CN113999960B - 一种改善高纯铝靶材内部组织的工艺方法 - Google Patents
一种改善高纯铝靶材内部组织的工艺方法 Download PDFInfo
- Publication number
- CN113999960B CN113999960B CN202111256311.0A CN202111256311A CN113999960B CN 113999960 B CN113999960 B CN 113999960B CN 202111256311 A CN202111256311 A CN 202111256311A CN 113999960 B CN113999960 B CN 113999960B
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- treatment
- heat treatment
- blank
- forging
- purity aluminum
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 56
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract description 35
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 title claims abstract description 35
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims abstract description 61
- 238000005242 forging Methods 0.000 claims abstract description 52
- 230000003068 static effect Effects 0.000 claims abstract description 7
- 238000005096 rolling process Methods 0.000 claims description 15
- 239000013077 target material Substances 0.000 claims description 6
- 238000003466 welding Methods 0.000 abstract description 9
- 230000007547 defect Effects 0.000 abstract description 4
- 238000003490 calendering Methods 0.000 abstract description 2
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 15
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 6
- 238000003801 milling Methods 0.000 description 6
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical group [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 230000002706 hydrostatic effect Effects 0.000 description 5
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 5
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 4
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 3
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000000137 annealing Methods 0.000 description 2
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000007872 degassing Methods 0.000 description 2
- 230000005684 electric field Effects 0.000 description 2
- 238000005098 hot rolling Methods 0.000 description 2
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 2
- 238000004321 preservation Methods 0.000 description 2
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 2
- 239000002002 slurry Substances 0.000 description 2
- -1 argon ions Chemical class 0.000 description 1
- 230000009286 beneficial effect Effects 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- 239000001307 helium Substances 0.000 description 1
- 229910052734 helium Inorganic materials 0.000 description 1
- SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N helium atom Chemical compound [He] SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001513 hot isostatic pressing Methods 0.000 description 1
- 238000007689 inspection Methods 0.000 description 1
- 238000001755 magnetron sputter deposition Methods 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000007935 neutral effect Effects 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 230000002441 reversible effect Effects 0.000 description 1
- 239000000523 sample Substances 0.000 description 1
- 238000010008 shearing Methods 0.000 description 1
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 1
- 238000006467 substitution reaction Methods 0.000 description 1
- 230000003746 surface roughness Effects 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C21—METALLURGY OF IRON
- C21D—MODIFYING THE PHYSICAL STRUCTURE OF FERROUS METALS; GENERAL DEVICES FOR HEAT TREATMENT OF FERROUS OR NON-FERROUS METALS OR ALLOYS; MAKING METAL MALLEABLE, e.g. BY DECARBURISATION OR TEMPERING
- C21D8/00—Modifying the physical properties by deformation combined with, or followed by, heat treatment
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B21—MECHANICAL METAL-WORKING WITHOUT ESSENTIALLY REMOVING MATERIAL; PUNCHING METAL
- B21J—FORGING; HAMMERING; PRESSING METAL; RIVETING; FORGE FURNACES
- B21J5/00—Methods for forging, hammering, or pressing; Special equipment or accessories therefor
- B21J5/002—Hybrid process, e.g. forging following casting
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C22—METALLURGY; FERROUS OR NON-FERROUS ALLOYS; TREATMENT OF ALLOYS OR NON-FERROUS METALS
- C22F—CHANGING THE PHYSICAL STRUCTURE OF NON-FERROUS METALS AND NON-FERROUS ALLOYS
- C22F1/00—Changing the physical structure of non-ferrous metals or alloys by heat treatment or by hot or cold working
- C22F1/04—Changing the physical structure of non-ferrous metals or alloys by heat treatment or by hot or cold working of aluminium or alloys based thereon
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/34—Sputtering
- C23C14/3407—Cathode assembly for sputtering apparatus, e.g. Target
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/34—Sputtering
- C23C14/35—Sputtering by application of a magnetic field, e.g. magnetron sputtering
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Thermal Sciences (AREA)
- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Forging (AREA)
Abstract
本发明提供一种改善高纯铝靶材内部组织的工艺方法，所述工艺方法包括对坯料依次进行的第一锻伸处理、第一热处理、第二锻伸处理、第三锻伸处理、第二热处理、静压处理、压延处理以及第三热处理。所述工艺方法可以减少高纯铝靶材内部缺陷，细化内部晶粒，提高晶粒均匀度，从而提高高纯铝靶材的焊接性能。
Description
技术领域
本发明属于靶材制造领域，涉及一种改善高纯铝靶材内部组织的工艺方法。
背景技术
磁控溅射是电子在电场的作用下加速飞向基片的过程中与氩原子发生碰撞，电离出大量的氩原子和电子，电子飞向基片，氩离子在电场的作用下加速轰击溅射基台上的靶材组件上的靶材，溅射出大量的靶材原子，呈中性的靶材原子(或分子)沉积在基板上成膜，而最终达到对基板表面镀膜的目的。
CN106282945A公开了一种超高纯铝靶材的制备方法，包括以下步骤：(1)将纯度大于99.999wt％的超高纯铝铸锭进行表面铣削，去除表面的氧化层；(2)将铸锭加热至230～400℃；(3)将加热后的铸锭进行10～20道次的热轧，单道次压下量控制在20～60mm，控制最后道次的终轧温度在350℃以下；(4)对完成热轧的铝板进行温度为200～300℃，保温时间为1～2h的退火处理；(5)对板材矫平后进行铣削加工，获得平均晶粒在80～150um的超高纯铝靶材。
CN106947926A一种大尺寸高纯铝靶材的制备方法，1)将高纯铝铸锭进行表面铣削去除表面的氧化层；2)将铸锭放入加热至230～400℃；3)在热粗轧机上进行轧制；保证单道次压下量在20～60mm，将板坯厚度轧制至40～80mm，将板坯剪切为宽幅靶材所需的长度，如700mm长，自然冷却；4)将冷却后的板坯再次加热，加热温度200～350℃，保温时间1h；5)在可逆式轧机上进行横向轧制，进行1道次轧至成品厚度；6)对板材进行200～350℃，保温时间1～2h的退火；7)板材矫平后铣削加工，获得晶粒在70～120um的高纯铝靶材。
发明内容
为解决上述技术问题，本发明提供一种改善高纯铝靶材内部组织的工艺方法，所述工艺方法可以减少高纯铝靶材内部缺陷，细化内部晶粒，提高晶粒均匀度，从而提高高纯铝靶材的焊接性能。
为达到上述技术效果，本发明采用以下技术方案：
本发明提供一种改善高纯铝靶材内部组织的工艺方法，所述工艺方法包括对坯料依次进行的第一锻伸处理、第一热处理、第二锻伸处理、第三锻伸处理、第二热处理、静压处理、压延处理以及第三热处理。
本发明中，所述第一锻伸处理前，可先采用切断处理浆坯料加工至所需尺寸，再进行铣R角处理，R角铣面4～6mm。
作为本发明优选的技术方案，所述第一锻伸处理为将所述坯料拔长至原高度的180～220％，再镦粗至高度。例如可以拔长至原高度的185％、190％、195％、200％、205％、210％或215％等，但并不仅限于所列举的数值，该数值范围内其他未列举的数值同样适用。
优选地，所述第一锻伸处理重复至少2次，如3次、4次或5次等，但并不仅限于所列举的数值，该数值范围内其他未列举的数值同样适用。
作为本发明优选的技术方案，所述第一热处理的温度为345～355℃，如346℃、347℃、348℃、349℃、350℃、351℃、352℃、353℃或354℃等，但并不仅限于所列举的数值，该数值范围内其他未列举的数值同样适用。
优选地，所述第一热处理的时间为55～65min，如56min、57min、58min、59min、60min、61min、62min、63min或64min等，但并不仅限于所列举的数值，该数值范围内其他未列举的数值同样适用。
作为本发明优选的技术方案，所述第二锻伸处理为所述坯料镦粗至原长度的45～55％，再拔长至原长度。例如可以镦粗至原长度的46％、47％、48％、49％、50％、51％、52％、53％或54％等，但并不仅限于所列举的数值，该数值范围内其他未列举的数值同样适用。
优选地，所述第二锻伸处理重复至少2次，如3次、4次或5次等，但并不仅限于所列举的数值，该数值范围内其他未列举的数值同样适用。
作为本发明优选的技术方案，所述第三锻伸处理为将所述坯料锻打至直径为原宽度85～95％的圆柱体，如86％、87％、88％、89％、90％、91％、92％、93％或94％等，但并不仅限于所列举的数值，该数值范围内其他未列举的数值同样适用。
作为本发明优选的技术方案，所述第二热处理的温度为345～355℃，如346℃、347℃、348℃、349℃、350℃、351℃、352℃、353℃或354℃等，但并不仅限于所列举的数值，该数值范围内其他未列举的数值同样适用。
优选地，所述第二热处理的时间为55～65min，如56min、57min、58min、59min、60min、61min、62min、63min或64min等，但并不仅限于所列举的数值，该数值范围内其他未列举的数值同样适用。
本发明中，第二热处理后可先采用切断处理浆坯料调整至适宜尺寸。
作为本发明优选的技术方案，所述静压处理将所述坯料压制至原长度的25～30％，如25.5％、26％、26.5％、27％、27.5％、28％、28.5％、29％或29.5％等，但并不仅限于所列举的数值，该数值范围内其他未列举的数值同样适用。
作为本发明优选的技术方案，所述压延处理将所述坯料压制至原长度的5～7.5％，如5.2％、5.5％、5.8％、6.0％、6.2％、6.5％、6.8％、7.0％、7.2％或7.4％等，但并不仅限于所列举的数值，该数值范围内其他未列举的数值同样适用。
作为本发明优选的技术方案，所述第三热处理的温度为195～205℃，如196℃、197℃、198℃、199℃、200℃、201℃、202℃、203℃或204℃等，但并不仅限于所列举的数值，该数值范围内其他未列举的数值同样适用。
优选地，所述第三热处理的时间为25～35min，如26min、27min、28min、29min、30min、31min、32min、33min或34min等，但并不仅限于所列举的数值，该数值范围内其他未列举的数值同样适用。
本发明中，第一锻伸处理、第二锻伸处理以及第三锻伸处理均可在加热条件下进行，且锻伸完成后可采用水冷对坯料进行冷却。
本发明中，第一热处理、第二热处理以及第三热处理后可采用水冷对坯料进行冷却。
本发明中，所述第三锻伸处理后还可进行油压机校平处理，使得靶材平面度≤1mm；还可进行车削处理，使得靶材表面粗糙度Ra≤0.8μm。
作为本发明优选的技术方案，所述改善高纯铝靶材内部组织的工艺方法包括对坯料依次进行：
第一锻伸处理，所述第一锻伸处理为将所述坯料拔长至原高度的180～220％，再镦粗至高度，重复至少2次；
第一热处理，所述第一热处理的温度为345～355℃，时间为55～65min；
第二锻伸处理，所述第二锻伸处理为所述坯料镦粗至原长度的45～55％，再拔长至原长度，所述第二锻伸处理重复至少2次；
第三锻伸处理，所述第三锻伸处理为将所述坯料锻打至直径为原宽度85～95％的圆柱体；
第二热处理，所述第二热处理的温度为345～355℃，时间为55～65min；
静压处理，所述静压处理将所述坯料压制至原长度的25～30％；
压延处理，所述压延处理将所述坯料压制至原长度的5～7.5％；
第三热处理，所述第三热处理的温度为195～205℃，时间为25～35min。
与现有技术相比，本发明至少具有以下有益效果：
本发明提供一种改善高纯铝靶材内部组织的工艺方法，所述工艺方法可以减少高纯铝靶材内部缺陷，细化内部晶粒，提高晶粒均匀度，从而提高高纯铝靶材的焊接性能。
具体实施方式
为便于理解本发明，本发明列举实施例如下。本领域技术人员应该明了，所述实施例仅仅是帮助理解本发明，不应视为对本发明的具体限制。
实施例1
本实施例提供一种改善高纯铝靶材内部组织的工艺方法，所述工艺方法包括对坯料依次进行：
第一锻伸处理，所述第一锻伸处理为将所述坯料拔长至原高度的180％，再镦粗至高度，重复2次；
第一热处理，所述第一热处理的温度为345℃，时间为65min；
第二锻伸处理，所述第二锻伸处理为所述坯料镦粗至原长度的45％，再拔长至原长度，所述第二锻伸处理重复2次；
第三锻伸处理，所述第三锻伸处理为将所述坯料锻打至直径为原宽度85％的圆柱体；
第二热处理，所述第二热处理的温度为345℃，时间为65min；
静压处理，所述静压处理将所述坯料压制至原长度的25％；
压延处理，所述压延处理将所述坯料压制至原长度的5％；
第三热处理，所述第三热处理的温度为195℃，时间为35min。
实施例2
本实施例提供一种改善高纯铝靶材内部组织的工艺方法，所述工艺方法包括对坯料依次进行：
第一锻伸处理,所述第一锻伸处理为将所述坯料拔长至原高度的220％，再镦粗至高度，重复3次；
第一热处理，所述第一热处理的温度为355℃，时间为55min；
第二锻伸处理，所述第二锻伸处理为所述坯料镦粗至原长度的55％，再拔长至原长度，所述第二锻伸处理重复3次；
第三锻伸处理，所述第三锻伸处理为将所述坯料锻打至直径为原宽度95％的圆柱体；
第二热处理，所述第二热处理的温度为355℃，时间为55min；
静压处理，所述静压处理将所述坯料压制至原长度的30％；
压延处理，所述压延处理将所述坯料压制至原长度的7.5％；
第三热处理，所述第三热处理的温度为205℃，时间为25min。
实施例3
本实施例提供一种改善高纯铝靶材内部组织的工艺方法，所述工艺方法包括对坯料依次进行：
第一锻伸处理,所述第一锻伸处理为将所述坯料拔长至原高度的190％，再镦粗至高度，重复2次；
第一热处理，所述第一热处理的温度为348℃，时间为62min；
第二锻伸处理，所述第二锻伸处理为所述坯料镦粗至原长度的48％，再拔长至原长度，所述第二锻伸处理重复2次；
第三锻伸处理，所述第三锻伸处理为将所述坯料锻打至直径为原宽度88％的圆柱体；
第二热处理，所述第二热处理的温度为34℃，时间为62min；
静压处理，所述静压处理将所述坯料压制至原长度的26.5％；
压延处理，所述压延处理将所述坯料压制至原长度的5.5％；
第三热处理，所述第三热处理的温度为198℃，时间为32min。
实施例4
本实施例提供一种改善高纯铝靶材内部组织的工艺方法，所述工艺方法包括对坯料依次进行：
第一锻伸处理,所述第一锻伸处理为将所述坯料拔长至原高度的215％，再镦粗至高度，重复2次；
第一热处理，所述第一热处理的温度为352℃，时间为58min；
第二锻伸处理，所述第二锻伸处理为所述坯料镦粗至原长度的52％，再拔长至原长度，所述第二锻伸处理重复2次；
第三锻伸处理，所述第三锻伸处理为将所述坯料锻打至直径为原宽度92％的圆柱体；
第二热处理，所述第二热处理的温度为352℃，时间为58min；
静压处理，所述静压处理将所述坯料压制至原长度的28％；
压延处理，所述压延处理将所述坯料压制至原长度的7％；
第三热处理，所述第三热处理的温度为202℃，时间为28min。
实施例5
本实施例提供一种改善高纯铝靶材内部组织的工艺方法，所述工艺方法包括对坯料依次进行：
第一锻伸处理,所述第一锻伸处理为将所述坯料拔长至原高度的200％，再镦粗至高度，重复2次；
第一热处理，所述第一热处理的温度为350℃，时间为60min；
第二锻伸处理，所述第二锻伸处理为所述坯料镦粗至原长度的50％，再拔长至原长度，所述第二锻伸处理重复2次；
第三锻伸处理，所述第三锻伸处理为将所述坯料锻打至直径为原宽度90％的圆柱体；
第二热处理，所述第二热处理的温度为350℃，时间为60min；
静压处理，所述静压处理将所述坯料压制至原长度的27.5％；
压延处理，所述压延处理将所述坯料压制至原长度的6.5％；
第三热处理，所述第三热处理的温度为200℃，时间为30min。
对比例1
本对比例除了不进行第一热处理外，其余条件均与实施例5相同。
对比例2
本对比例除了不进行第二锻伸处理外，其余条件均与实施例5相同。
对比例3
本对比例除了不进行第三锻伸处理外，其余条件均与实施例5相同。
对比例4
本对比例除了不进行第二热处理外，其余条件均与实施例5相同。
对比例5
本对比例除了不进行第三热处理外，其余条件均与实施例5相同。
实施例1-5以及对比例1-5使用的坯料为纯度99.9995％的铝坯料，尺寸为长200mm，宽150mm，高100mm。
通过GB/T 6394-2002对实施例1-5以及对比例1-5加工得到的高纯铝靶材的平均晶粒度进行测试，结果如表2所示。
将实施例1-5以及对比例1-5加工得到的高纯铝靶材与无氧铜背板进行焊接，焊接方法具体为：将铝靶材与无氧铜背板进行装配后，装入包套，用氩弧焊焊接，并将包套抽真空，真空度为0.001Pa以下，进行氦泄漏检查后进行包套脱气工艺，包套脱气工艺的条件为温度200℃，真空的0.002Pa，时间为3h。最后进行热等静压焊接，条件为260℃，压力150MPa，时间为5h。
采用C-SCAN检测验证实施例1-5以及对比例1-5制备得到铝靶材与无氧铜背板的焊接质量，其检测条件如表1所示，结果如表2所示。
表1
| 检测条件 | 产品 |
| 探头 | 10MHZ |
| 感度 | 36dB |
| 材料声速 | 4000m/s |
| 水距离 | 85.38mm |
| X轴间距 | 0.2mm |
| Y轴间距 | 0.2mm |
| 扫描速度 | 100mm/s |
| 扫描范围 | / |
| 扫描方向 | Y-X |
| 阀值 | TH＝60 |
表2
通过表2的测试结果可以看出，本发明实施例1-5加工得到的高纯铝靶材的内部平均晶粒度较小，且与无氧铜背板具有优异的焊接效果。而对比例1-5分别未进行第一热处理、第二锻伸处理、第三锻伸处理、第二热处理以及第三热处理，导致高纯铝靶材内部平均晶粒度上升以及缺陷增加，使得与无氧铜背板的焊接效果下降。
申请人声明，本发明通过上述实施例来说明本发明的详细工艺设备和工艺流程，但本发明并不局限于上述详细工艺设备和工艺流程，即不意味着本发明必须依赖上述详细工艺设备和工艺流程才能实施。所属技术领域的技术人员应该明了，对本发明的任何改进，对本发明产品各原料的等效替换及辅助成分的添加、具体方式的选择等，均落在本发明的保护范围和公开范围之内。
Claims (1)
1.一种改善高纯铝靶材内部组织的工艺方法，其特征在于，所述工艺方法包括对坯料依次进行：
第一锻伸处理，所述第一锻伸处理为将所述坯料拔长至原高度的180～220％，再镦粗至高度，重复至少2次；
第一热处理，所述第一热处理的温度为345～355℃，时间为55～65min；
第二锻伸处理，所述第二锻伸处理为所述坯料镦粗至原长度的45～55％，再拔长至原长度，所述第二锻伸处理重复至少2次；
第三锻伸处理，所述第三锻伸处理为将所述坯料锻打至直径为原宽度85～95％的圆柱体；
第二热处理，所述第二热处理的温度为345～355℃，时间为55～65min；
静压处理，所述静压处理将所述坯料压制至原长度的25～30％；
压延处理，所述压延处理将所述坯料压制至原长度的5～7.5％；
第三热处理，所述第三热处理的温度为195～205℃，时间为25～35min。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN202111256311.0A CN113999960B (zh) | 2021-10-27 | 2021-10-27 | 一种改善高纯铝靶材内部组织的工艺方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN202111256311.0A CN113999960B (zh) | 2021-10-27 | 2021-10-27 | 一种改善高纯铝靶材内部组织的工艺方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CN113999960A CN113999960A (zh) | 2022-02-01 |
| CN113999960B true CN113999960B (zh) | 2023-12-29 |
Family
ID=79924238
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CN202111256311.0A Active CN113999960B (zh) | 2021-10-27 | 2021-10-27 | 一种改善高纯铝靶材内部组织的工艺方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| CN (1) | CN113999960B (zh) |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN113025972A (zh) * | 2021-03-01 | 2021-06-25 | 宁波江丰电子材料股份有限公司 | 一种铝靶材的制造方法 |
| CN113061853A (zh) * | 2021-03-17 | 2021-07-02 | 宁波江丰电子材料股份有限公司 | 一种高纯铝或铝合金靶材及其制备方法和用途 |
-
2021
- 2021-10-27 CN CN202111256311.0A patent/CN113999960B/zh active Active
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN113025972A (zh) * | 2021-03-01 | 2021-06-25 | 宁波江丰电子材料股份有限公司 | 一种铝靶材的制造方法 |
| CN113061853A (zh) * | 2021-03-17 | 2021-07-02 | 宁波江丰电子材料股份有限公司 | 一种高纯铝或铝合金靶材及其制备方法和用途 |
Non-Patent Citations (1)
| Title |
|---|
| 武建军等.《机械工程材料》.国防工业出版社,2014,(第2版),第48页. * |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| CN113999960A (zh) | 2022-02-01 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| KR100760156B1 (ko) | 탄탈륨 스퍼터링 타겟트 | |
| KR100698745B1 (ko) | 탄탈륨 스퍼터링 타겟트 및 그 제조방법 | |
| US8580053B2 (en) | Ta sputtering target and method for producing the same | |
| CN114892135B (zh) | 一种高纯铜靶材及其制备方法与应用 | |
| CN111088481A (zh) | 镍靶坯及靶材的制造方法 | |
| CN113817995B (zh) | 一种高纯铜靶材及其制备方法 | |
| CN113512704B (zh) | 一种降低铝靶材晶粒度的方法 | |
| CN113999960B (zh) | 一种改善高纯铝靶材内部组织的工艺方法 | |
| CN112011749B (zh) | 一种无孤岛组织的镍基合金n08120环件的加工工艺 | |
| CN113909414B (zh) | 一种钽靶坯的制备方法 | |
| CN112779508A (zh) | 一种高纯钒靶坯的制备方法及利用其制得的高纯钒靶材 | |
| KR20220008380A (ko) | 스퍼터링용 티타늄 타깃 및 그 제조 방법, 그리고 티타늄 함유 박막의 제조 방법 | |
| CN114000073A (zh) | 一种改善高纯镍靶材内部组织的工艺方法 | |
| CN113897566B (zh) | 一种高纯铝靶材的制备方法 | |
| CN113718110B (zh) | 一种采用累积能量控制板材组织的高品质铌板的制备方法 | |
| CN113388794B (zh) | 一种改善铝靶材边缘开裂的方法 | |
| CN113857402B (zh) | 一种合金高纯铜靶材的制备方法 | |
| CN114669621B (zh) | 铝合金超厚板及其制备方法 | |
| CN113649509B (zh) | 一种铜靶材及其制备方法 | |
| CN112877629A (zh) | 一种提高厚靶材用钽板微观组织均匀性的加工方法 | |
| CN113862627A (zh) | 一种铜靶材及改善其内部组织的方法 | |
| CN113652654A (zh) | 一种抗变形无氧铜背板及其制备方法 | |
| CN113857402A (zh) | 一种合金高纯铜靶材的制备方法 | |
| CN115948718A (zh) | 一种高纯镁溅射靶材及其制备方法 | |
| CN117512530A (zh) | 一种高纯铝靶坯及其制备方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| PB01 | Publication | ||
| PB01 | Publication | ||
| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
| GR01 | Patent grant | ||
| GR01 | Patent grant |