CN114015979A

CN114015979A - 蒸镀装置

Info

Publication number: CN114015979A
Application number: CN202111351670.4A
Authority: CN
Inventors: 佐藤功康; 前泽裕介
Original assignee: Canon Tokki Corp
Current assignee: Canon Tokki Corp
Priority date: 2017-11-30
Filing date: 2017-11-30
Publication date: 2022-02-08
Also published as: CN109852925A; CN109852925B

Abstract

本发明公开了一种蒸镀装置，使用掩模进行蒸镀，其具备：掩模箱，所述掩模箱用于承载多层掩模；以及掩模箱室，所述掩模箱室用于放置所述掩模箱，其中，所述蒸镀装置还具备对掩模箱的位置进行检测的位置检测系统，能够检测掩模箱在掩模箱室中的位置，从而使得掩模箱能够放置到正确的位置，由此确保掩模的位置正确。

Description

蒸镀装置

本申请是申请日为2017年11月30日、申请号为201711231759.0、发明创造名称为“蒸镀装置”的分案申请。

技术领域

本发明涉及一种蒸镀装置，具体涉及一种具有位置检测系统以准确判断掩模箱在掩模箱室中的位置是否正确的蒸镀装置。

背景技术

蒸镀装置在进行蒸镀作业时往往需要使用掩模。为了便于实现自动化和提高效率，可以利用掩模箱来承载多个掩模。掩模箱例如可从上方放入蒸镀装置的掩模箱室内，在需要时可借助于机械手等装置经掩模箱室的取放口取出掩模。

在蒸镀装置进行蒸镀时，掩模箱承载多层掩模，被从外部放入掩模箱室中，如果掩模箱在掩模箱室内部的位置不正确，则可能发生掩模无法经取放口取出的问题，由此会导致设备故障，严重影响生产效率。由于掩模相对于掩模箱的位置是固定的，因此，只要能保证掩模箱在掩模箱室中的位置正确，则掩模在掩模箱室中的正确位置就能得到保证。因此如何确认掩模箱在掩模箱室中的位置是否正确成为非常重要的课题。

发明内容

本发明正是为了解决上述问题而提出的，其主要目的在于提供一种判断掩模箱在掩模箱室中的位置是否正确的蒸镀装置。

为了实现上述目的，本发明采用的技术方案如下：

一种蒸镀装置，使用掩模进行蒸镀，其具备：

掩模箱，所述掩模箱用于承载多层掩模；以及

掩模箱室，所述掩模箱室用于放置所述掩模箱，

所述蒸镀装置的特征在于，

所述蒸镀装置还具备对所述掩模箱在所述掩模箱室中的位置进行检测的位置检测系统。

在蒸镀装置中，由于掩模相对于掩模箱的位置是固定的，因此，只要能保证掩模箱在掩模箱室中的位置正确，则掩模在掩模箱室中的正确位置就能得到保证。为此，本发明的蒸镀装置中设置了对掩模箱的位置进行检测的位置检测系统，能够检测掩模箱在掩模箱室中的位置，从而使得掩模箱能够放置到正确的位置，由此保证掩模的位置正确。

优选地，所述位置检测系统包括距离传感器，所述距离传感器以测距的方式对所述掩模箱的位置进行检测。

优选地，所述掩模箱上设置有圆柱状结构，所述距离传感器用于对所述圆柱状结构的外周面进行测距。

优选地，所述圆柱状结构为所述掩模箱的支承脚部。

优选地，所述掩模箱具有四个支承脚部，其中，所述距离传感器至少包括第一传感器和第二传感器，分别用于对位于对角线上的两个支承脚部进行测距。

优选地，所述支承脚部的下端面上设有定位孔，用于与位于下方的定位销相配合；

所述距离传感器配置成测头朝向所述定位销的轴线。

优选地，所述位置检测系统包括光传感器，所述光传感器以光是否被遮挡来对所述掩模箱的位置进行检测。

优选地，所述光传感器具有发光部和受光部，所述发光部和所述受光部分别设置在所述掩模箱室的两侧，使得所述掩模箱能够遮挡或者不遮挡所述发光部发向所述受光部的光。

优选地，当所述掩模箱在所述掩模箱室中置于正确的位置时，所述掩模箱使来自所述发光部的光通过而到达所述受光部；

当所述掩模箱在所述掩模箱室中置于错误的位置时，所述掩模箱遮挡所述发光部发向所述受光部的光。

优选地，所述掩模箱的侧壁包括遮光部和透光部，其中，所述遮光部与所述透光部彼此邻接；

当所述掩模箱在所述掩模箱室中置于正确的位置时，所述透光部位于所述发光部和所述受光部之间；

当所述掩模箱在所述掩模箱室中置于错误的位置时，所述遮光部位于所述发光部和所述受光部之间。

优选地，所述透光部为所述侧壁上的孔；

或者，所述掩模箱为框架结构，所述侧壁包括彼此隔开的多个立柱，所述透光部为其中的一个立柱上的孔。

优选地，当所述掩模箱在所述掩模箱室中置于正确的位置时，所述掩模箱遮挡所述发光部发向所述受光部的光；

当所述掩模箱在所述掩模箱室中置于错误的位置时，所述掩模箱使来自所述发光部的光通过而到达所述受光部。

当所述掩模箱在所述掩模箱室中置于正确的位置时，所述遮光部位于所述发光部和所述受光部之间；

当所述掩模箱在所述掩模箱室中置于错误的位置时，所述透光部位于所述发光部和所述受光部之间。

优选地，所述掩模箱为框架结构，所述侧壁包括彼此隔开的多个立柱，所述遮光部为其中的一个立柱。

根据本发明的蒸镀装置，由于设置了对掩模箱在掩模箱室中的位置是否正确进行检测的位置检测系统，因此能够检测掩模箱在掩模箱室中的位置，在检测到位置不正确时，能及时调整掩模箱的位置，将掩模箱调整至正确的位置，由此能够保证掩模的位置正确而准确地将其从掩模箱室中取出。

附图说明

图1为本发明的蒸镀装置的局部结构的主视示意图；

图2为图1的蒸镀装置的局部结构的侧视示意图；

图3示出第二升降机构从上方将掩模箱向掩模箱室中放置时的状态；

图4示出掩模箱放置到掩模箱台座上时的状态；

图5为本发明的蒸镀装置中的掩模箱的主视示意图；

图6为图5的掩模箱的侧视示意图；

图7为图5的掩模箱的后视示意图；

图8为图6的俯视示意图；

图9为图6的仰视示意图；

图10为本发明的第一实施方式的蒸镀装置中距离传感器的设置方式示意图；

图11为本发明的第一实施方式的蒸镀装置中检测掩模箱位置是否正确的示意图，其中，(A)为掩模箱位置正确时距离传感器的检测示意图；(B)为掩模箱在X方向上存在位置偏离时距离传感器的检测示意图；(C)为掩模箱在Y方向上存在位置偏离时距离传感器的检测示意图；

图12为本发明的第一实施方式的蒸镀装置中距离传感器的一个检测实例示意图，其中，(A)为掩模箱的支承脚部与定位销配合之前的状态，(B)为掩模箱的支承脚部与定位销配合之后的状态；

图13为本发明的第一实施方式的蒸镀装置中距离传感器的另一个检测实例示意图；

图14为本发明的第二实施方式的蒸镀装置中光传感器的一个检测实例示意图，其中，(A)为在沿着发光部发出的光线的方向上看时的示意图；(B)为在垂直于发光部发出的光线的方向上看时的示意图。

具体实施方式

图1和图2示出了本发明的蒸镀装置的局部结构，该蒸镀装置使用掩模进行蒸镀。该蒸镀装置具备掩模箱100和掩模箱室200，其中，掩模箱100用于承载多层掩模(未示出)，掩模箱室200中设置有掩模箱台座201，掩模箱台座201是可升降的，掩模箱100放置在掩模箱室200中，例如放置在掩模箱台座201上，或者叠放在另一掩模箱100上(如图1-2所示，掩模箱室200中上下叠置地放置有两个掩模箱100，当然，也可以放置更多的掩模箱100)。

该蒸镀装置在工作过程中，会根据需要从掩模箱100中依次取出掩模，以用于在基板(未示出)上成膜。

掩模箱室200的顶部设有开口，用于从上方搬入掩模箱100。如图2所示，为使掩模箱室200的内部能够与外部良好地隔绝，掩模箱室200配置有第一开关机构202(例如闸阀)，以便封闭所述开口。当第一开关机构202关闭时，掩模箱室200的内部(也即第一开关机构202的下部空间)便与外部(也即第一开关机构202的上部空间)隔绝，于是，掩模箱室200的内部可以抽真空而构成真空侧，外部则为大气侧。在本发明中，将第一开关机构202上方的掩模箱室200的部分称为掩模箱室大气侧部，将第一开关机构202下方的掩模箱室200的部分称为掩模箱室真空侧部。

如图2所示，掩模箱室200的侧壁上(优选在前侧壁上)设置有取放口203，掩模箱100中的掩模可以依次地经由该取放口203取出，例如借助于机械手(未示出)取出，在取出的过程中，掩模箱台座201可以升降，以保证需要取出的掩模位于取出口203的高度范围内。如图2所示，为使掩模箱室200的内部能够与外部良好地隔绝，掩模箱室200还配置有第二开关机构204(例如闸阀)，以封闭所述取放口203。当第二开关机构204关闭时，掩模箱室200的内部(也即掩模箱室真空侧部)便与外部(也即第二开关机构的外部侧)隔绝，于是，掩模箱室200的内部可以抽真空而构成真空侧。

另外，本发明的掩模箱100的详细结构如图5-9所示。掩模箱100为框架式结构，包括底板101、顶板102和立柱103、105，多个立柱103、105将底板101和顶板102连接成箱状结构。掩模箱100的各个侧壁为敞开式结构，例如，两端的侧壁仅包括位于边角的立柱103，而两侧的侧壁则可以包括位于边角的立柱103和一个以上位于中间(也即设置在位于边角的两个立柱103之间)的立柱105，相邻的立柱之间为敞开区域。

掩模箱100内设置有掩模承载结构104，用于承载掩模并对掩模进行定位。优选地，掩模箱100内设置有多层掩模承载结构104，从而可同时承载多个掩模。如图5-7所示，掩模承载结构104为条形构件，沿长度方向固定在掩模箱100内部两侧，例如固定至两侧的多个立柱103和105上，从而掩模可从掩模箱100的一端的敞开区域插入掩模箱100中或从中取出。

另外，如图3和图4所示，所述掩模箱室200的内部设有第一升降机构206和前述的掩模箱台座201，第一升降机构206用于驱动掩模箱台座201升降，掩模箱台座201则用于承载并升降掩模箱100。由于第一升降机构206设置在掩模箱室200的真空侧，因而可称为真空侧升降机构。

如图3和图4所示，蒸镀装置还具备第二升降机构207，用于从上方将掩模箱100放置到掩模箱室200的真空侧，例如放置在掩模箱台座201上，或者放置在掩模箱台座201上已有的掩模箱100上。第二升降机构207位于掩模箱室200的大气侧，因而可称为大气侧升降机构。

另外，如图5-7所示，掩模箱100的顶部设有钩挂部件108，例如为方形吊环结构，用于钩挂在第二升降机构207上。如图3和图4所示，所述第二升降机构207上设有承载部件208，承载部件208与钩挂部件108配合，以承载掩模箱100。

本发明的蒸镀装置不局限于上述结构，只要其包括掩模箱室200和掩模箱100即可。

具体地，本发明的蒸镀装置具备：

掩模箱100，所述掩模箱100用于承载多层掩模；以及掩模箱室200，所述掩模箱室200用于放置所述掩模箱100；

所述蒸镀装置还具备对所述掩模箱100在所述掩模箱室200中的位置进行检测的位置检测系统，以检测所述掩模箱100是否处于正确的位置，从而保证所述多层掩模在所述掩模箱室200中的位置正确。

由于掩模相对于掩模箱100的位置是固定的，因此，只要能保证掩模箱100在掩模箱室200中的位置正确，则掩模在掩模箱室200中的正确位置就能得到保证。为此，本发明的蒸镀装置中设置了对掩模箱100的位置进行检测的位置检测系统，能够检测掩模箱100在掩模箱室200中的位置，从而使得掩模箱100能够放置到正确的位置，由此保证掩模的位置正确。

下面根据附图对本发明的蒸镀装置的具体实施方式进行说明。

(第一实施方式)

所述位置检测系统包括距离传感器210，所述距离传感器210以测距的方式对所述掩模箱100的位置进行检测。

距离传感器210可以检测掩模箱100与距离传感器210之间的距离，从而判断掩模箱100的水平位置是否正确。再例如，距离传感器210可以检测掩模箱100与掩模箱室200的特定结构之间的距离，从而判断掩模箱100的位置是否正确。当检测到掩模箱100的位置不正确时，便可及时对其进行调整，直至调整到正确位置为止。

在本发明中，距离传感器210可采用红外距离传感器或激光距离传感器，其一方面发出红外光或激光照射到目标物上，另一方面接收目标物反射回来的光以确定距离。

如图4-7所示，掩模箱100上设置有圆柱状结构106，距离传感器210用于对圆柱状结构106的外周面进行测距。因圆柱状结构106的外周面为圆柱面，当距离传感器210的测头朝向圆柱状结构106的外周面上的一点时，圆柱状结构106在其径向上朝任何方向(如水平方向上朝X方向或者Y方向)发生位置偏离，距离传感器210的测头所指向的外周面上的一点的位置都会改变，因而距离传感器210所测出的距离都是不同的，因此，本实施方式的检测方式能够在减少传感器数量的前提下达到需要的检测精度。

如图11的(A)所示，当圆柱状结构106处于正确位置时，距离传感器210的测头朝向圆柱状结构106的轴线，以红外距离传感器为例，其发出的红外光照射到圆柱状结构106的外周面上，便可以测量出圆柱状结构106的外周面上的光斑到距离传感器210的距离。如图11的(B)所示，当圆柱状结构106沿着距离传感器210的测量方向(如X方向)发生位置偏离时，假设偏离量为N1，由于此时距离传感器210的测头仍朝向圆柱状结构106的轴线，因此距离传感器210能够检测出圆柱状结构106的外周面上光斑的距离变化量也为N1。如图11的(C)所示，当圆柱状结构106沿着与距离传感器210的测量方向垂直的方向(如Y方向)发生位置偏离时，假设偏离量也为N1，由于此时距离传感器210的测头不再朝向圆柱状结构106的轴线，因此，距离传感器210能够检测出圆柱状结构106的外周面上光斑的距离变化量为N2。可见，无论圆柱状结构106朝哪个方向发生位置偏离，距离传感器210都能以测距的方式将这种偏离准确检测出来。

另外，如图4-7所示，本发明的圆柱状结构106可以为掩模箱100的支承脚部，也即，设置在掩模箱100的底板101下方的圆柱状结构用于支承掩模箱100。

支承脚部的下端面上设有定位孔(图中未示出)，用于与位于下方的定位销205(参见图12和图13)相配合，其中，定位销205设置在掩模箱台座201上。在这种情况下，定位销205可用作距离传感器210的参考基准。如图12的(A)所示，距离传感器210到相应的定位销205的距离L1例如是已知且固定的。如图12的(B)所示，当L1＝L2+(支承脚部的半径-固定销的半径)时，表明相应的支承脚部的位置是正确的。当距离传感器210检测到至少两个支承脚部的位置均正确时，则掩模箱100的位置是正确的。

另外，如图4所示，距离传感器210设置在掩模箱室200的真空侧部的侧壁上，其距离掩模箱室200的大气侧部与真空侧部的分界面的距离小于掩模箱100的高度，并且测头方向朝向掩模箱室200的内部。由此，在掩模箱100还未全部进入掩模箱室200的真空侧部时，就能够通过距离传感器210检测出掩模箱100的位置是否正确，从而可以在掩模箱100继续下降的过程中同时对其位置进行调整，提高了装置的运行效率。

另外，如图9和图10所示，掩模箱100具有四个支承脚部，其中，距离传感器210至少包括第一传感器210a和第二传感器210b，分别用于对位于对角线上的两个支承脚部进行测距。采用两个传感器的组合，能够有效检测出掩模箱100在各个方向上的位置偏差。

另外，如图13所示，当掩模箱100通过定位销205进行限位时，例如掩模箱100安置在掩模箱台座201上时，如果发生安置不到位的情况，如一端的定位销205与定位孔完全配合到位、而另一端的定位销205没有完全插入定位孔中的情形，则掩模箱100会出现一端浮起的异常情形，例如浮起高度为H，则掩模箱100的底板101将与水平面(或者掩模箱台座201的上表面)之间产生夹角θ，而支承脚部的轴线也相对于竖直方向产生夹角θ。这种情况下，距离传感器210沿水平方向发出的光照射到支承脚部的外周面后，经外周面反射的光将与水平方向产生夹角而不能回到测距传感器210，因此，测距传感器210无法测出实际距离，由此也能判断出上述异常情况。而在正常的情况下，即掩模箱100的两端均没有浮起时，测距传感器210发出的光照射到支承脚部的外周面后，经外周面反射的光能够回到测距传感器210，因此，测距传感器210能够测出实际距离。

(第二实施方式)

下面根据图1、图2、图3、图14所示，对本发明的第二实施方式进行说明。

在本发明的第二实施方式中，所述位置检测系统包括光传感器220，以发射和接收光的方式对掩模箱100的位置偏离进行检测。例如，光传感器220可以通过检测掩模箱100的某个部位是否遮挡了光传感器220发出的光来判断掩模箱100的位置是否正确。

需要说明的是，虽然在图示中光传感器设置在掩模箱室200的大气侧部，但光传感器也可以设置在真空侧部。

如图1、图3和图14所示，光传感器220具有发光部221和受光部222。发光部221和受光部222分别设置在掩模箱室200的两侧，如图1和图3所示，使得掩模箱100能够遮挡或者不遮挡发光部221发向受光部222的光。于是，光传感器220可以通过掩模箱100是否遮挡来自发光部221的光来判断掩模箱100是否处于正确位置。

在图1和图3中，光传感器220的两个组成部分即发光部221和受光部222可以相互交换位置。

在该实施方式中，当掩模箱100在掩模箱室200中置于正确的位置时，掩模箱100使来自发光部221的光通过而到达受光部222；而当掩模箱100在掩模箱室200中置于错误的位置时，掩模箱100遮挡发光部221发向受光部222的光。因此，在具体工作时，只要受光部222接收不到发光部221发出的光，便可判断掩模箱100的位置不正确，需要对其进行调整。

掩模箱的侧壁可以包括遮光部(例如不透光的实体部分)和透光部(例如挖空部分或者透光的实体部分)，其中，遮光部与透光部彼此邻接。当掩模箱100在掩模箱室200中置于正确的位置时，透光部位于发光部221和受光部222之间；而当掩模箱100在掩模箱室200中置于错误的位置时，遮光部位于发光部221和受光部222之间。在本实施方式中，需要精确设置透光部的尺寸，而遮光部的尺寸则没有限制。

另外，透光部可以是掩模箱100的侧壁上的孔，而所述孔之外的部位则构成遮光部。

另外，如前所述，掩模箱100也可以为框架结构，其侧壁包括彼此隔开的多个立柱103、105，此时，透光部可以是其中的一个立柱(如立柱105)上的孔107(如图6所示)。本实施方式的检测过程例如可参见图14。其中，图14的(A)从正面(即迎着光线方向)示出了发光部221发出的光透过立柱105上的孔107(即透光部)的状态，图14的(B)则从侧面示出了发光部221发出的光透过立柱105上的孔107(即透光部)到达受光部222的状态。由于孔107的尺寸是确定的，只有当发光部221和受光部222均正对孔107时，光线才会不受阻地到达受光部222，此时掩模箱100的位置才是正确的。

由于掩模箱100具有确定的宽度，为提高检测精度，在位于掩模箱100两侧的彼此相对的两个立柱105上均设置孔107，并且使得两个立柱105上的孔107同轴，这样，在掩模箱100位置正确的情况下，发光部221发出的光可以透过两个立柱105上孔107而到达受光部222，如图3所示。

为避免掩模或掩模承载结构104遮挡来自发光部221的光线，如图6和图3所示，孔107在高度方向上介于两层掩模承载结构104之间，从而光线可从两层掩模之间穿过掩模箱100。

作为该实施方式的一种变形例，也可以进行如下设置。当掩模箱100在掩模箱室200中置于正确的位置时，掩模箱100遮挡发光部221发向受光部222的光；而当掩模箱100在掩模箱室200中置于错误的位置时，掩模箱100使来自发光部221的光通过而到达受光部222。因此，在具体工作时，只要受光部222接收到发光部221发出的光，便可判断掩模箱100的位置不正确，需要对掩模箱100的位置进行调整。

另外，掩模箱100的侧壁也可包括遮光部(例如不透光的实体部分)和透光部(例如挖空部分或者透光的实体部分)，其中，遮光部与透光部彼此邻接。当掩模箱100在掩模箱室200中置于正确的位置时，遮光部位于发光部221和受光部222之间，从而能够有效遮挡发光部221发向受光部222的光。而当掩模箱100在掩模箱室200中置于错误的位置时，透光部位于发光部221和受光部222之间，从而可使光顺利地从发光部221到达受光部222。在本实施方式中，需要精确设置遮光部的尺寸，而透光部的尺寸则没有限制。

另外，如前所述，掩模箱100为可以为框架结构，其侧壁包括彼此隔开的多个立柱103、105，此时，遮光部可以为其中的一个立柱，例如立柱105，而立柱105两边的敞开区域即可用作透光部。

在具体工作时，首先，如图3所示，第二升降机构207接收从掩模箱室200的上方搬入的掩模箱100，并将掩模箱100放入掩模箱室200中，交接给第一升降机构206，然后将掩模箱100放置在掩模箱台座201上、或者放置在掩模箱台座201上已有的掩模箱100上。如图4所示，当掩模箱100被交接给第一升降机构206后，位置检测系统可以检测掩模箱100的位置是否正确，如发现掩模箱100的位置不正确，则可以对其位置进行调整，直至掩模箱100的位置正确为止。

通过设置距离传感器210在高度方向上的位置，距离传感器还可以用于检测掩模箱100是否放置到第一升降机构206上。例如，当第一升降机构206上升到最高位置(也即接收掩模箱100的位置)时，距离传感器210的测头对准掩模箱台座201上的定位销205，并检测出测头到定位销205的距离L1，随着掩模箱100的交接完成，距离传感器210的测头将对准掩模箱100的支承脚部，并检测出测头到支承脚部的距离L2。无论掩模箱100的位置是否正确，距离L1和距离L2总是不相等的，因此，在检测到距离由L1变为L2后，即可认为掩模箱100已经放置到第一升降机构206上。

另外，如图5-8所示，掩模箱100的顶部设有定位销109，例如设置在掩模箱100的顶板102的四个角部，用于在两层以上的掩模箱100叠置时对位于上层的掩模箱100进行定位。容易理解，定位销109与对应的支承脚部(或其中的定位孔)同轴。

显然，上述两种检测方式都能检测出掩模箱100的位置是否正确。容易理解，当上述两种检测方式相互叠加地使用时，检测效果更好，检测结果也更可靠，特别是可以分阶段地进行检测，从而可减小调整工作量。

需要说明的是，以上实施方式均是本发明优选的实施方式，对本发明并没有限定作用。例如，在本发明中，当光传感器被设置在掩模箱室的真空侧时，可以在掩模箱室的外部或大气侧设置第二光传感器(未图示)，可以用于检测掩模箱100是否被搬入掩模箱室200或掩模箱室200的真空侧部，例如，在发光部发出的光线被遮挡时，可以判断掩模箱100被搬入。

应当理解，上述的实施方式仅是示例性的，而非限制性的，在不偏离本发明的基本原理的情况下，本领域的技术人员针对上述细节做出的各种明显的或等同的修改或替换都将包含于本发明的权利要求范围内。

Claims

1.一种蒸镀装置，使用掩模进行蒸镀，其具备：

掩模箱(100)，所述掩模箱(100)用于承载多层掩模；以及

掩模箱室(200)，所述掩模箱室(200)用于放置所述掩模箱(100)，

所述蒸镀装置的特征在于，

所述蒸镀装置还具备对所述掩模箱(100)在所述掩模箱室(200)中的位置进行检测的位置检测系统。

2.根据权利要求1所述的蒸镀装置，其特征在于，

所述位置检测系统包括距离传感器(210)，所述距离传感器(210)以测距的方式对所述掩模箱(100)的位置进行检测。

3.根据权利要求2所述的蒸镀装置，其特征在于，

所述掩模箱(100)上设置有圆柱状结构(106)，所述距离传感器(210)用于对所述圆柱状结构(106)的外周面进行测距。

4.根据权利要求3所述的蒸镀装置，其特征在于，

所述圆柱状结构(106)为所述掩模箱(100)的支承脚部。

5.根据权利要求4所述的蒸镀装置，其特征在于，

所述掩模箱(100)具有四个支承脚部，其中，所述距离传感器(210)至少包括第一传感器(210a)和第二传感器(210b)，分别用于对位于对角线上的两个支承脚部进行测距。

6.根据权利要求5所述的蒸镀装置，其特征在于，

所述支承脚部的下端面上设有定位孔，用于与位于下方的定位销(205)相配合；

所述距离传感器(210)配置成测头朝向所述定位销(205)的轴线。

7.根据权利要求1或2所述的蒸镀装置，其特征在于，

所述位置检测系统包括光传感器(220)，所述光传感器(220)以光是否被遮挡来对所述掩模箱(100)的位置进行检测。

8.根据权利要求7所述的蒸镀装置，其特征在于，

所述光传感器(220)具有发光部(221)和受光部(222)，所述发光部(221)和所述受光部(222)分别设置在所述掩模箱室(200)的两侧，使得所述掩模箱(100)能够遮挡或者不遮挡所述发光部(221)发向所述受光部(222)的光。

9.根据权利要求8所述的蒸镀装置，其特征在于，

当所述掩模箱(100)在所述掩模箱室(200)中置于正确的位置时，所述掩模箱(100)使来自所述发光部(221)的光通过而到达所述受光部(222)；

当所述掩模箱(100)在所述掩模箱室(200)中置于错误的位置时，所述掩模箱(100)遮挡所述发光部(221)发向所述受光部(222)的光。

10.根据权利要求9所述的蒸镀装置，其特征在于，

所述掩模箱(100)的侧壁包括遮光部和透光部，其中，所述遮光部与所述透光部彼此邻接；

当所述掩模箱(100)在所述掩模箱室(200)中置于正确的位置时，所述透光部位于所述发光部(221)和所述受光部(222)之间；

当所述掩模箱(100)在所述掩模箱室(200)中置于错误的位置时，所述遮光部位于所述发光部(221)和所述受光部(222)之间。

11.根据权利要求10所述的蒸镀装置，其特征在于，

所述透光部为所述侧壁上的孔(107)；

或者，所述掩模箱(100)为框架结构，所述侧壁包括彼此隔开的多个立柱，所述透光部为其中的一个立柱上的孔。

12.根据权利要求8所述的蒸镀装置，其特征在于，

当所述掩模箱(100)在所述掩模箱室(200)中置于正确的位置时，所述掩模箱(100)遮挡所述发光部(221)发向所述受光部(222)的光；

当所述掩模箱(100)在所述掩模箱室(200)中置于错误的位置时，所述掩模箱(100)使来自所述发光部(221)的光通过而到达所述受光部(222)。

13.根据权利要求12所述的蒸镀装置，其特征在于，

当所述掩模箱(100)在所述掩模箱室(200)中置于正确的位置时，所述遮光部位于所述发光部(221)和所述受光部(222)之间；

当所述掩模箱(100)在所述掩模箱室(200)中置于错误的位置时，所述透光部位于所述发光部(221)和所述受光部(222)之间。

14.根据权利要求13所述的蒸镀装置，其特征在于，

所述掩模箱(100)为框架结构，所述侧壁包括彼此隔开的多个立柱，所述遮光部为其中的一个立柱。