CN113874765A - 圆偏振元件转印用层叠体和使用其的光学物品的制造方法 - Google Patents

圆偏振元件转印用层叠体和使用其的光学物品的制造方法 Download PDF

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Abstract

提供用于应对进一步薄型化的图像显示装置的方案。圆偏振元件转印用层叠体在脱模性薄膜上依次层叠有偏振片和λ/4相位差层、或在脱模性薄膜上依次层叠有λ/4相位差层和偏振片。可以将其转印至图像显示装置的构成构件，从而制造具有圆偏振元件的图像显示装置。

Description

圆偏振元件转印用层叠体和使用其的光学物品的制造方法
技术领域
本发明涉及：圆偏振元件转印用层叠体、和使用其的光学物品(例如具有圆偏振元件的透明导电性基材、具有圆偏振元件的触摸面板、具有圆偏振元件的表面保护用透明基材、具有圆偏振元件的图像显示装置)的制造方法。
背景技术
近年来，有机EL显示装置作为各种领域中的图像显示装置备受关注。特别是有机EL显示装置出于其薄度，不仅期待作为电视等大型图像显示装置的薄型化和轻量化的手段，还期待作为曲面的图像显示装置和挠性图像显示装置。
有机EL显示装置中，为了防止布线和单元等的反射，在有机EL单元的可视侧贴合圆偏光板。以往，圆偏光板具有在偏光板的有机EL单元侧贴合有λ/4相位差薄膜的结构。偏光板是在偏振片上贴合偏振片保护薄膜而得到的。作为偏振片保护薄膜，使用三乙酰纤维素(TAC)、丙烯酸类树脂、环状聚烯烃(COP)、聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)等40～100μm的刚直的薄膜。另外，作为λ/4相位差薄膜，使用将环状聚烯烃、聚碳酸酯那样的具有双折射性的树脂进行拉伸而成者、在TAC上通过涂覆而设有液晶化合物层者。
还进行了如下操作：省略偏光板的λ/4相位差薄膜侧的偏振片保护薄膜，在偏振片的单面直接贴合λ/4相位差薄膜，从而使圆偏光板薄型化，但基于该方法的薄型化也存在限度。
有机EL显示装置中，组合触摸面板(例如专利文献1和2)，车载用或室外用的有机EL显示装置(例如汽车导航、屏幕回显、侧显示系统、仪表盘等)中也大多设有表面保护用透明基材，设有大量构件，因此，即使使有机EL显示单元薄型化，有机EL显示装置的薄型化也存在限度。
现有技术文献
专利文献
专利文献1：日本特开2017-84153号公报
专利文献2：日本特开2017-128004号公报
发明内容
发明要解决的问题
本发明是以上述现有技术的课题作为背景而作出的。即，本发明的目的之一在于，提供：用于应对进一步薄型化的图像显示装置的方案。
用于解决问题的方案
本发明人为了实现上述目的而进行了深入研究，结果至此完成了本发明。即，本发明包含以下的方式。
项1.
一种圆偏振元件转印用层叠体，其在脱模性薄膜上依次层叠有偏振片和λ/4相位差层、或在脱模性薄膜上依次层叠有λ/4相位差层和偏振片。
项2.
一种具有圆偏振元件的透明导电性基材的制造方法，其包括如下工序：
工序(A)，在透明导电性基材上，以在脱模性薄膜上依次层叠有偏振片和λ/4相位差层的圆偏振元件转印用层叠体的λ/4相位差层配置于透明导电性基材侧的方式，层叠所述圆偏振元件转印用层叠体；或
工序(B)，在透明导电性基材上，以在脱模性薄膜上依次层叠有λ/4相位差层和偏振片的圆偏振元件转印用层叠体的偏振片配置于透明导电性基材侧的方式，层叠所述圆偏振元件转印用层叠体。
项3.
一种具有圆偏振元件的触摸面板的制造方法，其包括如下工序：
工序(C)，在触摸面板的透明导电性基材上，以在脱模性薄膜上依次层叠有偏振片和λ/4相位差层的圆偏振元件转印用层叠体的λ/4相位差层配置于前述透明导电性基材侧的方式，层叠前述圆偏振元件转印用层叠体；或
工序(D)，在触摸面板的透明导电性基材上，以在脱模性薄膜上依次层叠有λ/4相位差层和偏振片的圆偏振元件转印用层叠体的偏振片配置于前述透明导电性基材侧的方式，层叠前述圆偏振元件转印用层叠体。
项4.
一种具有圆偏振元件的图像显示装置的制造方法，其包含如下工序：
以通过项3的方法而制造的、具有圆偏振元件的触摸面板的触摸面板或圆偏振元件配置于可视侧的方式，将前述触摸面板设置于图像显示装置。
项5.
一种具有圆偏振元件的表面保护用透明基材的制造方法，其包括如下工序：
工序(E)，在表面保护用透明基材上，以在脱模性薄膜上依次层叠有偏振片和λ/4相位差层的圆偏振元件转印用层叠体的λ/4相位差层配置于前述透明基材侧的方式，层叠前述圆偏振元件转印用层叠体；或
工序(F)，在表面保护用透明基材上，以在脱模性薄膜上依次层叠有λ/4相位差层和偏振片的圆偏振元件转印用层叠体的偏振片配置于前述透明基材侧的方式，层叠前述圆偏振元件转印用层叠体。
项6.
一种具有圆偏振元件的图像显示装置的制造方法，其包括如下工序；
以通过项5的方法而制造的、具有圆偏振元件的表面保护用透明基材的表面保护用透明基材配置于可视侧的方式，将前述透明基材设置于图像显示装置。
发明的效果
根据本发明，能实现图像显示装置的进一步薄型化。
具体实施方式
本发明的圆偏振元件转印用层叠体优选在脱模性薄膜上依次层叠有偏振片和λ/4相位差层、或在脱模性薄膜上依次层叠有λ/4相位差层和偏振片。
偏振片和λ/4相位差层的层叠顺序例如可以根据转印对象在何种位置装入图像显示装置而选择。例如，如果为图像显示单元-λ/4相位差层-偏振片-转印对象的顺序，则层叠顺序优选为脱模性薄膜-λ/4相位差层-偏振片的顺序，如果为图像显示单元-转印对象-λ/4相位差层-偏振片的顺序，则层叠顺序优选为脱模性薄膜-偏振片-λ/4相位差层的顺序。
(脱模性薄膜)
作为圆偏振元件转印用层叠体的脱模性薄膜，可以适宜使用广泛用作脱模性薄膜者。脱模性薄膜由单层或多层构成，至少包含基材薄膜。基材薄膜优选为树脂薄膜。作为树脂薄膜的树脂，没有特别限定，只要为聚酯、聚碳酸酯、聚酰胺、聚酰亚胺、聚酰胺酰亚胺、聚苯乙烯、三乙酰纤维素、聚丙烯、环状聚烯烃等成为树脂薄膜者就可以无限制地使用。其中，从机械强度、耐热性、供给稳定性等的方面出发，优选聚酯、进一步优选聚对苯二甲酸乙二醇酯。另外，基材薄膜可以为未拉伸薄膜也可以为拉伸薄膜。为拉伸薄膜的情况下，可以为单轴拉伸薄膜也可以为双轴拉伸薄膜。其中，优选双轴拉伸聚对苯二甲酸乙二醇酯薄膜。
基材薄膜本身具有脱模性的情况下，可以将基材薄膜直接用作脱模性薄膜。另外，为了调节基材薄膜的脱模性，也可以进行电晕处理、等离子体处理、火焰处理等表面处理。
脱模性薄膜可以在基材薄膜上具有脱模层。作为脱模层，可以举出有机硅系、氨基树脂系、醇酸树脂系、长链丙烯酸类树脂系等，可以根据所需的剥离力适宜选择其组成和种类。
脱模性薄膜在基材薄膜与脱模层之间可以具有易粘接层。作为易粘接层，可以使用聚酯系、丙烯酸类、聚氨酯系等各基材薄膜中一直以来使用者，可以根据使用的基材薄膜和/或脱模层而选择。
(抗静电层)
圆偏振元件转印用层叠体在脱模性薄膜上可以具有抗静电层。抗静电层优选设置于基材薄膜与脱模层之间、或设置于基材薄膜的背面(脱模面的相反侧)。另外，还优选在脱模层中添加抗静电剂，使脱模层具有抗静电性。
抗静电层只要为包含抗静电剂的层就没有特别限制。作为抗静电剂，可以举出季铵盐等阳离子性抗静电剂；聚苯胺、聚噻吩等导电性高分子；针状金属填料；锡掺杂氧化铟细粒、锑掺杂氧化锡细粒等导电性高折射率细粒。抗静电剂可以仅使用1种，也可以组合2种以上而使用。
抗静电层除抗静电剂之外优选还包含粘结剂树脂。作为粘结剂树脂，例如使用聚酯、聚氨酯、聚酰胺、丙烯酸类等。粘结剂树脂可以仅使用1种，也可以组合2种以上而使用。
(偏振片)
作为偏振片(也称为偏光板、偏光膜、偏光层等)，例如可以使用：经单轴拉伸的聚乙烯醇(PVA)中吸附有碘或有机系的二色性色素而成者(PVA偏振片)、涂覆(或涂布)包含液晶化合物和二色性色素的组合物并取向而成者(液晶偏振片)、线栅偏振片等。需要说明的是，本说明书中，涂覆不仅包含使液体涂覆固化的湿法，还包含蒸镀、溅射、CVD等干法。
作为在λ/4相位差层或脱模性薄膜上设置偏振片的方法的例子，PVA偏振片的情况下，可以举出(a)和(b)的方法。
方法(a)，使PVA偏振片单独贴合。
方法(b)，转印脱模性基材上的PVA偏振片。
作为(a)的方法，可以举出：使用粘接剂或粘合剂使PVA偏振片单独贴合的方法，优选在脱模性薄膜的脱模面或脱模性薄膜上的λ/4相位差层上用粘接剂或粘合剂贴合PVA偏振片的方法。作为该类型的偏振片的厚度，优选5～50μm、进一步优选10～30μm、特别优选12～25μm。粘接剂或粘合剂的厚度优选1～10μm、进一步优选2～5μm。
(b)的方法中，作为脱模性基材，可以举出作为脱模性薄膜列举者等，优选PET或聚丙烯等未拉伸或单轴拉伸的薄膜。作为在脱模性基材上层叠PVA偏振片的方法，可以举出如下方法：在脱模性基材上涂覆PVA，与脱模性基材一起进行拉伸，使碘或有机系的二色性色素吸附于PVA后，在硼化合物中使取向固定化。需要说明的是，本说明书中，将脱模性基材与PVA偏振片的层叠体有时称为“PVA偏振片转印用层叠体”。
圆偏振元件转印用层叠体只要以脱模性薄膜-偏振片-λ/4相位差层的顺序层叠即可，可以将PVA偏振片转印用层叠体的偏振片转印至脱模性薄膜的脱模面作为“脱模性薄膜-偏振片”，但优选将PVA偏振片转印用层叠体直接作为“脱模性薄膜-偏振片”。另外，圆偏振元件转印用层叠体只要以脱模性薄膜-λ/4相位差层-偏振片的顺序层叠即可，优选将PVA偏振片转印用层叠体的偏振片转印至脱模性薄膜上的λ/4相位差层。作为转印方法，可以举出如下方法：在PVA偏振片转印用层叠体的偏振片面(未层叠脱模性基材的面)用粘接剂或粘合剂贴合脱模性薄膜上的λ/4相位差层，根据需要剥离脱模性基材。作为该类型的偏振片的厚度，优选1～10μm、进一步优选2～8μm、特别优选3～6μm。粘接剂或粘合剂的厚度优选1～10μm、进一步优选2～5μm。
作为贴合时的粘接剂，优选使用聚乙烯醇系粘接剂、丙烯酸类、环氧等紫外线固化型粘接剂、环氧、异氰酸酯(氨基甲酸酯)等热固化型粘接剂。另外，粘接剂可以为热熔粘接剂。作为粘合剂，可以举出丙烯酸类、氨基甲酸酯系、橡胶系等。另外，作为粘合剂，还优选使用丙烯酸类的无基材的光学用透明粘合剂片。
作为在λ/4相位差层或脱模性薄膜上设置偏振片的方法的例子，液晶偏振片的情况下，可以举出(c)和(d)的方法。
方法(c)，涂覆液晶偏振片用涂料。
方法(d)，转印脱模性基材上的液晶偏振片。
作为(c)的方法，可以举出如下方法：在脱模性薄膜的脱模面或脱模性薄膜上的λ/4相位差层涂覆含有液晶化合物的液晶偏振片用涂料，使液晶化合物取向和固定。作为使液晶化合物取向和固定的方法，可以举出如下方法：在经刷磨处理的表面上涂覆液晶偏振片用涂料，加热并取向后，在紫外线下进行固化并固定的方法；涂覆液晶偏振片用涂料后照射偏振紫外线，边使液晶化合物取向边固定的方法等。另外，在涂覆液晶偏振片用涂料前，在脱模性薄膜的脱模面或脱模性薄膜上的λ/4相位差层上设置取向控制层，即，在脱模性薄膜的脱模面或脱模性薄膜上的λ/4相位差层隔着取向控制层层叠液晶偏振片也是优选的方法。
作为(d)的方法，可以举出如下方法：依据上述方法(c)，在脱模性基材上层叠液晶偏振片，在其上用粘接剂或粘合剂贴合脱模性薄膜的脱模面或脱模性薄膜上的λ/4相位差层，根据需要剥离脱模性基材。贴合时的粘接剂和粘合剂可以举出前述者。脱模性基材可以使用作为PVA偏振片转印用层叠体的脱模性基材列举者、金属带等。需要说明的是，本说明书中，将脱模性基材与液晶偏振片的层叠体有时称为“液晶偏振片转印用层叠体”。
作为液晶偏振片的厚度，优选0.1～7μm、进一步优选0.3～5μm、特别优选0.5～3μm。粘接剂或粘合剂的厚度优选1～10μm、进一步优选2～5μm。
进而，对取向控制层和液晶偏振片详细地进行说明。
(取向控制层)
液晶偏振片用涂料可以直接涂覆于脱模性薄膜或λ/4相位差层，但也优选预先设置取向控制层、并涂覆于该取向控制层上的方法。需要说明的是，本说明书中，将取向控制层和液晶偏振片合并视为1个构件，将该构件有时称为液晶偏振片。与取向控制层组合的液晶偏振片为了与作为统称的液晶偏振片明确区分，有时称为液晶偏光层。
作为取向控制层，只要可以使液晶化合物形成期望的取向状态就可以为任何取向控制层。可以举出对表面经刷磨处理的刷磨处理取向控制层、和通过偏振光的光照射而使分子取向而产生取向功能的光取向控制层作为取向控制层的适合例。
(刷磨处理取向控制层)
刷磨处理取向控制层的材料通常可以使用聚合物。作为聚合物，优选使用聚乙烯醇和其衍生物、聚酰亚胺和其衍生物、丙烯酸类树脂、聚硅氧烷衍生物等。聚合物可以仅使用1种，也可以组合2种以上而使用。
作为刷磨处理取向控制层的形成方法，优选包括如下工序的方法：将包含上述聚合物和溶剂的刷磨处理取向控制层用涂料涂布于脱模性薄膜或λ/4相位差层而得到涂膜，对得到的涂膜的表面进行刷磨处理。刷磨处理取向控制层用涂料可以包含交联剂。
作为刷磨处理取向控制层用涂料的溶剂，只要使聚合物材料溶解就可以没有限制地使用。作为具体例，可以举出水、甲醇、乙醇、乙二醇、异丙醇、丙二醇、溶纤剂等醇；乙酸乙酯、乙酸丁酯、γ-丁内酯等酯系溶剂；丙酮、甲乙酮、环戊酮、环己酮等酮系溶剂；甲苯或二甲苯等芳香族烃溶剂；四氢呋喃或二甲氧基乙烷等醚系溶剂等。溶剂可以仅使用1种，也可以组合2种以上而使用。
刷磨处理取向控制层用涂料中的聚合物的浓度可以根据聚合物的种类、想要制造的取向控制层的厚度而适宜调节，用固体成分浓度表示，优选设为0.2～20质量％，特别优选0.3～10质量％的范围。
作为涂布的方法，可以采用凹版涂布法、模涂法、棒涂法和涂抹器法等涂布法、柔性法等印刷法等公知的方法。
涂布后，优选进行干燥(例如加热干燥)。干燥温度还依赖于脱模性薄膜的原材料，PET的情况下，优选30℃～170℃、更优选50～150℃、进一步优选70～130℃。干燥温度如果处于这种范围，则无需采取较长干燥时间，生产率优异，无转印用取向薄膜的热伸长和热收缩，可以实现符合设计的光学功能，平面性也优异。干燥时间例如为0.5～30分钟，更优选1～20分钟、进一步更优选2～10分钟。
刷磨处理取向控制层的厚度优选0.01～10μm、进一步优选0.05～5μm、特别优选0.1μm～1μm。
刷磨处理通常可以通过对表面用纸或布沿恒定方向摩擦而实施。刷磨处理优选为使用尼龙、聚酯、丙烯酸类等纤维的起毛布的刷磨辊的方法。设置沿相对于长尺寸状的薄膜的长度方向倾斜规定方向取向的取向控制层的情况下，刷磨方向优选设为符合该方向的角度。角度的调整可以以刷磨辊与薄膜的角度调整、薄膜的输送速度与辊的转速的调整等来符合。
(光取向控制层)
光取向控制层优选为如下形成的取向膜：将包含具有光反应性基团的聚合物和/或单体和溶剂的涂料(光取向控制层用涂料)涂布于脱模性薄膜或λ/4相位差层，通过照射偏振光、优选偏振紫外线，从而赋予了取向限制力的取向膜。光反应性基团优选通过光照射而产生液晶取向能力的基团，具体而言，优选通过照射光而产生的分子的取向诱发或异构化反应、二聚化反应、光交联反应、或者光分解反应那样的、产生成为液晶取向能力的起源的光反应的基团。该光反应性基团中，在取向性优异、保持近晶型液晶状态的方面，优选引起二聚化反应或光交联反应者。作为能产生以上的反应的光反应性基团，优选不饱和键、特别优选双键，特别优选具有选自由C＝C键、C＝N键、N＝N键、C＝O键组成的组中的至少一者的基团。
作为具有C＝C键的光反应性基团，例如可以举出乙烯基、多烯基、茋基、脒唑基、偶氮茋鎓基、查耳酮基、肉桂酰基等。作为具有C＝N键的光反应性基团，可以举出具有芳香族席夫碱和芳香族腙等结构的基团。作为具有N＝N键的光反应性基团，可以举出偶氮苯基、偶氮萘基、芳香族杂环偶氮基、双偶氮基、甲瓒基、以偶氮氧基苯为基本结构者。作为具有C＝O键的光反应性基团，可以举出二苯甲酮基、香豆素基、蒽醌基、马来酰亚胺基等。这些基团任选具有烷基、烷氧基、芳基、烯丙氧基、氰基、烷氧基羰基、羟基、磺酸基、卤代烷基等取代基。取代基的数量没有特别限制，例如为1、2、3、或4个。
其中，优选能引起光二聚化反应的光反应性基团，肉桂酰基和查耳酮基容易得到光取向所需的偏振光照射量较少、且热稳定性和经时稳定性优异的光取向控制层，故优选。进而，作为具有光反应性基团的聚合物，特别优选该聚合物侧链的末端部成为肉桂酸结构的具有肉桂酰基者。作为主链的结构，可以举出聚酰亚胺、聚酰胺、(甲基)丙烯酸类、聚酯等。
作为具体的取向控制层，例如可以举出：日本特开2006-285197号公报、日本特开2007-76839号公报、日本特开2007-138138号公报、日本特开2007-94071号公报、日本特开2007-121721号公报、日本特开2007-140465号公报、日本特开2007-156439号公报、日本特开2007-133184号公报、日本特开2009-109831号公报、日本特开2002-229039号公报、日本特开2002-265541号公报、日本特开2002-317013号公报、日本特表2003-520878号公报、日本特表2004-529220号公报、日本特开2013-33248号公报、日本特开2015-7702号公报、日本特开2015-129210号公报中记载的取向控制层。
作为光取向控制层用涂料的溶剂，只要使具有光反应性基团的聚合物和单体溶解就可以没有限制地使用。作为具体例，可以示例刷磨处理取向控制层的形成方法中列举者。还优选在光取向控制层用涂料中添加光聚合引发剂、阻聚剂、各种稳定剂。另外，光取向控制层用涂料中也可以加入具有光反应性基团的聚合物和单体以外的聚合物、能跟具有光反应性基团的单体共聚的不具有光反应性基团的单体。
光取向控制层用涂料的聚合物或单体的浓度、涂布方法、干燥条件也可以示例刷磨处理取向控制层的形成方法中列举者。厚度也与刷磨处理取向控制层的优选厚度同样。
偏振光优选从取向前的光取向控制层面的方向照射。
偏振光的波长优选具有光反应性基团的聚合物或单体的光反应性基团能吸收光能的波长区域。具体而言，优选波长250～400nm的范围的紫外线。作为偏振光的光源，可以举出氙气灯、高压汞灯、超高压汞灯、金属卤化物灯、KrF、ArF等紫外光激光等，优选高压汞灯、超高压汞灯、金属卤化物灯。
偏振光例如可以通过使来自前述光源的光通过偏振片而得到。通过调整偏振片的偏振角，从而可以调整偏振光的方向。偏振片可以举出偏光滤光器、Gran Thomson、GLANTAYLOR等偏光棱镜、线栅类型的偏振片。偏振光优选实质上为平行光。
通过调整照射的偏振光的角度，从而可以任意地调整光取向控制层的取向限制力的方向。
照射强度由聚合引发剂、树脂(单体)的种类、量而不同，例如以365nm基准计优选10～10000mJ/cm2、进一步优选20～5000mJ/cm2。
(液晶偏振片)
液晶偏振片具有作为使仅单向的光通过的偏振片的功能，优选包含二色性色素。
<二色性色素>
二色性色素优选为具有分子的长轴方向上的吸光度与短轴方向上的吸光度不同的性质的有机色素。
二色性色素优选在300～700nm的范围内具有最大吸收波长(λMAX)者。这种二色性色素例如可以举出吖啶色素、噁嗪色素、花青色素、萘色素、偶氮色素、蒽醌色素等，其中，优选偶氮色素。偶氮色素可以举出单偶氮色素、双偶氮色素、三偶氮色素、四偶氮色素、茋偶氮色素等，优选双偶氮色素和/或三偶氮色素。二色性色素可以单独使用也可以组合2种以上，但为了调整(无彩色)色调，优选组合2种以上。特别优选组合3种以上。特别优选组合3种以上的偶氮化合物。
作为优选的偶氮化合物，可以举出：日本特开2007-126628号公报、日本特开2010-168570号公报、日本特开2013-101328号公报、日本特开2013-210624号公报中记载的色素。
二色性色素为在丙烯酸类等聚合物的侧链中导入的二色性色素聚合物也是优选的方式。作为二色性色素聚合物，可以示例日本特开2016-4055号公报中列举的聚合物、日本特开2014-206682号公报的[化学式6]～[化学式12]的化合物聚合而成的聚合物。
对于液晶偏振片中的二色性色素的含量，从使二色性色素的取向良好的观点出发，液晶偏振片中优选0.1～30质量％、更优选0.5～20质量％、进一步优选1.0～15质量％、特别优选2.0～10质量％。
液晶偏振片中，为了改善膜强度、偏光度、膜均质性，优选还包含聚合性液晶化合物。需要说明的是，聚合性液晶化合物作为膜也包含于聚合后的物质。
<聚合性液晶化合物>
聚合性液晶化合物优选为具有聚合性基团、且示出液晶性的化合物。
聚合性基团是指，参与聚合反应的基团，优选为光聚合性基团。此处，光聚合性基团是指，通过由后述的光聚合引发剂产生的活性自由基、酸等而能产生聚合反应的基团。作为聚合性基团，可以举出乙烯基、乙烯氧基、1-氯乙烯基、异丙烯基、4-乙烯基苯基、丙烯酰氧基、甲基丙烯酰氧基、环氧乙烷基、氧杂环丁烷基等。其中，优选丙烯酰氧基、甲基丙烯酰氧基、乙烯氧基、环氧乙烷基、氧杂环丁烷基，更优选丙烯酰氧基。示出液晶性的化合物可以为热致液晶也可以为溶致液晶。热致液晶可以为向列型液晶也可以为近晶型液晶。
在得到更高的偏振特性的方面，聚合性液晶化合物优选近晶型液晶化合物，更优选高阶近晶型液晶化合物。聚合性液晶化合物所形成的液晶相如果为高阶近晶型相，则可以制造取向秩序度更高的液晶偏振片。
作为具体的优选聚合性液晶化合物，例如可以举出：日本特开2002-308832号公报、日本特开2007-16207号公报、日本特开2015-163596号公报、日本特表2007-510946号公报、日本特开2013-114131号公报、WO2005/045485号公报、Lub etal.Recl.Trav.Chim.Pays-Bas,115,321-328(1996)等中记载的化合物。
对于液晶偏振片中的聚合性液晶化合物的含有比率，从提高聚合性液晶化合物的取向性的观点出发，液晶偏振片中优选70～99.5质量％、更优选75～99质量％、进一步优选80～97质量％、特别优选83～95质量％。
液晶偏振片可以通过涂覆液晶偏振片用涂料而设置。液晶偏振片用涂料任选包含添加剂、例如溶剂、聚合引发剂、敏化剂、阻聚剂、流平剂、聚合性非液晶化合物、交联剂等。添加剂可以仅使用1种，也可以组合2种以上而使用。
作为溶剂，优选使用作为取向控制层用涂料的溶剂列举者。
聚合引发剂只要使聚合性液晶化合物聚合就没有限定，优选通过光而产生活性自由基的光聚合引发剂。作为聚合引发剂，例如可以举出苯偶姻化合物、二苯甲酮化合物、烷基苯酮化合物、酰基氧化膦化合物、三嗪化合物、碘鎓盐、锍盐等。
作为敏化剂，优选光敏化剂，例如可以举出氧杂蒽酮化合物、蒽化合物、吩噻嗪、红荧烯等。
作为阻聚剂，可以举出氢醌类、邻苯二酚类、苯硫酚类。
作为聚合性非液晶化合物，优选与聚合性液晶化合物共聚者，例如，聚合性液晶化合物具有(甲基)丙烯酰氧基的情况下，可以举出(甲基)丙烯酸酯类。(甲基)丙烯酸酯类可以为单官能也可以为多官能。通过使用多官能的(甲基)丙烯酸酯类，从而可以改善偏振片的强度。使用聚合性非液晶化合物的情况下，对于其含量，为了抑制偏光度的降低，液晶偏振片中优选设为1～15质量％，进一步优选设为2～10质量％，特别优选设为3～7质量％。
作为交联剂，可以举出能跟聚合性液晶化合物、聚合性非液晶化合物的官能团反应的化合物，可以举出异氰酸酯化合物、三聚氰胺、环氧树脂、噁唑啉化合物等。
将液晶偏振片用涂料涂覆于脱模性薄膜上、λ/4相位差层上、或取向控制层上后，根据需要进行干燥、加热、固化，从而可以制作液晶偏振片。
作为涂覆方法，可以采用凹版涂布法、模涂法、棒涂法和涂抹器法等涂布法、柔性法等印刷法等公知的方法。
干燥优选在干燥机(热风干燥机、红外线干燥机等)中、在30～170℃的温度下进行。干燥温度更优选50～150℃、进一步优选70～130℃，干燥时间优选0.5～30分钟、更优选1～20分钟、进一步更优选2～10分钟。
为了使液晶偏振片中的二色性色素和聚合性液晶化合物更牢固地取向，可以进行加热。加热温度优选设为聚合性液晶化合物形成液晶相的温度范围。
液晶偏振片用涂料中包含聚合性液晶化合物的情况下，优选进行固化。作为固化方法，可以举出加热和光照射，优选光照射。可以在通过固化而使二色性色素取向的状态下进行固定。固化优选在使聚合性液晶化合物形成液晶相的状态下进行，也可以在示出液晶相的温度下进行光照射而固化。光照射中的光可以举出可见光、紫外光和激光。在操作容易的方面，优选紫外光。
照射强度由聚合引发剂、树脂(单体)的种类、量不同，例如以365nm基准计优选100～10000mJ/cm2、进一步优选200～5000mJ/cm2。
对于液晶偏振片，将液晶偏振片用涂料涂布于取向控制层上，从而色素沿取向层的取向方向取向，变得具有规定方向的偏振光透光轴，但不设置取向控制层的情况下，照射偏振光使含液晶化合物的组合物固化，从而也可以使液晶偏振片取向。
作为设置偏振片的方法，可以为任意方法，但特别优选(b)、(c)、(d)的方法。
(λ/4相位差层)
λ/4相位差层可以通过偏振片将成为直线偏振光的光转换为圆偏振光。作为λ/4相位差层，优选涂覆有λ/4相位差层用涂料的涂层，更优选涂覆有含有液晶化合物或高分子化合物的涂料的涂层，其中，特别优选涂覆有含有液晶化合物的涂料的涂层。
作为λ/4相位差层中使用的高分子化合物，可以举出重复单元中具有至少1种芳香族环的聚酰亚胺、聚酰胺酰亚胺、聚酯、聚醚酮、聚芳基醚酮、聚酯酰亚胺等聚合物。
作为λ/4相位差层中使用的液晶化合物，优选棒状液晶化合物，在可以固定取向状态的方面，优选具有双键等聚合性基团的聚合性棒状液晶化合物。
作为棒状液晶化合物的例子，可以举出：日本特开2002-030042号公报、日本特开2004-204190号公报、日本特开2005-263789号公报、日本特开2007-119415号公报、日本特开2007-186430号公报、和日本特开平11-513360号公报中记载的具有聚合性基团的棒状液晶化合物。
作为具体的棒状液晶化合物，可以举出：
CH2＝CHCOO-(CH2)m-O-Ph1-COO-Ph2-OCO-Ph1-O-(CH2)n-OCO-CH＝CH2
CH2＝CHCOO-(CH2)m-O-Ph1-COO-NPh-OCO-Ph1-O-(CH2)n-OCO-CH＝CH2
CH2＝CHCOO-(CH2)m-O-Ph1-COO-Ph2-OCH3
CH2＝CHCOO-(CH2)m-O-Ph1-COO-Ph1-Ph1-CH2CH(CH3)C2H5
(式中，
m和n为2～6的整数，
Ph1和Ph2为1,4-亚苯基(Ph2任选在2位被甲基取代)，
NPh为2,6-亚萘基)。
这些棒状液晶化合物由BASF株式会社制作为LC242等有市售，可以利用它们。
这些棒状液晶化合物可以以任意比率组合多种而使用。
形成λ/4相位差层的方法可以为将λ/4相位差层用涂料涂覆于脱模性薄膜的脱模面或脱模性薄膜上的偏振片的方法，也可以为将脱模性基材上的λ/4相位差层转印至偏振片的方法。需要说明的是，将脱模性基材与λ/4相位差层的层叠体有时称为“相位差层转印用层叠体”。相位差层转印用层叠体的脱模性基材可以使用PVA偏振片用层叠体的脱模性基材中列举者等。
λ/4相位差层用涂料任选包含溶剂、聚合引发剂、敏化剂、阻聚剂、流平剂、聚合性非液晶化合物、交联剂等。它们可以使用取向控制层或液晶偏振片中说明者。
作为使λ/4相位差层中使用的液晶化合物取向的方法，可以采用与上述液晶偏振片的取向同样的方法。即，可以举出如下方法：将λ/4相位差层用涂料直接涂覆于脱模性薄膜或偏振片照射偏振紫外线的方法；对脱模性薄膜或偏振片的表面进行刷磨处理的方法；在偏振片与λ/4相位差层之间设置取向控制层的方法；等。这些条件也可以使用作为取向控制层或液晶偏振片中说明的条件作为优选的条件。
λ/4相位差层可以为单层的λ/4相位差层，也可以为λ/4相位差层与λ/2相位差层的复合λ/4相位差层。本说明书中，将单层的λ/4相位差层和复合λ/4相位差层一并有时称为λ/4相位差层，进一步与后述的C板层等其他相位差层一起有时称为λ/4相位差层。
λ/4相位差层的面内延迟量优选100～180nm、进一步优选120～150nm。λ/2相位差层的面内延迟量优选200～360nm、进一步优选240～300nm。
(λ/4相位差层的慢轴的角度)
单层的λ/4相位差层的情况下，λ/4相位差层的取向轴(慢轴)与偏振片的透光轴所呈的角度优选35～55度、更优选40度～50度、进一步优选42～48度。
组合了λ/4相位差层与λ/2相位差层的复合λ/4相位差层的情况下，各相位差层的取向轴(慢轴)优选以两层中成为λ/4的相位差的角度配置。具体而言，λ/2相位差层的取向轴(慢轴)与偏振片的透光轴所呈的角度(θ)优选5～20度、更优选7度～17度。λ/2相位差层的取向轴(慢轴)与λ/4相位差层的取向轴(慢轴)所呈的角度优选2θ+45度±10度的范围、更优选2θ+45度±5度的范围、进一步优选2θ+45度±3度的范围。
作为λ/4相位差层的例子，可以将日本特开2008-149577号公报、日本特开2002-303722号公报、WO2006/100830号公报、日本特开2015-64418号公报、日本特开2018-10086号公报等作为参考。
进而，为了减少从斜向观察时的着色的变化等，在λ/4相位差层上设置C板层也是优选的方式。作为C板层，可以根据λ/4相位差层和λ/2相位差层的特性而选择正或负的C板层。
复合λ/4相位差层中，例如，作为λ/4相位差层与λ/2相位差层的层叠方法，例如可以举出如下方法：
·通过转印在偏振片上设置λ/2相位差层中，通过转印在其上设置λ/4相位差层的方法
·通过转印在偏振片上设置λ/2相位差层，通过涂覆在其上设置λ/4相位差层的方法
·通过涂覆在偏振片上设置λ/2相位差层，通过转印在其上设置λ/4相位差层的方法
·通过涂覆在偏振片上设置λ/2相位差层和λ/4相位差层的方法
·在脱模性基材上依次设置λ/4相位差层和λ/2相位差层，将它们转印至偏振片上的方法。
作为在λ/4相位差层上层叠C板的方法，可以采用：通过转印在λ/4相位差层上设置C板层的方法；在脱模性基材上设置C板层，进一步在其上设置单层的λ/4相位差层或复合λ/4相位差层，将它们转印至偏振片的方法；等各种方法。
(层间保护层)
圆偏振元件转印用层叠体在任意的2个层之间(例如，偏振片与λ/4相位差层之间、λ/4相位差层的未层叠偏振片的面、多个相位差层之间、粘接剂或粘合剂与偏振片或λ/4相位差层之间)任选具有层间保护层。层间保护层可以防止各层的成分或使用溶剂迁移至相邻的其他层、引起偏光度的降低或相位差的变化。层间保护层可以与λ/4相位差层和/或偏振片一起设置于脱模性基材上并转印至对象。
作为层间保护层，例如可以举出透明树脂层等。作为透明树脂，可以举出聚乙烯醇、乙烯乙烯醇共聚物、聚酯、聚氨酯、聚酰胺、聚苯乙烯、丙烯酸类树脂、环氧树脂等，但不特别限定于这些。透明树脂通过交联剂而交联可以形成交联结构。另外，可以使硬涂层那样的丙烯酸类等固化性(例如光固化性)组合物固化(例如光固化)。另外，层间保护层可以兼具取向控制层。
对于圆偏振元件转印用层叠体，为了保护转印至对象的表面的面(偏振片面或λ/4相位差层面等)，在其面上可以贴合掩蔽薄膜。作为掩蔽薄膜，优选使用在聚乙烯、聚丙烯、聚酯等基材上设有丙烯酸类、橡胶系、聚烯烃系等的粘合层者。转印偏振片或λ/4相位差层等时使用的脱模性基材也可以残留代替掩蔽薄膜。
圆偏振元件转印用层叠体通过转印至对象的表面，从而可以设置在对象的表面包含λ/4相位差层和偏振片的圆偏振元件。转印至对象的情况下，可以使用前述粘接剂或粘合剂。用于转印至对象的粘接剂或粘合剂可以预先设置于圆偏振元件转印用层叠体。该情况下，可以在粘接剂层或粘合剂层上进一步层叠分隔件。分隔件可以使用PVA偏振片转印用层叠体的脱模性基材中列举者等。需要说明的是，脱模性基材和掩蔽薄膜优选在即将转印至对象前、或即将设置粘接剂层或粘合剂层前被剥离。
圆偏振元件转印用层叠体优选除制造工序用薄膜以外不具有自立性薄膜作为构成层。自立性薄膜是指，作为薄膜独立地制造而成者。作为自立性薄膜，例如可以举出偏振片保护薄膜。制造工序用薄膜是指，用于制造圆偏振元件转印用层叠体但在图像显示装置中最终会被去除的构件，例如可以举出脱模性薄膜、脱模性基材、掩蔽薄膜、分隔件等。构成制造工序用薄膜以外的圆偏振元件转印用层叠体的各层其本身不单独存在，优选可以通过涂覆而设置，或也可以通过转印而设置。由此，可以实现进一步薄型化和轻量化。
(转印对象)
作为用圆偏振元件转印用层叠体设置圆偏振元件的对象，例如可以举出产生反射的物质本身、存在于产生反射的物质与观察者之间的透明者，但不特别限定于这些。作为优选的对象，可以举出透明导电性基材、表面保护用透明基材。
通过以圆偏振元件转印用层叠体的λ/4相位差层或偏振片配置于对象的表面的方式，将圆偏振元件转印用层叠体层叠于对象的表面，将脱模性薄膜剥离，从而可以在对象的表面设置圆偏振元件。需要说明的是，圆偏振元件转印用层叠体的脱模性薄膜无需在刚刚层叠后就剥离，为了直至成为最终形态为止的期间(或直至使用为止的期间)的表面保护而事先不剥离，可以在即将成为最终形态前(或即将使用前)剥离。
(具有圆偏振元件的透明导电性基材)
具有圆偏振元件的透明导电性基材优选将圆偏振元件转印用层叠体层叠(转印)至透明导电性基材。透明导电性基材优选在透明基材的至少单面(优选两面)设有透明导电层。作为透明基材，可以举出玻璃、PET、TAC、COP、丙烯酸类、聚碳酸酯等树脂薄膜。作为透明导电层，可以举出：分散有锡掺杂氧化铟、金属网、导电糊剂的网、针状金属填料或CNT等的树脂涂层。用圆偏振元件转印用层叠体将圆偏振元件层叠于透明导电性基材，从而可以使透明导电性基材具有基于圆偏振元件的防反射功能而实质上不大幅增加厚度。
具有圆偏振元件的透明导电性基材的制造方法的一实施方式中，优选包括如下工序：
工序(A)，在透明导电性基材上，以在脱模性薄膜上依次层叠有偏振片和λ/4相位差层的圆偏振元件转印用层叠体的λ/4相位差层配置于透明导电性基材侧的方式，层叠前述圆偏振元件转印用层叠体；或
工序(B)，在透明导电性基材上，以在脱模性薄膜上依次层叠有λ/4相位差层和偏振片的圆偏振元件转印用层叠体的偏振片配置于透明导电性基材侧的方式，层叠前述圆偏振元件转印用层叠体。
(具有圆偏振元件的触摸面板)
具有圆偏振元件的触摸面板优选将圆偏振元件转印用层叠体层叠(转印)至触摸面板的透明导电性基材。透明导电性基材可以举出与前述相同者。用圆偏振元件转印用层叠体将圆偏振元件层叠于触摸面板的透明导电性基材，从而可以使触摸面板具有基于圆偏振元件的防反射功能而实质上不大幅增加厚度。
圆偏振元件可以设置于透明导电性基材的透明基材侧和透明导电层侧的任意者。另外，涂层等存在于透明导电层上的情况下，圆偏振元件可以设置于涂层等之上。
在对触摸面板加工前，可以在透明导电性基材上设置圆偏振元件，在对触摸面板的加工的中间阶段、或加工后，可以设置圆偏振元件。圆偏振元件可以设置于触摸面板的可视侧的面，也可以设置于相反侧的面(图像显示单元侧的面)。另外，如果为静电容量型的触摸面板，则圆偏振元件可以作为2个透明导电性基材之间的电介质层的一部分存在。
将图像显示单元层叠于触摸面板的情况下，圆偏振元件可以作为触摸面板与图像显示单元的中间层存在。将表面保护膜层叠于触摸面板的情况下，圆偏振元件可以作为触摸面板与表面保护膜的中间层存在。
具有圆偏振元件的触摸面板的制造方法一实施方式中，优选包括如下工序：
工序(C)，在触摸面板的透明导电性基材上，以在脱模性薄膜上依次层叠有偏振片和λ/4相位差层的圆偏振元件转印用层叠体的λ/4相位差层配置于前述透明导电性基材侧的方式，层叠前述圆偏振元件转印用层叠体；或
工序(D)，在触摸面板的透明导电性基材上，以在脱模性薄膜上依次层叠有λ/4相位差层和偏振片的圆偏振元件转印用层叠体的偏振片配置于前述透明导电性基材侧的方式，层叠前述圆偏振元件转印用层叠体。
(表面保护用透明基材)
具有圆偏振元件的表面保护用透明基材优选将圆偏振元件转印用层叠体层叠(转印)至表面保护用透明基材。作为表面保护用透明基材，可以举出玻璃板、丙烯酸类、聚酯、聚碳酸酯、聚苯乙烯、聚丙烯、聚甲基戊烯、聚氨酯等的薄膜或片等。
将图像显示单元层叠于表面保护膜的情况下，圆偏振元件可以作为表面保护膜与图像显示单元的中间层存在。
具有圆偏振元件的表面保护用透明基材的制造方法的一实施方式中，优选包括如下工序：
工序(E)，在表面保护用透明基材上，以在脱模性薄膜上依次层叠有偏振片和λ/4相位差层的圆偏振元件转印用层叠体的λ/4相位差层配置于前述透明基材侧的方式，层叠前述圆偏振元件转印用层叠体；或
工序(F)，在表面保护用透明基材上，以在脱模性薄膜上依次层叠有λ/4相位差层和偏振片的圆偏振元件转印用层叠体的偏振片配置于前述透明基材侧的方式，层叠前述圆偏振元件转印用层叠体。前述透明基材优选图像显示装置的表面保护用透明基材。
(图像显示装置)
作为图像显示装置，只要具有通过圆偏振元件防止反射的功能就可以没有特别限制地使用。图像显示装置优选具备前述的具有圆偏振元件的透明导电性基材、具有圆偏振元件的触摸面板、或具有圆偏振元件的表面保护膜。例如图像显示装置优选依次具有透明导电性基材、圆偏振元件、和图像显示单元、依次具有圆偏振元件、透明导电性基材、和图像显示单元、依次具有触摸面板、圆偏振元件、和图像显示单元、依次具有圆偏振元件、触摸面板、和图像显示单元、或依次具有表面保护膜、圆偏振元件、和图像显示单元。另外，作为图像显示装置，例如有机EL显示装置、微LED显示装置等是适合例。另外，也可以适合用于可折叠型(折叠型)或可卷曲型(卷取型)的图像显示装置。本发明的图像显示装置能实现薄型化，折叠性和卷取性良好。
具有圆偏振元件的图像显示装置的制造方法的一实施方式中，优选包括如下工序：
工序(G)，以具有圆偏振元件的触摸面板的触摸面板配置于可视侧的方式(以圆偏振元件配置于图像显示单元侧的方式)，将前述触摸面板设置于图像显示装置；
工序(H)，以具有圆偏振元件的触摸面板的圆偏振元件配置于可视侧的方式(以触摸面板配置于图像显示单元侧的方式)，将前述触摸面板设置于图像显示装置；或
工序(I)，以具有圆偏振元件的表面保护用透明基材的表面保护用透明基材配置于可视侧的方式(以圆偏振元件配置于图像显示单元侧的方式)，将前述透明基材设置于图像显示装置。
实施例
以下，参照实施例，对本发明更具体地进行说明。本发明优选将圆偏振元件转印用层叠体转印至透明导电性基材。不限定于下述实施例，在能符合本发明的主旨的范围内也可以适宜加以变更而实施。它们均包含于本发明的保护范围。
实施例的层叠体中的相位差层的延迟量测定如以下所述。
(相位差层的延迟量测定)
在与后述的实施例相同的条件下，在厚度50μm的聚酯薄膜(东洋纺株式会社制Cosmoshine(TM)A4100)的非易粘接层面设置取向控制层和相位差层，将其转印至玻璃板(35mm×35mm)作为测定用样品。转印时使用紫外线固化型粘接剂。
对于样品，用自动双折射计(KOBRA-WR、王子计测机器株式会社)，将使用波长设为590nm时，测定从垂直方向测得的延迟量值(Re)，进而，将薄膜面内的慢轴作为倾斜轴(旋转轴)，相对于薄膜法线方向从0度每隔10度倾斜至50度，同样地测定延迟量值，由该值、厚度和平均折射率求出Rth。
厚度如下求出：将薄膜包埋于环氧树脂，切出截面切片，用偏光显微镜进行观察而求出。平均折射率使用1.60。
对于实施例的层叠体中的各层，以下中进行说明。
Figure BDA0003373599010000231
(偏振片)
(1)PVA偏振片转印用层叠体
作为热塑性树脂基材，将特性粘度0.62dl/d的聚对苯二甲酸乙二醇酯在挤出机中进行熔融/混炼后，在冷却辊上以片状挤出，制作厚度100μm的未拉伸薄膜。在该未拉伸薄膜的单面涂布聚合度2400、皂化度99.9摩尔％的聚乙烯醇的水溶液并干燥，形成PVA层。
将得到的层叠体在120℃下在圆周速度不同的辊间沿长度方向拉伸至2倍并卷取。接着，对得到的层叠体在4％的硼酸水溶液中进行30秒处理后，在碘(0.2％)与碘化钾(1％)的混合水溶液中浸渍60秒进行染色，接着，在碘化钾(3％)与硼酸(3％)的混合水溶液中进行30秒处理。
进而，将该层叠体在72℃的硼酸(4％)与碘化钾(5％)混合水溶液中、沿长度方向进行单轴拉伸，接着，用4％碘化钾水溶液进行清洗，用气刀去除水溶液后，在80℃的烘箱中进行干燥，分切两端部并卷取，得到宽度50cm、长度1000m的PVA偏振片转印用层叠体。总计的拉伸倍率为6.5倍，PVA偏振片的厚度为5μm。需要说明的是，厚度如下：将PVA偏振片转印用层叠体包埋于环氧树脂后切出切片，用光学显微镜进行观察并读取。该PVA偏振片在表1中记作PVA。
(2)液晶偏振片
依据日本特表2007-510946号公报的[0134]段落的记载和Lub etal.Recl.Trav.Chim.Pays-Bas,115,321-328(1996)，合成下述化合物(d)和(e)。
Figure BDA0003373599010000241
依据日本特开昭63-301850号公报的实施例1，合成下述色素(f)。
Figure BDA0003373599010000242
依据日本特公平5-49710号公报的实施例2，合成下述色素(g)。
Figure BDA0003373599010000243
依据日本特公昭63-1357号公报的通式(1)的化合物的制造方法，合成下述色素(h)。
Figure BDA0003373599010000251
将(d)75质量份、(e)25质量份、(f)2.5质量份、(g)2.5质量份、(h)2.5质量份、IRGACURE(商标)369E(BASF株式会社制)6质量份、和邻二甲苯250质量份混合、溶解，制作液晶偏振片用涂料。涂覆该涂料得到的液晶偏振片在表1中记作液晶涂覆。
(实施例1)
(相位差层转印用层叠体1的制作)
在宽50cm的聚酯薄膜(东洋纺株式会社制Cosmoshine(TM)A4100、厚度50μm)的非易粘接层面涂布取向控制层用涂料，在100℃下进行干燥，形成厚度0.5μm的取向控制层。进一步对取向控制层用卷绕有尼龙制的起毛布的刷磨辊进行处理。刷磨如下进行：使薄膜倾斜地挂于刷磨辊，调整刷磨辊的方向与薄膜的行进速度、刷磨辊的转速，刷磨方向相对于薄膜的流动方向成为45度，从而进行。接着，涂布相位差层用涂料后，在110℃下进行3分钟加热，使溶剂蒸发，且使棒状液晶性化合物取向。进一步在110℃的环境下照射紫外线30秒，得到长度200m的相位差层转印用层叠体1。相位差层的Re为140nm、Rth为70nm。
将PVA偏振片转印用层叠体和相位差层转印用层叠体1卷出，在PVA偏振片转印用层叠体的偏振片面(PVA面)涂布紫外线固化型的粘接剂，使粘接剂面与相位差层转印用层叠体1的相位差层面重叠后，从相位差层转印用层叠体侧照射紫外线进行粘接并卷取，得到长度200m的圆偏振元件转印用层叠体(CP1)的卷。需要说明的是，CP1中，PVA偏振片转印用层叠体的热塑性树脂基材和相位差层转印用层叠体1的聚酯薄膜在即将转移至对象物(ITO层)前剥离。
(实施例2)
在PVA偏振片转印用层叠体的偏振片面涂布取向控制层用涂料，在100℃下进行干燥，设置厚度0.5μm的取向控制层。进一步对取向控制层用卷绕有尼龙制的起毛布的刷磨辊进行处理。以刷磨方向相对于薄膜的流动方向为45度进行。接着，涂布相位差层用涂料后，在110℃下进行3分钟加热使溶剂蒸发，且使棒状液晶性化合物取向。进而，在110℃的环境下照射紫外线30秒，得到圆偏振元件转印用层叠体(CP2)。相位差层的Re为140nm。
(实施例3)
在宽50cm的聚酯薄膜(东洋纺株式会社制Cosmoshine(TM)A4100、厚度50μm)的非易粘接层面涂布取向控制层用涂料，在100℃下进行干燥，设置厚度0.5μm的取向控制层。进而，对取向控制层用卷绕有尼龙制的起毛布的刷磨辊进行处理。以刷磨方向成为薄膜的流动方向的方式进行。之后，在刷磨处理面涂布液晶偏振片用涂料，在110℃下进行3分钟干燥，形成厚度2μm的膜后，照射紫外线，得到液晶偏振片转印用层叠体。接着，在该液晶偏振片转印用层叠体的偏振片面与实施例2同样地设置取向控制层和相位差层，卷取圆偏振元件转印用层叠体(CP3)作为长度200m的卷。
(实施例4)
在宽50cm的聚酯薄膜(东洋纺株式会社制Cosmoshine(TM)A4100、厚度50μm)的非易粘接层面涂布硬涂层用涂料，在烘箱中、在90℃下进行干燥，使溶剂蒸发后，照射紫外线，形成厚度3μm的硬涂层。进一步对硬涂层用卷绕有尼龙制的起毛布的刷磨辊进行处理。刷磨方向相对于薄膜的流动方向为平行进行。之后，与实施例3同样地，在刷磨处理面涂布液晶偏振片用涂料，得到液晶偏振片转印用层叠体。在该液晶偏振片转印用层叠体的偏振片面与实施例2同样地设置相位差层，卷取圆偏振元件转印用层叠体(CP4)作为长度200m的卷。
将实施例1～4的构成示于表1。
[表1]
实施例1 实施例2 实施例3 实施例4
圆偏振元件转印用层叠体编号 CP1 CP2 CP3 CP4
转印基材 PET PET PET PET/HC
偏振片 PVA PVA 液晶涂覆 液晶涂覆
相位差层层叠方法 转印 涂覆 涂覆 涂覆
(实施例5)
作为相位差层转印用层叠体，使用对聚酯薄膜的非易粘接层面进行电晕处理，在该电晕处理面设置有相位差层者(相位差层转印用层叠体2)，除此之外，与实施例1同样地，得到长度200m的圆偏振元件转印用层叠体(CP5)的卷。需要说明的是，CP5中，PVA偏振片转印用层叠体的热塑性树脂基材在即将转印至对象物(玻璃基板)前剥离而使用。
(实施例6)
在相位差层转印用层叠体1的相位差层面涂布取向控制层用涂料，在100℃下进行干燥，设置厚度0.5μm的取向控制层。进而，对取向控制层用卷绕有尼龙制的起毛布的刷磨辊进行处理。以刷磨方向成为薄膜的流动方向的方式进行。之后，在刷磨处理面涂布液晶偏振片用涂料，在110℃下进行3分钟干燥，形成厚度2μm的膜后，照射紫外线，得到圆偏振元件转印用层叠体(CP6)，作为长度200m的卷卷取。
(实施例7)
将实施例3的液晶偏振片转印用层叠体和实施例5的相位差层转印用层叠体2卷出，在液晶偏振片转印用层叠体的偏振片面涂布紫外线固化型的粘接剂，使粘接剂面与相位差层转印用层叠体2的相位差层面重叠后，从相位差层转印用层叠体侧照射紫外线，进行粘接并卷取，得到长度200m的圆偏振元件转印用层叠体(CP7)的卷。需要说明的是，CP7中，液晶偏振片转印用层叠体的聚酯薄膜在即将转印至对象物(玻璃基板)前剥离而使用。
将实施例5～7的构成示于表2。
[表2]
Figure BDA0003373599010000281
评价1
将圆偏振元件转印用层叠体(CP1)卷出，切成所需大小后，将相位差层转印用层叠体1的聚酯薄膜剥离。用光学用粘合片，使层叠有ITO的玻璃基板的ITO面贴合在该剥离面(取向控制层面)，从得到的层叠体剥离PVA偏振片转印用层叠体的热塑性树脂基材(脱模性薄膜)。接着，在剥离面贴合光学用粘合片，进而，与另行准备的、在一个面具备ITO层和在另一个面具备硬涂层的透明导电性聚酯薄膜的ITO面贴合，制作具备圆偏振元件的触摸传感器的模型。将玻璃面作为下方，将得到的触摸传感器的模型重叠在有机EL显示装置上，确认防反射效果，结果可知，布线等的反射减少，具有高的防反射效果。
用圆偏振元件转印用层叠体CP2和CP3，同样地，制作具备圆偏振元件的触摸传感器的模型并评价，结果可知，具有高的防反射效果。需要说明的是，CP2和CP3中，用光学用粘合片在相位差层面贴合玻璃基板的ITO面。另外，CP3中，与透明导电性聚酯薄膜的ITO面贴合时，将液晶偏振片转印用层叠体的聚酯薄膜剥离，而不是将PVA偏振片转印用层叠体的热塑性树脂基材剥离。
评价2
准备使层叠有ITO的玻璃基板的ITO面与层叠有ITO的TAC薄膜的ITO面用光学用粘合剂贴合而成的触摸传感器的模型。
将圆偏振元件转印用层叠体(CP4)卷出，切成所需大小后，将相位差层转印用层叠体1的聚酯薄膜剥离。
用光学用粘合剂，使CP4的相位差层面贴合于触摸传感器的模型的TAC薄膜面后，将液晶偏振片转印用层叠体的聚酯薄膜剥离，制作具备圆偏振元件的触摸传感器的模型。将玻璃面作为下方，将得到的触摸传感器的模型重叠在有机EL显示装置上，确认防反射效果，结果可知，布线等的反射减少，具有高的防反射效果。
评价3
准备使层叠有ITO的玻璃基板的ITO面与在一个面具备ITO层和在另一个面具备硬涂层的透明导电性聚酯薄膜的ITO面用光学用粘合剂贴合而成的触摸传感器的模型。
将圆偏振元件转印用层叠体(CP5)卷出，切成所需大小后，将PVA偏振片转印用层叠体的热塑性树脂基材剥离。
用光学用粘合剂，使CP5的偏振片面(PVA面)贴合于触摸传感器的模型的玻璃面后，将相位差层转印用层叠体的聚酯薄膜剥离，制作具备圆偏振元件的触摸传感器的模型。将圆偏振元件侧作为下方，将得到的触摸传感器的模型重叠在有机EL显示装置上，确认防反射效果，结果可知，布线等的反射减少，具有高的防反射效果。
用圆偏振元件转印用层叠体CP6和CP7，同样地，制作具备圆偏振元件的触摸传感器的模型并评价，结果可知，具有高的防反射效果。需要说明的是，CP6中，用光学用粘合片使液晶偏振片面贴合于触摸传感器模型的玻璃面。CP7中，与触摸传感器模型的玻璃面贴合时，将液晶偏振片转印用层叠体的聚酯薄膜剥离，而不是将PVA偏振片转印用层叠体的热塑性树脂基材剥离。
评价1、2和3中，均可以将圆偏振元件功能装入触摸传感器而不大幅增加厚度。
评价4
将圆偏振元件转印用层叠体(CP5)卷出，切成所需大小后，将PVA偏振片转印用层叠体的热塑性树脂基材剥离。使该偏振片面与厚度1mm的聚碳酸酯片用光学用粘合剂片贴合，得到层叠有圆偏振元件的聚碳酸酯片。
将层叠有得到的圆偏振元件的聚碳酸酯片以圆偏振元件侧作为下方的形式重叠在有机EL显示装置上，确认防反射效果，结果布线等的反射减少，具有高的防反射效果。
层叠有得到的圆偏振元件的聚碳酸酯片可以作为具有防反射功能的有机EL显示装置的表面保护片使用而基本不增加厚度。

Claims (6)

1.一种圆偏振元件转印用层叠体，其在脱模性薄膜上依次层叠有偏振片和λ/4相位差层、或在脱模性薄膜上依次层叠有λ/4相位差层和偏振片。
2.一种具有圆偏振元件的透明导电性基材的制造方法，其包括如下工序：
工序(A)，在透明导电性基材上，以在脱模性薄膜上依次层叠有偏振片和λ/4相位差层的圆偏振元件转印用层叠体的λ/4相位差层配置于透明导电性基材侧的方式，层叠所述圆偏振元件转印用层叠体；或
工序(B)，在透明导电性基材上，以在脱模性薄膜上依次层叠有λ/4相位差层和偏振片的圆偏振元件转印用层叠体的偏振片配置于透明导电性基材侧的方式，层叠所述圆偏振元件转印用层叠体。
3.一种具有圆偏振元件的触摸面板的制造方法，其包括如下工序：
工序(C)，在触摸面板的透明导电性基材上，以在脱模性薄膜上依次层叠有偏振片和λ/4相位差层的圆偏振元件转印用层叠体的λ/4相位差层配置于所述透明导电性基材侧的方式，层叠所述圆偏振元件转印用层叠体；或
工序(D)，在触摸面板的透明导电性基材上，以在脱模性薄膜上依次层叠有λ/4相位差层和偏振片的圆偏振元件转印用层叠体的偏振片配置于所述透明导电性基材侧的方式，层叠所述圆偏振元件转印用层叠体。
4.一种具有圆偏振元件的图像显示装置的制造方法，其包含如下工序：
以通过权利要求3的方法而制造的、具有圆偏振元件的触摸面板的触摸面板或圆偏振元件配置于可视侧的方式，将所述触摸面板设置于图像显示装置。
5.一种具有圆偏振元件的表面保护用透明基材的制造方法，其包括如下工序：
工序(E)，在表面保护用透明基材上，以在脱模性薄膜上依次层叠有偏振片和λ/4相位差层的圆偏振元件转印用层叠体的λ/4相位差层配置于所述透明基材侧的方式，层叠所述圆偏振元件转印用层叠体；或
工序(F)，在表面保护用透明基材上，以在脱模性薄膜上依次层叠有λ/4相位差层和偏振片的圆偏振元件转印用层叠体的偏振片配置于所述透明基材侧的方式，层叠所述圆偏振元件转印用层叠体。
6.一种具有圆偏振元件的图像显示装置的制造方法，其包括如下工序；
以通过权利要求5的方法而制造的、具有圆偏振元件的表面保护用透明基材的表面保护用透明基材配置于可视侧的方式，将所述透明基材设置于图像显示装置。
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