可经配置成具有不同数目个个别取样管及不同数目个阀，且不是每个取样管都需要具有阀。
在所说明的实施例中，进口管354具有消除可捕集进口管中的污染物的无效空间的设计。每一三通阀356a到356e具有可用作用于其个别取样管的冲洗端口的额外端口，但在其它实施例中，可使用其它类型的阀代替三通阀356a到356e。
缓冲槽360经由三通阀358流体耦合到进口管354。缓冲槽允许TAMC系统300在短时间段内收集大量样本(例如，5秒内20公升)。在一些情境中，AMC污染等级可在小于10秒后改变。将阀358和270(其可为三通阀或切换阀)放置在缓冲槽360的进口及出口处；这些阀在需要空气取样时敞开且在收集到空气样本时闭合。缓冲槽360还允许从特定位置的出口收集瞬时AMC以供分析器随后测量污染等级。
缓冲槽360具有经由压力控制器362及阀364流体耦合到其内部的清洁空气进口，以及通过阀366流体耦合到缓冲槽360的内部的清洁空气出口。清洁空气进口及清洁空气出口提供冲洗缓冲槽360的内部以清洁留在缓冲槽或取样管内的任何样本的能力。缓冲槽360也可视需要具有通过阀374流体耦合到缓冲槽360的内部的环境空气进口372。
选用的取样泵368可经由阀370流体耦合到缓冲槽360的内部。当存在时，可使用取样泵368将进口管354处接收的样本抽取到缓冲槽360的内部。取样泵368减小缓冲槽360中的压力以从装载端口排气装置、FI、装载锁或工艺腔室的出口提取空气。在其中装载端口排气装置、FI腔室、装载锁腔室或工艺腔室及因此个别取样管352a到352e的输出具有正压力/流量的实施例中，可能不需要取样泵368。
一或多个分析器(多达N个分析器)可经由阀376流体耦合到缓冲槽360的出口；这些分析器对应于图3A中展示的分析器308到328。上文中结合图3A提供可在不同实施例中使用的分析器类型的非排它清单。
图3C说明可用于TAMC 300中的歧管375的实施例。歧管375在大多数方面类似于歧管350。歧管375与350之间的主要差异是在一些例项中在样本进入缓冲槽360前分析所述样本可为有用的。一些分析器/传感器具有快速感测响应或含有无需连接到缓冲槽以共享所收集的样本的内部快速取样模块。为适应此，歧管375具有在三通阀358的上游流体耦合到管354中的导流器380。导流器380继而流体耦合到一或多个分析器，例如温度/湿度分析器382或一些其它类型的分析器384。在此实施例中，分析器/传感器不消耗缓冲槽360中收集的样本。选用的取样泵386可经由阀358流体耦合到缓冲槽360的内部。
图3D说明歧管390的另一实施例。歧管390在大多数方面类似于歧管350及375。主要差异是歧管390不包含缓冲槽360。在其中无需缓冲槽来收集且保存大样本体积的实施例中，缓冲槽360可由具有到个别分析器的流体耦合件的管392取代。例如，在一个实施例中，管392可使用多个导流器(例如，如同一个实施例中的导流器380)耦合到N个分析器，所述多个导流器串联连接到管392以将样本流体导流到N个个别分析器的一或多者。
图4说明使用例如TAMC 300等TAMC装置的实施例的线内监测系统400的实施例。在监测系统400中，一或多个工艺设备模块定位在制造设施中。所说明的实施例具有两个工艺设备模块402及404，但其它实施例可包含比所展示更多或更少个工艺设备模块。运送系统将可移动载具(此实施例中的FOUP)从一个工艺设备模块移动到另一工艺设备模块。
工艺设备模块402具有耦合到其腔室的一或多者的取样管总线408，且工艺设备模块404类似地具有耦合到其腔室的一或多者的取样管总线410。以简化形式展示取样管总线408及410以避免使图式凌乱，但在实施例中取样管总线408及410的每一者可包含流体耦合到工艺设备模块402的一组个别取样管及管总线，如图2中展示。
TAMC 406是可移动的且可与取样管总线408及410快速地连接及断开连接。在具有与管总线408及410快速地连接及断开连接的能力的情况下，例如，可通过将TAMC 406容置在滚动柜中而在工艺设备模块402与工艺设备模块404间容易地移动TAMC 406。TAMC装置406可首先流体耦合到工艺设备模块402达特定时间段以线内监测工艺设备清洁度且也监测转移到其的FOUP。接着，TAMC系统可被移动且流体耦合到工艺设备模块404以供随后AMC监测其清洁度及转移到其的FOUP内部的清洁度。
图5说明线内监测系统500的另一实施例。在系统500中，多个TAMC可连接到工艺设备模块502以专注于独立地监测工艺设备模块内的特定腔室。
在所说明的实施例中，工艺设备模块502具有多个腔室；如之前，其具有其中可配合例如FOUP等一或多个可移动载具的装载端口，且在所说明的实施例中，其还具有前接口、工艺装载锁腔室及工艺腔室。不同TAMC流体耦合到工艺设备模块502内的不同腔室：在所说明的实施例中，一个TAMC 504流体耦合到装载端口，另一TAMC 506流体耦合到前接口，且第三TAMC 508流体耦合到装载锁腔室和工艺腔室两者。在其它实施例中，流体连接可能与所展示不同。尽管图中未展示，但是TAMC504到508以及工艺设备模块502可如图2中展示般通过导线或无线地通信耦合到彼此、通信耦合到中央服务器，或通信耦合到彼此且通信耦合到中央服务器。
图6说明线内监测系统600的另一实施例。系统600包含多个工艺设备模块；所说明的实施例具有标记为L1到L16的16个工艺设备模块，但其它实施例可具有比所展示更多或更少个工艺设备模块。系统包含两个分开的取样管总线602及604。取样管总线602具有流体耦合到每一工艺设备模块L1到L16的一或多个个别取样管，且取样管总线604也具有流体耦合到每一工艺设备模块L1到L16的一或多个个别取样管。
各种取样管总线配置在系统600的不同实施例中是可行的。在一个实施例中，例如，取样管总线602可使全部其个别取样管耦合到一个类型的工艺设备模块腔室，而取样管总线604可使其个别取样管耦合到另一类型的腔室。例如，取样管总线602可使其个别取样管耦合到工艺设备模块L1到L16的装载端口，而取样管总线604使其个别取样管耦合到工艺设备模块L1到L16的工艺腔室。在另一实施例中，总线602可使其个别取样管耦合到每一工艺设备模块上的腔室的一个组合，而总线604使其个别取样管耦合到每一工艺设备模块中的腔室的另一组合。在再一实施例中，总线602及604两者可使全部其个别取样管耦合到每一工艺设备模块的全部腔室，如(例如)图2中展示。
TAMC流体耦合到每一取样管总线以收集并分析从每一个别取样管收集的样本：TAMC 606耦合到取样管总线602且TAMC 608流体耦合到取样管总线604，因此存在TAMC与取样管总线的一一对应关系。但是，在其它实施例中，取样管总线602及604可经分离且引导到比所展示更大或更小数目个TAMC。如在其它所说明的实施例中，TAMC 602到608以及个别工艺设备模块L1到L16可通过导线或无线地通信耦合到彼此及/或通信耦合到远程服务器/控制中心610的中心，如图2中展示。未展示工艺设备模块L1到L16与服务器610之间的通信连接以避免使图式凌乱。
使用线内监测系统600，可使用不同线内TAMC系统的组合来覆盖相同工艺区域。一或多个线内TAMC系统可流体耦合且专注于监测装载端口FOUP排气装置，而另一线内TAMC系统可流体耦合且专注于监测标定工艺区域内的全部设备的FI腔室。用于制造厂中的标定工艺区域内的全部装载锁腔室及/或工艺腔室的额外线内TAMC系统情况相同。
图7说明线内监测系统700的另一实施例。系统700包含多个工艺设备模块；所说明的实施例具有标记为L1到L16的16个工艺设备模块，但其它实施例可具有比所展示更多或更少个工艺设备模块。系统包含两个分开的取样管总线702及704。取样管总线702具有流体耦合到工艺设备模块的子集(在此实施例中模块L1到L4及L9到L12)的腔室的一或多个个别取样管，且取样管总线704也具有流体耦合到工艺设备模块的不同子集(在此实施例中L5到L8及L13到L16)的腔室的一或多个个别取样管。
各种取样管总线配置在系统700的不同实施例中是可行的。在一个实施例中，例如，取样管总线702可使全部其个别取样管耦合到一个类型的工艺设备模块腔室，而取样管总线704可使其个别取样管耦合到另一类型的腔室。例如，取样管总线702可使其个别取样管耦合到工艺设备模块L1到L4及L9到L12的装载端口，而取样管总线704使其个别取样管耦合到工艺设备模块L5到L8及L13到L16的工艺腔室。在另一实施例中，总线702可使其个别取样管耦合到其子集中的每一工艺设备模块上的腔室的一个组合，而总线704使其个别取样管耦合到其子集中的每一工艺设备模块中的腔室的另一组合。在另一实施例中，总线702及704两者可使全部其个别取样管耦合到其子集中的每一工艺设备模块的全部腔室，如(例如)图2中展示。
TAMC流体耦合到每一取样管总线以收集并分析从每一个别取样管收集的样本：TAMC 706耦合到取样管总线702且TAMC 708流体耦合到取样管总线704，但在其它实施例中取样管总线702及704可经分离且引导到比所展示更大或更小数目个TAMC。如在其它所说明的实施例中，TAMC 702到708以及个别工艺设备模块L1到L16可通过导线或无线地通信耦合到彼此及/或通信耦合到远程服务器/控制中心710的中心，如图2中展示。未展示工艺设备模块L1到L16与服务器710之间的通信连接以避免使图式凌乱。
使用线内监测系统700，TAMC 706及708可经使用且通过经扩展歧管设计(即，更多取样通道)连接到多个工艺设备/模块以覆盖制造设施内部的特定工艺区域。每一线内TAMC可经配置以监测用于特定数量的工艺设备(及FOUP)的FOUP装载端口排气装置、FI、装载锁或工艺腔室。
图8说明线内监测系统800的另一实施例。系统800包含多个工艺设备模块；所说明的实施例具有标记为L1到L16的16个工艺设备模块，但其它实施例可具有比所展示更多或更少个工艺设备模块。系统包含两个分开的取样管总线802及804。取样管总线802具有流体耦合到工艺设备模块的子集(在此实施例中模块L1到L4及L9到L12)的腔室的一或多个个别取样管，且取样管总线804也具有流体耦合到工艺设备模块的不同子集(在此实施例中L5到L8及L13到L16)的腔室的一或多个个别取样管。
各种取样管总线配置在系统800的不同实施例中是可行的。在一个实施例中，例如，取样管总线802可使全部其个别取样管耦合到一个类型的工艺设备模块腔室，而取样管总线804可使其个别取样管耦合到另一类型的腔室。例如，取样管总线802可使其个别取样管耦合到工艺设备模块L1到L4及L9到L12的装载端口，而取样管总线804使其个别取样管耦合到工艺设备模块L5到L8及L13到L16的工艺腔室。在另一实施例中，总线802可使其个别取样管耦合到其子集中的每一工艺设备模块上的腔室的一个组合，而总线804使其个别取样管耦合到其子集中的每一工艺设备模块中的腔室的另一组合。在又一实施例中，总线802及804两者可使全部其个别取样管耦合到其子集中的每一工艺设备模块的全部腔室，如(例如)图2中展示。
在所说明的实施例中，可移动TAMC 806在不同时间流体耦合到每一取样管总线以收集并分析从所述总线中的每一个别取样管收集的样本。在具有与取样管总线802及804快速地连接及断开连接的能力的情况下，可(例如)通过将TAMC 806容置在滚动柜中而在取样管总线之间容易地移动TAMC 806。TAMC 806首先耦合到取样管总线802。当完成监测工艺设备模块的所述对应子集时，TAMC 806接着与取样管总线802解耦合且流体耦合到取样管总线804。如在其它所说明的实施例中，TAMC 806以及个别工艺设备模块L1到L16可通过导线或无线地通信耦合到彼此及/或通信耦合到远程服务器/控制中心810的中心，如图2中展示。未展示工艺设备模块L1到L16与服务器810之间的通信连接以避免使图式凌乱。
使用线内监测系统800，单个线内TAMC系统通过经扩展歧管设计(更多取样通道)连接到多个工艺设备/模块以覆盖制造设施内部的特定工艺区域。线内TAMC可从位置A移动到位置B，从而覆盖具有多个工艺设备的位置B区域中的AMC监测。在另一实施例中，通过经扩展歧管设计(更多取样通道)连接到多个工艺设备/模块以覆盖制造设施内部的特定工艺区域的单个线内TAMC系统可为可移动的。线内TAMC可自位置A移动到位置B，从而覆盖具有多个工艺设备的位置B区域中的AMC监测。
图9说明线内监测系统900的另一实施例。监测系统900在大多数方面类似于图2中展示的监测系统200：TAMC 226与工艺设备模块(如实质上202)的不同腔室之间的流体耦合是大体上相同的，且TAMC 226、工艺设备模块202与远程数据/控制服务器228之间的通信耦合也是大体上相同的。
系统900与系统200之间的主要差异是在系统900中，TAMC 226包含其自身的装载端口902，可移动载具904可配合到所述装载端口902用于分析，正如可移动载具可配合到工艺设备模块202的装载端口204。在一个实施例中，装载端口902提供额外位置，可移动载具904及206可在所述位置处衔接用于分析。在另一实施例中，装载端口902允许TAMC 226充当用于专用可移动载具904的基站。举例来说，可移动载具904可以是特殊工艺健康监测FOUP，其携载FOUP内部的电池供电传感器或取样收集器(代替其通常将携载的半导体晶片)以执行进一步详细TAMC分析、FOUP清洁或FOUP中电池充电。专用可移动载具/FOUP也可转移到装载端口204，与常规工艺FOUP相同。也可使用装载端口902来对标准可移动载具或工艺FOUP(内部具有或不具有晶片)直接执行AMC分析。
包含摘要中描述的内容的实施例的上述描述并非希望为穷尽的或将本发明限于所描述的形式。如所属领域的技术人员将认识到，本文中出于阐释性目的描述本发明的特定实施例及用于本发明的实例，但各种等效修改鉴于上述具体实施方式在本发明的范围内是可行的。具有装载端口设计的线内TAMC系统用于直接FOUP衔接及分析。
所附权利要求书中使用的术语不应解释为将本发明限于说明书及权利要求书中揭示的特定实施例。实际上，应完全由所附权利要求书判定本发明的范围，应使用公认的权利要求书解释规则来解释所附权利要求书。

Claims (24)

1.一种空气分子污染AMC监测装置，其包括：
歧管，其包含：
进口管，其适于在取样管总线中流体耦合多个个别取样管，其中每一个别取样管经由三通阀流体耦合到所述进口管，
缓冲槽，其经由三通阀流体耦合到所述进口管，及
多个出口管，每一出口管流体耦合到所述缓冲槽且每一出口管经由三通阀流体耦合到分析器，
其中将所述个别取样管流体耦合到所述进口管的所述三通阀、将所述进口管流体耦合到所述缓冲槽的所述三通阀及将所述出口管流体耦合到所述分析器的所述三通阀能经配置以使得所述歧管能被清空；
一或多个分析器，每一分析器流体耦合到所述歧管的所述一或多个出口的一者以分析通过所述多个个别取样管的一或多者抽取到所述歧管中的流体；及
控制及通信系统，其耦合到所述一或多个分析器。
2.根据权利要求1所述的AMC监测装置，其中每一个别取样管耦合到工艺设备站的腔室。
3.根据权利要求1所述的AMC监测装置，其中所述一或多个传感器能包含个别或总挥发性有机化合物VOC检测器、酸化合物检测器、碱化合物检测器、硫化物化合物检测器、胺化合物检测器、空气粒子或气溶胶计数检测器、湿度检测器、温度检测器、化学冷却剂检测器、阴离子检测器、阳离子检测器、金属离子检测器或掺杂离子检测器。
4.根据权利要求1所述的AMC监测装置，其中所述歧管进一步包括耦合到所述缓冲槽以清空所述缓冲槽的内部的清洁空气流入及清洁空气流出。
5.根据权利要求4所述的AMC监测装置，其中所述歧管进一步包括流体耦合到所述缓冲槽的所述内部的泵。
6.根据权利要求5所述的AMC监测装置，其进一步包括耦合到所述三通阀的上游的所述进口管的一或多个分析器，所述三通阀将所述进口管耦合到所述缓冲槽。
7.根据权利要求6所述的AMC监测装置，其中耦合到所述三通阀的上游的所述进口管的所述一或多个分析器包含温度分析器或湿度分析器。
8.根据权利要求1所述的AMC监测装置，其进一步包括流体耦合到所述三通阀的泵，所述三通阀将所述进口管耦合到所述缓冲槽。
9.一种环境监测系统，其包括：
两个或更多个取样管总线，每一取样管总线包括多个个别取样管，每一取样管总线对应于工艺设备模块，其中取样管总线中的每一个别取样管适于流体耦合到对应的所述工艺设备模块的一或多个腔室；
单个空气分子污染AMC监测装置，其经配置以流体耦合到所述两个或更多个取样管总线中的一者且与所述两个或更多个取样管总线中的一者解耦合，所述单个AMC监测装置包括：
歧管，其具有多个进口及一或多个出口，其中来自所述单个AMC监测装置耦合到的所述取样管总线的每一个别取样管适于流体耦合到所述歧管的所述多个进口中的一者，
一或多个分析器，每一分析器流体耦合到所述歧管的所述一或多个出口的一者以分析通过所述多个个别取样管的一或多者抽取到所述歧管中的流体，及
控制及通信系统，其耦合到所述一或多个分析器；及
远程服务器，其无线地或通过导线通信耦合到所述控制及通信系统；
其中所述单个AMC监测装置是可移动的，以使其能从其流体耦合到一个取样管总线的位置移动到其能流体耦合到另一个取样管总线的位置。
10.根据权利要求9所述的系统，其中每一工艺设备模块包含装载端口以接收携载所制造物品的可移动载具，且其中至少一个个别取样管流体耦合到每一装载端口以在所述可移动载具放置在所述装载端口上时对所述可移动载具内部的环境进行取样。
11.根据权利要求10所述的系统，其中个别取样管适于流体耦合到所述工艺设备模块的接口腔室、锁装载腔室及工艺腔室以对每一腔室内的环境进行取样。
12.根据权利要求11所述的系统，其进一步包括附接到所述单个AMC监测装置且流体耦合到所述单个AMC监测装置的至少一个个别取样管的装载端口。
13.根据权利要求9所述的系统，其中所述歧管包括：
进口管，其经由三通阀流体耦合到所述多个个别取样管中的每一者；
缓冲槽，其经由三通阀流体耦合到所述进口管；
多个出口管，每一出口管流体耦合到所述缓冲槽且每一出口管经由三通阀流体耦合到分析器；
清洁空气流入及清洁空气流出，其耦合到所述缓冲槽以清空所述缓冲槽的内部。
14.一种环境监测系统，其包括：
两个或更多个取样管总线，每一取样管总线包括多个个别取样管，每一取样管总线对应于一组工艺设备模块，其中取样管总线中的每一个别取样管适于流体耦合到对应组工艺设备模块中的工艺设备模块的腔室；
单个空气分子污染AMC监测装置，其经配置以流体耦合到所述两个或更多个取样管总线中的一者且与所述两个或更多个取样管总线中的一者解耦合，所述单个AMC监测装置包括：
歧管，其具有多个进口及一或多个出口，其中来自所述单个AMC监测装置所耦合到的所述取样管总线的每一个别取样管流体耦合到所述歧管的所述多个进口中的一者，
一或多个分析器，每一分析器流体耦合到所述歧管的所述一或多个出口的一者以分析通过所述多个个别取样管的一或多者抽取到所述歧管中的流体，及
控制及通信系统，其耦合到所述一或多个分析器；及
远程服务器，其无线地或通过导线通信耦合到所述控制及通信系统；
其中所述单个AMC监测装置是可移动的，以使得其能从其流体耦合到一个取样管总线的位置移动到其能流体耦合到另一个取样管总线的位置。
15.根据权利要求14所述的系统，其中每一工艺设备模块包含装载端口以接收携载所制造物品的可移动载具，且其中至少一个个别取样管流体耦合到每一装载端口以在所述可移动载具放置在所述装载端口上时对所述可移动载具内部的环境进行取样。
16.根据权利要求15所述的系统，其中个别取样管适于流体耦合到所述工艺设备模块的接口腔室、锁装载腔室及工艺腔室以对每一腔室内的环境进行取样。
17.根据权利要求14所述的系统，其进一步包括附接到所述单个AMC监测装置且流体耦合到所述单个AMC监测装置的至少一个个别取样管的装载端口。
18.根据权利要求14所述的系统，其中所述控制及通信系统无线地或通过导线通信耦合到远程服务器、通信耦合到所述至少一个工艺设备模块，或通信耦合到所述远程服务器及所述至少一个工艺设备模块两者。
19.根据权利要求14所述的系统，其中所述歧管包括：
进口管，其经由三通阀流体耦合到所述多个个别取样管中的每一者；
缓冲槽，其经由三通阀流体耦合到所述进口管；
多个出口管，每一出口管流体耦合到所述缓冲槽且每一出口管经由三通阀流体耦合到分析器；
清洁空气流入及清洁空气流出，其耦合到所述缓冲槽以清空所述缓冲槽的内部。
20.一种环境监测系统，其包括：
两个或更多个取样管总线，每一取样管总线包括多个个别取样管，每一取样管总线对应于至少一个工艺设备模块；
空气分子污染AMC监测装置，其经配置以流体耦合到所述两个或更多个取样管总线中的一者且与所述两个或更多个取样管总线中的一者解耦合，所述AMC监测装置包括：
歧管，其具有多个进口及一或多个出口，其中所述歧管的每一进口适于经由三通阀流体耦合到所述多个个别取样管中的一者，所述多个个别取样管中的所述一者流体耦合到所述至少一个工艺设备模块的一或多个腔室，
一或多个分析器，每一分析器流体耦合到所述歧管的所述一或多个出口的一者以分析通过所述多个个别取样管的一或多者抽取到所述歧管中的流体，及
控制及通信系统，其耦合到所述一或多个分析器；
远程服务器，其无线地或通过导线通信耦合到所述控制及通信系统；
AMC装载端口，其附接到所述AMC监测装置且流体耦合到所述歧管的至少一个进口，其中所述装载端口能接收可移动载具。
21.根据权利要求20所述的系统，其中每一工艺设备模块包含装载端口以接收携载所制造物品的可移动载具，且其中至少一个个别取样管流体耦合到每一装载端口以在所述可移动载具放置在所述装载端口上时对所述可移动载具内部的环境进行取样。
22.根据权利要求21所述的系统，其中个别取样管适于流体耦合到所述工艺设备模块的接口腔室、锁装载腔室及工艺腔室以对每一腔室内的环境进行取样。
23.根据权利要求20所述的系统，其中所述控制及通信系统无线地或通过导线通信耦合到远程服务器、通信耦合到所述至少一个工艺设备模块，或通信耦合到所述远程服务器及所述至少一个工艺设备模块两者。
24.根据权利要求20所述的系统，其中所述歧管包括：
进口管，其经由三通阀流体耦合到所述多个个别取样管中的每一者；
缓冲槽，其经由三通阀流体耦合到所述进口管；
多个出口管，每一出口管流体耦合到所述缓冲槽且每一出口管经由三通阀流体耦合到分析器；
清洁空气流入及清洁空气流出，其耦合到所述缓冲槽以清空所述缓冲槽的内部。
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